JPH11297591A - 位置決め装置および露光装置ならびにデバイス製造方法 - Google Patents

位置決め装置および露光装置ならびにデバイス製造方法

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JPH11297591A
JPH11297591A JP10097552A JP9755298A JPH11297591A JP H11297591 A JPH11297591 A JP H11297591A JP 10097552 A JP10097552 A JP 10097552A JP 9755298 A JP9755298 A JP 9755298A JP H11297591 A JPH11297591 A JP H11297591A
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sensor
target member
positioning device
wafer
coil
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Shinji Oishi
伸司 大石
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 安価で信頼性の高いイニシャライズ動作を行
う位置決め装置を提供する。 【解決手段】 固定部に対して移動可能なテーブルと、
該テーブルを所定方向に移動させる移動手段と、センサ
と、該センサが測定を行うターゲット部材とを有し、該
固定部はセンサとターゲット部材のうちの一方を備え、
該テーブルは該センサと該ターゲット部材のうちの他方
を備え、該センサが測定するターゲット部材の場所によ
って、該センサの出力が変化するようなターゲット部材
を備えたことを特徴とする位置決め装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、目的物を搭載し正
確な位置決めを行う位置決め装置に関し、特に、露光装
置の露光工程中にウエハやレチクルを保持する位置決め
装置に関する。また、この位置決め装置を備えた露光装
置やデバイス製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】図7は従来の位置決めテーブル装置の概
略構成図である。この図に示すような従来の位置決めテ
ーブル装置は、4相のコイルを一直線上に並べたリニア
モータコイル104を備えている。リニアモータコイル
104はコイル支持部材103に支持されており、リニ
アモータコイル104を構成するコイルの並ぶ方向と平
行に、一対のガイド102が設けられている。ガイド1
02には、テーブル天板101が軸受け106を介して
取り付けられており、テーブル天板101はガイド10
2によって前記コイルの並ぶ方向に自在に案内される。
テーブル天板101には可動磁石105が取り付けら
れ、可動磁石105は前記コイルの並ぶ方向に永久磁石
の極性を交互にして4対並べて構成されている。
【0003】また、ガイド102の側方にはテーブル天
板101の位置を検出するリニアスケールなどの位置検
出器107が設けられている。特に高精度な位置決め精
度が必要な半導体露光装置などでは、位置検出器として
レーザ測長器が使用される。位置検出器107からはテ
ーブルの移動方向に応じてアップ、ダウン(インクリメ
ンタル)信号が出力され、これをカウンタユニット11
1でカウントすることによってテーブルの位置情報が得
られる。しかし、テーブルの絶対位置を得るには、テー
ブルに取り付けた遮光板108が原点フォトスイッチ1
09を通過するまでテーブルを駆動し(この動作をテー
ブルのイニシャライズ動作と呼ぶ)、カウンタユニット
111を初期化させる必要がある。
【0004】この多相型リニアモータを備えた位置決め
テーブル装置におけるリニアモータコイル104への通
電パターンを図8に示す。
【0005】図中において、記号AおよびBは各コイル
に流れる電流の向きを示し、記号Bは図面正面から見て
手前向きの電流を示し、記号Aはその逆向きに流れる電
流の向きを示している。図4のケース0〜ケース9に示
すように、可動磁石105との位置関係によって通電す
るコイル及びそのコイルに流れる電流の向きを切り替
え、同一方向に推力を発生させることで、可動磁石10
5を所定の方向に移動させるとともにテーブルを移動さ
せている。
【0006】例えば特開平06−165471号公報な
どでは、可動磁石105の極性(N極、S極)は、コイ
