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Einrichtung zur fotolithografischen strukturuebertragung
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Immersionsobjektiv fuer die schrittweise projektionsabbildung einer maskenstruktur
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露光装置
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Einrichtung zur fotolithografischen strukturuebertragung
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Nippon Kogaku Kk <Nikon> |
位置合わせ方法、及び位置合せ装置
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反射式ロ−タリ−エンコ−ダ−用回転デイスクの製作方法
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投影露光装置
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搬送用装置
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露光装置
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Canon Inc |
露光装置
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Canon Inc |
投影露光装置
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テ−ブル装置
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照明光学系
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(ja)
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Nippon Kogaku Kk <Nikon> |
テレセントリツク光学系用照明装置
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JPS6265326A
(ja)
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1985-09-18 |
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Hitachi Ltd |
露光装置
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JPS62100161A
(ja)
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1985-10-23 |
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Shin Etsu Chem Co Ltd |
平面モ−タ
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JPS62120026A
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1985-11-20 |
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Fujitsu Ltd |
X線露光装置
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JPS62121417A
(ja)
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1985-11-22 |
1987-06-02 |
Hitachi Ltd |
液浸対物レンズ装置
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JPH07105323B2
(ja)
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1985-11-22 |
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株式会社日立製作所 |
露光方法
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Furukawa Alum Co Ltd |
ロ−タリエンコ−ダ用反射基板の製造方法
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株式会社ニコン |
投影露光方法及び装置
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1986-02-14 |
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Canon Inc |
投影露光装置
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トヨタ自動車株式会社 |
無線電力伝送装置
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キヤノン株式会社 |
照明光学系
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1986-07-02 |
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キヤノン株式会社 |
露光装置及びそれを用いた回路の製造方法
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JPS6336526A
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ウエハ露光装置
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大日本スクリ−ン製造株式会社 |
洗浄乾燥処理方法
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JPS63128713A
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Matsushita Electric Ind Co Ltd |
走査型露光装置のデイスト−シヨン補正方法
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Fujitsu Ltd |
光学的アライメント方法
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JPS63141313A
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Hitachi Ltd |
薄板変形装置
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JPS63157419A
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Toshiba Corp |
微細パタ−ン転写装置
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株式会社明電舎 |
高周波加熱装置の接続導体
