JPH08250388A - 露光装置 - Google Patents
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- JPH08250388A JPH08250388A JP7048310A JP4831095A JPH08250388A JP H08250388 A JPH08250388 A JP H08250388A JP 7048310 A JP7048310 A JP 7048310A JP 4831095 A JP4831095 A JP 4831095A JP H08250388 A JPH08250388 A JP H08250388A
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T74/00—Machine element or mechanism
- Y10T74/20—Control lever and linkage systems
- Y10T74/20207—Multiple controlling elements for single controlled element
- Y10T74/20341—Power elements as controlling elements
- Y10T74/20354—Planar surface with orthogonal movement only
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ステージの駆動装置としてリニアモータを使
用する露光装置において、特別な相切り換え用センサを
設けることなくそのリニアモータを駆動する。 【構成】 固定子１２Ａ及び可動子１２Ｂよりなるリニ
アモータを介してウエハベース１１に対してウエハ側Ｘ
ステージ１０ＸをＸ方向に駆動する。ウエハ干渉計１４
Ｘにより計測したウエハ側Ｘステージ１０ＸのＸ座標Ｘ
W と目標座標ＸWiとの位置偏差ΔＸWi等より求めた推力
ＦＷＸを乗算手段２７Ａ〜２７Ｃに供給する。そのＸ座
標ＸW から端数検出手段２８、及び位相変換手段２９Ａ
〜２９Ｃを介して、固定子１２Ａと可動子１２Ｂとの位
相に応じた関数cos θ〜cos（θ−４π／２）を求めて
乗算手段２７Ａ〜２７Ｃに供給し、乗算手段２７Ａ〜２
７Ｃの出力に基づいてリニアモータの電機子コイルに励
磁電流を供給する。
用する露光装置において、特別な相切り換え用センサを
設けることなくそのリニアモータを駆動する。 【構成】 固定子１２Ａ及び可動子１２Ｂよりなるリニ
アモータを介してウエハベース１１に対してウエハ側Ｘ
ステージ１０ＸをＸ方向に駆動する。ウエハ干渉計１４
Ｘにより計測したウエハ側Ｘステージ１０ＸのＸ座標Ｘ
W と目標座標ＸWiとの位置偏差ΔＸWi等より求めた推力
ＦＷＸを乗算手段２７Ａ〜２７Ｃに供給する。そのＸ座
標ＸW から端数検出手段２８、及び位相変換手段２９Ａ
〜２９Ｃを介して、固定子１２Ａと可動子１２Ｂとの位
相に応じた関数cos θ〜cos（θ−４π／２）を求めて
乗算手段２７Ａ〜２７Ｃに供給し、乗算手段２７Ａ〜２
７Ｃの出力に基づいてリニアモータの電機子コイルに励
磁電流を供給する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばＬＳＩ等の半導
体素子、又は液晶表示素子等をフォトリソグラフィ工程
で製造する際に、マスクパターンを逐次感光基板上の各
ショット領域に転写露光するために使用される露光装置
に関する。
体素子、又は液晶表示素子等をフォトリソグラフィ工程
で製造する際に、マスクパターンを逐次感光基板上の各
ショット領域に転写露光するために使用される露光装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、マスクとしてのレチクルのパ
ターンを感光材料が塗布されたウエハ（又はガラスプレ
ート等）上に転写するため露光装置として、ウエハの各
ショット領域を順次投影光学系の露光フィールド内に移
動させて、各ショット領域に順次レチクルのパターン像
を一括露光するステップ・アンド・リピート方式の投影
露光装置（ステッパー等）が使用されている。斯かる投
影露光装置のウエハステージ又はレチクルステージの駆
動装置として、従来は送りねじ方式の駆動装置が主に使
用されていた。しかしながら、最近は位置決め時間を短
縮してスループット（生産性）を向上させると共に、非
接触駆動により振動を低減するために、その駆動装置と
してリニアモータも使用されつつある。
ターンを感光材料が塗布されたウエハ（又はガラスプレ
ート等）上に転写するため露光装置として、ウエハの各
ショット領域を順次投影光学系の露光フィールド内に移
動させて、各ショット領域に順次レチクルのパターン像
を一括露光するステップ・アンド・リピート方式の投影
露光装置（ステッパー等）が使用されている。斯かる投
影露光装置のウエハステージ又はレチクルステージの駆
動装置として、従来は送りねじ方式の駆動装置が主に使
用されていた。しかしながら、最近は位置決め時間を短
縮してスループット（生産性）を向上させると共に、非
接触駆動により振動を低減するために、その駆動装置と
してリニアモータも使用されつつある。
【０００３】また、最近は、投影光学系に対する負担を
重くすることなく、より広い面積のレチクルのパターン
を露光できる露光装置として、ウエハ上の各ショット領
域を走査開始位置にステッピングさせた後、投影光学系
に対してレチクルとウエハとを同期して走査して露光を
行う所謂ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装
置が注目されている。斯かる走査露光方式の露光装置
で、更に縮小投影型の場合には、特にレチクル側を高速
に走査する必要があるため、少なくともレチクルステー
ジ側の駆動装置としては、リニアモータの使用が望まし
い。また、より安定な走査を行うためにはウエハステー
ジ側もリニアモータで駆動することが望ましい。
重くすることなく、より広い面積のレチクルのパターン
を露光できる露光装置として、ウエハ上の各ショット領
域を走査開始位置にステッピングさせた後、投影光学系
に対してレチクルとウエハとを同期して走査して露光を