ル支持部材103に配置された界磁検出器(ホール素子
等)110で検出され、相切り替えコントローラ113
はこの界磁検出器110からの信号に応じて、図8で示
すように可動磁石とコイルの位置関係に応じてスイッチ
115を、適切に切り替え制御するものである。各スイ
ッチ115ごとにはコイル相が電流アンプ116を介し
て接続されており、相切り替えコントローラ113から
出力されるコイル選択信号によりスイッチ115が切り
替え制御されて各コイルヘの通電が行われる。
【0007】カウンタユニット111にはサーボコント
ローラ112が接続されており、サーボコントローラ1
12はテーブルの目標位置とカウンタユニット111か
ら得られる現在位置との差分を、例えばPlD演算して
制御出力を得て、これをD/Aコンバータ114へ指令
値として出力し位置決め制御を行う。D/Aコンバータ
114の出力は、スイッチ115および電流アンプ11
6を介して各コイルヘ供給され、通電が行なわれる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例では界磁検出器を使用して可動磁石の位置を検出し
多相型モータの相の切り替えを行っているため、次のよ
うな問題点がある。
【0009】(1)界磁検出器を複数個組み込んだ高価
なコイルユニットを製作する必要がある。
【0010】(2)界磁検出器からの多数の配線を引き
回すのは面倒で煩わしく、断線等の恐れもあり信頼性に
欠ける。
【0011】しかし相切り替え用のセンサ(界磁検出
器)を排除してしまうと、位置決め装置の立ち上げ直後
などはコイルと可動磁石の位置関係が不明となり、どの
コイルにどちら向きに通電したら良いのかわからなくな
り、原点スイッチまでのイニシャライズ動作が行えない
という事態に陥る。これは、上述のレーザ測長器のよう
なインクリメンタル型の位置検出器では、原点スイッチ
をテーブルが通過するまでは、絶対位置がわからないた
めである。多相型のモータを備えた位置決め装置では、
コイルと可動磁石の位置関係を知る何らかの手段が必要
である。
【0012】本発明は上記従来技術の欠点に鑑みてなさ
れたものであって、位置決めテーブル装置において、テ
ーブルのイニシャライズ動作が可能な安価で信頼性の高
い位置決め装置を提供することを目的としている。
【0013】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明の位置決め装置は、固定部に対して移動可能な
テーブルと、該テーブルを所定方向に移動させる移動手
段と、センサと、該センサに測定される場所によって該
センサの出力が変化するターゲット部材とを有し、該固
定部はセンサとターゲット部材のうちの一方を備え、該
テーブルは該センサと該ターゲット部材のうちの他方を
備え、該センサに測定される該ターゲット部材の場所
が、該テーブルの位置によって異なるように、該センサ
と該ターゲット部材を配置することを特徴とする。
【0014】また、前記センサの出力によりテーブルの
位置を求める位置推定手段を設けることが望ましい。こ
の場合、前記移動手段は、複数のコイルを有し、前記位
置推定手段により求めたテーブルの位置に応じて、通電
するコイルを選択的に切り替えるモータであることが好
ましい。
【0015】前記センサは変位センサであり、前記テー
ブルの位置に応じて該変位センサと前記ターゲット部材
との間隙が変化するように、該ターゲット部材を前記所
定方向に対して角度を持たせて配置または製作すること
が好ましい。もしくは、前記センサはホールセンサであ
り、該センサが測定する前記ターゲット部材の場所によ
って磁気力が変化するように該ターゲット部材を製作し
ても良く、また、前記センサは光電センサであり、該セ
ンサが測定する前記ターゲット部材の場所によって反射
率が変化するように製作しても良い。
【0016】さらに、本発明の露光装置は、前記位置決
め装置を備えることを特徴とするものである。また、上
記露光装置を用いてデバイスを製造するデバイス製造方
法も本発明の範疇に含まれる。
【0017】
【発明の実施の形態】<実施形態1>図1は本発明の一
実施例に係る位置決めテーブル装置の概略構成図であ
る。この位置決めテーブル装置は、4相のコイルを一直
線上に並べたリニアモータコイル4を備えている。リニ
アモータコイル4はコイル支持部材3に支持されてお
り、リニアモータコイル4を構成するコイルの並ぶ方向
と平行に、一対のガイド2が設けられている。コイル支
持部材3およびガイド2は、不図示の定盤に固定されて
いる。ガイド2には、テーブル天板1が静圧軸受け6を
