JP4969598B2 - 基板表面に関する高さデータを測定及び取得する方法並びにリソグラフィ装置 - Google Patents
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Description
基板テーブル上に基板を提供すること、及び、
基板とレベルセンサとの相対運動を生成して、基板のレベルを感知すること、
を含み、さらに、
2つのアクチュエータによって生成された相対運動を組み合わせて、1つのアクチュエータによって生成される運動の最高速度より高い速度にすることを含む。
基板とレベルセンサとの相対運動を生成し、
レベルセンサで基板のレベルを感知する方法を実行するように構築され、構成されたコード又は命令を有し、生成された相対運動は、レベルセンサに対して基板テーブルの運動を生成するための少なくとも2つのアクチュエータの複合運動である。
ターゲット部分でレベルセンサスキャンを実行して、ターゲット部分のレベルセンサデータを提供することを含み、レベルセンサスキャンはターゲット部分に対する相対位置で実行され、さらに、
b)レベルセンサデータ及び所定の較正データを使用し、補正した露光焦点データを割り出して、ターゲット部分に対するレベルセンサスキャンの相対位置を補正する。実施形態によると、動作b)は、
b1)所定の較正データを使用して、補正したレベルセンサデータを割り出し、
b2)補正したレベルセンサデータに基づいて補正した露光焦点データを割り出すことを含む。実施形態によれば、動作b)は、
b1’)レベルセンサデータを使用して、露光焦点データを割り出し、
b2’)露光焦点データ及び所定の較正データに基づいて、補正した露光焦点データを割り出すことを含む。
c)補正した露光焦点データに従ってターゲット部分を露光することをさらに含む。
I−1)少なくとも1つのターゲット部分で第一数の較正レベルセンサスキャンを実行することを含み、第一数の較正レベルセンサスキャンは、少なくとも1つのターゲット部分に対する第一相対位置を有し、
I−2)少なくとも1つのターゲット部分で第二数の較正レベルセンサスキャンを実行することをさらに含み、第二数の較正レベルセンサスキャンは、少なくとも1つのターゲット部分に対する第二相対位置を有し、第二相対位置は第一相対位置とは異なり、
II)第二数の較正レベルセンサスキャンを第一数の較正レベルセンサスキャンと比較することにより、第二相対位置の第一較正データを割り出すことをさらに含む。
基板とレベルセンサの間で相対運動を生成し、
レベルセンサで基板のレベルを感知する方法を実行するためのものであり、生成された相対運動は、レベルセンサに対する基板テーブルの運動を生成するための少なくとも2つのアクチュエータの複合運動である。
基板とレベルセンサとの相対運動を生成することによって、基板の少なくとも一部の高さ測定を実行して、高さデータを生成すること、及び、
レベルセンサで基板のレベルを感知することを含み、生成された相対運動は、レベルセンサに対する基板テーブルの運動を生成するための少なくとも2つのアクチュエータの複合運動であり、
所定の補正高さを使用して、高さデータの補正済み高さデータを計算すること、及び、
少なくとも部分的に補正済み高さデータに基づいて、投影システムの焦点面に対して基板のターゲット部分を配置することをさらに含む。
基板のターゲット部分の高さ測定を実行し、基板とレベルセンサとの相対運動を生成して、レベルセンサでレベルを感知することによって、高さプロフィールを実行することを含み、生成された相対運動は、レベルセンサに対する基板テーブルの運動を生成するための少なくとも2つのアクチュエータの複合運動であり、
高さプロフィールに基づいてレベルプロフィールを計算し、
レベルプロフィールと高さプロフィールとの差を計算することによって、補正高さを割り出すことをさらに含む。
基板とレベルセンサとの相対運動を生成し、レベルセンサで基板のレベルを感知することにより、基板の少なくとも一部の高さ測定を実行して、高さデータを生成することを含み、生成された相対運動は、レベルセンサに対する基板テーブルの運動を生成するための少なくとも2つのアクチュエータの複合運動であり、
所定の補正高さを使用して、高さデータの補正済み高さデータを計算し、
少なくとも部分的に補正済み高さデータに基づいて、投影システムの焦点面に対して基板のターゲット部分を配置することをさらに含む。
基板とレベルセンサとの相対運動を生成して、レベルセンサで基板のレベルを感知することによって、基板のターゲット部分の高さ測定を実行して、高さプロフィールを生成することを含み、生成された相対運動は、レベルセンサに対する基板テーブルの運動を生成するための少なくとも2つのアクチュエータの複合運動であり、
高さプロフィールに基づいてレベルプロフィールを計算し、
レベルプロフィールと高さプロフィールとの差を計算することによって、補正高さを割り出すことをさらに含む。
− 放射ビームB(例えばUV放射又はEUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
− パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第一位置決め装置PMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
− 基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第二位置決め装置PWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
− パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ又は複数のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PSとを含む。
[00085] レベルセンサは、基板Wの高さ又は基板テーブルWTの区域の高さを測定して、高さデータを生成する。高さが測定される表面を基準位置へと運び、測定放射ビームで照明する。測定放射ビームは、90°未満の角度で測定される表面に当たる。入射角は反射角に等しいので、測定放射ビームは同じ角度で表面から反射し、反射放射ビームを形成する。測定放射ビームと反射放射ビームは、測定面を規定する。レベルセンサは、測定面で反射放射ビームの位置を測定する。
Claims (15)
- パターン付き放射ビームを形成するために放射ビームの断面にパターンを付与可能であるパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、前記投影システムの焦点面に対する前記基板のターゲット部分の位置決めに使用するために、高さデータを生成する前記基板の少なくとも一部の高さ測定を実行するように構成されたレベルセンサと、前記基板の表面に対して直角の少なくとも第一方向に前記基板テーブルを動かすように構成された、最高速度を有する第一アクチュエータ(23)と、前記基板の表面に対して直角の少なくとも第二方向に前記基板テーブルを動かすように構成された、最高速度を有する第二アクチュエータ(24)と、前記第一及び第二アクチュエータ(23、24)を制御することによって、前記基板と前記レベルセンサの間の相対運動のストロークを生成するように構成された制御装置(6)と、を備えるリソグラフィ投影装置であって、
前記制御装置(6)が、前記基板テーブルを実質的にその最高速度で動かす前記第一及び第二アクチュエータ(23、24)の複合運動のストロークを生成するように構成され、
前記レベルセンサが、放射源、前記放射源の下流に配置されたスリットを有する投影グリッド、及び、放射を前記放射源から基板表面に向かってレベルセンサスポットとして誘導するように配置された第一反射器を有する、前記基板に放射を誘導する投影部分(2)と、検出器、前記基板と前記検出器の間に配置されたスリットを有する検出グリッド、及び、前記ウェーハ表面から反射した光を検出器に誘導するように配置された第二反射器を有する、前記基板表面から反射した放射を検出する検出部分(15)と、を含み、
前記グリッドが、前記相対運動の前記ストロークと位置合わせされたレベルセンサスポットを投影及び検出するように配置されるとともに、前記基板表面に実質的に平行に配置され、
前記基板上の前記レベルセンサスポットが、前記アクチュエータ(23、24)の前記運動方向に対して実質的に45°回転することにより、前記レベルセンサスポットの生成幅が広がり、
前記複合運動のストロークと、前記レベルセンサスポットの生成幅の広がりと、の組み合わせにより、レベル感知時間が節約される、
リソグラフィ投影装置。 - 前記基板テーブルが、前記基板ホルダによって担持された基板のスキャン露光を実行するように動作可能であり、
前記レベルセンサが、前記基板テーブル上のターゲット区域の垂直位置及び少なくとも1つの水平軸に対する傾斜のうち少なくとも1つを測定するように構成された、
請求項1に記載のリソグラフィ投影装置。 - 前記投影グリッド又は前記検出グリッドの少なくとも一方が全体的に長方形の形状であり、その幅に対してゼロ以外の角度で配置されたスリットの列を有する、
請求項1又は2に記載のリソグラフィ投影装置。 - 前記スリットが実質的に前記検出グリッドの対角線に沿って配置される、
請求項3に記載のリソグラフィ投影装置。 - 前記投影部分が、前記放射の光路長に適応するために、前記投影グリッドの下流の放射路に配置されたウェッジをさらに備える、
請求項1から4のいずれか1項に記載のリソグラフィ投影装置。 - 前記検出部分が、前記放射の光路長に適応するために、前記投影グリッドの下流の放射路に配置されたウェッジをさらに備える、
請求項1から5のいずれか1項に記載のリソグラフィ投影装置。 - リソグラフィ投影装置内において、基板テーブル上で担持された基板のレベルを感知する方法であって、