行う所謂ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装
置が注目されている。斯かる走査露光方式の露光装置
で、更に縮小投影型の場合には、特にレチクル側を高速
に走査する必要があるため、少なくともレチクルステー
ジ側の駆動装置としては、リニアモータの使用が望まし
い。また、より安定な走査を行うためにはウエハステー
ジ側もリニアモータで駆動することが望ましい。
【０００４】露光装置のレチクルステージ又はウエハス
テージの駆動用のリニアモータとして従来は、永久磁石
型、又は電磁石型等のリニア同期モータが使用されてい
た。このリニア同期モータは、基本的に１次側の電機子
コイルと２次側の界磁石とで構成され、その電機子コイ
ルに発生する移動磁界によって可動子側が移動するよう
になっている。この場合、その電機子コイル側に発生す
る移動磁界の位相を正確に決定する（正確に相切り換え
を行う）ためには、２次側の界磁石の位置を検出する必
要がある。そこで、従来の露光装置のリニア同期モータ
では、常時電機子コイルに対する界磁石の極性の位置関
係を検出するための相切り換え用センサ（ホール素子型
の磁気センサ等よりなる）が設けられていた。また、露
光装置では、ステージの位置を検出するための座標計測
装置（レーザ干渉計等）が設けられているが、従来はそ
の座標計測装置と相切り換え用センサとが並列に設けら
れていた。
テージの駆動用のリニアモータとして従来は、永久磁石
型、又は電磁石型等のリニア同期モータが使用されてい
た。このリニア同期モータは、基本的に１次側の電機子
コイルと２次側の界磁石とで構成され、その電機子コイ
ルに発生する移動磁界によって可動子側が移動するよう
になっている。この場合、その電機子コイル側に発生す
る移動磁界の位相を正確に決定する（正確に相切り換え
を行う）ためには、２次側の界磁石の位置を検出する必
要がある。そこで、従来の露光装置のリニア同期モータ
では、常時電機子コイルに対する界磁石の極性の位置関
係を検出するための相切り換え用センサ（ホール素子型
の磁気センサ等よりなる）が設けられていた。また、露
光装置では、ステージの位置を検出するための座標計測
装置（レーザ干渉計等）が設けられているが、従来はそ
の座標計測装置と相切り換え用センサとが並列に設けら
れていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上述のように従来の露
光装置でステージの駆動装置としてリニアモータを使用
した場合には、ステージの座標計測装置とは別に相切り
換え用センサが設けられていた。この相切り換え用セン
サは、界磁石が移動する範囲の全面に例えば周期的に配
置する必要があるため、それによってステージの機構及
び配線が複雑化するという不都合があった。
光装置でステージの駆動装置としてリニアモータを使用
した場合には、ステージの座標計測装置とは別に相切り
換え用センサが設けられていた。この相切り換え用セン
サは、界磁石が移動する範囲の全面に例えば周期的に配
置する必要があるため、それによってステージの機構及
び配線が複雑化するという不都合があった。
【０００６】一般に露光装置には、アライメントセン
サ、オートフォーカス用の焦点位置検出系、レチクルや
ウエハのローダ系等の種々の機構が組み込まれるため、
ステージの駆動機構はできるだけ簡素化し、ステージの
周辺にできるだけ空間を確保することが望まれている。
本発明は斯かる点に鑑み、ステージの駆動装置としてリ
ニアモータを使用する露光装置において、特別な相切り
換え用センサを設けることなくそのリニアモータを駆動
できるようにすることを目的とする。
サ、オートフォーカス用の焦点位置検出系、レチクルや
ウエハのローダ系等の種々の機構が組み込まれるため、
ステージの駆動機構はできるだけ簡素化し、ステージの
周辺にできるだけ空間を確保することが望まれている。
本発明は斯かる点に鑑み、ステージの駆動装置としてリ
ニアモータを使用する露光装置において、特別な相切り
換え用センサを設けることなくそのリニアモータを駆動
できるようにすることを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明による第１の露光
装置は、マスク（Ｒ）に形成された転写用のパターンを
感光基板（Ｗ）上に露光する露光装置において、マスク
（Ｒ）の位置決めを行うマスクステージ（３Ｘ）と、こ
のマスクステージを駆動するリニアモータ（５Ａ，５
Ｂ）と、そのマスクステージの位置を検出する位置検出
手段（６Ｘ，７Ｘ）と、を有し、そのリニアモータの位
相制御情報として位置検出手段（６Ｘ，７Ｘ）の出力信
号を用いるものである。
装置は、マスク（Ｒ）に形成された転写用のパターンを
感光基板（Ｗ）上に露光する露光装置において、マスク
（Ｒ）の位置決めを行うマスクステージ（３Ｘ）と、こ
のマスクステージを駆動するリニアモータ（５Ａ，５
Ｂ）と、そのマスクステージの位置を検出する位置検出
手段（６Ｘ，７Ｘ）と、を有し、そのリニアモータの位
相制御情報として位置検出手段（６Ｘ，７Ｘ）の出力信
号を用いるものである。
【０００８】また、本発明による第２の露光装置は、マ
スク（Ｒ）上に形成された転写用のパターンを感光基板
（Ｗ）上に露光する露光装置において、感光基板（Ｗ）
の位置決めを行う基板ステージ（１０Ｘ）と、この基板
ステージを駆動するリニアモータ（１２Ａ，１２Ｂ）
と、その基板ステージの位置を検出する位置検出手段
（１３Ｘ，１４Ｘ）と、を有し、そのリニアモータの位
相制御情報として位置検出手段（１３Ｘ，１４Ｘ）の出
力信号を用いるものである。
スク（Ｒ）上に形成された転写用のパターンを感光基板
（Ｗ）上に露光する露光装置において、感光基板（Ｗ）
の位置決めを行う基板ステージ（１０Ｘ）と、この基板
ステージを駆動するリニアモータ（１２Ａ，１２Ｂ）
と、その基板ステージの位置を検出する位置検出手段
（１３Ｘ，１４Ｘ）と、を有し、そのリニアモータの位
相制御情報として位置検出手段（１３Ｘ，１４Ｘ）の出
力信号を用いるものである。
【０００９】これらの場合において、その位置検出手段
の一例は、レーザ干渉計である。
の一例は、レーザ干渉計である。
【００１０】