介して取り付けられており、テーブル天板1はガイド2
によって前記コイルの並ぶ方向に自在に案内される。テ
ーブル天板1には可動磁石5が取り付けられ、可動磁石
5は前記コイルの並ぶ方向に永久磁石の極性を交互にし
て4対並べて構成されている。
【0018】リニアモータコイル4への通電パターンは
図8と同様である。
【0019】また、ガイド2の側方にはテーブル天板1
の位置を検出するリニアスケールなどの位置検出器7が
設けられている。特に、高精度な位置決め精度が必要な
半導体露光装置などでは、位置検出器としてレーザ測長
器が使用される。位置検出器7からはテーブルの移動方
向に応じてアップ、ダウン信号が出力され、これをカウ
ンタユニット11に取り込んでカウントすることにより
テーブルの位置情報が得られる。しかし、テーブルの絶
対位置を得るには、テーブルに取り付けた遮光板8を原
点フォトスイッチ9が検出するまでテーブルを駆動し、
その検出出力によりカウンタユニット11を初期化させ
る必要がある。このイニシャライズ動作を行うためにテ
ーブルを原点方向に駆動する必要があるため、テーブル
の絶対位置を知る必要がある。
【0020】そこで、本実施形態では、テーブルに変位
センサ17を取り付け、これに所定の隙間をもたせて対
向するようにターゲット部材18をリニアモータコイル
支持部材の端面に配置する。ターゲット部材はテーブル
の進行方向に対して、ある所定量の角度をもたせて取り
付ける。従ってテーブルのそれぞれの場所において、変
位センサはターゲット部材との隙間を計測する。この計
測結果に基づき、テーブル絶対位置推定部20において
テーブルの絶対座標を推定する。
【0021】図2をもとにテーブルの座標推定動作の原
理を説明する。
【0022】図中において、テーブルがテーブル絶対座
標0mmにいるとして、テーブルが0から100mmの
位置まで移動すれば、テーブルに取り付けられた変位セ
ンサは、A→B→Cとテーブルと共に移動していく。変
位センサを、Δa=50ミクロン程度の初期隙間をもっ
てターゲット部材と対向させておき、このときの変位セ
ンサの出力が0Vになるようにセンサ出力を調整してお
く。そして例えば、テーブルが100mm移動した時
に、センサとターゲット部材の間隙が100ミクロン変
化するようにターゲット部材を傾斜させておけば、テー
ブルの位置によってΔb、Δcの変位を変位センサによ
り5V,10Vといった電圧出力として計測できる。こ
の出力電圧はテーブルの絶対座標に対応するため、装置
立ち上げ直後などでも、変位センサによりターゲット部
材との隙間を計測すれば、テーブルの絶対座標を推定す
る事が可能である。なおセンサとターゲット部材との初
期隙間および傾斜させる量は、変位センサの仕様や感度
等により決められる値であるため、これに限るものでは
ない。本実施形態では、センサとターゲット部材との間
隙からテーブルの座標が求められるように、テーブルの
座標が間隙の関数になっていることが重要である。
【0023】しかし、ここで推定されるテーブルの絶対
座標は、多相型モータの相を切り替えるのに支障をきた
さない程度の誤差(±数mm)を含んだおおよその値で
あり、実際にはこの後テーブルを原点スイッチまで駆動
してカウンタユニットを初期化する必要がある。テーブ
ルのおおよその絶対位置が推定できれば、リニアスケー
ル7からの信号を推定された座標に加減算していくこと
で、相の切り替え位置にてスイッチ15を適切に切り替
えることができ、その結果原点スイッチ9までのイニシ
ャライズ動作を行うことが可能となる。各スイッチ15
にはコイル相が電流アンプ16を介して接続されてお
り、相切り替えコントローラ13から出力されるコイル
選択信号によりスイッチ15が切り替え制御されて各コ
イルヘの通電が行われる。カウンタユニット11にはサ
ーボコントローラ12が接続されており、テーブルの目
標位置とカウンタユニット11から得られる現在位置と
の差分を、例えばPlD演算し制御出力としてD/Aコ
ンバータ14へ指令値として出力し位置決め制御を行
う。
【0024】本実施形態では、テーブルに備えた変位セ
ンサによってターゲット部材との距離を計測し、これら
の計測結果により、テーブルの絶対位置を推定できる。
このことから、多相型モータのコイルと磁石との位置関
係が得られるため、原点スイッチまでのイニシャライズ
駆動を行うことが可能である。また、従来のようにコイ
ルに多数のセンサを設ける必要がないため、位置決め装
置のコストダウンを図ることができる。したがって、安
価で信頼性の高い位置決め装置を提供することができ
る。