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移動量測定装置
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表面変位検出装置
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走り誤差補正をなした移動量検出装置
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ガス放電表示装置
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ビーム位置制御装置
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高精度xyステージ装置
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株式会社ニコン |
基板の吸着装置
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1988-02-24 |
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半導体製造装置用無停電電源
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ビーム均一化光学系おゆび製造法
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1988-06-13 |
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プリント基板の自動露光装置
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株式会社ニコン |
基板の吸着装置
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半導体装置の露光装置
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1990-05-25 |
1992-02-04 |
Iwasaki Electric Co Ltd |
メタルハライドランプ装置
|
JP2897355B2
(ja)
|
1990-07-05 |
1999-05-31 |
株式会社ニコン |
アライメント方法,露光装置,並びに位置検出方法及び装置
|
JP3077176B2
(ja)
|
1990-08-13 |
2000-08-14 |
株式会社ニコン |
露光方法、装置、及び素子製造方法
|
JP2995820B2
(ja)
|
1990-08-21 |
1999-12-27 |
株式会社ニコン |
露光方法及び方法,並びにデバイス製造方法
|
JP3049774B2
(ja)
|
1990-12-27 |
2000-06-05 |
株式会社ニコン |
投影露光装置及び方法、並びに素子製造方法
|
US7656504B1
(en)
|
1990-08-21 |
2010-02-02 |
Nikon Corporation |
Projection exposure apparatus with luminous flux distribution
|
JPH04130710A
(ja)
|
1990-09-21 |
1992-05-01 |
Hitachi Ltd |
露光装置
|
JP2548834B2
(ja)
|
1990-09-25 |
1996-10-30 |
三菱電機株式会社 |
電子ビーム寸法測定装置
|
JPH04133414A
(ja)
|
1990-09-26 |
1992-05-07 |
Nec Yamaguchi Ltd |
縮小投影露光装置
|
JPH04152512A
(ja)
|
1990-10-16 |
1992-05-26 |
Fujitsu Ltd |
ウエハチャック
|
DE4033556A1
(de)
|
1990-10-22 |
1992-04-23 |
Suess Kg Karl |
Messanordnung fuer x,y,(phi)-koordinatentische
|
US5072126A
(en)
|
1990-10-31 |
1991-12-10 |
International Business Machines Corporation |
Promixity alignment using polarized illumination and double conjugate projection lens
|
JPH04179115A
(ja)
|
1990-11-08 |
1992-06-25 |
Nec Kyushu Ltd |
縮小投影露光装置
|
US6252647B1
(en)
|
1990-11-15 |
2001-06-26 |
Nikon Corporation |
Projection exposure apparatus
|
US6710855B2
(en)
|
1990-11-15 |
2004-03-23 |
Nikon Corporation |
Projection exposure apparatus and method
|
JP3094439B2
(ja)
|
1990-11-21 |
2000-10-03 |
株式会社ニコン |
露光方法
|
JPH0480052U
(xx)
|
1990-11-27 |
1992-07-13 |
|
|
JPH04235558A
(ja)
|
1991-01-11 |
1992-08-24 |
Toshiba Corp |
露光装置
|
JP3084761B2
(ja)
|
1991-02-28 |
2000-09-04 |
株式会社ニコン |
露光方法及びマスク
|
JP3084760B2
(ja)
|
1991-02-28 |
2000-09-04 |
株式会社ニコン |
露光方法及び露光装置
|
JP3255168B2
(ja)
|
1991-02-28 |
2002-02-12 |
株式会社ニコン |
露光方法及びその露光方法を用いたデバイス製造方法、及び露光装置
|
JP3200894B2
(ja)
|
1991-03-05 |
2001-08-20 |
株式会社日立製作所 |
露光方法及びその装置
|
JP2860174B2
(ja)
|
1991-03-05 |
1999-02-24 |
三菱電機株式会社 |
化学気相成長装置
|
JPH04280619A
(ja)
|
1991-03-08 |
1992-10-06 |
Canon Inc |
ウエハ保持方法およびその保持装置
|
JPH04282539A
(ja)
|
1991-03-11 |
1992-10-07 |
Hitachi Ltd |
反射・帯電防止膜の形成方法
|
JPH05259069A
(ja)
|
1991-03-13 |
1993-10-08 |
Tokyo Electron Ltd |
ウエハ周辺露光方法
|
JPH04211110A
(ja)
|
1991-03-20 |
1992-08-03 |
Hitachi Ltd |
投影式露光方法
|
JPH04296092A
(ja)
|
1991-03-26 |
1992-10-20 |
Matsushita Electric Ind Co Ltd |
リフロー装置
|
JP2602345Y2
(ja)
|
1991-03-29 |
2000-01-11 |
京セラ株式会社 |
静圧軸受装置
|
US5251222A
(en)
|
1991-04-01 |
1993-10-05 |
Teledyne Industries, Inc. |
Active multi-stage cavity sensor
|
JPH04305917A
(ja)
|
1991-04-02 |
1992-10-28 |
Nikon Corp |
密着型露光装置
|
JPH04305915A
(ja)
|
1991-04-02 |
1992-10-28 |
Nikon Corp |
密着型露光装置
|
JP3200874B2
(ja)
|
1991-07-10 |
2001-08-20 |
株式会社ニコン |
投影露光装置
|
JPH04330961A
(ja)
|
1991-05-01 |
