JPS61270049A - テ−ブル装置 - Google Patents
テ−ブル装置Info
- Publication number
- JPS61270049A JPS61270049A JP11050585A JP11050585A JPS61270049A JP S61270049 A JPS61270049 A JP S61270049A JP 11050585 A JP11050585 A JP 11050585A JP 11050585 A JP11050585 A JP 11050585A JP S61270049 A JPS61270049 A JP S61270049A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electromagnet
- table body
- positioning
- permanent magnet
- sliding support
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
- B23Q5/00—Driving or feeding mechanisms; Control arrangements therefor
- B23Q5/22—Feeding members carrying tools or work
- B23Q5/28—Electric drives
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
- B23Q17/00—Arrangements for observing, indicating or measuring on machine tools
- B23Q17/24—Arrangements for observing, indicating or measuring on machine tools using optics or electromagnetic waves
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は１例えば半導体露光用、精密切削用等に用いら
れるテーブル装置に関する。
れるテーブル装置に関する。
一般に、半導体露光用、精密切削用に用いられるテーブ
ル装置は、高度の位置決め精度を必要とする。そのため
、従来においては、ボールねじ。
ル装置は、高度の位置決め精度を必要とする。そのため
、従来においては、ボールねじ。
遊星ねじ、リニアモータなどの駆ａ機構と、摩擦車、て
こなどの減速機構との組合わせによシ、所望の位置決め
精度を達成するようにしている。
こなどの減速機構との組合わせによシ、所望の位置決め
精度を達成するようにしている。
しかしながら、上記従来のテーブル装置においては１機
械的精度のばらつきにより、拘束方向にも変位を生じて
しまう傾向がある。これを解決する之め、平行ばね、ゴ
ニオメータを並用することが行われているが、移動距離
が制限されてしまうこと、水平方向に変位を与えると垂
直方向に微小変位を生じてしまうこと、などの問題をも
っている。
械的精度のばらつきにより、拘束方向にも変位を生じて
しまう傾向がある。これを解決する之め、平行ばね、ゴ
ニオメータを並用することが行われているが、移動距離
が制限されてしまうこと、水平方向に変位を与えると垂
直方向に微小変位を生じてしまうこと、などの問題をも
っている。
また、直接微小変位を得る方法として、圧’Ｉ！素子を
用いることを行われているが、平行ばね、ゴニオメータ
と同じ問題を有しているのみならず。
用いることを行われているが、平行ばね、ゴニオメータ
と同じ問題を有しているのみならず。
温度の影響を大きく受ける欠点をもっている。
と１゛、と、近時、″Ｐ導体露光用ステッパ等において
、ウェーハの大径化、パターン幅の微細化にともない、
比較的大移動量で、しかも精密位置決めのできるテーブ
ル装置が要望されている。
、ウェーハの大径化、パターン幅の微細化にともない、
比較的大移動量で、しかも精密位置決めのできるテーブ
ル装置が要望されている。
本発明は、上記事情を参酌してなされたもので。
機械式テーブルのバックラッシ為、スライド部のうねシ
によシテーブル面のずれ、送υステップのばらつき等に
よる位置決め誤差を補正することのできるテーブル装置
を提供することを目的とする。
によシテーブル面のずれ、送υステップのばらつき等に
よる位置決め誤差を補正することのできるテーブル装置
を提供することを目的とする。
永久磁石が取付けられているテーブル体の非接触支持及
び精密位置決めをテーブル体に近接して配設されている
電磁石によシ行うとともに、このテーブル体の位置検出
を行って検出結果を位置決めたフィードバックするよう
にしたものである。
び精密位置決めをテーブル体に近接して配設されている
電磁石によシ行うとともに、このテーブル体の位置検出
を行って検出結果を位置決めたフィードバックするよう
にしたものである。
以下６本発明の一実施例を図面を参照して詳述する。
第１図乃至第５図は、この実施例のテーブル装入ａｏ”
ｓｎるガえに鋼製 なζからなる微動テー
ブル（１）と、この微動テーブル（１）をＸ。
ｓｎるガえに鋼製 なζからなる微動テー
ブル（１）と、この微動テーブル（１）をＸ。
Ｙ方向に粗動させる粗動機構（２）と、この粗動機構（
２）によシ粗位置決めされた微動テーブル（１）を微動
させて精密位置決めさせる微動機構（３）と、微動テー
ブル（１）の位置検出を行って誤差を補正させる制御機
構（４）とから構成されている。しかして、粗動機構（
２）は、微動テーブル（１）のＸ方向の粗位置決めを行
うＸテーブル部（５）と、微動テーブル（１）のＹ方向
の粗位置決めを行うＹテーブル部（６）とからなってい
る。そして、Ｘテーブル部（５）は、Ｘ方向に駆動され
るＸテーブル（７）と、このＸテーブル（刀に螺着する
Ｘ送りねじ（図示せず）と、とのＸ送シねじの一端部に
連結してＸ送りねじを正逆回転駆動してＸテーブル（７