【作用】斯かる本発明の第１又は第２の露光装置によれ
ば、リニアモータとして例えばリニア同期モータを使用
し、このリニア同期モータの界磁石の位置を検出するた
めの相切り換え用センサとして、露光装置のマスクステ
ージ又は基板ステージの位置検出用に元々設けられてい
る位置検出手段を使用する。例えば、予めそのリニア同
期モータの界磁石と電機子コイルとが所定の位置関係の
ときにその位置検出手段の計測値をリセットし、その後
はその位置検出手段の計測値をその界磁石の配列ピッチ
で除算した余りを求めることにより、その界磁石と電機
子コイルとの位置関係（位相）が分かる。従って、別途
相切り換え用センサを設ける必要がない。
ば、リニアモータとして例えばリニア同期モータを使用
し、このリニア同期モータの界磁石の位置を検出するた
めの相切り換え用センサとして、露光装置のマスクステ
ージ又は基板ステージの位置検出用に元々設けられてい
る位置検出手段を使用する。例えば、予めそのリニア同
期モータの界磁石と電機子コイルとが所定の位置関係の
ときにその位置検出手段の計測値をリセットし、その後
はその位置検出手段の計測値をその界磁石の配列ピッチ
で除算した余りを求めることにより、その界磁石と電機
子コイルとの位置関係（位相）が分かる。従って、別途
相切り換え用センサを設ける必要がない。
【００１１】また、位置検出手段としてレーザ干渉計を
使用した場合には、極めて高分解能、且つ高精度に位相
制御が行われる。
使用した場合には、極めて高分解能、且つ高精度に位相
制御が行われる。
【００１２】
【実施例】以下、本発明による露光装置の一実施例につ
き図面を参照して説明する。本実施例は、レチクルのパ
ターンの縮小像をウエハの各ショット領域に露光するス
テッパー型の投影露光装置に本発明を適用したものであ
る。図１は本実施例の投影露光装置を示し、この図１に
おいて、照明光学系１からの露光光ＩＬが、ダイクロイ
ックミラー２により反射されてレチクルＲのパターン領
域を照明する。ダイクロイックミラー２により反射され
た後の露光光ＩＬの光軸に平行にＺ軸を取り、Ｚ軸に垂
直な２次元平面内で図１の紙面に平行な方向にＸ軸を、
図１の紙面に垂直な方向にＹ軸を取る。
き図面を参照して説明する。本実施例は、レチクルのパ
ターンの縮小像をウエハの各ショット領域に露光するス
テッパー型の投影露光装置に本発明を適用したものであ
る。図１は本実施例の投影露光装置を示し、この図１に
おいて、照明光学系１からの露光光ＩＬが、ダイクロイ
ックミラー２により反射されてレチクルＲのパターン領
域を照明する。ダイクロイックミラー２により反射され
た後の露光光ＩＬの光軸に平行にＺ軸を取り、Ｚ軸に垂
直な２次元平面内で図１の紙面に平行な方向にＸ軸を、
図１の紙面に垂直な方向にＹ軸を取る。
【００１３】この場合、レチクルＲは、レチクル側Ｙス
テージ３Ｙ、及びレチクル側Ｘステージ３Ｘを介してレ
チクルベース４上に載置され、レチクル側Ｘステージ３
Ｘはレチクルベース４に対して固定子５Ａ、及び可動子
５Ｂよりなるリニアモータ（以下、「リニアモータ５」
と呼ぶ）を介してＸ方向に駆動され、レチクル側Ｙステ
ージ３Ｙはレチクル側Ｘステージ３Ｘに対して不図示の
リニアモータによりＹ方向に駆動される。また、レチク
ル側Ｙステージ３Ｙ上にＸ軸用の移動鏡６Ｘ、及び不図
示のＹ軸用の移動鏡が固定され、移動鏡６Ｘ、及び外部
に設置されたＸ軸用のレチクル側のレーザ干渉計（以
下、「レチクル干渉計」という）７Ｘによりレチクル側
Ｘステージ３ＸのＸ座標ＸR が計測され、不図示のＹ軸
用の移動鏡、及び不図示のＹ軸用のレチクル干渉計によ
りレチクル側Ｙステージ３ＹのＹ座標が計測され、計測
されたＸ座標ＸR 及びＹ座標は、装置全体の動作を統括
制御する中央制御系８に供給される。レチクル側Ｙステ
ージ３Ｙ、レチクル側Ｘステージ３Ｘ、レチクルベース
４、Ｘ軸のリニアモータ５、及びＹ軸のリニアモータよ
りなるステージ系をレチクルステージと呼ぶ。
テージ３Ｙ、及びレチクル側Ｘステージ３Ｘを介してレ
チクルベース４上に載置され、レチクル側Ｘステージ３
Ｘはレチクルベース４に対して固定子５Ａ、及び可動子
５Ｂよりなるリニアモータ（以下、「リニアモータ５」
と呼ぶ）を介してＸ方向に駆動され、レチクル側Ｙステ
ージ３Ｙはレチクル側Ｘステージ３Ｘに対して不図示の
リニアモータによりＹ方向に駆動される。また、レチク
ル側Ｙステージ３Ｙ上にＸ軸用の移動鏡６Ｘ、及び不図
示のＹ軸用の移動鏡が固定され、移動鏡６Ｘ、及び外部
に設置されたＸ軸用のレチクル側のレーザ干渉計（以
下、「レチクル干渉計」という）７Ｘによりレチクル側
Ｘステージ３ＸのＸ座標ＸR が計測され、不図示のＹ軸
用の移動鏡、及び不図示のＹ軸用のレチクル干渉計によ
りレチクル側Ｙステージ３ＹのＹ座標が計測され、計測
されたＸ座標ＸR 及びＹ座標は、装置全体の動作を統括
制御する中央制御系８に供給される。レチクル側Ｙステ
ージ３Ｙ、レチクル側Ｘステージ３Ｘ、レチクルベース
４、Ｘ軸のリニアモータ５、及びＹ軸のリニアモータよ
りなるステージ系をレチクルステージと呼ぶ。
【００１４】露光光ＩＬのもとで、レチクルＲのパター
ンは、投影倍率β（βは例えば１／５）の投影光学系Ｐ
Ｌを介して縮小されてウエハＷ上の各ショット領域に投
影露光される。ウエハＷは、ウエハ側Ｙステージ１０
Ｙ、及びウエハ側Ｘステージ１０Ｘを介してウエハベー
ス１１上に載置され、ウエハ側Ｘステージ１０Ｘはウエ
ハベース１１に対して固定子１２Ａ、及び可動子１２Ｂ
よりなるリニアモータ（以下、「リニアモータ１２」と
呼ぶ）を介してＸ方向に駆動され、ウエハ側Ｙステージ
１０Ｙはウエハ側Ｘステージ１０Ｘに対して不図示のリ
ニアモータによりＹ方向に駆動される。また、ウエハ側
Ｙステージ１０Ｙ上にＸ軸用の移動鏡１３Ｘ、及び不図
示のＹ軸用の移動鏡が固定され、移動鏡１３Ｘ、及び外
部に設置されたＸ軸用のウエハ側のレーザ干渉計（以
下、「ウエハ干渉計」という）１４Ｘによりウエハ側Ｘ
ステージ１０ＸのＸ座標ＸW が計測され、不図示のＹ軸
用の移動鏡、及び不図示のＹ軸用のウエハ干渉計により
ウエハ側Ｙステージ１０ＹのＹ座標が計測され、計測さ
れたＸ座標ＸW 及びＹ座標は、中央制御系８に供給され
る。ウエハ側Ｙステージ１０Ｙ、ウエハ側Ｘステージ１
