JP2005127460A - 免震除振床システム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 除振対象物3を複数載置する床部材4と、該床部材4と支持構造物2との間に配置され、支持構造物2から床部材4に伝達される地震による震動を低減する免震機能および地震による震動よりも高周波の振動を低減する除振機能を有する免震除振装置5とを備えることを特徴とする免震除振床システム1を提供する。
【選択図】 図1
Description
この発明は上述した事情に鑑みてなされたものであって、大幅なコスト増加を伴うことなく、中小規模の地震からそれよりも高周波の振動まで効率的に遮断し、または抑制することができる免震除振床システムを提供することを目的としている。
本発明は、除振対象物を複数載置する床部材と、該床部材と支持構造物との間に配置され、支持構造物から床部材を介して除振対象物に伝達される地震による震動を低減する免震機能および地震による震動よりも高周波の振動を低減する除振機能を有する免震除振装置とを備える免震除振床システムを提供する。
さらに、本発明は、前記床部材が実質的に剛体もしくは弾性体からなり、前記免震除振装置がパッシブ制御される免震除振床システムを提供する。
また、本発明は、前記床部材が実質的に弾性体からなり、前記免震除振装置がアクティブ制御される免震除振床システムを提供する。
この場合に、床部材の少なくとも4隅と中央の免震除振装置がアクティブ制御され、他の免震除振装置がパッシブ制御されることとすれば効果的である。
さらに、本発明は、前記支持構造物に、前記床部材の上方に間隔をあけて配置され、作業者の通行や保守作業等を許容するオーバブリッジが設けられている免震除振床システムを提供する。
さらに、免震装置が積層ゴムを備える構成とすることにより、水平方向に確実な免震を図ることができる。また、垂直方向の地震は、一般に水平方向地震に比べレベルが小さく、また高周波の揺れであるため、除振装置で効果的に遮断することができるとともに、水平方向の微振動をも効果的に低減することができるという効果がある。
また、床部材が一般に弾性体とみなされる床面積、例えば、5m×5mを超え、20m×20m以下の場合には、免震除振装置をアクティブ制御することにより、平面的に変形する床部材の弾性挙動に応じて適正な振動の遮断・抑制を行うことができる。
本発明の第1実施形態に係る免震除振床システムについて、図1および図2を参照して以下に説明する。
本実施形態に係る免震除振床システム1は、図1に示されるように、地盤に対して強固に固定された支持構造物2に構築されるシステムであって、除振対象物、例えば、半導体製造装置や電子顕微鏡のような精密機器3を複数搭載可能な床部材4と、該床部材4を支持する免震除振装置5とを備えている。
前記免震除振装置5は、図2に示されるように、水平に配置される中間鋼板(中間質量要素)6と、該中間鋼板6を挟んで、上下に配置される空気ばね7および空気ばね7’を備えている。空気ばね7,7’は3次元方向のばね要素および減衰要素を構成している。片方の空気ばね7には、レベリングバルブ9が備えられ、床部材4の高さを調節できるようになっている。免震装置8は、図1および図2に示す例では、積層ゴム(ばね要素)10とオイルダンパ(減衰要素)11とから構成されている。
本実施形態に係る免震除振床システム1によれば、地震発生時のように、横揺れ震動が地盤Aに発生すると、その震動が地盤Aに固定された支持構造物2に伝達される。この場合に、床部材4が免震除振装置5を介して支持構造物2に支持されているので、支持構造物2に固定されている免震装置8により、水平2次元方向に作用する横揺れ震動が床部材4に伝達されることが遮断される。
その結果、震度2〜4程度の中小規模の地震に際しても、精密機器3等に振動を与えることなく運転を継続でき、その際の不良品発生もなくすことができる。
さらに、床部材4の上に搭載した複数の精密機器3等は、大きな振動を伴うものではないが、全てが同期して作動するものではなく、ランダムに作動するので、全体として、精密機器3等から発生される振動は相互に打ち消しあって低減されるという利点もある。
次に、本発明の第2実施形態に係る免震除振床システム20について、図3および図4を参照して説明する。
なお、本実施形態の説明において、上述した第1実施形態と構成を共通とする箇所に同一符号を付して説明を簡略化する。
この免震除振装置22は、中間質量25を挟んで配置された空気ばね23,23‘からなる除振装置と、免震装置24とを上下に直列に設けている点で第1実施形態に係る免震除振床システム1と共通している。本実施形態に係る免震装置24は、支持構造物2の床面を水平方向に転がり可能なローラ26と、そのローラ26と支持構造物2との間に配置されたコイルばね(ばね要素)27およびオイルダンパ(減衰要素)28とを備えている。
本実施形態に係る免震除振床システム20を備えた構造物に、地震などによる横揺れ震動が作用した場合には、免震装置24が作動して、ローラ26が転がるとともに、コイルばね27およびオイルダンパ28が変位する。これにより、ローラ26で支持した床部材等の揺れを長周期の揺れに変えて震動を効果的に抑制する。
オーバーブリッジ33上を作業者が歩行したり保守作業をしたりすることにより発生する振動は支持構造物2に伝達され、床部材4,21は支持構造物2に免震除振装置5,22を介して固定されているので、作業者による振動は、免震除振装置5,22、特に空気ばね7,23によって、床部材4,21に伝達されることが防止される。
2 支持構造物
3 精密機器(除振対象物)
4,21 床部材
5,22 免震除振装置
6 中間鋼板(中間質量要素)
7,23 空気ばね(除振装置,ばね要素,減衰要素)
8,24 免震装置
10 積層ゴム(ばね要素)
11,28 オイルダンパ(減衰要素)
25 中間プレート(中間質量要素)
27 コイルばね(ばね要素)
33 オーバーブリッジ
Claims (9)
- 除振対象物を複数載置する床部材と、該床部材と支持構造物との間に配置され、支持構造物から床部材に伝達される地震による震動を低減する免震機能および地震による震動よりも高周波の振動を低減する除振機能を有する免震除振装置とを備えることを特徴とする免震除振床システム。
- 前記免震除振装置が、直列に配置された除振装置と免震装置とからなり、
除振装置が、前記床部材と免震装置との間に設けた中間質量要素を挟んで直列に配置されたばね要素および減衰要素を備え、
その下に免震装置が配置されていることを特徴とする請求項1に記載の免震除振床システム。 - 前記除振装置に空気ばねを備えたことを特徴とする請求項2に記載の免震除振床システム。
- 前記免震装置に積層ゴムを備えたことを特徴とする請求項2または請求項3に記載の免震除振床システム。