【0025】<実施形態2>本発明の第2の実施例で
は、図3のようにガイド2の端面に、テーブルの進行方
向に対しある所定量角度をもたせたターゲット部材を取
り付けた。
【0026】ターゲット部材と変位センサの取り付け位
置が変わったほかは、前述の第1実施形態と同様である
ので、ここでは説明を省略する。
【0027】本発明では、前述の実施形態で得られた効
果のほかに、ガイドに配置することで、リニアモータか
らの熱によるターゲット部材の変形を押さえる効果があ
る。また、ターゲット部材を移動するテーブルに取り付
け、変位センサを固定子側に配置する方法も可能であ
る。この場合、変位センサからの配線を引きずらないた
め、テーブルヘの外乱が少なくなり位置決め精度が向上
するという効果がある。
【0028】また、前述の実施形態および本実施形態で
は、ターゲット部材を変位部材に対して傾斜して配置
し、間隙の変化からテーブルの座標を推定していたが、
ほかにもターゲット部材をテーブルの座標に比例して磁
気力が変化するように製作しておけば、変位センサの代
わりにホールセンサが使用でき、テーブルの座標やリニ
アモータのコイルと磁石との位置関係を推定することが
可能である。また、ターゲット部材をテーブルの座標に
比例して反射率が変化するように製作しておけば、変位
センサの代わりに光電センサが使用できる。
【0029】このように、変位センサの代わりにホール
センサや光電センサを使用した場合でも、前述の実施形
態で述べた効果を得ることができる。
【0030】<実施形態3>次に前述した実施形態の位
置決め装置をウエハステージまたはレチクルステージ
(もしくは両ステージ)として搭載した走査型露光装置
の実施形態を、図4を用いて説明する。
【0031】鏡筒定盤96は床または基盤91からダン
パ98を介して支持されている。また鏡筒定盤96は、
レチクル定盤94を支持すると共に、レチクルステージ
95とウエハステージ93の間に位置する投影光学系9
7を支持している。
【0032】ウエハステージは、床または基盤から支持
されたステージ定盤上に支持され、ウエハを載置して位
置決めを行う。また、レチクルステージは、鏡筒定盤に
支持されたレチクルステージ定盤上に支持され、レチク
ルを搭載して移動可能である。レチクルステージ95上
に搭載されたレチクルをウエハステージ93上のウエハ
を露光する露光光は、照明光学系99から発生される。
【0033】なお、ウエハステージ93は、レチクルス
テージ95と同期して走査される。レチクルステージ9
5とウエハステージ93の走査中、両者の位置はそれぞ
れ干渉計によって継続的に検出され、レチクルステージ
95とウエハステージ93の駆動部にそれぞれフィード
バックされる。これによって、両者の走査開始位置を正
確に同期させるとともに、定速走査領域の走査速度を高
精度で制御することができる。
【0034】本実施形態では、前述の第1または第2実
施形態の位置決め装置をウエハステージまたはレチクル
ステージとして用いているため、各ステージに用いられ
ているリニアモータのイニシャライズ動作を、安価で信
頼性高く実行可能となり、安価な露光装置を提供するこ
とができる。
【0035】<実施形態4>次に上記説明した露光装置
を利用した半導体ディバイスの製造方法の実施例を説明
する。図5は半導体ディバイス(ICやLSI等の半導
体チップ、あるいは液晶パネルやCCD等)の製造フロ
ーを示す。ステップ11(回路設計)では半導体ディバ
イスの回路設計を行なう。ステップ12(マスク製作)
では設計した回路パターンを形成したマスクを製作す
る。ステップ13(ウエハ製造)ではシリコン等の材料
を用いてウエハを製造する。ステップ14(ウエハプロ
セス)は前工程と呼ばれ、上記用意したマスクとウエハ
を用いて、リソグラフィ技術によってウエハ上に実際の
回路を形成する。ステップ15(組み立て)は後工程と
呼ばれ、ステップ14によって作製されたウエハを用い
て半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程
(ダイシング、ボンディング)、パッケージング工程
(チップ封入)等の工程を含む。ステップ16(検査)
ではステップ15で作製された半導体ディバイスの動作
確認テスト、耐久性テスト等の検査を行なう。こうした
工程を経て半導体ディバイスが完成し、これが出荷(ス
テップS17)される。
【0036】図6は上記ウエハプロセスの詳細なフロー
を示す。ステップ21(酸化)ではウエハの表面を酸化
させる。ステップ22(CVD)ではウエハ表面に絶縁
膜を形成する。ステップ23(電極形成)ではウエハ上