1992-11-18 |
Matsushita Electron Corp |
現像処理装置
|
FR2676288B1
(fr)
|
1991-05-07 |
1994-06-17 |
Thomson Csf |
Collecteur d'eclairage pour projecteur.
|
JPH04343307A
(ja)
|
1991-05-20 |
1992-11-30 |
Ricoh Co Ltd |
レーザー調整装置
|
JP2884830B2
(ja)
|
1991-05-28 |
1999-04-19 |
キヤノン株式会社 |
自動焦点合せ装置
|
US5541026A
(en)
|
1991-06-13 |
1996-07-30 |
Nikon Corporation |
Exposure apparatus and photo mask
|
JPH0590128A
(ja)
|
1991-06-13 |
1993-04-09 |
Nikon Corp |
露光装置
|
JPH0545886A
(ja)
|
1991-08-12 |
1993-02-26 |
Nikon Corp |
角形基板の露光装置
|
US5272501A
(en)
|
1991-08-28 |
1993-12-21 |
Nikon Corporation |
Projection exposure apparatus
|
JPH0562877A
(ja)
|
1991-09-02 |
1993-03-12 |
Yasuko Shinohara |
光によるlsi製造縮小投影露光装置の光学系
|
US5348837A
(en)
|
1991-09-24 |
1994-09-20 |
Hitachi, Ltd. |
Projection exposure apparatus and pattern forming method for use therewith
|
JPH05109601A
(ja)
|
1991-10-15 |
1993-04-30 |
Nikon Corp |
露光装置及び露光方法
|
KR950004968B1
(ko)
|
1991-10-15 |
1995-05-16 |
가부시키가이샤 도시바 |
투영노광 장치
|
JPH05129184A
(ja)
|
1991-10-30 |
1993-05-25 |
Canon Inc |
投影露光装置
|
JPH05127086A
(ja)
|
1991-11-01 |
1993-05-25 |
Matsushita Electric Ind Co Ltd |
光強度の均一化方法およびそれを用いた露光装置
|
JPH05134115A
(ja)
*
|
1991-11-11 |
1993-05-28 |
Ricoh Opt Ind Co Ltd |
複屈折部材
|
JP3203719B2
(ja)
|
1991-12-26 |
2001-08-27 |
株式会社ニコン |
露光装置、その露光装置により製造されるデバイス、露光方法、およびその露光方法を用いたデバイス製造方法
|
JPH05199680A
(ja)
|
1992-01-17 |
1993-08-06 |
Honda Motor Co Ltd |
電源装置
|
JPH0794969B2
(ja)
|
1992-01-29 |
1995-10-11 |
株式会社ソルテック |
位置合せ方法及びその装置
|
JP3194155B2
(ja)
|
1992-01-31 |
2001-07-30 |
キヤノン株式会社 |
半導体デバイスの製造方法及びそれを用いた投影露光装置
|
JPH05217837A
(ja)
|
1992-02-04 |
1993-08-27 |
Toshiba Corp |
Xy移動テーブル
|
JP2866243B2
(ja)
*
|
1992-02-10 |
1999-03-08 |
三菱電機株式会社 |
投影露光装置及び半導体装置の製造方法
|
JP2796005B2
(ja)
|
1992-02-10 |
1998-09-10 |
三菱電機株式会社 |
投影露光装置及び偏光子
|
JPH05241324A
(ja)
|
1992-02-26 |
1993-09-21 |
Nikon Corp |
フォトマスク及び露光方法
|
JP3153372B2
(ja)
|
1992-02-26 |
2001-04-09 |
東京エレクトロン株式会社 |
基板処理装置
|
JPH05243364A
(ja)
|
1992-03-02 |
1993-09-21 |
Hitachi Ltd |
半導体ウェハの除電方法およびそれを用いた半導体集積回路製造装置
|
JP3278896B2
(ja)
|
1992-03-31 |
2002-04-30 |
キヤノン株式会社 |
照明装置及びそれを用いた投影露光装置
|
US5312513A
(en)
|
1992-04-03 |
1994-05-17 |
Texas Instruments Incorporated |
Methods of forming multiple phase light modulators
|
JPH05304072A
(ja)
|
1992-04-08 |
1993-11-16 |
Nec Corp |
半導体装置の製造方法
|
JP3242693B2
(ja)
|
1992-05-15 |
2001-12-25 |
富士通株式会社 |
ペリクル貼り付け装置
|
JP2673130B2
(ja)
|
1992-05-20 |
1997-11-05 |
株式会社キトー |
走行用レールの吊下支持装置
|
JP2946950B2
(ja)
|
1992-06-25 |
1999-09-13 |
キヤノン株式会社 |
照明装置及びそれを用いた露光装置
|
JPH0629204A
(ja)
|
1992-07-08 |
1994-02-04 |
Fujitsu Ltd |
レジスト現像方法及び装置
|
JPH0629102A
(ja)
|
1992-07-10 |
1994-02-04 |
Alps Electric Co Ltd |
チップ抵抗器およびその製造方法
|
JPH0636054A
(ja)
|
1992-07-20 |
1994-02-10 |
Mitsubishi Electric Corp |
ワンチップマイクロコンピュータ
|
JP3246615B2
(ja)
*
|
1992-07-27 |
2002-01-15 |
株式会社ニコン |
照明光学装置、露光装置、及び露光方法
|
JPH06188169A
(ja)
|
1992-08-24 |
1994-07-08 |
Canon Inc |
結像方法及び該方法を用いる露光装置及び該方法を用いるデバイス製造方法
|
JPH07318847A
(ja)
|
1994-05-26 |
1995-12-08 |
Nikon Corp |
照明光学装置
|
JPH06104167A
(ja)
|
1992-09-18 |
1994-04-15 |
Hitachi Ltd |
露光装置及び半導体装置の製造方法
|
JP2884947B2
(ja)
|
1992-10-01 |
1999-04-19 |
株式会社ニコン |
投影露光装置、露光方法および半導体集積回路の製造方法
|
US6404482B1
(en)
|
1992-10-01 |
2002-06-11 |
Nikon Corporation |
Projection exposure method and apparatus
|
JPH06118623A
(ja)
|
1992-10-07 |
1994-04-28 |
Fujitsu Ltd |
レチクル及びこれを用いた半導体露光装置
|
JP2724787B2
(ja)
|
1992-10-09 |
1998-03-09 |
キヤノン株式会社 |
位置決め装置
|
JPH06124873A
(ja)
|
1992-10-09 |
1994-05-06 |
Canon Inc |
液浸式投影露光装置
|
JPH06124872A
(ja)
|
1992-10-14 |
1994-05-06 |
Canon Inc |
像形成方法及び該方法を用いて半導体装置を製造する方法
|
US5459000A
(en)
|
1992-10-14 |
1995-10-17 |
