JP5256333B2 - 位置測定システムのターゲット面を較正する方法、位置測定システム、およびリソグラフィ装置 - Google Patents
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Description
Claims (13)
- 可動オブジェクトの位置を測定する位置測定システムのターゲット面を較正する方法において、前記位置測定システムは、前記可動オブジェクト上に設けられた前記ターゲット面と、静止センサシステムと、前記センサシステムの少なくとも1つの測定信号に基づいて前記可動オブジェクトの位置を計算する処理デバイスと、を備え、前記処理デバイスは、前記ターゲット面の凹凸を補正する前記ターゲット面の補正マップを有する、方法であって、
前記ターゲット面の一部を測定し、前記測定されたターゲット面ならびに前記ターゲット面の1つ以上の変形モードおよび/または前記ターゲット面に影響を及ぼす物理的オブジェクトの1つ以上の変形モードに基づいて、前記ターゲット面全体の再較正された補正マップを決定することによって、前記ターゲット面の前記補正マップを再較正するステップを含む、
方法。 - 前記ターゲット面を測定するステップは、前記センサシステムによって実行される、
請求項1に記載の方法。 - 前記ターゲット面を測定するステップは、前記ターゲット面の冗長位置測定に基づく、
請求項1又は2に記載の方法。 - 前記再較正された補正マップを決定するステップは、前記測定されたターゲット面に基づいて前記1つ以上の変形モードのうちの少なくとも1つの関連する変形モードを選択するステップを含む、
請求項1から3の何れか一項に記載の方法。 - 前記1つ以上の変形モードは、前記ターゲット面を故意に変形させ、続いて全ターゲット面マップを測定し、前記全ターゲット面マップから1つ以上の変形モードを計算することによって決定される、
請求項1から4の何れか一項に記載の方法。 - 前記1つ以上の変形モードは、屈曲モードまたはトルクモードであり、または、前記ターゲット面の規則性に対する、前記ターゲット面のコーティングおよび/または前記ターゲット面が前記可動オブジェクト上に設けられる際の接着剤の時間効果に基づく、
請求項1から5の何れか一項に記載の方法。 - 前記方法は、前記可動オブジェクトの衝突後に行われる、
請求項1から6の何れか一項に記載の方法。 - 前記較正で使用される前記1つ以上の変形モードのタイプは、前記較正に先行する前記可動オブジェクトの衝突のタイプに基づく、
請求項7に記載の方法。 - 前記可動オブジェクトは、リソグラフィ装置のステージである、
請求項1から8の何れか一項に記載の方法。 - 可動オブジェクトの位置を測定する位置測定システムであって、
静止センサシステムと、
前記可動オブジェクト上に設けられるターゲット面であって、前記静止センサシステムは、前記ターゲット面上で反射される測定ビームを供給し、前記反射された測定ビームを受け、前記反射された測定ビームに基づいて測定信号を供給する、ターゲット面と、
前記センサシステムの少なくとも1つの測定信号に基づいて前記可動オブジェクトの位置を計算する処理デバイスであって、前記ターゲット面の凹凸を補正する前記ターゲット面の補正マップを有する、処理デバイスと、を備え、
前記処理デバイスは、前記ターゲット面の一部の測定と、前記測定された部分ならびに前記ターゲット面の1つ以上の変形モードおよび/または前記ターゲット面に影響を及ぼす物理的オブジェクトの1つ以上の変形モードに基づいた再較正された補正マップの決定と、に基づいて、前記エラーマップを再較正または調整する、
位置測定システム。 - 前記センサシステムは、干渉計位置測定システムまたはエンコーダ位置測定システムなどの光学位置測定システムである、
請求項10に記載の位置測定システム。 - 前記可動オブジェクトは、リソグラフィ装置のステージである、
請求項10又は11に記載の位置測定システム。 - リソグラフィ装置であって、
放射ビームを調整する照明システムと、
放射ビームの断面にパターンを与えてパターン形成された放射ビームを形成可能であるパターニングデバイスを支持するサポートと、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターン形成された放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、
可動オブジェクトの位置を測定する位置測定システムと、を備え、
前記位置測定システムは、請求項10から12の何れか一項に記載の位置測定システムである、
リソグラフィ装置。
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