に電極を蒸着によって形成する。ステップ24(イオン
打込み)ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ25
(レジスト処理)ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ26(露光)では上記説明した露光装置によってマ
スクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ステップ
27(現像)では露光したウエハを現像する。ステップ
28(エッチング)では現像したレジスト像以外の部分
を削り取る。ステップ29(レジスト剥離)ではエッチ
ングが済んで不要となったレジストを取り除く。これら
のステップを繰り返し行なうことによって、ウエハ上に
多重に回路パターンが形成される。本実施例の製造方法
を用いれば、従来よりも安価に半導体デバイスの製造を
行うことができる。
【0037】
【発明の効果】本発明の請求項1記載の位置決め装置に
よれば、ターゲット部材の場所によってセンサの出力が
変化するため、テーブルの位置によってセンサ出力を変
化させることができる。
【0038】請求項2記載の位置決め装置によれば、セ
ンサ出力によりテーブルの位置を求めることができる。
【0039】請求項3記載の位置決め装置によれば、テ
ーブルとコイルとの位置関係からコイルを選択的に通電
するため、安価で信頼性の高い位置決め装置を提供する
ことができる。
【0040】また、請求項4記載の位置決め装置によれ
ば、テーブルの位置に基づいて、イニシャライズ動作を
行うことができる。
【0041】また、請求項6記載の位置決め装置によれ
ば、変位センサとターゲット部材の間隙からテーブルの
位置を求めることができる。また、請求項7記載の位置
決め装置によれば、ターゲット部材の磁気力からテーブ
ルの位置を求めることができ、請求項8記載の位置決め
装置によれば、ターゲット部材の反射率からテーブルの
位置を求めることができる。
【0042】請求項9または10記載の露光装置によれ
ば、安価で信頼性の高い露光装置を提供することができ
る。
【0043】また、請求項11または12記載のデバイ
ス製造方法によれば、安価で安定したデバイス製造を行
うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1実施形態の位置決め装置の概略図
【図2】第1実施形態のテーブル座標推定動作原理の説
明図
【図3】第2実施形態の位置決め装置の概略図
【図4】第3実施形態の露光装置の概略図
【図5】第4実施形態のウエハプロセスフロー図
【図6】第4実施形態のデバイス製造フロー図
【図7】従来例の位置決め装置の概略図
【図8】従来例のモータの駆動シーケンスを表わす図
【符号の説明】
1 テーブル天板 2 ガイド 3 コイル支持部材 4 リニアモータコイル 5 可動磁石 6 静圧軸受 7 位置検出器 8 遮光板 9 原点フォトスイッチ 11 カウンタユニット 12 サーボコントローラ 13 相切り替えコントローラ 14 D/Aコンバータ 15 スイッチ 16 電流アンプ 17 変位センサ 18 A/Dコンバータ 19 テーブル絶対位置推定部 91 床・基盤 92 ステージ定盤 93 ウエハステージ 94 レチクル定盤 95 レチクルステージ 96 鏡筒定盤 97 投影光学系 98 ダンパ 99 照明光学系

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 固定部に対して移動可能なテーブルと、 該テーブルを所定方向に移動させる移動手段と、 センサと、 該センサに測定される場所によって該センサの出力が変
    化するターゲット部材とを有し、 該固定部はセンサとターゲット部材のうちの一方を備
    え、該テーブルは該センサと該ターゲット部材のうちの
    他方を備え、 該センサに測定される該ターゲット部材の場所が、該テ
    ーブルの位置によって異なるように、該センサと該ター
    ゲット部材を配置することを特徴とする位置決め装置。
  2. 【請求項2】 前記センサの出力により前期テーブルの
    位置を求める位置推定手段を設けることを特徴とする請
    求項1記載の位置決め装置。
  3. 【請求項3】 前記移動手段は、複数のコイルを有し、
    前記位置推定手段により求めたテーブルの位置に応じ
    て、通電するコイルを選択的に切り替えるモータである
    ことを特徴とする請求項2記載の位置決め装置。
  4. 【請求項4】 前記位置推定手段により求めたテーブル