）のＸ方向の粗位置決めを行うＸステッピングモータ（
図示せず）とからなっている。他方、Ｙテーブル部（６
）は、Ｘテーブル（力の上面に形成された凹部（８）Ｋ
軸線方向がＹ方向となるように穿設された一対の案内軸
（９） 、 （９）と、これら案内軸！９） 、 （９
）の中間部てて軸方向がＹ方向となるように軸支された
Ｙ送りねじ顛と、このＹ送シねじ翰に螺着されていると
ともに案内軸（９） 、 （９）が摺動自在に貫装され
ている矩形状のＹチーブルミυと。
２）によシ粗位置決めされた微動テーブル（１）を微動
させて精密位置決めさせる微動機構（３）と、微動テー
ブル（１）の位置検出を行って誤差を補正させる制御機
構（４）とから構成されている。しかして、粗動機構（
２）は、微動テーブル（１）のＸ方向の粗位置決めを行
うＸテーブル部（５）と、微動テーブル（１）のＹ方向
の粗位置決めを行うＹテーブル部（６）とからなってい
る。そして、Ｘテーブル部（５）は、Ｘ方向に駆動され
るＸテーブル（７）と、このＸテーブル（刀に螺着する
Ｘ送りねじ（図示せず）と、とのＸ送シねじの一端部に
連結してＸ送りねじを正逆回転駆動してＸテーブル（７
）のＸ方向の粗位置決めを行うＸステッピングモータ（
図示せず）とからなっている。他方、Ｙテーブル部（６
）は、Ｘテーブル（力の上面に形成された凹部（８）Ｋ
軸線方向がＹ方向となるように穿設された一対の案内軸
（９） 、 （９）と、これら案内軸！９） 、 （９
）の中間部てて軸方向がＹ方向となるように軸支された
Ｙ送りねじ顛と、このＹ送シねじ翰に螺着されていると
ともに案内軸（９） 、 （９）が摺動自在に貫装され
ている矩形状のＹチーブルミυと。
Ｙ送シねじ（Ｌｌの一端部に連結してＹ送りねじ（ｌｑ
を正逆回転駆動してＹテーブル（７）のＹ方向の粗位置
決、めを行うＸステッピングモータ（図示せず）とから
なりている。しかして、Ｙテーブル装置の上面には、微
動テーブル（１）を非接触支持する正方形状の格納凹部
（１ｚが凹設されている。一方、前記微動機構（３）は
、第４図に示すように、微動テーブル（１）を磁気的に
非接触支持する支持部上［有］と、格納凹部α２のＸ方
向に直交する内壁部に密接して設けられた電磁石（１４
ａ−１）、 （１４ａ−２）・・・及びこれら電磁石（
１４ａ−１）、 （１４ａ−２）・・・に対向するよう
に微動テーブル（１）の側部に面一に埋装された永久磁
石（１４ｂ−１）。
を正逆回転駆動してＹテーブル（７）のＹ方向の粗位置
決、めを行うＸステッピングモータ（図示せず）とから
なりている。しかして、Ｙテーブル装置の上面には、微
動テーブル（１）を非接触支持する正方形状の格納凹部
（１ｚが凹設されている。一方、前記微動機構（３）は
、第４図に示すように、微動テーブル（１）を磁気的に
非接触支持する支持部上［有］と、格納凹部α２のＸ方
向に直交する内壁部に密接して設けられた電磁石（１４
ａ−１）、 （１４ａ−２）・・・及びこれら電磁石（
１４ａ−１）、 （１４ａ−２）・・・に対向するよう
に微動テーブル（１）の側部に面一に埋装された永久磁
石（１４ｂ−１）。
（１４ｂ−２）・・・からなり非接触支持されている微
動テーブル（１）のＸ方向の位置決め誤差を補正するた
めのＸ方向補正部（１４）と、格納凹部（Ｉ２のＹ方向
に直交する内壁部に密接して設けられた電磁石（１５ａ
−１）。
動テーブル（１）のＸ方向の位置決め誤差を補正するた
めのＸ方向補正部（１４）と、格納凹部（Ｉ２のＹ方向
に直交する内壁部に密接して設けられた電磁石（１５ａ
−１）。
（１５ｂ−２） ・・・及びこれら電磁石（１５ａ−１
）、 （１５ａ−２） ・・・に対向するよう微動テー
ブル（１）の側部に面一に埋装された永久磁石（１５ｂ
−ｔ）、 （１５ｂ−２）・・・からなシ微動テープ１
ｖ（１）のＹ方向の位置決め誤差を補正するためのＹ方
向補正部←９からなっている。そして。
）、 （１５ａ−２） ・・・に対向するよう微動テー
ブル（１）の側部に面一に埋装された永久磁石（１５ｂ
−ｔ）、 （１５ｂ−２）・・・からなシ微動テープ１
ｖ（１）のＹ方向の位置決め誤差を補正するためのＹ方
向補正部←９からなっている。そして。
支持部ａ９は、第５図に示すように、格納凹部（ｌｚの
中央部に固設され上面が正方形板状をなす摺動支持台上
ηと、この摺動支持台Ｕηの４個部に３個ずつＬ字状に
面一となるように埋装された電磁石（１８−１）。
中央部に固設され上面が正方形板状をなす摺動支持台上
ηと、この摺動支持台Ｕηの４個部に３個ずつＬ字状に
面一となるように埋装された電磁石（１８−１）。
（１８−２）・・・と、微動テーブル（１）の４つの側
部下側に２個ずつ、永久磁石（１４ｂ−１）、 （１４
ｂ−２）・・・、 （１５ｂ−１）。
部下側に２個ずつ、永久磁石（１４ｂ−１）、 （１４
ｂ−２）・・・、 （１５ｂ−１）。
（１５ｂ−２）・・・に重畳して、而−に埋装された永
久磁石（１９−１）、 （１９−２）・・・からなって
いる。そして、電磁石（１８−１）、 （１８−２）・
・・と永久磁石（１９−１）、 （１９−２）・・・の
うち、互に対向するもの同志の磁極が同極となり、微動
テーブル（１）を浮上させる反発力を２方向に発生する
ように設定されている。さらに、Ｘ方向補正部ｎ４）は
、電磁石（１４ａ−１）、 （１４ａ−２）・・・と永
久磁石（１４ｂ−１）、 （１４ｂ−２）・・・のうち
互に対向するもの同志の磁極が互に同極となり、Ｘ方向
の吸引力が発生するように設定されている。また、Ｙ方
向補正部（１！１９は、１に磁石（１５ａ−１）、 （
１５ａ−２）・・・と永久磁石（１５ｂ−１）、 （１
５ｂ−２）・・・のうち互に対向するもの同志の磁極が
互に同極となり、Ｙ方向の吸引力が発生するように設定
されている。この微動テーブル（１）の上面一端部には
、棒状の立方体ミラー（至）が。
久磁石（１９−１）、 （１９−２）・・・からなって
いる。そして、電磁石（１８−１）、 （１８−２）・
・・と永久磁石（１９−１）、 （１９−２）・・・の
