JPH09291969A - 能動型除振装置の支持装置 - Google Patents

能動型除振装置の支持装置

Info

Publication number
JPH09291969A
JPH09291969A JP10501696A JP10501696A JPH09291969A JP H09291969 A JPH09291969 A JP H09291969A JP 10501696 A JP10501696 A JP 10501696A JP 10501696 A JP10501696 A JP 10501696A JP H09291969 A JPH09291969 A JP H09291969A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mount
absorbing member
support
air spring
shearing force
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10501696A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshifumi Sakata
利文 坂田
Shuichi Okamoto
修一 岡本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyo Tire Corp
Original Assignee
Toyo Tire and Rubber Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyo Tire and Rubber Co Ltd filed Critical Toyo Tire and Rubber Co Ltd
Priority to JP10501696A priority Critical patent/JPH09291969A/ja
Publication of JPH09291969A publication Critical patent/JPH09291969A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/709Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Vibration Prevention Devices (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 系全体の剛性を低下させて除振性能の向上を
図りながら、搭載機器の重量が大きい場合でも歪の発生
による性能劣化等を招くことなく、所定の除振性能を長
期に亘って安定よく維持することができるようにする。 【解決手段】 下部架台1とこれに対向する機器搭載台
2との間に、ピエゾアクチュエータ5および該ピエゾア
クチュエータ5の駆動方向の少なくとも一端面に配設さ
れた剪断力吸収部材6からなる支持マウント3と、膨張
収縮可能な可撓材製袋状体9内に加圧空気を封入してな
る空気ばね4とを併設させている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体製造
工場やレーザー応用製品製造工場などに設置される各種
機器を搭載した機器搭載台に地震や自動車の走行などに
起因する振動が伝播されて該機器搭載台が振動すること
を除去する除振装置で、詳しくは、機器搭載台と下部架
台との間に介在させたピエゾアクチュエータを、機器搭
載台の振動に対して干渉するように動作させることによ
り搭載機器の励起振動や低周波数領域の振動など受動型
除振装置では除去できない振動も除去可能としている能
動型除振装置の支持装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】この種の従来の能動型除振装置の支持装
置としては、図9に示すように、下部架台01とこれに
対向する機器搭載台02との間に、ピエゾアクチュエー
タ03および該ピエゾアクチュエータ03の駆動方向の
少なくとも一端面(駆動方向の両端面の場合もあるが、
ここでは、一端面で示す)に配設された剪断力吸収部材
04からなる支持マウント05を介在させたものが一般
的である。
【0003】そして、上記支持マウント05における剪
断力吸収部材04としては、例えば特開平2−2463
82号公報や特開平5−149379号公報などでみら
れるように、薄肉弾性ゴムと金属板などの剛性板材とを
三層以上に積層して構成されたものと、弾性ゴム単体か
ら構成されたものとが知られている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来の能動型除振装置の支持装置において、剪断力吸
収部材04として薄肉弾性ゴムと剛性板材とが積層され
た構成のものを使用する場合は、該剪断力吸収部材04
全体の剛性が大きくてばね定数が高くなるために、所定
の除振性能を発揮させるための制御系の設計が困難にな
るという問題がある一方、剪断力吸収部材04として弾
性ゴム単体から構成されたものを使用する場合は、該剪
断力吸収部材04全体の剛性を低くすることが可能であ
る反面、搭載機器の重量が大きいと、その重量によって
弾性ゴムに大きな歪を生じて該弾性ゴムの劣化が早まる
ばかりでなく、機器搭載台に回転など搭載機器の動作に
伴って発生する振動が大きくなり、これら歪や振動がピ
エゾアクチュエータの駆動範囲を制限したり、ピエゾア
クチュエータの駆動による制御力と干渉したりして、所
定の除振性能を発揮できる振動範囲および搭載機器の重
量範囲が制約されるという問題があった。
【0005】本発明は上記のような実情に鑑みてなされ
たもので、系全体の剛性を低下させて除振性能の向上を
図ることができるものでありながら、搭載機器の重量が
大きい場合でも歪の発生による性能劣化等を招くことな
く、低周波数領域の振動に対する所定の除振性能を長期
に亘って安定よく維持することができる能動型除振装置
の支持装置を提供することを目的としている。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1に記載の発明に係る能動型除振装置の支持
装置は、下部架台とこれに対向する機器搭載台との間
に、ピエゾアクチュエータおよび該ピエゾアクチュエー
タの駆動方向の少なくとも一端面に配設された剪断力吸
収部材からなる支持マウントと、膨張収縮可能な可撓材
製袋状体内に加圧空気を封入してなる空気ばねとを併設
したことを特徴とするものである。
【0007】上記のような構成の請求項1に記載の発明
によれば、剪断力吸収部材およびピエゾアクチュエータ
からなる支持マウントと空気ばねとを併用することで、
支持装置全体の剛性が低下されて低周波数領域の振動に
対して除振性能を発揮させるための制御系の設計が容易
になる。また、搭載機器の重量を支持マウントと空気ば
ねの両方で受止め支持することにより、搭載機器の重量
が大きい場合でも、支持マウントの剪断力吸収部材が負
担する重量割合が小さくなり、該剪断力吸収部材の構成
要素である弾性ゴムの歪による性能劣化および搭載機器
の回転等の動作に伴い発生する振動によるピエゾアクチ
ュエータの駆動範囲の制限や制御力の干渉という不都合
を解消することが可能で、所定の除振性能を長期に亘っ
て保持することができる。さらに、空気ばねにおける封
入空気圧の調整によって機器搭載台の姿勢および位置を
任意に設定変更することが可能である。
【0008】上記のような能動型除振装置の支持装置に
おける上記支持マウントと空気ばねとの併設手段として
は、請求項2に記載のように、下部架台と機器搭載台と
の間で互いに適宜間隔を隔ててそれぞれ独立して配置し
た構成であっても、請求項3に記載のように、空気ばね
を構成する可撓材製袋状体内の中央部に支持マウントが
収容されるように複合一体化した構成であってもよく、
これらは機器搭載台の大きさや搭載機器の動作条件等に
応じて適宜に選択使用されるものであるが、特に複合一
体化したものは設置作業性に優れているとともに、ユニ
ット化への対応が容易である。
【0009】また、上記能動型除振装置の支持装置にお
ける上記支持マウントの剪断力吸収部材としては、請求
項4に記載のように、薄肉弾性ゴムと剛性板材とを三層
以上に積層して構成したものであっても、請求項5に記
載のように、弾性ゴム単体から構成したものであっても
よい。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