    の位置に基づいて、イニシャライズ動作を行うことを特
    徴とする請求項2または3記載の位置決め装置。
  5. 【請求項5】 前記固定部は、定盤に固定された部材で
    あることを特徴とする請求項1〜4いずれか記載の位置
    決め装置。
  6. 【請求項6】 前記センサは変位センサであり、前記テ
    ーブルの位置に応じて該変位センサと前記ターゲット部
    材との間隙が変化するように、該ターゲット部材を前記
    所定方向に対して角度を持たせて配置または製作するこ
    とを特徴とする請求項1〜5いずれか記載の位置決め装
    置。
  7. 【請求項7】 前記センサはホールセンサであり、該セ
    ンサが測定する前記ターゲット部材の場所によって磁気
    力が変化するように該ターゲット部材を製作することを
    特徴とする請求項1〜5いずれか記載の位置決め装置。
  8. 【請求項8】 前記センサは光電センサであり、該セン
    サが測定する前記ターゲット部材の場所によって反射率
    が変化するように製作することを特徴とする請求項1〜
    5いずれか記載の位置決め装置。
  9. 【請求項9】 請求項1〜8いずれか記載の位置決め装
    置を備えることを特徴とする露光装置。
  10. 【請求項10】 請求項1〜8いずれか記載の位置決め
    装置をウエハステージおよびレチクルステージの少なく
    とも一方として備えることを特徴とする露光装置。
  11. 【請求項11】 請求項9または10記載の露光装置を
    用意するステップと、レチクル上に形成されたパターン
    をウエハに転写するステップとを有することを特徴とす
    るデバイス製造方法。
  12. 【請求項12】 ウエハに露光された部分を現像するス
    テップと、ウエハ上に形成されたチップを切り離すステ
    ップを更に有することを特徴とする請求項11記載のデ
    バイス製造方法。
JP10097552A 1998-04-09 1998-04-09 位置決め装置および露光装置ならびにデバイス製造方法 Withdrawn JPH11297591A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2002198290A (ja) * 2000-12-26 2002-07-12 Canon Inc 露光装置、デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法
KR100471630B1 (ko) * 2000-12-08 2005-03-08 캐논 가부시끼가이샤 리니어모터 및 그를 이용한 노광장치
US7116098B1 (en) 2006-02-16 2006-10-03 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration System providing limit switch function with simultaneous absolute position output
JP2009021590A (ja) * 2007-07-10 2009-01-29 Asml Netherlands Bv リソグラフィ装置及び位置センサ

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100471630B1 (ko) * 2000-12-08 2005-03-08 캐논 가부시끼가이샤 리니어모터 및 그를 이용한 노광장치
JP2002198290A (ja) * 2000-12-26 2002-07-12 Canon Inc 露光装置、デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法
US7116098B1 (en) 2006-02-16 2006-10-03 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration System providing limit switch function with simultaneous absolute position output
JP2009021590A (ja) * 2007-07-10 2009-01-29 Asml Netherlands Bv リソグラフィ装置及び位置センサ

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