０Ｘ、ウエハベース１１、Ｘ軸用のリニアモータ１２、
Ｙ軸用のリニアモータ、並びにウエハＷのＺ方向への位
置及び傾斜角を制御するＺレベリングステージ（不図
示）よりなるステージ系をウエハステージと呼ぶ。
ンは、投影倍率β（βは例えば１／５）の投影光学系Ｐ
Ｌを介して縮小されてウエハＷ上の各ショット領域に投
影露光される。ウエハＷは、ウエハ側Ｙステージ１０
Ｙ、及びウエハ側Ｘステージ１０Ｘを介してウエハベー
ス１１上に載置され、ウエハ側Ｘステージ１０Ｘはウエ
ハベース１１に対して固定子１２Ａ、及び可動子１２Ｂ
よりなるリニアモータ（以下、「リニアモータ１２」と
呼ぶ）を介してＸ方向に駆動され、ウエハ側Ｙステージ
１０Ｙはウエハ側Ｘステージ１０Ｘに対して不図示のリ
ニアモータによりＹ方向に駆動される。また、ウエハ側
Ｙステージ１０Ｙ上にＸ軸用の移動鏡１３Ｘ、及び不図
示のＹ軸用の移動鏡が固定され、移動鏡１３Ｘ、及び外
部に設置されたＸ軸用のウエハ側のレーザ干渉計（以
下、「ウエハ干渉計」という）１４Ｘによりウエハ側Ｘ
ステージ１０ＸのＸ座標ＸW が計測され、不図示のＹ軸
用の移動鏡、及び不図示のＹ軸用のウエハ干渉計により
ウエハ側Ｙステージ１０ＹのＹ座標が計測され、計測さ
れたＸ座標ＸW 及びＹ座標は、中央制御系８に供給され
る。ウエハ側Ｙステージ１０Ｙ、ウエハ側Ｘステージ１
０Ｘ、ウエハベース１１、Ｘ軸用のリニアモータ１２、
Ｙ軸用のリニアモータ、並びにウエハＷのＺ方向への位
置及び傾斜角を制御するＺレベリングステージ（不図
示）よりなるステージ系をウエハステージと呼ぶ。
【００１５】中央制御系８は、レチクルステージ駆動系
１５を介してレチクル側のＸ軸用のリニアモータ５及び
Ｙ軸用のリニアモータの動作を制御してレチクルＲの位
置決めを行うと共に、ウエハステージ駆動系１６を介し
てウエハ側のＸ軸用のリニアモータ１２及びＹ軸用のリ
ニアモータの動作を制御してウエハＷの位置決めを行
う。
１５を介してレチクル側のＸ軸用のリニアモータ５及び
Ｙ軸用のリニアモータの動作を制御してレチクルＲの位
置決めを行うと共に、ウエハステージ駆動系１６を介し
てウエハ側のＸ軸用のリニアモータ１２及びＹ軸用のリ
ニアモータの動作を制御してウエハＷの位置決めを行
う。
【００１６】また、本実施例ではウエハ側Ｙステージ１
０Ｙ上に、表面がウエハＷの表面と同じ高さになるよう
に基準マーク部材９が固定され、この基準マーク部材９
の表面に例えば十字型の基準マークが形成されている。
通常この基準マークは、ウエハステージに対するレチク
ルＲの位置合わせ（レチクルアライメント）、及びウエ
ハＷの各ショット領域に付設されたウエハマーク（アラ
イメントマーク）の位置検出を行うためのアライメント
センサの検出中心と露光中心との間隔（ベースライン）
の検出等に使用される。本例では更に、基準マーク部材
９上の基準マークをリニアモータの界磁石の位置の基準
としても使用する。
０Ｙ上に、表面がウエハＷの表面と同じ高さになるよう
に基準マーク部材９が固定され、この基準マーク部材９
の表面に例えば十字型の基準マークが形成されている。
通常この基準マークは、ウエハステージに対するレチク
ルＲの位置合わせ（レチクルアライメント）、及びウエ
ハＷの各ショット領域に付設されたウエハマーク（アラ
イメントマーク）の位置検出を行うためのアライメント
センサの検出中心と露光中心との間隔（ベースライン）
の検出等に使用される。本例では更に、基準マーク部材
９上の基準マークをリニアモータの界磁石の位置の基準
としても使用する。
【００１７】そのアライメントセンサとして、本例では
投影光学系ＰＬの側面に固定されたオフ・アクシス方式
で、且つ撮像方式のアライメントセンサ２０を使用す
る。このアライメントセンサ２０内には、基準マーク部
材９（又はウエハＷ）の表面と共役な位置に所定の指標
マークが配置され、検出対象とするマークの像とその指
標マークとが同時に内部の撮像素子で撮像され、その撮
像信号Ｓ１が中央制御系８に供給されている。中央制御
系８では、その撮像信号Ｓ１を処理してそのアライメン
トセンサ２０内の指標マークに対する計測対象のマーク
の位置ずれ量を求める。また、ダイクロイックミラー２
の上方には、ＴＴＲ（スルー・ザ・レチクル）方式でレ
チクルＲとウエハＷの各ショット領域との位置関係を検
出するためのアライメントセンサ（不図示）も配置され
ている。
投影光学系ＰＬの側面に固定されたオフ・アクシス方式
で、且つ撮像方式のアライメントセンサ２０を使用す
る。このアライメントセンサ２０内には、基準マーク部
材９（又はウエハＷ）の表面と共役な位置に所定の指標
マークが配置され、検出対象とするマークの像とその指
標マークとが同時に内部の撮像素子で撮像され、その撮
像信号Ｓ１が中央制御系８に供給されている。中央制御
系８では、その撮像信号Ｓ１を処理してそのアライメン
トセンサ２０内の指標マークに対する計測対象のマーク
の位置ずれ量を求める。また、ダイクロイックミラー２
の上方には、ＴＴＲ（スルー・ザ・レチクル）方式でレ
チクルＲとウエハＷの各ショット領域との位置関係を検
出するためのアライメントセンサ（不図示）も配置され
ている。
【００１８】次に、図１のウエハステージ内のウエハ側
Ｘステージ１０Ｘを例に挙げて、本例のリニアモータ、
及びその制御系の構成及び動作につき説明する。図２
は、図１中のウエハステージの側面図、及びその制御系
の構成図であり、この図２において、リニアモータ１２
の固定子１２Ａは所定のカバー内に３相の電機子コイル
１９を装着して構成され、可動子１２Ｂは、ウエハ側Ｘ
ステージ１０Ｘの側面に固定された平板状のバックヨー
ク１７の底面にＸ方向に極ピッチＰ M で極性が順次反転
するように４個の永久磁石１８を固定して構成されてい
る。即ち、本例のリニアモータ１２はムービング・マグ
ネット型のリニア同期モータであり、可動子１２Ｂの構
成が簡略であるため、故障発生の確率が低く、且つメン
テナンスが容易となっている。但し、可動子側に電機子
コイルを収納したムービング・コイル型のリニアモータ
を使用してもよい。
Ｘステージ１０Ｘを例に挙げて、本例のリニアモータ、
及びその制御系の構成及び動作につき説明する。図２
は、図１中のウエハステージの側面図、及びその制御系
