JP2009021590A - リソグラフィ装置及び位置センサ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】問題の支持体の位置を測定する測定システムを設ける。測定システムは、固定磁石モータの磁石アセンブリによって生成された交番磁界の磁界強度を測定する、及び/又は渦電流を引き起こす交番磁界を生成する電磁石のインダクタンス測定値で、磁石アセンブリを保護する金属層内の渦電流の生成を測定する、及び/又はエミッタによって放出された光面に配置されたCCDメトリック又は直線光ダイオードなどの光学位置検知型センサを使用して光を測定する。
【選択図】図2a
Description
放射ビームを調整するように構成された照明システムと、
放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構成されたパターニングデバイス支持体と、
基板を保持するように構成された基板支持体と、
パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、
空間的に交互する分極磁界を生成するために交互に分極した磁石の2次元構成を有する固定磁石アセンブリを備え、パターニングデバイス支持体又は基板支持体を駆動するように構成されたモータと、
パターニングデバイス支持体又は基板支持体の位置を測定するように構成され、磁界の磁界強度を測定する磁界センサ、及び磁界センサによって測定されたままの磁界強度から位置を割り出すセンサ処理装置を備える位置センサと、
を備えるリソグラフィ装置が提供される。
放射ビームを調整するように構成された照明システムと、
放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構成された照明システムと、
基板を保持するように構成された基板支持体と、
パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、
固定磁石アセンブリ、及び磁石アセンブリを覆う金属層を備え、パターニングデバイス支持体又は基板支持体を駆動するように構成されたモータと、
金属層によって形成された面に対して実質的に直角の方向でパターニングデバイス支持体又は基板支持体の位置を測定し、電磁石と、電磁石を駆動して交番磁界を生成する駆動回路と、電磁石の電気インピーダンスパラメータを測定する測定回路と、交番磁界によって金属層内に発生した渦電流によって引き起こされる、電気インピーダンスパラメータへの効果から、パターニングデバイス支持体又は基板支持体の位置を導出するセンサ処理装置とを備える位置センサと、
を備えるリソグラフィ装置が提供される。
放射ビームを調整するように構成された照明システムと、
放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構成されたパターニングデバイス支持体と、
基板を保持するように構成された基板支持体と、
パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、
固定磁石アセンブリを備え、パターニングデバイス支持体又は基板支持体を駆動するように構成されたモータと、
パターニングデバイス支持体又は基板支持体の位置を測定する位置センサと、を備え、位置センサが、光面を放出するエミッタと、光面から自身への光の入射位置を面に対して実質的に直角の方向で検出するディテクタと、
を備えるリソグラフィ装置が提供される。
Claims (25)
- 放射ビームを調整する照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するパターニングデバイス支持体と、
基板を保持する基板支持体と、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影する投影システムと、
空間的に交互する分極磁界を生成するために交互に分極した磁石の2次元構成を有する固定磁石アセンブリを備え、前記パターニングデバイス支持体又は前記基板支持体を駆動するモータと、
前記パターニングデバイス支持体又は前記基板支持体の位置を測定する位置センサであって、前記磁界の磁界強度を測定する磁界センサ、及び前記磁界センサによって測定されたままの前記磁界強度から位置を割り出すセンサ処理装置を備える位置センサと、
を備えるリソグラフィ装置。 - 前記センサ処理デバイスが、前記測定磁界の周期性から位置情報を導出する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記センサ処理デバイスが、面内における前記測定磁界のクワドラチャ測定から第一位置情報を導出する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記センサ処理デバイスが、前記測定磁界の周期性から第二位置情報を導出し、前記第一位置情報と前記第二位置情報を組み合わせる、請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記センサ処理デバイスが、前記磁界センサの出力から、前記2次元を含む面に対して直角の方向で位置を割り出す、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記センサ処理装置が、前記面に直角の方向で基準位置に対応する基準磁界強度に前記測定磁界強度を関連づけることによって、前記面に直角の方向で前記位置を導出する、請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基準磁界強度が、前記面内における前記測定位置に従って、又は前記面内において測定された前記磁界強度に従って割り出される、請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 前記リソグラフィ装置の制御デバイスが、前記位置センサによって測定されたままの前記位置が特定の動作位置範囲の外側にある場合に、前記モータを駆動して、前記パターニングデバイス支持体又は前記基板支持体の位置を補正する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記センサ処理デバイスが、前記2次元を含む面に直角の方向の位置を前記磁界センサの出力から割り出し、かつ複数の位置センサを備えており、前記制御デバイスが、前記複数の位置センサによって提供された位置から、前記面に直角の方向で前記パターニングデバイス支持体又は前記基板支持体の有効位置を、及び前記面に対する前記パターニングデバイス支持体又は前記基板支持体の傾斜を割り出す、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 支持体と、