Canon Kabushiki Kaisha |
Image projection method and device manufacturing method using the image projection method
|
JP3322274B2
(ja)
|
1992-10-29 |
2002-09-09 |
株式会社ニコン |
投影露光方法及び投影露光装置
|
JPH06148399A
(ja)
|
1992-11-05 |
1994-05-27 |
Nikon Corp |
X線用多層膜ミラーおよびx線顕微鏡
|
JPH06163350A
(ja)
|
1992-11-19 |
1994-06-10 |
Matsushita Electron Corp |
投影露光方法および装置
|
JP2753930B2
(ja)
|
1992-11-27 |
1998-05-20 |
キヤノン株式会社 |
液浸式投影露光装置
|
JPH06177007A
(ja)
|
1992-12-01 |
1994-06-24 |
Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> |
投影露光装置
|
JP3180133B2
(ja)
|
1992-12-01 |
2001-06-25 |
日本電信電話株式会社 |
投影露光装置
|
JP2866267B2
(ja)
|
1992-12-11 |
1999-03-08 |
三菱電機株式会社 |
光描画装置およびウェハ基板の光描画方法
|
JP2698521B2
(ja)
|
1992-12-14 |
1998-01-19 |
キヤノン株式会社 |
反射屈折型光学系及び該光学系を備える投影露光装置
|
JPH06181157A
(ja)
|
1992-12-15 |
1994-06-28 |
Nikon Corp |
低発塵性の装置
|
JPH06186025A
(ja)
|
1992-12-16 |
1994-07-08 |
Yunisun:Kk |
三次元測定装置
|
JP2520833B2
(ja)
|
1992-12-21 |
1996-07-31 |
東京エレクトロン株式会社 |
浸漬式の液処理装置
|
JP3201027B2
(ja)
|
1992-12-22 |
2001-08-20 |
株式会社ニコン |
投影露光装置及び方法
|
JP3316833B2
(ja)
|
1993-03-26 |
2002-08-19 |
株式会社ニコン |
走査露光方法、面位置設定装置、走査型露光装置、及び前記方法を使用するデバイス製造方法
|
JP2765422B2
(ja)
|
1992-12-28 |
1998-06-18 |
キヤノン株式会社 |
露光装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法
|
JPH06204121A
(ja)
|
1992-12-28 |
1994-07-22 |
Canon Inc |
照明装置及びそれを用いた投影露光装置
|
JP2786070B2
(ja)
|
1993-01-29 |
1998-08-13 |
セントラル硝子株式会社 |
透明板状体の検査方法およびその装置
|
JPH07245258A
(ja)
|
1994-03-08 |
1995-09-19 |
Nikon Corp |
露光方法及び露光装置
|
US5739898A
(en)
|
1993-02-03 |
1998-04-14 |
Nikon Corporation |
Exposure method and apparatus
|
JPH06241720A
(ja)
|
1993-02-18 |
1994-09-02 |
Sony Corp |
変位量の測定方法及び変位計
|
JPH06244082A
(ja)
|
1993-02-19 |
1994-09-02 |
Nikon Corp |
投影露光装置
|
JP3412704B2
(ja)
|
1993-02-26 |
2003-06-03 |
株式会社ニコン |
投影露光方法及び装置、並びに露光装置
|
JP3747958B2
(ja)
|
1995-04-07 |
2006-02-22 |
株式会社ニコン |
反射屈折光学系
|
JP3291818B2
(ja)
|
1993-03-16 |
2002-06-17 |
株式会社ニコン |
投影露光装置、及び該装置を用いる半導体集積回路製造方法
|
JP3537843B2
(ja)
|
1993-03-19 |
2004-06-14 |
株式会社テクノ菱和 |
クリーンルーム用イオナイザー
|
JPH0777191B2
(ja)
|
1993-04-06 |
1995-08-16 |
日本電気株式会社 |
露光光投射装置
|
JP3309871B2
(ja)
|
1993-04-27 |
2002-07-29 |
株式会社ニコン |
投影露光方法及び装置、並びに素子製造方法
|
JPH06326174A
(ja)
|
1993-05-12 |
1994-11-25 |
Hitachi Ltd |
ウェハ真空吸着装置
|
JP3265503B2
(ja)
|
1993-06-11 |
2002-03-11 |
株式会社ニコン |
露光方法及び装置
|
JPH07142338A
(ja)
*
|
1993-06-14 |
1995-06-02 |
Canon Inc |
像投影方法及びそれを用いた露光装置
|
US5677757A
(en)
|
1994-03-29 |
1997-10-14 |
Nikon Corporation |
Projection exposure apparatus
|
JP3463335B2
(ja)
|
1994-02-17 |
2003-11-05 |
株式会社ニコン |
投影露光装置
|
JP3291849B2
(ja)
|
1993-07-15 |
2002-06-17 |
株式会社ニコン |
露光方法、デバイス形成方法、及び露光装置
|
US6304317B1
(en)
|
1993-07-15 |
2001-10-16 |
Nikon Corporation |
Projection apparatus and method
|
JPH0757993A
(ja)
|
1993-08-13 |
1995-03-03 |
Nikon Corp |
投影露光装置
|
JPH0757992A
(ja)
|
1993-08-13 |
1995-03-03 |
Nikon Corp |
投影露光装置
|
JP3844787B2
(ja)
|
1993-09-02 |
2006-11-15 |
日産化学工業株式会社 |
フッ化マグネシウム水和物ゾルとその製造法
|
JP3359123B2
(ja)
|
1993-09-20 |
2002-12-24 |
キヤノン株式会社 |
収差補正光学系
|
KR0153796B1
(ko)
|
1993-09-24 |
1998-11-16 |
사토 후미오 |
노광장치 및 노광방법
|
JP3099933B2
(ja)
|
1993-12-28 |
2000-10-16 |
株式会社東芝 |
露光方法及び露光装置
|
JPH07122469A
(ja)
|
1993-10-20 |
1995-05-12 |
Nikon Corp |
投影露光装置
|
KR0166612B1
(ko)
|
1993-10-29 |
1999-02-01 |
가나이 쓰토무 |
패턴노광방법 및 그 장치와 그것에 이용되는 마스크와 그것을 이용하여 만들어진 반도체 집적회로
|
JP3505810B2
(ja)
|
1993-10-29 |
2004-03-15 |
株式会社日立製作所 |
パターン露光方法及びその装置
|
JP3376045B2
(ja)
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1993-11-09 |
2003-02-10 |
キヤノン株式会社 |
走査型露光装置及び該走査型露光装置を用いるデバイス製造方法
|
JP3339144B2
(ja)
|
1993-11-11 |
2002-10-28 |
株式会社ニコン |
走査型露光装置及び露光方法
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JPH07134955A