の構成図であり、この図２において、リニアモータ１２
の固定子１２Ａは所定のカバー内に３相の電機子コイル
１９を装着して構成され、可動子１２Ｂは、ウエハ側Ｘ
ステージ１０Ｘの側面に固定された平板状のバックヨー
ク１７の底面にＸ方向に極ピッチＰ M で極性が順次反転
するように４個の永久磁石１８を固定して構成されてい
る。即ち、本例のリニアモータ１２はムービング・マグ
ネット型のリニア同期モータであり、可動子１２Ｂの構
成が簡略であるため、故障発生の確率が低く、且つメン
テナンスが容易となっている。但し、可動子側に電機子
コイルを収納したムービング・コイル型のリニアモータ
を使用してもよい。
【００１９】次に、本例のコンピュータよりなる中央制
御系８において、外部のＸ軸用のウエハ干渉計１４Ｘで
計測されるウエハ側Ｘステージ１０ＸのＸ座標ＸW が微
分手段２１の入力部、及び減算手段２２の減算側入力部
に供給されている。微分手段２１は、供給されたＸ座標
ＸW を時間で微分して、ウエハ側Ｘステージ１０ＸのＸ
方向の速度ＶＸW を算出し、この速度ＶＸW を減算手段
２３の減算側入力部に供給する。なお、中央制御系８中
の微分手段２１等は、コンピュータのソフトウェア上で
実行される機能であるため、その微分演算は実際には例
えば、差分演算と、これにより得られた差分値をサンプ
リング周期で除算する除算演算とから実行される。
御系８において、外部のＸ軸用のウエハ干渉計１４Ｘで
計測されるウエハ側Ｘステージ１０ＸのＸ座標ＸW が微
分手段２１の入力部、及び減算手段２２の減算側入力部
に供給されている。微分手段２１は、供給されたＸ座標
ＸW を時間で微分して、ウエハ側Ｘステージ１０ＸのＸ
方向の速度ＶＸW を算出し、この速度ＶＸW を減算手段
２３の減算側入力部に供給する。なお、中央制御系８中
の微分手段２１等は、コンピュータのソフトウェア上で
実行される機能であるため、その微分演算は実際には例
えば、差分演算と、これにより得られた差分値をサンプ
リング周期で除算する除算演算とから実行される。
【００２０】一方、減算手段２２の加算側入力部には目
標位置設定手段２４からウエハ側Ｘステージ１０ＸのＸ
方向の位置決めの目標座標ＸWiが供給され、減算手段２
２では目標座標ＸWiからウエハ側Ｘステージ１０Ｘの現
在のＸ座標ＸW を差し引いて位置偏差ΔＸWi（＝ＸWi−
ＸW)を求め、この位置偏差ΔＸWiを位置ゲイン手段２５
の入力部に供給する。位置ゲイン手段２５では、位置偏
差ΔＸWiに各位置偏差に応じた速度を算出するための係
数ＫP を乗じて目標駆動速度ＶＸWiを求め、この目標駆
動速度ＶＸWiを減算手段２３の加算側入力部に供給す
る。減算手段２３では、目標駆動速度ＶＸWiからウエハ
側Ｘステージ１０Ｘの計測された速度ＶＸ W を差し引い
てＸ方向の速度偏差ΔＶＸWiを求め、この速度偏差ΔＶ
ＸWiをフィルタ手段２６に供給する。フィルタ手段２６
は、例えばローパスフィルタ回路として動作し、供給さ
れた速度偏差ΔＶＸWiの低周波成分に対応するＸ方向へ
の推力ＦＷＸを求め、この推力ＦＷＸの値をウエハステ
ージ駆動系１６内の３個の乗算手段２７Ａ〜２７Ｃの一
方の入力部に供給する。
標位置設定手段２４からウエハ側Ｘステージ１０ＸのＸ
方向の位置決めの目標座標ＸWiが供給され、減算手段２
２では目標座標ＸWiからウエハ側Ｘステージ１０Ｘの現
在のＸ座標ＸW を差し引いて位置偏差ΔＸWi（＝ＸWi−
ＸW)を求め、この位置偏差ΔＸWiを位置ゲイン手段２５
の入力部に供給する。位置ゲイン手段２５では、位置偏
差ΔＸWiに各位置偏差に応じた速度を算出するための係
数ＫP を乗じて目標駆動速度ＶＸWiを求め、この目標駆
動速度ＶＸWiを減算手段２３の加算側入力部に供給す
る。減算手段２３では、目標駆動速度ＶＸWiからウエハ
側Ｘステージ１０Ｘの計測された速度ＶＸ W を差し引い
てＸ方向の速度偏差ΔＶＸWiを求め、この速度偏差ΔＶ
ＸWiをフィルタ手段２６に供給する。フィルタ手段２６
は、例えばローパスフィルタ回路として動作し、供給さ
れた速度偏差ΔＶＸWiの低周波成分に対応するＸ方向へ
の推力ＦＷＸを求め、この推力ＦＷＸの値をウエハステ
ージ駆動系１６内の３個の乗算手段２７Ａ〜２７Ｃの一
方の入力部に供給する。
【００２１】また、中央制御系８内の目標位置設定手段
２４には、図１のアライメントセンサ２０からの撮像信
号Ｓ１も供給されている。この場合、予め基準マーク部
材９上の基準マークの像が、図１のアライメントセンサ
２０内の指標マークに合致しているときの、図２の電機
子コイル１９に対する永久磁石１８の位相θ0 ［ｒａ
ｄ］が求められ、永久磁石１８の極ピッチＰM を用いて
その位相θ0 をＸ方向への位置ずれ量ΔＸ0(＝ＰM・θ0
／（２π））に換算した値が、目標位置設定手段２４内
のメモリに記憶されている。そして、初期設定時に基準
マーク部材９の基準マークをアライメントセンサ２０の
観察視野内に移動したときに、目標位置設定手段２４
は、その撮像信号Ｓ１を処理してアライメントセンサ２
０内の指標マークに対するその基準マークのＸ方向への
位置ずれ量（ウエハＷ上に換算した値）ΔＸ1 を求め
る。その後、目標位置設定手段２４は、その位置ずれ量
ΔＸ1 と予め記憶されている位置ずれ量ΔＸ0 とを加算
して得られる位置ずれ量（ΔＸ0＋ΔＸ1)をウエハステ
ージ駆動系１６内の端数検出手段２８に供給する。
２４には、図１のアライメントセンサ２０からの撮像信
号Ｓ１も供給されている。この場合、予め基準マーク部
材９上の基準マークの像が、図１のアライメントセンサ
２０内の指標マークに合致しているときの、図２の電機
子コイル１９に対する永久磁石１８の位相θ0 ［ｒａ
ｄ］が求められ、永久磁石１８の極ピッチＰM を用いて
その位相θ0 をＸ方向への位置ずれ量ΔＸ0(＝ＰM・θ0
／（２π））に換算した値が、目標位置設定手段２４内
のメモリに記憶されている。そして、初期設定時に基準
マーク部材９の基準マークをアライメントセンサ２０の
観察視野内に移動したときに、目標位置設定手段２４
は、その撮像信号Ｓ１を処理してアライメントセンサ２
０内の指標マークに対するその基準マークのＸ方向への
位置ずれ量（ウエハＷ上に換算した値）ΔＸ1 を求め
る。その後、目標位置設定手段２４は、その位置ずれ量