前記支持体を駆動するモータであって、空間的に交互する分極磁界を生成するために交互に分極した磁石の2次元構成を有する固定磁石アセンブリを備えるモータと、
前記支持体の位置を測定する位置センサであって、前記磁界の磁界強度を測定する磁界センサ、及び前記磁界センサによって測定されたままの前記磁界強度から位置を割り出すセンサ処理装置を備える位置センサと、
を備えるステージシステム。 - 放射ビームを調整する照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持する照明システムと、
基板を保持する基板支持体と、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影する投影システムと、
固定磁石アセンブリ、及び該磁石アセンブリを覆う金属層を備え、前記パターニングデバイス支持体又は前記基板支持体を駆動するモータと、
前記金属層によって形成された面に対して実質的に直角の方向で前記パターニングデバイス支持体又は前記基板支持体の位置を測定する位置センサであって、電磁石と、該電磁石を駆動して交番磁界を生成する駆動回路と、該電磁石の電気インピーダンスパラメータを測定する測定回路と、該交番磁界によって前記金属層内に発生した渦電流によって引き起こされる、該電気インピーダンスパラメータへの効果から、前記パターニングデバイス支持体又は前記基板支持体の位置を導出するセンサ処理装置とを備える位置センサと、
を備えるリソグラフィ装置。 - 前記金属層が(i)ステンレス鋼、又は(ii)アルミ、又は(iii)銅、又は(iv)銀、又は(v)(i)から(iv)から選択された任意の組合せを備える、請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記交番磁界の周波数が100キロヘルツより大きい、請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記電磁石の電気コイル及び前記金属層に、磁気飽和を呈する材料がない、請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記複数のセンサによって測定されたままの位置測定値から、前記パターニングデバイス支持体又は前記基板支持体の傾斜を導出する複数の位置センサ及び処理デバイスを備える、請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記複数の位置センサの1つが前記金属層の穴の上に配置されている場合、そのセンサを選択解除する複数の位置センサ及び処理デバイスを備える、請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記処理デバイスは、前記複数の位置センサの前記1つの表示値が特定のセンサ出力信号範囲の外側にあることに基づいて、そのセンサを選択解除する、請求項16に記載のリソグラフィ装置。
- 前記位置センサによって測定されたままの前記位置が特定の動作位置範囲の外側にある場合に、前記モータを駆動して、前記パターニングデバイス支持体又は前記基板支持体の位置を補正する制御デバイスを備える、請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記複数の位置センサによって提供された位置から、前記面に直角の方向で前記パターニングデバイス支持体又は前記基板支持体の有効位置を、及び前記面に対する前記パターニングデバイス支持体又は前記基板支持体の傾斜を割り出す複数の位置センサ及び制御デバイスを備える、請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 支持体と、
前記支持体を駆動するモータであって、固定磁石アセンブリ、及び前記磁石アセンブリを覆う金属層を備えるモータと、
前記金属層によって形成された面に対して実質的に直角の方向で前記支持体の位置を測定する位置センサと、を備え、該位置センサが、
電磁石と、
前記電磁石を駆動して交番磁界を生成する駆動回路と、
前記電磁石の電気インピーダンスパラメータを測定する測定回路と、
前記交番磁界によって前記金属層内に発生した渦電流によって引き起こされる、前記電気インピーダンスパラメータへの効果から、前記支持体の位置を導出するセンサ処理装置と、
を備えるステージシステム。 - 放射ビームを調整する照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するパターニングデバイス支持体と、
基板を保持する基板支持体と、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影する投影システムと、
固定磁石アセンブリを備え、前記パターニングデバイス支持体又は前記基板支持体を駆動するモータと、
前記パターニングデバイス支持体又は前記基板支持体の位置を測定する位置センサと、を備え、該位置センサが、
光面を放出するエミッタと、
前記光面から自身への光の入射位置を前記面に対して実質的に直角の方向で検出するディテクタと、を備える
リソグラフィ装置。 - 前記エミッタがレーザ及び回転式ミラーを備える、請求項21に記載のリソグラフィ装置。
- 前記エミッタが複数の光源を備える、請求項21に記載のリソグラフィ装置。
- 前記位置センサによって測定されたままの位置が特定の動作位置範囲の外側にある場合に、前記モータを駆動して、前記パターニングデバイス支持体又は前記基板支持体の位置を補正する制御デバイスを備える、請求項21に記載のリソグラフィ装置。
- 前記複数の位置センサによって提供された位置から、前記面に直角の方向で前記パターニングデバイス支持体又は前記基板支持体の有効位置を、及び前記面に対する前記パターニングデバイス支持体又は前記基板支持体の傾斜を割り出す複数の位置センサ及び制御デバイスを備える、請求項11に記載のリソグラフィ装置。
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