うち、互に対向するもの同志の磁極が同極となり、微動
テーブル（１）を浮上させる反発力を２方向に発生する
ように設定されている。さらに、Ｘ方向補正部ｎ４）は
、電磁石（１４ａ−１）、 （１４ａ−２）・・・と永
久磁石（１４ｂ−１）、 （１４ｂ−２）・・・のうち
互に対向するもの同志の磁極が互に同極となり、Ｘ方向
の吸引力が発生するように設定されている。また、Ｙ方
向補正部（１！１９は、１に磁石（１５ａ−１）、 （
１５ａ−２）・・・と永久磁石（１５ｂ−１）、 （１
５ｂ−２）・・・のうち互に対向するもの同志の磁極が
互に同極となり、Ｙ方向の吸引力が発生するように設定
されている。この微動テーブル（１）の上面一端部には
、棒状の立方体ミラー（至）が。
その長手方向をＹ方向に一致させて固着されている。そ
して、この立方体ミラー（ハ）のＸ方向と直交する第１
の反射面（至）及びＹ方向と直交する第２の反射面（５
）は、後述する微動テープ／ｌ／（１）の位置検出用の
検査面となっている。一方、前記制御機構（４）は、第
３図及び第６図に示すように、第１の反射［Ｃ１に対向
して配設され微動テーブル（１）のＸ方向位置検出を行
うＸレーザ干渉計（ハ）と、このＸレーザ干渉計（ハ）
に隣接して配設され微動テーブル（１）の傾斜角度を検
出する角度検出器器と、第２の反射面（５）に対向して
配設され微動テーブル（１）のＹ方向位置検出を行うＸ
レーザ干渉計（至）と、これらｘ、ｙ ’！レーザ
干渉計（至）、（至）及び角度検出器のに電気的に接続
され微動テーブル（１）の位置決め誤差量を演算する例
えばマイクロコンビーータなどの演算制御部Ｇυと、こ
の演算制御部６υからの制御信号に基づいて微動テーブ
ル（１）の微動制御を行う微動制御部Ｇ）と、演算制御
部０１）からの制御信号に基づいて前記Ｘ、Ｙテーブル
部（５）、（６）のＸ、Ｙステッピングモータの回転を
制御して微動テーブル（１）の粗動制御を行う粗動制御
部（至）とからなっている。そして。
して、この立方体ミラー（ハ）のＸ方向と直交する第１
の反射面（至）及びＹ方向と直交する第２の反射面（５
）は、後述する微動テープ／ｌ／（１）の位置検出用の
検査面となっている。一方、前記制御機構（４）は、第
３図及び第６図に示すように、第１の反射［Ｃ１に対向
して配設され微動テーブル（１）のＸ方向位置検出を行
うＸレーザ干渉計（ハ）と、このＸレーザ干渉計（ハ）
に隣接して配設され微動テーブル（１）の傾斜角度を検
出する角度検出器器と、第２の反射面（５）に対向して
配設され微動テーブル（１）のＹ方向位置検出を行うＸ
レーザ干渉計（至）と、これらｘ、ｙ ’！レーザ
干渉計（至）、（至）及び角度検出器のに電気的に接続
され微動テーブル（１）の位置決め誤差量を演算する例
えばマイクロコンビーータなどの演算制御部Ｇυと、こ
の演算制御部６υからの制御信号に基づいて微動テーブ
ル（１）の微動制御を行う微動制御部Ｇ）と、演算制御
部０１）からの制御信号に基づいて前記Ｘ、Ｙテーブル
部（５）、（６）のＸ、Ｙステッピングモータの回転を
制御して微動テーブル（１）の粗動制御を行う粗動制御
部（至）とからなっている。そして。
Ｘ、Ｘレーザ干渉計（至）、（３Ｇは、同一構造である
ので、第６図により、その一方について説明すると。
ので、第６図により、その一方について説明すると。
このレーザ干渉計は、第１又は第２の反射面（ホ）、＠
く対向して設けられたレーザ発振素子（ロ）と、このレ
ーザ発振素子（至）と第１又は第２０反射面翰、＠との
間にレーザ発振素子（ロ）側を下にして４５度傾斜させ
て介挿され所定の位相角のレーザ光のみを透過する偏光
板ミラー（ハ）と、この偏光板ミラー（２）と第１又は
第２の反射面（イ）、＠との間に介挿されレーザ光の位
相角を１回通過させる九びに４５度変化させる１／４λ
板（至）と、偏光板ミラー（至）を挾んだ上下位置く配
置された第１及び第２の直角ミラー（ロ）。
く対向して設けられたレーザ発振素子（ロ）と、このレ
ーザ発振素子（至）と第１又は第２０反射面翰、＠との
間にレーザ発振素子（ロ）側を下にして４５度傾斜させ
て介挿され所定の位相角のレーザ光のみを透過する偏光
板ミラー（ハ）と、この偏光板ミラー（２）と第１又は
第２の反射面（イ）、＠との間に介挿されレーザ光の位
相角を１回通過させる九びに４５度変化させる１／４λ
板（至）と、偏光板ミラー（至）を挾んだ上下位置く配
置された第１及び第２の直角ミラー（ロ）。
（至）と、レーザ干渉光を受光して光電変換するディテ
クタＣ３９と、このディテクタＧ’Ｊからの出力信号に
基づいて微動テーブル＜１＋のＸ、Ｙ方向の位置検出を
行うカウンタを主体とする変位算出回路（４０とからな
っている。そして、上記レーザ発振素子（ロ）は。
クタＣ３９と、このディテクタＧ’Ｊからの出力信号に
基づいて微動テーブル＜１＋のＸ、Ｙ方向の位置検出を
行うカウンタを主体とする変位算出回路（４０とからな
っている。そして、上記レーザ発振素子（ロ）は。
互に直交する二つの位相角を有するレーザ光０υを発振
するものである。そして、とのレーザ光はυは。
するものである。そして、とのレーザ光はυは。
偏光板ミラー（ハ）Ｋて、レーザ光（６）、０３に分岐
する。
する。
レーザ光αつはレーザ光（４９と光軸を同じくシ、レー
ザ光０３は、レーザ光Ｃ力に対して直角下方に分岐して
第１の直角ミラー０′７）に入光して再び偏光板ミラー
（至）に入光する。一方、レーザ光（４２は、偏光板ミ
２−（至）を透過したのち１／４λ板（ト）を透過する
と４５度位相角が変化する。そして、第１又は第２の反
射面弼、（３）Ｋ入光すると全反射し、同一光路上を通
って、再び１／４λ板（至）を透過したのち、偏光板ミ
ラーＧ５に入光する。このとき、レーザ光（４力は１位
相角が９０度変化しているので偏光板ミラー０９を透過
することができず、第２の直角ミラー（ハ）に向って直
角上方に反射され念のち、第２の直角ミラー（至）に入
光する。この第２の直角ミラー（至）にては、レーザ光
（４’Ｚは、全反射し、再び偏光板ミラーＧ９に入光す