にもとづいて説明する。図1は本発明に係る能動型除振
装置の支持装置の第1の実施形態を示す全体概略斜視図
であり、高さ調整可能な支持脚(図示省略する)を介し
て床面に水平姿勢で載置される平面視が正方形状の下部
架台1とこの下部架台1の上部に対向配置された機器搭
載台2との間の4隅部にはそれぞれ、支持マウント3…
が配置されているとともに、上記下部架台1と機器搭載
台2との間の中央部には単一の空気ばね4が配置されて
いる。
【0011】上記各支持マウント3…は、図2に明示す
るように、積層形ピエゾ素子などのピエゾアクチュエー
タ5と該ピエゾアクチュエータ5の駆動方向(矢印x方
向)の一端面に配設された剪断力吸収部材6と上記ピエ
ゾアクチュエータ5を収納する筒状ケース13とから構
成されており、かつ、上記剪断力吸収部材6は、薄肉弾
性ゴム7と金属製薄板などの剛性板材8とを三層以上の
複数層に積層して構成されている。なお、上記薄肉弾性
ゴム7と剛性板材8の積層段数や大きさは、搭載機器の
大きさや重量などに応じて適宜に設定される。
【0012】上記空気ばね4は、図3に明示するよう
に、例えば内外のゴム層間に補強用ビードワイヤーを挟
在させてなるプライコードなどの膨張収縮可能な可撓材
製袋状体9内に加圧空気paを封入してなるもので、そ
のばね定数は、搭載機器の重量や動作条件などに対応し
て封入空気圧を調整することによって適宜に設定変更可
能とされている。
【0013】上記機器搭載台2の下面には、図4に示す
ように、振動センサ10が取り付けられており、この振
動センサ10による振動検出信号S1が制御装置11に
入力される。この制御装置11は、上記振動センサ10
からの検出信号S1に基づいて機器搭載台2を静止させ
るに必要なピエゾアクチュエータ5の伸び量、即ち、ピ
エゾアクチュエータ5に印加すべき電圧信号を演算する
とともに、その電圧信号S2を上記各支持マウント3…
におけるピエゾアクチュエータ5…にそれぞれ出力して
機器搭載台1の振動を制御する。なお、上記制御装置1
1は、CPUとRAM、ROM等を有するマイクロコン
ピュータからなり、上記振動センサ10およびピエゾア
クチュエータ5…にそれぞれ入力インターフェイスおよ
び出力インターフェイスを介して接続されているが、こ
れらは周知であるため、図示は省略する。
【0014】上記のような構成の能動型除振装置の支持
装置においては、搭載機器および機器搭載台2の重量が
支持マウント3…と空気ばね4とに分担支持されるため
に、該支持装置全体としての剛性は低下され、共振周波
数が低周波数領域に移動して除振性能が改善される。ま
た、搭載機器の重量が大きい場合でも、支持マウント3
…の剪断力吸収部材6が負担する重量割合が小さくな
り、該剪断力吸収部材6の構成要素である薄肉弾性ゴム
7の歪が非常に小さくて性能劣化を抑制できるととも
に、搭載機器の回転等の動作に伴い発生する振動によっ
てピエゾアクチュエータ5の駆動範囲が制限されたり、
該ピエゾアクチュエータ5による制御力が干渉されたり
することを解消することが可能で、所定の除振性能を長
期に亘って保持することができる。
【0015】図5は本発明に係る能動型除振装置の支持
装置の第2の実施形態を示す全体概略斜視図であり、下
部架台1と機器搭載台2との間の各辺の中央位置にはそ
れぞれ支持マウント3…が配置されているとともに、4
隅部にはそれぞれ空気ばね4…が配置されたものであ
り、それら支持マウント3…の構成、剪断力吸収部材6
の構成および空気ばね4…の構成は、図2および図3に
示す上記第1の実施形態と同一であるため、それらの詳
細説明は省略する。
【0016】図5で示す第2の実施形態による能動型除
振装置の支持装置の場合は、上記の実施形態の場合と同
様な除振性能を確保できるのはもとより、搭載機器がそ
の動作時に重心位置を変動するようなものであっても、
除振効果の変動を抑制できるとともに、搭載機器を水平
姿勢に安定よく保持できるという機能を併せ有してい
る。
【0017】図6は本発明に係る能動型除振装置の支持
装置の第3の実施形態を示す要部の拡大断面図であり、
上記第1および第2の実施形態で詳しく説明したような
構成からなる支持マウント3を、空気ばね4を構成する
可撓材製袋状体9内の中央部に収容させて両者3,4を
複合一体化してなるものであり、このような複合タイプ
のものは、支持マウント3と空気ばね4とが1対1の関
係にある全く新しいマウントユニットであり、上記第1
および第2の実施形態で述べた独立タイプのものに比し
て取扱い性や設置作業性に優れているとともに適用性の
拡充を図りやすい。
【0018】図7は本発明に係る能動型除振装置の支持
装置の第4の実施形態で、複合タイプの他の例を示す概
略斜視図であり、上記第1および第2の実施形態で詳し
く説明したような構成からなる単一の支持マウント3を
取り囲むように複数個(図面上では3個で示すが、4個
以上であってもよい)の空気ばね4…を配置し、これら
を一つの筒状ケース12内に収納し複合一体化してなる
ものであり、図6に示す複合タイプのものと同様に全く
新しいマウントユニットであって、独立タイプのものに
比して取扱い性や設置作業性に優れているばかりでな
く、複数個の空気ばね4…それぞれの封入空気圧の調整
によってばね定数の設定変更範囲を広くとれるととも
に、機器搭載台2の水平姿勢の微調整も可能で、適用性
を一層拡大することができる。
【0019】なお、上記の各実施形態では、上記支持マ
ウント3における剪断力吸収部材6として、図2に明示
されたような薄肉弾性ゴム7と剛性板材8との積層構造
のものを使用した例について説明したが、図8に明示す
るように、厚肉の弾性ゴム単体14を使用した構成のも
のであってもよい。
【0020】また、上記の実施形態では、上記支持マウ
ント3をそのピエゾアクチュエータ5の駆動方向が図4
の矢印xで示した鉛直方向になるように、下部架台1と
機器搭載台2との間に配設した使用例について説明した
が、下部架台1と機器搭載台2との間に、水平二次元方
向に駆動可能な支持マウントおよび鉛直方向に駆動可能
な支持マウントを配設して、機器搭載台2の三次元的な
振動を制御するように使用してもよいこともちろんであ
る。
【0021】
【発明の効果】以上のように、請求項1に記載の発明に
よれば、剪断力吸収部材およびピエゾアクチュエータか
らなる支持マウントと空気ばねとを併用することで、支
持装置全体の剛性を低下させて共振周波数を低周波数領
域に移行させ除振性能の著しい向上を図ることができ
る。しかも、搭載機器の重量が大きい場合でも、支持マ
ウントにおける剪断力吸収部材の負担重量を小さくし
て、該剪断力吸収部材の構成要素である弾性ゴムの歪に
よる性能劣化および搭載機器の回転等の動作に伴い発生
する振動によるピエゾアクチュエータの駆動範囲の制限
や制御力の干渉という不都合を解消することが可能で、
所定の除振性能を長期に亘って安定よく保持することが
できる。また、空気ばねにおける封入空気圧の調整によ
って機器搭載台の姿勢、位置および支持装置全体の剛性
を任意に設定変更することが可能で、所定の除振性能を
発揮できる振動範囲および搭載機器の重量範囲を広く
し、適用性の拡充を図ることができるという効果を奏す
る。
【0022】また、請求項3に記載の発明のように、上
記支持マウントと空気ばねとを複合一体化した構成とす
る場合は、取扱い性および設置作業性に優れているとと
もに、ユニット化への対応が容易となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る能動型除振装置の支持装置の第1
の実施形態を示す全体概略斜視図である。
【図2】支持マウントの拡大側面図である。
【図3】空気ばねの拡大縦断面図である。
【図4】能動型除振装置全体の側面図である。
【図5】本発明に係る能動型除振装置の支持装置の第2
の実施形態を示す全体概略斜視図である。
【図6】本発明に係る能動型除振装置の支持装置の第3
の実施形態を示す要部の拡大断面図である。
【図7】本発明に係る能動型除振装置の支持装置の第4
の実施形態で、複合タイプの他の例を示す概略斜視図で
ある。
【図8】支持マウントの他の構成を示す拡大側面図であ
る。
【図9】従来の能動型除振装置の支持装置を示す要部の
拡大側面図である。
【符号の説明】
1 下部架台 2 機器搭載台 3 支持マウント 4 空気ばね 5 ピエゾアクチュエータ 6 剪断力吸収部材 7 薄肉弾性ゴム 8 剛性板材 9 可撓材製袋状体 14 弾性ゴム単体