(ja)
|
1993-11-11 |
1995-05-23 |
Hitachi Ltd |
表示装置およびその反射率調整方法
|
JP3278303B2
(ja)
|
1993-11-12 |
2002-04-30 |
キヤノン株式会社 |
走査型露光装置及び該走査型露光装置を用いるデバイス製造方法
|
JPH07147223A
(ja)
|
1993-11-26 |
1995-06-06 |
Hitachi Ltd |
パターン形成方法
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DE69432283T2
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1993-12-01 |
2004-01-22 |
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Display für dreidimensionale Bilder
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JPH07161622A
(ja)
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1993-12-10 |
1995-06-23 |
Nikon Corp |
投影露光装置
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JPH07167998A
(ja)
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1993-12-15 |
1995-07-04 |
Nikon Corp |
レーザープラズマx線源用標的
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JP3487517B2
(ja)
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1993-12-16 |
2004-01-19 |
株式会社リコー |
往復移動装置
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JP3508190B2
(ja)
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1993-12-21 |
2004-03-22 |
セイコーエプソン株式会社 |
照明装置及び投写型表示装置
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JPH07183201A
(ja)
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1993-12-21 |
1995-07-21 |
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露光装置および露光方法
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JPH07190741A
(ja)
|
1993-12-27 |
1995-07-28 |
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測定誤差補正法
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JPH07220989A
(ja)
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1994-01-27 |
1995-08-18 |
Canon Inc |
露光装置及びこれを用いたデバイス製造方法
|
JPH07220990A
(ja)
|
1994-01-28 |
1995-08-18 |
Hitachi Ltd |
パターン形成方法及びその露光装置
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JP2715895B2
(ja)
|
1994-01-31 |
1998-02-18 |
日本電気株式会社 |
光強度分布シミュレーション方法
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JP3372633B2
(ja)
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1994-02-04 |
2003-02-04 |
キヤノン株式会社 |
位置合わせ方法及びそれを用いた位置合わせ装置
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1996-09-24 |
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Exposure system and illuminating apparatus used therein and method for exposing a resist film on a wafer
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(ja)
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1994-05-13 |
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照明光学装置
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1994-02-24 |
1995-09-05 |
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超解像走査光学装置
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JPH07239212A
(ja)
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1994-02-28 |
1995-09-12 |
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位置検出装置
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JPH07243814A
(ja)
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1994-03-03 |
1995-09-19 |
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線幅測定方法
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JPH07263315A
(ja)
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1994-03-25 |
1995-10-13 |
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投影露光装置
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Projection exposure apparatus
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1994-03-29 |
2002-06-27 |
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Projection exposure apparatus
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Procédé et dispositif de correction d'un signal de courant.