る。そして、前と同じようにして、第１又は第２の反射
面−，＠にて全反射するとともに１／４λ板（至）を通
過して往復する。その結果、レーザ光（ハ）は、再び位
相角がもとに戻り、偏光板ミラー（ハ）を通過する。こ
のとき、第１の直角ミラーＣ３７）からのレーザ光（ハ
）と合流し、干渉レーザ光（４４１となりてディテクタ
０９にて受光され、受光量に応じ九大きさの電気信号に
光電変換される。つまり、干渉レーザ光（財）の干渉縞
の数を計数することにより、微動テーブル（１）の基準
位置からの変位量を算出できるようになっている。他方
、角度検出器器は、第７図に示すように、第１の反射面
（ハ）に向ってレーザ光（ハ）を投射するレーザ発振素
子（４ｆｊＩと、第１の反射面（１）にて反射したレー
ザ光（ハ）を受光して１反射面弼の傾斜を示す電気信号
に変換するディテクタ０７）とからなっている。つｔｂ
、第７図において、微動テーブル（１）が、水平である
ときの基準位置を示す実線位置から破線位置まで微動テ
ーブル（１）が角度θだけ回転したとすると、レーザ光
（４りの入射位置は１点（ハ）から点（４！ｌＧに変化
する。すなわち１点０ａを原点座標（０，０）としたと
きの点（ハ）の座標（Ｍ、 Ｎ）は１ＭがＸ−Ｙ角度誤
差、Ｎが水平角度誤差を示す。よって、ディテクタ０′
Ｉ）からは、この座標（Ｍ、 Ｎ）を示す二つの信号が
演算制御部Ｇυに出力される。
ザ光０３は、レーザ光Ｃ力に対して直角下方に分岐して
第１の直角ミラー０′７）に入光して再び偏光板ミラー
（至）に入光する。一方、レーザ光（４２は、偏光板ミ
２−（至）を透過したのち１／４λ板（ト）を透過する
と４５度位相角が変化する。そして、第１又は第２の反
射面弼、（３）Ｋ入光すると全反射し、同一光路上を通
って、再び１／４λ板（至）を透過したのち、偏光板ミ
ラーＧ５に入光する。このとき、レーザ光（４力は１位
相角が９０度変化しているので偏光板ミラー０９を透過
することができず、第２の直角ミラー（ハ）に向って直
角上方に反射され念のち、第２の直角ミラー（至）に入
光する。この第２の直角ミラー（至）にては、レーザ光
（４’Ｚは、全反射し、再び偏光板ミラーＧ９に入光す
る。そして、前と同じようにして、第１又は第２の反射
面−，＠にて全反射するとともに１／４λ板（至）を通
過して往復する。その結果、レーザ光（ハ）は、再び位
相角がもとに戻り、偏光板ミラー（ハ）を通過する。こ
のとき、第１の直角ミラーＣ３７）からのレーザ光（ハ
）と合流し、干渉レーザ光（４４１となりてディテクタ
０９にて受光され、受光量に応じ九大きさの電気信号に
光電変換される。つまり、干渉レーザ光（財）の干渉縞
の数を計数することにより、微動テーブル（１）の基準
位置からの変位量を算出できるようになっている。他方
、角度検出器器は、第７図に示すように、第１の反射面
（ハ）に向ってレーザ光（ハ）を投射するレーザ発振素
子（４ｆｊＩと、第１の反射面（１）にて反射したレー
ザ光（ハ）を受光して１反射面弼の傾斜を示す電気信号
に変換するディテクタ０７）とからなっている。つｔｂ
、第７図において、微動テーブル（１）が、水平である
ときの基準位置を示す実線位置から破線位置まで微動テ
ーブル（１）が角度θだけ回転したとすると、レーザ光
（４りの入射位置は１点（ハ）から点（４！ｌＧに変化
する。すなわち１点０ａを原点座標（０，０）としたと
きの点（ハ）の座標（Ｍ、 Ｎ）は１ＭがＸ−Ｙ角度誤
差、Ｎが水平角度誤差を示す。よって、ディテクタ０′
Ｉ）からは、この座標（Ｍ、 Ｎ）を示す二つの信号が
演算制御部Ｇυに出力される。
さらに、微動制御部ｒ３っは、Ｘ方向補正部（１４）の
電磁石（１４ａ−１）、 （１４ａ−２） ・Ｋ接続さ
れた電流増幅器ＧＯと、Ｙ方向補正部（１５（２）電磁
石（１５ａ−１）、 （１５ａ−２）・・・に接続され
た電流増幅器６υと、支持部α３の電磁石（１８−１）
、 （１８−２）・・・に接続された電流増幅器６■と
。
電磁石（１４ａ−１）、 （１４ａ−２） ・Ｋ接続さ
れた電流増幅器ＧＯと、Ｙ方向補正部（１５（２）電磁
石（１５ａ−１）、 （１５ａ−２）・・・に接続され
た電流増幅器６υと、支持部α３の電磁石（１８−１）
、 （１８−２）・・・に接続された電流増幅器６■と
。
出力側がそれぞれ電流増幅器（至）、６υ、６りに接続
され入力側が演算制御部０３１）に接続されたディジタ
ル−アナログ（Ｄ／Ａ ）変換器（へ）、（財）、（至
）とからなっている。これら電流増幅器−，６υ、６っ
け、各電磁石（１４ａ−１）。
され入力側が演算制御部０３１）に接続されたディジタ
ル−アナログ（Ｄ／Ａ ）変換器（へ）、（財）、（至
）とからなっている。これら電流増幅器−，６υ、６っ
け、各電磁石（１４ａ−１）。
（１４ａ−２）、・・・、 （１５ａ−１）、 （１５
ａ−２）・・・、 （１８−１）、 （１８−２）・・
・を１個ずつ独立に着璃、脱磁できるように設定されて
いる。
ａ−２）・・・、 （１８−１）、 （１８−２）・・
・を１個ずつ独立に着璃、脱磁できるように設定されて
いる。
つぎに、上記構成のテーブル装置の作動につい］
て説明する。
まず、電流増幅器Ｉ！５２を介して電磁石（１８−１）
。
。
（１８−２）・・・と永久磁石（１９−１）、 （１９
−２）・・・との間に反発力を発生させ、微動テーブル
（１）を、摺動支持台αη上にて数μｍのギャップで非
接触で支持できるよう浮上させる。しかして、演算制御
部Ｃ１１）からの制御信号ＳＡが粗動制御部（至）に印
加されて、Ｘ、Ｙステッピングモータが起動するととく
よ、９．Ｘ、Ｙテーブル（力、（ｌυを所望位置に粗位
置決めする。この粗動期間中、Ｘ、Ｙレーザ干渉計（至
）、（至）からレーザ光０υ、 （４１）を発振させ、
干渉レーザ光（４４）、Ｇ１４をディテクタＯ１，（至
）にて受光し、微動テーブル（１）のＸ、Ｙ方向の変位
量を変位算出回路（４０，４ＩＩにて算出する。しかし
て、このときのＸ方向変位量を示す検出信号ＳＢ及びＹ
方向変位量を示す検出信号ＳＣが、演算制御部Ｇυに出