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下部架台とこれに対向する機器搭載台と
    の間に、ピエゾアクチュエータおよび該ピエゾアクチュ
    エータの駆動方向の少なくとも一端面に配設された剪断
    力吸収部材からなる支持マウントと、膨張収縮可能な可
    撓材製袋状体内に加圧空気を封入してなる空気ばねとを
    併設したことを特徴とする能動型除振装置の支持装置。
  2. 【請求項2】 上記支持マウントと空気ばねとが、上記
    下部架台と機器搭載台との間で互いに適宜間隔を隔てて
    それぞれ独立して配置されている請求項1に記載の能動
    型除振装置の支持装置。
  3. 【請求項3】 上記支持マウントと空気ばねとが、空気
    ばねを構成する可撓材製袋状体内の中央部に支持マウン
    トが収容されるように複合一体化されている請求項1に
    記載の能動型除振装置の支持装置。
  4. 【請求項4】 上記支持マウントにおける剪断力吸収部
    材が、薄肉弾性ゴムと剛性板材とを三層以上に積層して
    構成されたものである請求項1ないし3のいずれかに記
    載の能動型除振装置の支持装置。
  5. 【請求項5】 上記支持マウントにおける剪断力吸収部
    材が、弾性ゴム単体から構成されたものである請求項1
    ないし3のいずれかに記載の能動型除振装置の支持装
    置。
JP10501696A 1996-04-25 1996-04-25 能動型除振装置の支持装置 Pending JPH09291969A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10501696A JPH09291969A (ja) 1996-04-25 1996-04-25 能動型除振装置の支持装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10501696A JPH09291969A (ja) 1996-04-25 1996-04-25 能動型除振装置の支持装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09291969A true JPH09291969A (ja) 1997-11-11