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投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
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(ja)
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1994-04-27 |
2001-07-30 |
キヤノン株式会社 |
基板収容容器
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JP3555230B2
(ja)
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1994-05-18 |
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株式会社ニコン |
投影露光装置
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1994-06-07 |
1995-12-22 |
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半導体素子の製造方法
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(ja)
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1994-06-27 |
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株式会社ニコン |
目標物移動装置、位置決め装置及び可動ステージ装置
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JP3205663B2
(ja)
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1994-06-29 |
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日本電子株式会社 |
荷電粒子ビーム装置
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JP3090577B2
(ja)
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1994-06-29 |
2000-09-25 |
浜松ホトニクス株式会社 |
導電体層除去方法およびシステム
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JPH0822948A
(ja)
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1994-07-08 |
1996-01-23 |
Nikon Corp |
走査型露光装置
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JP3205468B2
(ja)
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1994-07-25 |
2001-09-04 |
株式会社日立製作所 |
ウエハチャックを備えた処理装置および露光装置
|
JPH0846751A
(ja)
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1994-07-29 |
1996-02-16 |
Sanyo Electric Co Ltd |
照明光学系
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JP3613288B2
(ja)
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1994-10-18 |
2005-01-26 |
株式会社ニコン |
露光装置用のクリーニング装置
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DE69533645T2
(de)
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1994-10-26 |
2006-02-23 |
Seiko Epson Corp. |
Flüssigkristallvorrichtung und elektronisches gerät
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JPH08136475A
(ja)
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1994-11-14 |
1996-05-31 |
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板状材の表面観察装置
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JPH08151220A
(ja)
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1994-11-28 |
1996-06-11 |
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石英ガラスの成形方法
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JPH08162397A
(ja)
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1994-11-30 |
1996-06-21 |
Canon Inc |
投影露光装置及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法
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JPH08171054A
(ja)
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1994-12-16 |
1996-07-02 |
Nikon Corp |
反射屈折光学系
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JPH08195375A
(ja)
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1995-01-17 |
1996-07-30 |
Sony Corp |
回転乾燥方法および回転乾燥装置
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JPH08203803A
(ja)
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1995-01-24 |
1996-08-09 |
Nikon Corp |
露光装置
|
JP3521544B2
(ja)
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1995-05-24 |
2004-04-19 |
株式会社ニコン |
露光装置
|
JP3312164B2
(ja)
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1995-04-07 |
2002-08-05 |
日本電信電話株式会社 |
真空吸着装置
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JPH08297699A
(ja)
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1995-04-26 |
1996-11-12 |
Hitachi Ltd |
製造不良解析支援システム、製造システム、および製造不良解析支援方法
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JPH08316125A
(ja)
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1995-05-19 |
1996-11-29 |
Hitachi Ltd |
投影露光方法及び露光装置
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1995-05-24 |
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(en)
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1995-05-24 |
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International Business Machines Corporation |
Method and system for optimizing illumination in an optical photolithography projection imaging system
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1995-06-19 |
2004-05-24 |
株式会社ニコン |
投影露光装置及び投影露光方法
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1995-06-19 |
1998-11-16 |
김광호 |
변형노광장치 및 노광방법
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KR100474578B1
(ko)
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1995-06-23 |
2005-06-21 |
가부시키가이샤 니콘 |
노광장치와그제조방법,조명광학장치와그제조방법,노광방법,조명광학계의제조방법및반도체소자의제조방법
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JP3561556B2
(ja)
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1995-06-29 |
2004-09-02 |
株式会社ルネサステクノロジ |
マスクの製造方法
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JP3637639B2