力される。また、粗位置決め終了後、角度検出器（至）
からレーザ光（４−を第１の反射面（ホ）に投射する。
−２）・・・との間に反発力を発生させ、微動テーブル
（１）を、摺動支持台αη上にて数μｍのギャップで非
接触で支持できるよう浮上させる。しかして、演算制御
部Ｃ１１）からの制御信号ＳＡが粗動制御部（至）に印
加されて、Ｘ、Ｙステッピングモータが起動するととく
よ、９．Ｘ、Ｙテーブル（力、（ｌυを所望位置に粗位
置決めする。この粗動期間中、Ｘ、Ｙレーザ干渉計（至
）、（至）からレーザ光０υ、 （４１）を発振させ、
干渉レーザ光（４４）、Ｇ１４をディテクタＯ１，（至
）にて受光し、微動テーブル（１）のＸ、Ｙ方向の変位
量を変位算出回路（４０，４ＩＩにて算出する。しかし
て、このときのＸ方向変位量を示す検出信号ＳＢ及びＹ
方向変位量を示す検出信号ＳＣが、演算制御部Ｇυに出
力される。また、粗位置決め終了後、角度検出器（至）
からレーザ光（４−を第１の反射面（ホ）に投射する。
このときの反射レーザ光をディテクタ（４ηにて受光す
る。その結果、微動テーブル（１）が基準位置、すなわ
ち第１の反射面（ハ）がＸ方向と直交（第２の反射面（
５）がＹ方向と直交）シ。
る。その結果、微動テーブル（１）が基準位置、すなわ
ち第１の反射面（ハ）がＸ方向と直交（第２の反射面（
５）がＹ方向と直交）シ。
かつ微動テーブル（１）の主面が水平である位置にある
ときのレーザ光入射位置の座標（Ｍ、Ｎ）を示す検出信
号ＳＤ、 ＳＲが、演算制御部Ｇυに出力される。
ときのレーザ光入射位置の座標（Ｍ、Ｎ）を示す検出信
号ＳＤ、 ＳＲが、演算制御部Ｇυに出力される。
かくて、検出信号ＳＢ、 ８Ｃ，ＳＤ、 ＳＦｉを入力
した演算制御部Ｇυにては、あらかじめ設定されている
補正演算プログラムに従って、Ｘ、Ｙ方向誤差及び水平
角度誤差が演算される。つぎに、演算制御部Ｇυからは
、算出した誤差を補正するための制御信号ＳＦ、 ＳＧ
、 ＳＨが、それぞれＤ／Ａ変換器＠、牝（至）に出力
される。ついで、この制御信号ＳＦ、 ＳＧ、 ８Ｈは
。
した演算制御部Ｇυにては、あらかじめ設定されている
補正演算プログラムに従って、Ｘ、Ｙ方向誤差及び水平
角度誤差が演算される。つぎに、演算制御部Ｇυからは
、算出した誤差を補正するための制御信号ＳＦ、 ＳＧ
、 ＳＨが、それぞれＤ／Ａ変換器＠、牝（至）に出力
される。ついで、この制御信号ＳＦ、 ＳＧ、 ８Ｈは
。
それぞれ電流増幅器ω、６υ、６２にて増幅され、所定
ノ励磁電流工ｔｏ Ｉｔｍ Ｉｓ カ、電磁石（１４ａ
−１）、（１４ａ−２）・・・、 （１５ａ−１）、（
１５５１−２）・・・、 （１８−１）、（１８−２
）・・・に印加される。その結果、微動テーブル（１）
Ｋ対する磁気的吸引力が、との微動テーブル（１）の位
置決め誤４・・・の互に対向する一対のうち、一方を他
方に対しＪて相対的に磁力を強くすれば、微動テーブル
（１）は。
ノ励磁電流工ｔｏ Ｉｔｍ Ｉｓ カ、電磁石（１４ａ
−１）、（１４ａ−２）・・・、 （１５ａ−１）、（
１５５１−２）・・・、 （１８−１）、（１８−２
）・・・に印加される。その結果、微動テーブル（１）
Ｋ対する磁気的吸引力が、との微動テーブル（１）の位
置決め誤４・・・の互に対向する一対のうち、一方を他
方に対しＪて相対的に磁力を強くすれば、微動テーブル
（１）は。
磁力が相対的に大きな方に向って微動する。たとえば、
第４図矢印Ｒ方向に微動テーブル（１）を微動させる場
合は、電磁石（１５ａ−６）、 （１５ａ−７）への給
電量を他の電磁石（１５ａ−１）、 （１５ａ−２）、
（１５ａ−３）、 （１５ａ−４）。
第４図矢印Ｒ方向に微動テーブル（１）を微動させる場
合は、電磁石（１５ａ−６）、 （１５ａ−７）への給
電量を他の電磁石（１５ａ−１）、 （１５ａ−２）、
（１５ａ−３）、 （１５ａ−４）。
（１５ａ−６）、 （１５ａ−８）よりも相対的に多く
することにより、矢印几方向に反発力を発生させるよう
にすればよい。また、九とえば、第５図矢印Ｓ方向に微
動テーブル（１）の−偏部を持ち上げる場合は、電磁石
（１８−５）、 （１８−６）への給電量を、他の電磁
石（１８−１）、 （１８−２）・・・よシも相対的【
多ぐすることにより、矢印Ｓ方向に反発力を発生させる
ようにすればよい。なお、このとき、電磁石（ｔｓａ−
ｔ）、 （１ｓａ−４）、 （１！５ａ−５）、 （１
５ａ−８）、 （１４ａ−１）、 （１４ａ−４）、
（１４ａ−５）。
することにより、矢印几方向に反発力を発生させるよう
にすればよい。また、九とえば、第５図矢印Ｓ方向に微
動テーブル（１）の−偏部を持ち上げる場合は、電磁石
（１８−５）、 （１８−６）への給電量を、他の電磁
石（１８−１）、 （１８−２）・・・よシも相対的【
多ぐすることにより、矢印Ｓ方向に反発力を発生させる
ようにすればよい。なお、このとき、電磁石（ｔｓａ−
ｔ）、 （１ｓａ−４）、 （１！５ａ−５）、 （１
５ａ−８）、 （１４ａ−１）、 （１４ａ−４）、
（１４ａ−５）。
（１４ａ−ｓ）、 （１Ｂ−１）、 （１８−４）、
（１８−７）、 （１８−１０）と微動テーブル（１）
との間には吸引力が発生している。そのｊ結果、この反
発力と前記吸引力との組合せにより適正な剛性が微動テ
ーブル（１）に付与される。この精密位置決め期間中に
おいても、Ｘ、Ｙレーザ干渉計（至）、（至）及び角度
検出器−により、微動テーブル（１）の位置検出を行い
、検出結果に基づき同様の精密位置決めを誤差が完全に
なくなるまで繰返し行う。
（１８−７）、 （１８−１０）と微動テーブル（１）
との間には吸引力が発生している。そのｊ結果、この反
発力と前記吸引力との組合せにより適正な剛性が微動テ
ーブル（１）に付与される。この精密位置決め期間中に
おいても、Ｘ、Ｙレーザ干渉計（至）、（至）及び角度
検出器−により、微動テーブル（１）の位置検出を行い
、検出結果に基づき同様の精密位置決めを誤差が完全に
なくなるまで繰返し行う。