ΔＸ1 と予め記憶されている位置ずれ量ΔＸ0 とを加算
して得られる位置ずれ量（ΔＸ0＋ΔＸ1)をウエハステ
ージ駆動系１６内の端数検出手段２８に供給する。
【００２２】一方、そのウエハステージ駆動系１６はパ
ワー増幅器３０Ａ〜３０Ｃを除いてコンピュータからな
り、そのウエハステージ駆動系１６において、外部のウ
エハ干渉計１４Ｘにより計測されるウエハ側Ｘステージ
１０ＸのＸ座標ＸW が端数検出手段２８に供給される。
端数検出手段２８には、初期設定時に目標位置検出手段
２４から位置ずれ量（ΔＸ0 ＋ΔＸ1)が供給され、この
位置ずれ量（ΔＸ0 ＋ΔＸ1)はこのときの電機子コイル
１９に対する永久磁石１８の位置ずれ量を表している。
ワー増幅器３０Ａ〜３０Ｃを除いてコンピュータからな
り、そのウエハステージ駆動系１６において、外部のウ
エハ干渉計１４Ｘにより計測されるウエハ側Ｘステージ
１０ＸのＸ座標ＸW が端数検出手段２８に供給される。
端数検出手段２８には、初期設定時に目標位置検出手段
２４から位置ずれ量（ΔＸ0 ＋ΔＸ1)が供給され、この
位置ずれ量（ΔＸ0 ＋ΔＸ1)はこのときの電機子コイル
１９に対する永久磁石１８の位置ずれ量を表している。
【００２３】そこで、初期設定時に端数検出手段２８で
は、そのときのウエハ側Ｘステージ１０ＸのＸ座標ＸW
の値ＸW0に対して所定のオフセット値ＸOFF を加算して
得られる座標が、その位置ずれ量（ΔＸ0 ＋ΔＸ1)とな
るようにそのオフセット値Ｘ OFF を定める。即ち、以下
の関係が成立する。 ＸOFF ＝（ΔＸ0 ＋ΔＸ1)−ＸW0 （１） そして、初期設定後に端数検出手段２８では、ウエハ干
渉計１４Ｘから供給されるＸ座標ＸW にそのオフセット
値ＸOFF を加算して得られる座標を、固定子１２Ｂの永
久磁石１８の極ピッチＰM の２倍（２・ＰM)で除算した
ときの端数ΔＸ W を求め、この端数ΔＸW を３個の位相
変換手段２９Ａ〜２９Ｃに供給する。これに応じて、先
ず第１の位相変換手段２９Ａでは、その端数ΔＸW を極
ピッチＰ M の２倍（２・ＰM)で除算した値に２πを乗算
して得られる位相をθとして、cos θの値を生成し、こ
のcos θの値を第１の乗算手段２７Ａの他方の入力部に
供給する。また、第２の位相変換手段２９Ｂでは、その
位相θを２π／３だけずらして、cos(θ−２π／３）の
値を生成し、このcos(θ−２π／３）の値を第２の乗算
手段２７Ｂの他方の入力部に供給する。同様に、第３の
位相変換手段２９Ｂでは、その位相θを４π／３だけず
らして、cos(θ−４π／３）の値を生成し、このcos(θ
−４π／３）の値を第３の乗算手段２７Ｃの他方の入力
部に供給する。
は、そのときのウエハ側Ｘステージ１０ＸのＸ座標ＸW
の値ＸW0に対して所定のオフセット値ＸOFF を加算して
得られる座標が、その位置ずれ量（ΔＸ0 ＋ΔＸ1)とな
るようにそのオフセット値Ｘ OFF を定める。即ち、以下
の関係が成立する。 ＸOFF ＝（ΔＸ0 ＋ΔＸ1)−ＸW0 （１） そして、初期設定後に端数検出手段２８では、ウエハ干
渉計１４Ｘから供給されるＸ座標ＸW にそのオフセット
値ＸOFF を加算して得られる座標を、固定子１２Ｂの永
久磁石１８の極ピッチＰM の２倍（２・ＰM)で除算した
ときの端数ΔＸ W を求め、この端数ΔＸW を３個の位相
変換手段２９Ａ〜２９Ｃに供給する。これに応じて、先
ず第１の位相変換手段２９Ａでは、その端数ΔＸW を極
ピッチＰ M の２倍（２・ＰM)で除算した値に２πを乗算
して得られる位相をθとして、cos θの値を生成し、こ
のcos θの値を第１の乗算手段２７Ａの他方の入力部に
供給する。また、第２の位相変換手段２９Ｂでは、その
位相θを２π／３だけずらして、cos(θ−２π／３）の
値を生成し、このcos(θ−２π／３）の値を第２の乗算
手段２７Ｂの他方の入力部に供給する。同様に、第３の
位相変換手段２９Ｂでは、その位相θを４π／３だけず
らして、cos(θ−４π／３）の値を生成し、このcos(θ
−４π／３）の値を第３の乗算手段２７Ｃの他方の入力
部に供給する。
【００２４】そして、第１の乗算手段２７Ａではフィル
タ手段２６から供給される推力ＦＷＸにcos θを乗算し
て得られる推力に応じた電流信号をパワー増幅器３０Ａ
に供給し、第２の乗算手段２７Ｂではその推力ＦＷＸに
cos(θ−２π／３）を乗算して得られる推力に応じた電
流信号をパワー増幅器３０Ｂに供給し、第３の乗算手段
２７Ｃではその推力ＦＷＸにcos(θ−４π／３）を乗算
して得られる推力に応じた電流信号をパワー増幅器３０
Ｃに供給する。パワー増幅器３０Ａ，３０Ｂ，３０Ｃは
それぞれ供給された電流信号を増幅して、３相の電機子
コイル１９中の対応する相のコイルに励磁電流を供給す
る。これにより、ウエハ側Ｘステージ１０ＸのＸ座標が
目標位置設定手段２４に設定された目標座標に収束する
まで、リニアモータ１２を介してウエハ側Ｘステージ１
０ＸがＸ方向に駆動される。
タ手段２６から供給される推力ＦＷＸにcos θを乗算し
て得られる推力に応じた電流信号をパワー増幅器３０Ａ
に供給し、第２の乗算手段２７Ｂではその推力ＦＷＸに
cos(θ−２π／３）を乗算して得られる推力に応じた電
流信号をパワー増幅器３０Ｂに供給し、第３の乗算手段
２７Ｃではその推力ＦＷＸにcos(θ−４π／３）を乗算
して得られる推力に応じた電流信号をパワー増幅器３０
Ｃに供給する。パワー増幅器３０Ａ，３０Ｂ，３０Ｃは
それぞれ供給された電流信号を増幅して、３相の電機子
コイル１９中の対応する相のコイルに励磁電流を供給す
る。これにより、ウエハ側Ｘステージ１０ＸのＸ座標が
目標位置設定手段２４に設定された目標座標に収束する
まで、リニアモータ１２を介してウエハ側Ｘステージ１
０ＸがＸ方向に駆動される。
【００２５】この場合、本例ではウエハ干渉計１４Ｘか
ら供給されるＸ座標ＸW によって、端数検出手段２８に
おいて電機子コイル１９に対する永久磁石１８の位置ず
れ量（位相）が算出され、この位置ずれ量に基づいてサ
ーボ方式で電機子コイル１９の各相のコイルに供給され
る励磁電流の位相が設定されている。従って、別途例え
ば電機子コイル１９に沿って、永久磁石１８の極性を検
出するための相切り換え用センサ（ホール素子等からな