(ja)
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1995-07-10 |
2005-04-13 |
株式会社ニコン |
露光装置
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JPH09108551A
(ja)
|
1995-08-11 |
1997-04-28 |
Mitsubishi Rayon Co Ltd |
浄水器
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JPH0961686A
(ja)
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1995-08-23 |
1997-03-07 |
Nikon Corp |
プラスチックレンズ
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JPH0982626A
(ja)
|
1995-09-12 |
1997-03-28 |
Nikon Corp |
投影露光装置
|
JP3487527B2
(ja)
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1995-09-14 |
2004-01-19 |
株式会社東芝 |
光屈折装置
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US5815247A
(en)
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1995-09-21 |
1998-09-29 |
Siemens Aktiengesellschaft |
Avoidance of pattern shortening by using off axis illumination with dipole and polarizing apertures
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JPH0992593A
(ja)
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1995-09-21 |
1997-04-04 |
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投影露光装置
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1997-03-27 |
Zeiss Carl Fa |
Radial polarisationsdrehende optische Anordnung und Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage damit
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JP3433403B2
(ja)
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1995-10-16 |
2003-08-04 |
三星電子株式会社 |
ステッパのインタフェース装置
|
JPH09134870A
(ja)
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1995-11-10 |
1997-05-20 |
Hitachi Ltd |
パターン形成方法および形成装置
|
JPH09148406A
(ja)
|
1995-11-24 |
1997-06-06 |
Dainippon Screen Mfg Co Ltd |
基板搬送装置
|
JPH09151658A
(ja)
|
1995-11-30 |
1997-06-10 |
Nichibei Co Ltd |
移動間仕切壁のランナ連結装置
|
JPH09160004A
(ja)
|
1995-12-01 |
1997-06-20 |
Denso Corp |
液晶セル及びその空セル
|
JP3406957B2
(ja)
|
1995-12-06 |
2003-05-19 |
キヤノン株式会社 |
光学素子及びそれを用いた露光装置
|
JPH09162106A
(ja)
|
1995-12-11 |
1997-06-20 |
Nikon Corp |
走査型露光装置
|
JPH09178415A
(ja)
|
1995-12-25 |
1997-07-11 |
Nikon Corp |
光波干渉測定装置
|
JPH09184787A
(ja)
|
1995-12-28 |
1997-07-15 |
Olympus Optical Co Ltd |
光学レンズ用解析評価装置
|
JP3232473B2
(ja)
|
1996-01-10 |
2001-11-26 |
キヤノン株式会社 |
投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
|
JP3189661B2
(ja)
|
1996-02-05 |
2001-07-16 |
ウシオ電機株式会社 |
光源装置
|
JP3576685B2
(ja)
|
1996-02-07 |
2004-10-13 |
キヤノン株式会社 |
露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
|
JPH09232213A
(ja)
|
1996-02-26 |
1997-09-05 |
Nikon Corp |
投影露光装置
|
JPH09227294A
(ja)
|
1996-02-26 |
1997-09-02 |
Toyo Commun Equip Co Ltd |
人工水晶の製造方法
|
JP2001500628A
(ja)
*
|
1996-02-28 |
2001-01-16 |
ケニス シー ジョンソン |
マイクロリトグラフィ用マイクロレンズスキャナ及び広フィールド共焦顕微鏡
|
JPH09243892A
(ja)
|
1996-03-06 |
1997-09-19 |
Matsushita Electric Ind Co Ltd |
光学素子
|
JP3782151B2
(ja)
|
1996-03-06 |
2006-06-07 |
キヤノン株式会社 |
エキシマレーザー発振装置のガス供給装置
|
JP3601174B2
(ja)
|
1996-03-14 |
2004-12-15 |
株式会社ニコン |
露光装置及び露光方法
|
JPH09281077A
(ja)
|
1996-04-16 |
1997-10-31 |
Hitachi Ltd |
キャピラリ−電気泳動装置
|
RU2084941C1
(ru)
|
1996-05-06 |
1997-07-20 |
Йелстаун Корпорейшн Н.В. |
Адаптивный оптический модуль
|
JP2691341B2
(ja)
|
1996-05-27 |
1997-12-17 |
株式会社ニコン |
投影露光装置
|
JPH09326338A
(ja)
|
1996-06-04 |
1997-12-16 |
Nikon Corp |
製造管理装置
|
JPH09325255A
(ja)
|
1996-06-06 |
1997-12-16 |
Olympus Optical Co Ltd |
電子カメラ
|
JPH103039A
(ja)
|
1996-06-14 |
1998-01-06 |
Nikon Corp |
反射屈折光学系
|
JPH102865A
(ja)
|
1996-06-18 |
1998-01-06 |
Nikon Corp |
レチクルの検査装置およびその検査方法
|
JPH1020195A
(ja)
|
1996-06-28 |
1998-01-23 |
Nikon Corp |
反射屈折光学系
|
JPH1032160A
(ja)
|
1996-07-17 |
1998-02-03 |
Toshiba Corp |
パターン露光方法及び露光装置
|
JP3646415B2
(ja)
|
1996-07-18 |
2005-05-11 |
ソニー株式会社 |
マスク欠陥の検出方法
|
JPH1038517A
(ja)
|
1996-07-23 |
1998-02-13 |
Canon Inc |
光学式変位測定装置
|
JPH1079337A
(ja)
|
1996-09-04 |
1998-03-24 |
Nikon Corp |
投影露光装置
|
JP3646757B2
(ja)
|
1996-08-22 |
2005-05-11 |
株式会社ニコン |
投影露光方法及び装置
|
JPH1055713A
(ja)
|
1996-08-08 |
1998-02-24 |
Ushio Inc |
紫外線照射装置
|
JPH1062305A
(ja)
|
1996-08-19 |
1998-03-06 |
Advantest Corp |
Ccdカメラの感度補正方法およびccdカメラ感度補正機能付lcdパネル表示試験システム
|
JPH1082611A
(ja)
|
1996-09-10 |
1998-03-31 |
Nikon Corp |
面位置検出装置
|
JPH1092735A
(ja)
|
1996-09-13 |
1998-04-10 |
Nikon Corp |
露光装置
|
JP2914315B2
(ja)
|
1996-09-20 |
1999-06-28 |
日本電気株式会社 |
走査型縮小投影露光装置及びディストーション測定方法
|
JPH10104427A
(ja)
*
|
1996-10-03 |
1998-04-24 |
Sankyo Seiki Mfg Co Ltd |
波長板およびそれを備えた光ピックアップ装置
|
US6191829B1
(en)
|
1996-10-08 |
2001-02-20 |
Citizen Watch Co., Ltd. |
Optical apparatus for optically rotating a portion of a polarization axis of a linearly polarized light
|
JPH10116760A
(ja)
|
1996-10-08 |
1998-05-06 |
Nikon Corp |
露光装置及び基板保持装置
|
JPH10116778A
(ja)
|
1996-10-09 |
1998-05-06 |
Canon Inc |
スキャン露光装置
|
JPH10116779A
(ja)
|
1996-10-11 |
1998-05-06 |
Nikon Corp |
ステージ装置
|
JP3955985B2
(ja)
|
1996-10-16 |
2007-08-08 |
株式会社ニコン |
マーク位置検出装置及び方法
|
KR100191329B1
(ko)
|
1996-10-23 |
1999-06-15 |
윤종용 |
인터넷상에서의 원격교육방법 및 그 장치.