Family

ID=14396276

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10501696A Pending JPH09291969A (ja) 1996-04-25 1996-04-25 能動型除振装置の支持装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH09291969A (ja)

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11257419A (ja) * 1998-03-12 1999-09-21 Fujita Corp アクティブ型除振装置
JP2000249185A (ja) * 1999-02-26 2000-09-12 Fujita Corp アクティブ型除振装置
EP1253346A1 (de) * 2001-04-24 2002-10-30 Peter Heiland Vorrichtung und Verfahren zur schwingungsisolierenden Aufnahme von Lasten
JP2005127460A (ja) * 2003-10-27 2005-05-19 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 免震除振床システム
WO2009093501A1 (ja) * 2008-01-21 2009-07-30 Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. 除振装置
CN102563330A (zh) * 2010-12-30 2012-07-11 上海微电子装备有限公司 工件台安全保护装置
CN103090161A (zh) * 2012-12-19 2013-05-08 哈尔滨工业大学 基于空气弹簧零位基准和激光自准直测量的气磁隔振平台
CN109323103A (zh) * 2018-12-07 2019-02-12 安徽金寨金鸿诺科技有限公司 一种方管内胎模具制作支撑垫
CN109853747A (zh) * 2018-12-20 2019-06-07 中国人民解放军军事科学院国防工程研究院 一种抗爆消能组合支座
CN110748598A (zh) * 2019-09-23 2020-02-04 苏州佳世达光电有限公司 投影装置
CN111623067A (zh) * 2020-04-23 2020-09-04 山东天岳先进材料科技有限公司 用于真空反应炉的减震装置及晶体生长炉
KR20220146106A (ko) * 2021-04-23 2022-11-01 한국세라믹기술원 단위 압전 구조체 및 단위 커버 필름을 이용한 압전 스택 구조체 및 이를 이용한 발판형 압전 발전 모듈
WO2024021782A1 (zh) * 2022-07-25 2024-02-01 安徽辰宇机械科技有限公司 具备高应力支撑结构的谷物干燥机主机底架