このように、この実施例のテーブル装置は、静圧支持さ
れた微動テーブル（１）の精密位置決めを磁気的に行う
ようにしているので、０．１μｍ以下のオーダでの位置
決め精度を得ることができることはもとよυ１位置決め
のための制御を、電磁石（１４ａ−１）。
れた微動テーブル（１）の精密位置決めを磁気的に行う
ようにしているので、０．１μｍ以下のオーダでの位置
決め精度を得ることができることはもとよυ１位置決め
のための制御を、電磁石（１４ａ−１）。
（１４ａ−２）・・・、 （１５ａ−１）、（１５Ｍ−
２）・・・、 （１８−１）、（１８−２）、・・・へ
の給電量のみにより行えるので、制御がすこぶる容易か
つ確実なものとなる。また、この実施例のテーブル装置
（おいては、微動テーブル（１）下方の摺動支持台αη
及び制御機構（４）の各部品のみでよいので１組立・調
整が容易となるとともにコストの高騰も防止できる。
２）・・・、 （１８−１）、（１８−２）、・・・へ
の給電量のみにより行えるので、制御がすこぶる容易か
つ確実なものとなる。また、この実施例のテーブル装置
（おいては、微動テーブル（１）下方の摺動支持台αη
及び制御機構（４）の各部品のみでよいので１組立・調
整が容易となるとともにコストの高騰も防止できる。
なお、上記実施例においては、微動テーブル（１）の微
動方向は、ｘｙｚ方向であるが、Ｘ方向のみあるいは、
放射方向に微動できるよう、磁石を配設してＸ、Ｙ光干
渉計−，（至）として１通常のマイケルソン形やドツプ
ラ一式を用いてもよい。さらに、粗動テーブルについて
も、Ｘ−Ｙテーブルに限ることなく、たとえばＸ−Ｙ−
〇テーブルを用い 、てもよい。
動方向は、ｘｙｚ方向であるが、Ｘ方向のみあるいは、
放射方向に微動できるよう、磁石を配設してＸ、Ｙ光干
渉計−，（至）として１通常のマイケルソン形やドツプ
ラ一式を用いてもよい。さらに、粗動テーブルについて
も、Ｘ−Ｙテーブルに限ることなく、たとえばＸ−Ｙ−
〇テーブルを用い 、てもよい。
本発明のテーブル装置は、摺動面上にて非接触支持され
た微動テーブルを磁気力によシ精密位置決めするように
しているので１位置決めのための制御を容易かつ確実く
行うことができる。ま九。
た微動テーブルを磁気力によシ精密位置決めするように
しているので１位置決めのための制御を容易かつ確実く
行うことができる。ま九。
位置決め精度も、０．１μｍ以下に向上する。と＜Ｉｃ
。
。
本発明においては、微動テーブルの位置決めを磁気的反
発力と磁気的吸引力との組合わせにより行うようにして
いるので、所望の剛性が微動テーブルに付与され１位置
決め精度の向上を助長する効果を奏する。
発力と磁気的吸引力との組合わせにより行うようにして
いるので、所望の剛性が微動テーブルに付与され１位置
決め精度の向上を助長する効果を奏する。
第１図は本発明の一実施例のテーブル装置の平は同じく
レーザ干渉計の構成を示す説明図、第７図は同じく角度
検出器の構成を示す説明図である。 （１）：微動テーブル（テーブル体）。 （２）：粗動機構、 （３） ：微動機構。 （４）：制御機構、 α３：支持部。 Ｃ１４） ： Ｘ方向補正部（位置補正部）。 （１＋ａ） ：電磁石（第２の−）。 （１４ｂ） ：永久磁石（第２の−）。 （Ｌ！１９：Ｙ方向補正部（位置補正部）。 （１５ａ） ：電磁石（第２の−）。 （１５ｂ） ：永久磁石（第２の−）。 鰭：摺動支持台、 α樽：電磁石（第１の−）、
（ｔｌ ：永久磁石（第１の−）。 （ハ）：Ｘレーザ干渉計（変位検出部）。 １：ＩＩ：Ｙレーザ干渉計（変位検出部）。 ＠：角度検出器（角度検出部）。 ０１） ：演算制御部。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 （ほか１名） 第２図 η 第 ７ 図 ＠４図 第５図
レーザ干渉計の構成を示す説明図、第７図は同じく角度
検出器の構成を示す説明図である。 （１）：微動テーブル（テーブル体）。 （２）：粗動機構、 （３） ：微動機構。 （４）：制御機構、 α３：支持部。 Ｃ１４） ： Ｘ方向補正部（位置補正部）。 （１＋ａ） ：電磁石（第２の−）。 （１４ｂ） ：永久磁石（第２の−）。 （Ｌ！１９：Ｙ方向補正部（位置補正部）。 （１５ａ） ：電磁石（第２の−）。 （１５ｂ） ：永久磁石（第２の−）。 鰭：摺動支持台、 α樽：電磁石（第１の−）、
（ｔｌ ：永久磁石（第１の−）。 （ハ）：Ｘレーザ干渉計（変位検出部）。 １：ＩＩ：Ｙレーザ干渉計（変位検出部）。 ＠：角度検出器（角度検出部）。 ０１） ：演算制御部。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 （ほか１名） 第２図 η 第 ７ 図 ＠４図 第５図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記構成を具備することを特徴とするテーブル装置。 （イ）所定位置に位置決めされるテーブル体。 （ロ）上記テーブル体に固設された第１の永久磁石及び
第１の電磁石が固設され上記第１の永久磁石と上記第１
の電磁石との間に発生した磁気力により上記テーブル体
を傾斜角調整自在に非接触支持する摺動支持台を有する
支持部と、上記摺動支持台上にて非接触支持されている
上記テーブル体に固設された第２の永久磁石及び上記第
２の永久磁石に対向して上記テーブル体から独立して固
設された第２の電磁石を有し上記第２の永久磁石と上記
第２の電磁石との間に発生した磁気力により上記摺動支
持台上面に沿った所定方向に上記テーブル体を微動させ
る位置補正部とからなる微動機構。 （ハ）上記摺動支持台及び上記第２の電磁石を保持して
所定位置に移動させ、上記摺動支持台上にて非接触支持
されているテーブル体の粗位置決めを行う粗動機構。 （ニ）上記テーブル体の変位量を検出する変位検出部と
、上記テーブル体の上記摺動支持台に対する傾斜角度を
測定する角度検出部と、上記変位検出部及び上記角度検
出部から出力された検出信号に基づいて上記テーブル体
