JP2007273955A - リソグラフィ装置、キャリブレーション方法、デバイス製造方法、およびコンピュータプログラム - Google Patents
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Abstract
リソグラフィ装置におけるレベルセンサまたは高さセンサのキャリブレーションのための改良方法を提供する。
【解決手段】レベルセンサによって得られる基板位置測定のプロセス依存性を低減させるべく、複数のレベルセンサデバイスにおける測定値間の差を補い、かつ前記基板の特性に対応する、前記レベルセンサシステムについての少なくとも1つのキャリブレーション値を取得することと、少なくとも1つのキャリブレーション値に基づき、前記複数のレベルセンサデバイスを用いて、基板の表面の位置を測定する。
【選択図】なし
Description
Claims (23)
- 基板の表面の位置を当該表面上のそれぞれのポイントで測定するように構成された複数のレベルセンサデバイスを備えるレベルセンサシステムを有するリソグラフィ装置、を用いたデバイス製造方法であって、
前記複数のレベルセンサデバイスにおける測定値間の差を補い、かつ前記基板の特性に対応する、前記レベルセンサシステムについての少なくとも1つのキャリブレーション値を取得することと、
前記少なくとも1つのキャリブレーション値に基づき、前記複数のレベルセンサデバイスを用いて、基板の表面の位置を測定することと、
前記基板の表面の前記測定された位置に基づき、前記基板を露光することと
を含む方法。 - 前記特性は、前記表面の中または上に配された層の厚さに関係する、請求項1に記載の方法。
- 前記特性は、前記層の公称厚さ値である、請求項2に記載の方法。
- 前記特性は、前記層の厚さ値の範囲である、請求項2に記載の方法。
- 前記層とは、レジスト、反射防止コーティング、および生成物層からなる群から選択される層である、請求項2に記載の方法。
- 前記特性は、前記表面の中または上に配された層の材料特性に関連する、請求項1に記載の方法。
- 前記層とは、レジスト、反射防止コーティング、および生成物層からなる群から選択される層である、請求項6に記載の方法。
- 前記特性は、前記表面の中または上に配された層のトポグラフィに関連する、請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも1つのキャリブレーション値を取得することは、前記特性を有するレジスト層が前記基板上に配される時に、キャリブレーションプロセスを実行することを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記キャリブレーションプロセスは、前記レベルセンサデバイスのそれぞれを用いて、前記基板の公称面に垂直な方向で前記基板の表面上の複数のポイントの位置を測定することを含む、請求項9に記載の方法。
- 前記少なくとも1つのキャリブレーション値を取得することは、異なる特性に対応するキャリブレーション値の表で、キャリブレーション値を調べることを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも1つのキャリブレーション値を取得することは、その前記特性がパラメータである数学モデルを用いて、前記少なくとも1つのキャリブレーション値を計算することを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記レベルセンサデバイスは、光センサである、請求項1に記載の方法。
- 前記レベルセンサデバイスは、容量センサである、請求項1に記載の方法。
- 前記レベルセンサデバイスは、空気マイクロメータである、請求項1に記載の方法。
- 少なくとも1つの基板の表面の位置を当該表面上のそれぞれのポイントで測定するように構成された複数のレベルセンサデバイスを備えるレベルセンサシステムを有するリソグラフィ装置、におけるキャリブレーション方法であって、
前記レベルセンサデバイスのそれぞれを用いて、前記少なくとも1つの基板の表面上の複数のポイントの位置を所定方向で測定することを有し、前記少なくとも1つの基板はその上に、所定の特性を有する修正された表面層を有する、キャリブレーション方法。 - 前記修正された表面層は、レジスト、反射防止コーティング、および生成物層からなる群のうちの少なくとも1つを含む、請求項16に記載の方法。
- 前記所定の特性は、厚さの範囲である、請求項16に記載の方法。
- 前記所定の特性は、公称厚さ値である、請求項16に記載の方法。
- 前記特性は、レジストタイプである、請求項16に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの基板は、複数の基板を備え、当該複数の基板のうちの第1の基板に関連する前記所定の特性は、前記複数の基板のうちの第2の基板に関連する前記所定の特性とは異なる、請求項16に記載の方法。
- 基板の表面の位置を当該表面上のそれぞれのポイントで測定するように構成された複数のレベルセンサデバイスを備えるレベルセンサシステムを有するリソグラフィ装置であって、当該レベルセンサシステムは、前記レベルセンサデバイスの実測値を位置値に関係付けるモデルと、キャリブレーション値を当該モデルに適用するように構成されたキャリブレーションユニットとを含み、当該キャリブレーション値は、測定対象の基板の表面層の特性に依存する、リソグラフィ装置。
- 基板の表面の位置を当該表面上のそれぞれのポイントで測定するように構成された複数のレベルセンサデバイスを備えるレベルセンサシステムを有するリソグラフィ装置、を制御するためのプログラムコードを含むコンピュータプログラムであって、
前記複数のレベルセンサデバイスにおける測定値間の差を補い、かつ前記基板の特性に対応するキャリブレーション値である、前記レベルセンサシステムについての少なくとも1つのキャリブレーション値を取得することと、
前記少なくとも1つのキャリブレーション値に基づき、前記複数のレベルセンサデバイスを用いて、基板の表面の位置を測定することと、
前記基板の表面の前記測定された位置に基づき、前記基板を露光することと
を含むデバイス製造方法を実行するためのコンピュータプログラム。
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