|
JPH10135099A
(ja)
|
1996-10-25 |
1998-05-22 |
Sony Corp |
露光装置及び露光方法
|
JP3991166B2
(ja)
|
1996-10-25 |
2007-10-17 |
株式会社ニコン |
照明光学装置および該照明光学装置を備えた露光装置
|
JP4029183B2
(ja)
|
1996-11-28 |
2008-01-09 |
株式会社ニコン |
投影露光装置及び投影露光方法
|
JP4029182B2
(ja)
|
1996-11-28 |
2008-01-09 |
株式会社ニコン |
露光方法
|
KR20030096435A
(ko)
|
1996-11-28 |
2003-12-31 |
가부시키가이샤 니콘 |
노광장치 및 노광방법
|
JP3624065B2
(ja)
|
1996-11-29 |
2005-02-23 |
キヤノン株式会社 |
基板搬送装置、半導体製造装置および露光装置
|
JPH10169249A
(ja)
|
1996-12-12 |
1998-06-23 |
Ohbayashi Corp |
免震構造
|
JPH10189700A
(ja)
|
1996-12-20 |
1998-07-21 |
Sony Corp |
ウェーハ保持機構
|
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JP2003059799A
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JP2003059803A
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JP2003068600A
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JP2003068607A
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JP2003068604A
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照明光学装置および該照明光学装置を備えた露光装置
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JP2003075703A
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JP2003081654A
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JP2003090978A
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JP4160286B2
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JP2003114387A
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JP2003124095A
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JP2003130132A
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JP4307813B2
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投影光学系、露光装置および露光方法
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JP2003166856A
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JP3809095B2
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JP2003188087A
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露光方法および露光装置並びに半導体装置の製造方法
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JP2003249443A
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キヤノン株式会社 |
リニアモータ、ステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法
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JP2003229347A
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JP2003240906A
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反射防止体およびその製造方法
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JP2003257812A
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JP2003258071A
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JP4352458B2
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株式会社ニコン |
投影光学系の調整方法、予測方法、評価方法、調整方法、露光方法及び露光装置、露光装置の製造方法、プログラム並びにデバイス製造方法
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JP2003263119A
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Refraktives Projektionsobjektiv für Immersions-Lithographie
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固体撮像素子
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JP4100011B2
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表面処理装置、有機el装置の製造装置及び製造方法
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Bogenführungseinrichtung in einer bogenverarbeitenden Maschine
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JP4333078B2
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2009-09-16 |
株式会社ニコン |
投影光学系、該投影光学系を備えた露光装置および該投影光学系を用いた露光方法並びにデバイス製造方法
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Device for protecting a chip and method for operating a chip
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JP2004015187A
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撮影補助システム、デジタルカメラ、及びサーバ
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JP4037179B2
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洗浄方法、洗浄装置
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JP2004014876A
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調整方法、空間像計測方法及び像面計測方法、並びに露光装置
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JP2004022708A
(ja)
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結像光学系、照明光学系、露光装置及び露光方法
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JP3448812B2
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2002-06-14 |
2003-09-22 |
株式会社ニコン |
マーク検知装置、及びそれを有する露光装置、及びその露光装置を用いた半導体素子又は液晶表示素子の製造方法
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JP2004179172A
(ja)
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JP4012771B2
(ja)
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ライセンス管理方法、ライセンス管理システム、ライセンス管理プログラム
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JP2004039952A
(ja)
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プラズマ処理装置の監視方法およびプラズマ処理装置
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JP2004040039A
(ja)
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露光方法の選択方法
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JP2004045063A
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光学式ロータリーエンコーダ板の製造方法および光学式ロータリーエンコーダ板
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JP2004051717A
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JP2004063847A
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JP2004063988A
(ja)
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照明光学系、当該照明光学系を有する露光装置及びデバイス製造方法
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JP2004071851A
(ja)
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半導体露光方法及び露光装置
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JP2004085612A
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JP4095376B2
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露光装置及び方法、並びに、デバイス製造方法
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JP2004095653A
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2002-08-29 |
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露光装置
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JP2004145269A
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投影光学系、反射屈折型投影光学系、走査型露光装置及び露光方法
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JP2004103674A
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JP2004101362A
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JP2004098012A
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JP2004104654A
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JP4269610B2
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JP2004111579A
(ja)
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2002-09-17 |
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KR100480620B1
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JP3958163B2
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露光方法
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JP2004119497A
(ja)
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半導体製造設備と方法
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JP4333866B2
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基板処理方法および基板処理装置
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JP2004128307A
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JP2005243904A
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JP2005251549A
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JP2005257740A
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JP2005259789A
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JP4497968B2
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JP2005268700A
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JP2005276932A
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JP2005302826A
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照明光学装置、露光装置及び露光方法
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JP4474979B2
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KR101330370B1
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JP2005311020A
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JP4776891B2
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照明光学系、露光装置、及びデバイス製造方法
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JP4569157B2
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JP2005340605A
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JP5159027B2
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照明光学系及び露光装置
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JP2006005197A
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JP4419701B2
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JP2006017895A
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露光装置
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JP4444743B2
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露光装置及びデバイス製造方法
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JP2006024819A
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JP2006049758A
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JP2006054364A
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JP4599936B2
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JP2006073584A
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JP2006080281A
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ステージ装置、ガスベアリング装置、露光装置、並びにデバイス製造方法
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JPWO2006028188A1
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WO2006030727A1
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JP2006086141A
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