の位置決め誤差量を算出するとともにこの算出結果に基
づいて上記第１の電磁石及び上記第２の電磁石に対する
給電量を調整することにより上記位置決め誤差を補正す
る演算制御部とを有する制御機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11050585A JPS61270049A (ja) | 1985-05-24 | 1985-05-24 | テ−ブル装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11050585A JPS61270049A (ja) | 1985-05-24 | 1985-05-24 | テ−ブル装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61270049A true JPS61270049A (ja) | 1986-11-29 |
Family
ID=14537470
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11050585A Pending JPS61270049A (ja) | 1985-05-24 | 1985-05-24 | テ−ブル装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61270049A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20130271945A1 (en) | 2004-02-06 | 2013-10-17 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US8854601B2 (en) | 2005-05-12 | 2014-10-07 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
| US9341954B2 (en) | 2007-10-24 | 2016-05-17 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9423698B2 (en) | 2003-10-28 | 2016-08-23 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US9678437B2 (en) | 2003-04-09 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction |
| US9678332B2 (en) | 2007-11-06 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9885872B2 (en) | 2003-11-20 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light |
| US10101666B2 (en) | 2007-10-12 | 2018-10-16 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
-
1985
- 1985-05-24 JP JP11050585A patent/JPS61270049A/ja active Pending
Cited By (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9678437B2 (en) | 2003-04-09 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction |
| US9885959B2 (en) | 2003-04-09 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having deflecting member, lens, polarization member to set polarization in circumference direction, and optical integrator |
| US9423698B2 (en) | 2003-10-28 | 2016-08-23 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US9760014B2 (en) | 2003-10-28 | 2017-09-12 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US9885872B2 (en) | 2003-11-20 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light |
| US10281632B2 (en) | 2003-11-20 | 2019-05-07 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical member with optical rotatory power to rotate linear polarization direction |
| US10241417B2 (en) | 2004-02-06 | 2019-03-26 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US10234770B2 (en) | 2004-02-06 | 2019-03-19 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US20130271945A1 (en) | 2004-02-06 | 2013-10-17 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US10007194B2 (en) | 2004-02-06 | 2018-06-26 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US9360763B2 (en) | 2005-05-12 | 2016-06-07 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