- 前記床部材が実質的に剛体もしくは弾性体からなり、前記免震除振装置がパッシブ制御されることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の免震除振床システム。
- 前記床部材が実質的に弾性体からなり、前記免震除振装置がアクティブ制御されることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の免震除振床システム。
- 前記床部材が実質的に弾性体からなり、アクティブ制御される免震除振装置と、パッシブ制御される免震除振装置とが混在して複数備えられていることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の免震除振床システム。
- 前記床部材の少なくとも4隅と中央の免震除振装置がアクティブ制御され、他の免震除振装置がパッシブ制御されることを特徴とする請求項7に記載の免震除振床システム。
- 前記支持構造物に、前記床部材の上方に間隔をあけて配置され、作業者の通行を許容するオーバーブリッジが設けられていることを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の免震除振床システム。
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---|---|
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Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010198256A (ja) * | 2009-02-25 | 2010-09-09 | Taiheiyo Cement Corp | 防振装置 |
WO2010128597A1 (ja) * | 2009-05-07 | 2010-11-11 | 株式会社ニコン | 振動制御装置、振動制御方法、露光装置、及びデバイス製造方法 |
US20130271945A1 (en) | 2004-02-06 | 2013-10-17 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
CN104267756A (zh) * | 2014-09-19 | 2015-01-07 | 中国电子工程设计院 | 一种水平超长精密装备微振动控制系统 |
US9341954B2 (en) | 2007-10-24 | 2016-05-17 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
US9423698B2 (en) | 2003-10-28 | 2016-08-23 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
US9678437B2 (en) | 2003-04-09 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction |
US9678332B2 (en) | 2007-11-06 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
US9885872B2 (en) | 2003-11-20 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light |
US9891539B2 (en) | 2005-05-12 | 2018-02-13 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
US10101666B2 (en) | 2007-10-12 | 2018-10-16 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
JP2021017914A (ja) * | 2019-07-18 | 2021-02-15 | 国立大学法人東京農工大学 | アクティブ型の振動制御装置 |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61168255U (ja) * | 1985-04-08 | 1986-10-18 | ||
JPH02261937A (ja) * | 1989-03-31 | 1990-10-24 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 歩行振動防止装置 |
JPH0389241U (ja) * | 1989-12-27 | 1991-09-11 | ||
JPH0394443U (ja) * | 1990-01-17 | 1991-09-26 | ||
JPH0434245A (ja) * | 1990-05-30 | 1992-02-05 | Taisei Corp | 除振装置 |
JPH0540536U (ja) * | 1991-11-07 | 1993-06-01 | 横浜ゴム株式会社 | 免震アイソレータ |
JPH0874929A (ja) * | 1994-09-08 | 1996-03-19 | Bridgestone Corp | 微振動制振床 |
JPH0925991A (ja) * | 1995-07-10 | 1997-01-28 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | 除振装置 |
JPH09291969A (ja) * | 1996-04-25 | 1997-11-11 | Toyo Tire & Rubber Co Ltd | 能動型除振装置の支持装置 |
JP2000017889A (ja) * | 1998-07-06 | 2000-01-18 | Bando Chem Ind Ltd | 免震装置 |
JP2001271871A (ja) * | 2000-03-24 | 2001-10-05 | Tokkyokiki Corp | アクティブ防振装置 |
JP2002139096A (ja) * | 2000-11-02 | 2002-05-17 | Kajima Corp | セミアクティブ免震システム |
JP2002266936A (ja) * | 2001-03-12 | 2002-09-18 | Kayaba Ind Co Ltd | 免震装置 |
-
2003
- 2003-10-27 JP JP2003365685A patent/JP2005127460A/ja active Pending
Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61168255U (ja) * | 1985-04-08 | 1986-10-18 | ||
JPH02261937A (ja) * | 1989-03-31 | 1990-10-24 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 歩行振動防止装置 |