る）を設ける必要がないため、ステージ機構が簡略化さ
れ、ステージ上に容易に各種機構を付設できる利点があ
る。
ら供給されるＸ座標ＸW によって、端数検出手段２８に
おいて電機子コイル１９に対する永久磁石１８の位置ず
れ量（位相）が算出され、この位置ずれ量に基づいてサ
ーボ方式で電機子コイル１９の各相のコイルに供給され
る励磁電流の位相が設定されている。従って、別途例え
ば電機子コイル１９に沿って、永久磁石１８の極性を検
出するための相切り換え用センサ（ホール素子等からな
る）を設ける必要がないため、ステージ機構が簡略化さ
れ、ステージ上に容易に各種機構を付設できる利点があ
る。
【００２６】なお、上述実施例では、初期状態で、ウエ
ハ干渉計１４Ｘの計測値と、リニアモータにおける電機
子コイルに対する磁石の位相関係との対応関係を求める
ために、アライメント用の基準マーク部材９が使用され
ていたが、それ以外に、例えばウエハ干渉計１４Ｘ用の
原点設定用のリミットスイッチ等を用いてその対応関係
を求めてもよい。
ハ干渉計１４Ｘの計測値と、リニアモータにおける電機
子コイルに対する磁石の位相関係との対応関係を求める
ために、アライメント用の基準マーク部材９が使用され
ていたが、それ以外に、例えばウエハ干渉計１４Ｘ用の
原点設定用のリミットスイッチ等を用いてその対応関係
を求めてもよい。
【００２７】また、本発明はステップ・アンド・リピー
ト方式の露光装置（ステッパー等）のみならず、ステッ
プ・アンド・スキャン方式等の走査露光方式の露光装置
のレチクルステージ、又はウエハステージの駆動装置と
してリニアモータを使用する場合にも適用できることは
明かである。このように、本発明は上述実施例に限定さ
れず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取
り得る。
ト方式の露光装置（ステッパー等）のみならず、ステッ
プ・アンド・スキャン方式等の走査露光方式の露光装置
のレチクルステージ、又はウエハステージの駆動装置と
してリニアモータを使用する場合にも適用できることは
明かである。このように、本発明は上述実施例に限定さ
れず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取
り得る。
【００２８】
【発明の効果】本発明の第１又は第２の露光装置によれ
ば、それぞれマスクステージ（レチクルステージ）又は
基板ステージ（ウエハステージ）の駆動用にリニアモー
タを使用し、駆動対象のステージの位置を検出するため
の位置検出手段の計測結果に基づいてリニアモータの電
機子コイルと界磁石との位相関係を求めている。従っ
て、別途特別な相切り換え用センサを設けることなくそ
のリニアモータを駆動できるため、製造コストを低減で
きると共に、ステージ機構が簡素化され他の機構を容易
に装着できる利点がある。
ば、それぞれマスクステージ（レチクルステージ）又は
基板ステージ（ウエハステージ）の駆動用にリニアモー
タを使用し、駆動対象のステージの位置を検出するため
の位置検出手段の計測結果に基づいてリニアモータの電
機子コイルと界磁石との位相関係を求めている。従っ
て、別途特別な相切り換え用センサを設けることなくそ
のリニアモータを駆動できるため、製造コストを低減で
きると共に、ステージ機構が簡素化され他の機構を容易
に装着できる利点がある。
【００２９】また、その位置検出手段としてレーザ干渉
計を使用した場合には、非接触で高精度にステージの位
置、及びリニアモータの電機子コイルと界磁石との位相
関係を求めることができる利点がある。
計を使用した場合には、非接触で高精度にステージの位
置、及びリニアモータの電機子コイルと界磁石との位相
関係を求めることができる利点がある。
【図１】本発明の一実施例の投影露光装置を示す概略構
成図である。
成図である。
【図２】図１のウエハステージ及びその制御系の一部を
示す構成図である。
示す構成図である。
Ｒ レチクル ＰＬ 投影光学系 Ｗ ウエハ ３Ｘ レチクル側Ｘステージ ４ レチクルベース ５Ａ，１２Ａ リニアモータの固定子 ５Ｂ，１２Ｂ リニアモータの可動子 ７Ｘ レチクル干渉計 ８ 中央制御系 ９ 基準マーク部材 １０Ｘ ウエハ側Ｘステージ １１ ウエハベース １４ ウエハ干渉計 １６ ウエハステージ駆動系 １８ 永久磁石 １９ 電機子コイル ２７Ａ〜２７Ｃ 乗算手段 ２９Ａ〜２９Ｃ 位相変換手段
Claims (3)
- 【請求項１】 マスクに形成された転写用のパターンを
感光基板上に露光する露光装置において、 前記マスクの位置決めを行うマスクステージと、該マス
クステージを駆動するリニアモータと、前記マスクステ
ージの位置を検出する位置検出手段と、を有し、 前記リニアモータの位相制御情報として前記位置検出手
段の出力信号を用いることを特徴とする露光装置。 - 【請求項２】 マスク上に形成された転写用のパターン
を感光基板上に露光する露光装置において、 前記感光基板の位置決めを行う基板ステージと、該基板
ステージを駆動するリニアモータと、前記基板ステージ
の位置を検出する位置検出手段と、を有し、 前記リニアモータの位相制御情報として前記位置検出手
段の出力信号を用いることを特徴とする露光装置。 - 【請求項３】 前記位置検出手段は、レーザ干渉計であ
ることを特徴とする請求項１又は２記載の露光装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04831095A JP3613291B2 (ja) | 1995-03-08 | 1995-03-08 | 露光装置 |
| US08/520,245 US5777721A (en) | 1995-03-08 | 1995-08-28 | Exposure method and apparatus with control of a linear motor |
| KR1019950029359A KR100383296B1 (ko) | 1995-03-08 | 1995-09-07 | 노광방법및장치 |