| US9891539B2 (en) | 2005-05-12 | 2018-02-13 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
| US9429851B2 (en) | 2005-05-12 | 2016-08-30 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
| US9310696B2 (en) | 2005-05-12 | 2016-04-12 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
| US8854601B2 (en) | 2005-05-12 | 2014-10-07 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
| US10101666B2 (en) | 2007-10-12 | 2018-10-16 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9857599B2 (en) | 2007-10-24 | 2018-01-02 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9341954B2 (en) | 2007-10-24 | 2016-05-17 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9678332B2 (en) | 2007-11-06 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100921847B1 (ko) | 3차원 형상 측정 장치 | |
| US8593632B1 (en) | Movable body apparatus, movable body drive method, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method | |
| TWI287347B (en) | Stage device | |
| US6259511B1 (en) | Scanning type exposure apparatus | |
| TW466542B (en) | A stage device and a method of manufacturing same, a position controlling method, an exposure device and a method of manufacturing same, and a device and a method of manufacturing same | |
| WO1997033204A1 (en) | Lithopraphic apparatus for step-and-scan imaging of a mask pattern | |
| JPH04316312A (ja) | 結像方法及び装置並びに物体を正確に変位及び位置決めする装置 | |
| TW201015243A (en) | Movable body apparatus, movable body drive method, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method | |
| JPH11504724A (ja) | 差分干渉計システム及びこのシステムを具えたリソグラフステップアンドスキャン装置 | |
| TW561245B (en) | Interferometer system | |
| US20130335723A1 (en) | Movable body apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method | |
| CN102549504A (zh) | 曝光装置、曝光方法以及设备制造方法 | |
| JPS61270049A (ja) | テ−ブル装置 | |
| US10514277B2 (en) | Measurement method and encoder device, and exposure method and device | |
| US5315374A (en) | Three-dimensional measuring apparatus | |
| JP4198338B2 (ja) | ステージ装置 | |
| US6472777B1 (en) | Capacitive sensor calibration method and apparatus for opposing electro-magnetic actuators | |
| JP2008292236A (ja) | 三次元形状測定装置 | |
| JP2828871B2 (ja) | トレパニングヘッド | |
| JP2004134456A (ja) | 移動装置及び露光装置並びにデバイスの製造方法 | |
| JP4376624B2 (ja) | 複数経路干渉分光法 | |
| JPH08250388A (ja) | 露光装置 | |
| JP3290233B2 (ja) | 位置合わせ方法 | |
| EP0527128A1 (en) | Two axis plane mirror interferometer | |
| JPS61252049A (ja) | テ−ブル装置 |