JPH0389241U (ja) * | 1989-12-27 | 1991-09-11 | ||
JPH0394443U (ja) * | 1990-01-17 | 1991-09-26 | ||
JPH0434245A (ja) * | 1990-05-30 | 1992-02-05 | Taisei Corp | 除振装置 |
JPH0540536U (ja) * | 1991-11-07 | 1993-06-01 | 横浜ゴム株式会社 | 免震アイソレータ |
JPH0874929A (ja) * | 1994-09-08 | 1996-03-19 | Bridgestone Corp | 微振動制振床 |
JPH0925991A (ja) * | 1995-07-10 | 1997-01-28 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | 除振装置 |
JPH09291969A (ja) * | 1996-04-25 | 1997-11-11 | Toyo Tire & Rubber Co Ltd | 能動型除振装置の支持装置 |
JP2000017889A (ja) * | 1998-07-06 | 2000-01-18 | Bando Chem Ind Ltd | 免震装置 |
JP2001271871A (ja) * | 2000-03-24 | 2001-10-05 | Tokkyokiki Corp | アクティブ防振装置 |
JP2002139096A (ja) * | 2000-11-02 | 2002-05-17 | Kajima Corp | セミアクティブ免震システム |
JP2002266936A (ja) * | 2001-03-12 | 2002-09-18 | Kayaba Ind Co Ltd | 免震装置 |
Cited By (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9885959B2 (en) | 2003-04-09 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having deflecting member, lens, polarization member to set polarization in circumference direction, and optical integrator |
US9678437B2 (en) | 2003-04-09 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction |
US9423698B2 (en) | 2003-10-28 | 2016-08-23 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
US9760014B2 (en) | 2003-10-28 | 2017-09-12 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
US10281632B2 (en) | 2003-11-20 | 2019-05-07 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical member with optical rotatory power to rotate linear polarization direction |
US9885872B2 (en) | 2003-11-20 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light |
US20130271945A1 (en) | 2004-02-06 | 2013-10-17 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
US10241417B2 (en) | 2004-02-06 | 2019-03-26 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
US10234770B2 (en) | 2004-02-06 | 2019-03-19 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
US10007194B2 (en) | 2004-02-06 | 2018-06-26 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
US9891539B2 (en) | 2005-05-12 | 2018-02-13 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
US10101666B2 (en) | 2007-10-12 | 2018-10-16 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
US9857599B2 (en) | 2007-10-24 | 2018-01-02 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
US9341954B2 (en) | 2007-10-24 | 2016-05-17 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
US9678332B2 (en) | 2007-11-06 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
JP2010198256A (ja) * | 2009-02-25 | 2010-09-09 | Taiheiyo Cement Corp | 防振装置 |
WO2010128597A1 (ja) * | 2009-05-07 | 2010-11-11 | 株式会社ニコン | 振動制御装置、振動制御方法、露光装置、及びデバイス製造方法 |
CN104267756B (zh) * | 2014-09-19 | 2017-03-22 | 中国电子工程设计院 | 一种水平超长精密装备微振动控制系统 |
CN104267756A (zh) * | 2014-09-19 | 2015-01-07 | 中国电子工程设计院 | 一种水平超长精密装备微振动控制系统 |
JP2021017914A (ja) * | 2019-07-18 | 2021-02-15 | 国立大学法人東京農工大学 | アクティブ型の振動制御装置 |
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