| US09/396,458 US6337733B1 (en) | 1995-03-08 | 1999-09-15 | Apparatus including a motor-driven stage for exposing a photosensitive substrate, and method of making such apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04831095A JP3613291B2 (ja) | 1995-03-08 | 1995-03-08 | 露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08250388A true JPH08250388A (ja) | 1996-09-27 |
| JP3613291B2 JP3613291B2 (ja) | 2005-01-26 |
Family
ID=12799854
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04831095A Expired - Lifetime JP3613291B2 (ja) | 1995-03-08 | 1995-03-08 | 露光装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5777721A (ja) |
| JP (1) | JP3613291B2 (ja) |
| KR (1) | KR100383296B1 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3890136B2 (ja) * | 1997-03-25 | 2007-03-07 | キヤノン株式会社 | 露光装置とこれを用いたデバイス製造方法、ならびにステージ装置 |
| US6252234B1 (en) | 1998-08-14 | 2001-06-26 | Nikon Corporation | Reaction force isolation system for a planar motor |
| TW520469B (en) * | 2000-04-10 | 2003-02-11 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
| KR100475051B1 (ko) * | 2001-09-07 | 2005-03-10 | 삼성전자주식회사 | 반도체 웨이퍼 노광 시스템 및 그 구동방법 |
| US6777896B2 (en) * | 2002-07-09 | 2004-08-17 | Nikon Corporation | Methods and apparatus for initializing a planar motor |
| US7113256B2 (en) * | 2004-02-18 | 2006-09-26 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method with feed-forward focus control |
| JP4418699B2 (ja) * | 2004-03-24 | 2010-02-17 | キヤノン株式会社 | 露光装置 |
| US11267305B2 (en) | 2019-12-09 | 2022-03-08 | Continental Automotive Systems, Inc. | Double rolling lobe crimpless guide tube |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5847043B2 (ja) * | 1979-02-07 | 1983-10-20 | 株式会社日立製作所 | 位置制御方式 |
| JPS5868118A (ja) * | 1981-10-20 | 1983-04-22 | Telmec Co Ltd | 高精度位置決めステ−ジ用防振装置 |
| US4546299A (en) * | 1983-12-20 | 1985-10-08 | Manhattan Engineering Co., Inc. | Low cost servo operated digital positioning system |
| JP2593440B2 (ja) * | 1985-12-19 | 1997-03-26 | 株式会社ニコン | 投影型露光装置 |
| US4810941A (en) * | 1986-04-17 | 1989-03-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Control system for a servomotor |
| JP2606285B2 (ja) * | 1988-06-07 | 1997-04-30 | 株式会社ニコン | 露光装置および位置合わせ方法 |
| JP2913755B2 (ja) * | 1990-04-25 | 1999-06-28 | 株式会社ニコン | 位置合わせ方法及び装置 |
| US5243195A (en) * | 1991-04-25 | 1993-09-07 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus having an off-axis alignment system and method of alignment therefor |
| US5204535A (en) * | 1991-05-31 | 1993-04-20 | Nikon Corporation | Alignment device having irradiation and detection light correcting optical elements |
| US5684856A (en) * | 1991-09-18 | 1997-11-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Stage device and pattern transfer system using the same |
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