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11257419A (ja) * 1998-03-12 1999-09-21 Fujita Corp アクティブ型除振装置
JP2000249185A (ja) * 1999-02-26 2000-09-12 Fujita Corp アクティブ型除振装置
EP1253346A1 (de) * 2001-04-24 2002-10-30 Peter Heiland Vorrichtung und Verfahren zur schwingungsisolierenden Aufnahme von Lasten
JP2005127460A (ja) * 2003-10-27 2005-05-19 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 免震除振床システム
WO2009093501A1 (ja) * 2008-01-21 2009-07-30 Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. 除振装置
CN102563330A (zh) * 2010-12-30 2012-07-11 上海微电子装备有限公司 工件台安全保护装置
CN103090161A (zh) * 2012-12-19 2013-05-08 哈尔滨工业大学 基于空气弹簧零位基准和激光自准直测量的气磁隔振平台
CN109323103A (zh) * 2018-12-07 2019-02-12 安徽金寨金鸿诺科技有限公司 一种方管内胎模具制作支撑垫
CN109853747A (zh) * 2018-12-20 2019-06-07 中国人民解放军军事科学院国防工程研究院 一种抗爆消能组合支座
CN110748598A (zh) * 2019-09-23 2020-02-04 苏州佳世达光电有限公司 投影装置
CN110748598B (zh) * 2019-09-23 2021-06-15 苏州佳世达光电有限公司 投影装置
CN111623067A (zh) * 2020-04-23 2020-09-04 山东天岳先进材料科技有限公司 用于真空反应炉的减震装置及晶体生长炉
WO2021212862A1 (zh) * 2020-04-23 2021-10-28 山东天岳先进科技股份有限公司 用于真空反应炉的减震装置及晶体生长炉
KR20220146106A (ko) * 2021-04-23 2022-11-01 한국세라믹기술원 단위 압전 구조체 및 단위 커버 필름을 이용한 압전 스택 구조체 및 이를 이용한 발판형 압전 발전 모듈
WO2024021782A1 (zh) * 2022-07-25 2024-02-01 安徽辰宇机械科技有限公司 具备高应力支撑结构的谷物干燥机主机底架

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH09291969A (ja) 能動型除振装置の支持装置
US6193206B1 (en) Active vibration isolator
JP4726893B2 (ja) 機械振動減衰用のせん断力消散インターフェイス器具
US7586236B2 (en) Tri-axial hybrid vibration isolator
WO2005026573A1 (ja) 除振方法およびその装置
US5899443A (en) Passive-active vibration isolation
JP3769326B2 (ja) アクティブ型除振装置
JP2000249185A (ja) アクティブ型除振装置
JP4727151B2 (ja) 除振方法およびその装置
US5887858A (en) Passive-active mount
US6364064B1 (en) Piezoceramic elevator vibration attenuator
JP2936989B2 (ja) アクティブ型除振装置
JPH11108109A (ja) 制御型除振台の支持装置
JP2008248629A (ja) 建築構造物用の能動型制振装置
JP2001050334A (ja) アクティブ型除振装置
JP2001514722A (ja) 能動的振動マウント
JPH1163110A (ja) 制御型除振台の支持装置
JP2000170827A (ja) アクティブ型除振装置
JPH04231747A (ja) 液圧減衰形エンジンマウント
JP3876018B2 (ja) アクティブ型除振装置
US10774898B2 (en) Compact vibration reducing human support
JPH02246382A (ja) ピエゾアクチュエータ及びアクティブ振動絶縁装置
JP4057134B2 (ja) アクティブ型除振装置
JPH0874929A (ja) 微振動制振床
JP4291503B2 (ja) 除振装置

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Effective date: 20050829

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20051018

A521 Written amendment

Effective date: 20051122

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060104

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060131

A02 Decision of refusal

Effective date: 20060411

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02