前記リソグラフィ投影装置が、パターン付き放射ビームを形成するために放射ビームの断面にパターンを付与可能であるパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、高さデータを生成するために前記基板の少なくとも一部の高さ測定を実行するように構成されたレベルセンサと、基板と前記レベルセンサとの相対運動を生成する第一及び第二アクチュエータであって、最高速度を有する第一及び第二アクチュエータ(23、24)と、を有し、前記レベルセンサが、放射源、前記放射源の下流に配置されたスリットを有する投影グリッド、及び、放射を前記放射源から基板表面に向かってレベルセンサスポットとして誘導するように配置された第一反射器を有する、前記基板に放射を誘導する投影部分(2)と、検出器、前記基板と前記検出器の間に配置されたスリットを有する検出グリッド、及び、前記ウェーハ表面から反射した光を検出器に誘導するように配置された第二反射器を有する、前記基板表面から反射した放射を検出する検出部分(15)と、を含み、
前記方法が、
前記基板テーブル上に基板を提供すること、
前記基板と前記レベルセンサとの相対運動を生成して、前記基板のレベルを感知すること、
前記基板テーブルを実質的にその最高速度で動かす前記第一及び第二アクチュエータ(23、24)の複合運動のストロークを生成すること、
前記グリッドを、前記相対運動の前記ストロークと位置合わせされたレベルセンサスポットを投影及び検出するように配置するとともに、前記基板表面に実質的に平行に配置すること、
前記基板上の前記レベルセンサスポットを、前記アクチュエータ(23、24)の前記運動方向に対して実質的に45°回転することにより、前記レベルセンサスポットの生成幅を広げること、を含み、
前記複合運動のストロークと、前記レベルセンサスポットの生成幅の広がりと、の組み合わせにより、レベル感知時間を節約する、
方法。 - 前記高さの測定が、レベルセンサでスキャン方向に前記基板の少なくとも一部をスキャンすることによって実行される、
請求項7に記載の方法。 - 前記第一アクチュエータ(23)がX方向の運動を生成し、前記第二アクチュエータ(24)がY方向の運動を生成して、前記複合運動が、前記X及びY方向に対して実質的に45°の角度のストロークで形成される、
請求項7又は8に記載の方法。 - 屈折を使用して前記投影した放射又は反射した放射の少なくとも一方の前記光路長を適応させることをさらに含む、
請求項7から9のいずれか一項に記載の方法。 - データキャリア、コンピュータ読み取り可能媒体又はコンピュータプログラムプロダクト上のコンピュータプログラムであって、
前記コンピュータプログラムが、基板テーブル上で担持された基板のレベルを感知するコード又は命令を有し、
前記コード又は命令が、請求項7から10のいずれか一項に記載の方法を実行するためのものである、
コンピュータプログラム。 - 基板の位置を制御するシステムであって、
前記システムが処理装置及びメモリを備え、
前記メモリは、前記処理装置が高さデータを使用して、投影システムの焦点面に対して前記基板のターゲット部分を配置する方法を実行することによって実行可能な命令を含むコンピュータプログラムでコード化され、
前記方法が、
請求項7から10のいずれか一項に記載の方法を使用して、前記基板の少なくとも一部の高さ測定を実行して、高さデータを生成すること、
所定の補正高さを使用して、前記高さデータの補正済み高さデータを計算すること、及び、
少なくとも部分的に前記補正済み高さデータに基づいて、前記投影システムの前記焦点面に対して前記基板の前記ターゲット部分を配置すること、を含む、
システム。 - 基板の位置を制御するシステムであって、
前記システムが処理装置及びメモリを備え、
前記メモリが、レベルセンサによって取得された高さデータを補正するために前記処理装置が補正高さを計算する方法を実行するために実行可能な命令を含むコンピュータプログラムでコード化され、
前記方法が、
請求項7から10のいずれか一項に記載の方法を使用して、前記基板のターゲット部分の高さ測定を実行して、高さプロフィールを生成すること、
前記高さプロフィールに基づいてレベルプロフィールを計算すること、及び、
前記レベルプロフィールと前記高さプロフィールの差を計算することによって、補正高さを割り出すこと、を含む、
システム。 - 処理装置が高さデータを使用して、投影システムの焦点面に対して基板のターゲット部分を配置する方法を実行するために実行可能な命令を含むコンピュータプログラムでコード化されたコンピュータ読み取り可能媒体であって、
前記方法が、
請求項7から10のいずれか一項に記載の方法を使用して、基板の少なくとも一部の高さ測定を実行すること、
所定の補正高さを使用して、前記高さデータの補正済み高さデータを計算すること、及び、
少なくとも部分的に前記補正済み高さデータに基づいて、前記投影システムの前記焦点面に対して前記基板のターゲット部分を配置すること、を含む、
コンピュータ読み取り可能媒体。 - 処理装置が高さデータを使用して、投影システムの焦点面に対して基板のターゲット部分を配置する方法を実行するために実行可能な命令を含むコンピュータプログラムでコード化されたコンピュータ読み取り可能媒体であって、
前記方法が、
請求項7から10のいずれか一項に記載の方法を使用して、基板のターゲット部分の高さ測定を実行すること、
高さプロフィールに基づいてレベルプロフィールを計算すること、及び、
レベルプロフィールと高さプロフィールとの差を計算することによって、補正高さを割り出すこと、を含む、
コンピュータ読み取り可能媒体。
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