TWI447534B - 平台系統校準方法、平台系統、具有該平台系統之微影裝置及相關電腦程式產品 - Google Patents

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TWI447534B
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Description

平台系統校準方法、平台系統、具有該平台系統之微影裝置及相關電腦程式產品
本發明係關於一種用以校準平台之編碼器位置量測系統的校準方法、一種平台系統及一種包含該平台系統之微影裝置。
微影裝置為將所要圖案施加至基板上(通常施加至基板之目標部分上)的機器。微影裝置可用於(例如)積體電路(IC)之製造中。在該情況下，圖案化器件(其或者被稱作光罩或主光罩)可用以產生待形成於IC之個別層上的電路圖案。可將此圖案轉印至基板(例如，矽晶圓)上之目標部分(例如，包括晶粒之一部分、一個晶粒或若干晶粒)上。圖案之轉印通常係經由成像至提供於基板上之輻射敏感材料(抗蝕劑)層上。一般而言，單一基板將含有經順次圖案化之鄰近目標部分的網路。習知微影裝置包括：所謂的步進器，其中藉由一次性將整個圖案曝光至目標部分上來照射每一目標部分；及所謂的掃描器，其中藉由在給定方向(「掃描」方向)上經由輻射光束而掃描圖案同時平行或反平行於此方向而同步地掃描基板來照射每一目標部分。亦有可能藉由將圖案壓印至基板上而將圖案自圖案化器件轉印至基板。
在微影術中，可使用編碼器系統以量測平台之位置。另外，可提供安裝至微影裝置之參考結構的格線板。可藉由連接至平台之感測器頭來採取量測。可使用(例如)藉由具有斜入射角之量測光束與光柵之相互作用而在兩個尺度上展示敏感度之感測器頭，藉此提供在兩個尺度上展現對平台之移動之敏感度的單一輸出信號。藉由使該等感測器頭中之兩者的輸出信號適當地組合(例如，相加、相減)等等，可獲得關於在一尺度上以及在另一尺度上之位移的資訊。
藉由光柵之圖案之精確度及重複精確度而部分地判定該編碼器位置感測器之精確度。為了減少由光柵之該等不精確度所產生之誤差，可執行校準。另外，使平台(例如)在恆定速度下相對於光柵而移動。應用低頻寬控制器以控制平台之移動。控制器之低頻寬將導致用以使平台遵循格線中之不規則性的回饋校正緩慢。藉由量測低頻寬控制器之輸入信號，獲得關於在某一頻率範圍內光柵之不精確度的資訊。可接著應用此資訊以填充校準映像。
然而，校準可易於干擾，諸如，藉由附著至平台之電纜等等的干擾力、藉由驅動平台之線性馬達之鑲齒效應的干擾力，等等。藉由使用以上校準技術，格線誤差以及其他干擾將導致平台位置之不精確度。因此，該校準之精確度可為有限的。
需要提供編碼器平台位置量測之校準的精確度。
根據本發明之一實施例，提供一種用以校準平台之編碼器位置量測系統的校準方法，編碼器位置量測系統包括編碼器格線及與編碼器格線協作之至少兩個感測器頭，每一感測器頭提供展示在水平方向及垂直方向上之位置敏感度的感測器頭輸出信號，方法包括：移動平台，使得感測器頭相對於編碼器格線而移動，或反之亦然；在移動期間，使用編碼器格線及感測器頭而量測平台之位置；c)自感測器頭之感測器頭輸出信號而判定垂直位置資料映像；d)自垂直位置資料映像而計算水平位置資料映像；及e)基於經計算水平位置資料映像而校準編碼器位置量測系統。
在本發明之另一實施例中，提供一種平台系統，平台系統包括：可移動平台；量測系統，量測系統經組態以提供平台之位置的量測，量測系統包括編碼器格線及與編碼器格線協作之至少兩個感測器頭，每一感測器頭提供指示在水平方向及垂直方向上之位置敏感度的感測器頭輸出信號；及控制器，控制器用以控制平台之位置，控制器經組態以：自感測器頭之感測器頭輸出信號而判定垂直位置資料映像；自垂直位置資料映像而計算水平位置資料映像；及基於經計算水平位置資料映像而校準量測系統。
根據本發明之另一實施例，提供一種微影裝置，微影裝置包括：圖案化器件支撐件，圖案化器件支撐件經建構以支撐圖案化器件，圖案化器件能夠在輻射光束之橫截面中向輻射光束賦予圖案以形成經圖案化輻射光束；基板支撐件，基板支撐件經建構以固持基板；投影系統，投影系統經組態以將經圖案化輻射光束投影至基板之目標部分上；及平台系統，平台系統經組態以移動支撐件中之一者，平台系統包括：可移動平台；量測系統，量測系統經組態以提供平台之位置的量測，量測系統包含編碼器格線及與編碼器格線協作之至少兩個感測器頭，每一感測器頭提供指示在水平方向及垂直方向上之位置敏感度的感測器頭輸出信號；及控制器，控制器經組態以校準量測系統，控制器經組態以：a)自感測器頭之感測器頭輸出信號而判定垂直位置資料映像；b)自垂直位置資料映像而計算水平位置資料映像；及c)基於經計算水平位置資料映像而校準量測系統。
根據本發明之一實施例，提供一種具有機器可執行指令之電腦產品，指令可由機器執行以執行用於校準平台之編碼器位置量測系統的方法，編碼器位置量測系統包含編碼器格線及與編碼器格線協作之至少兩個感測器頭，每一感測器頭提供指示在水平方向及垂直方向上之位置敏感度的感測器頭輸出信號，方法包括：移動平台，使得感測器頭相對於編碼器格線而移動，或反之亦然；在移動期間，使用編碼器格線及感測器頭而量測平台之位置；自感測器頭之感測器頭輸出信號而判定垂直位置資料映像；自垂直位置資料映像而計算水平位置資料映像；及基於經計算水平位置資料映像而校準編碼器位置量測系統。
現將參看隨附示意性圖式而僅藉由實例來描述本發明之實施例，在該等圖式中，對應參考符號指示對應部分。
圖1示意性地描繪根據本發明之一實施例的微影裝置。裝置包括：照明系統(照明器)IL，其經組態以調節輻射光束B(例如，UV輻射或任何其他適當輻射)；圖案化器件支撐件或支撐結構(例如，光罩台)MT，其經建構以支撐圖案化器件(例如，光罩)MA且連接至經組態以根據某些參數來精確地定位圖案化器件之第一定位器件PM。裝置亦包括基板台(例如，晶圓台)WT或「基板支撐件」，其經建構以固持基板(例如，塗覆抗蝕劑之晶圓)W且連接至經組態以根據某些參數來精確地定位基板之第二定位器件PW。裝置進一步包括投影系統(例如，折射投影透鏡系統)PS，其經組態以將由圖案化器件MA賦予至輻射光束B之圖案投影至基板W之目標部分C(例如，包括一或多個晶粒)上。
照明系統可包括用於引導、成形或控制輻射之各種類型的光學組件，諸如，折射、反射、磁性、電磁、靜電或其他類型之光學組件，或其任何組合。
圖案化器件支撐件以視圖案化器件之定向、微影裝置之設計及其他條件(諸如，圖案化器件是否固持於真空環境中)而定的方式來固持圖案化器件。圖案化器件支撐件可使用機械、真空、靜電或其他夾持技術來固持圖案化器件。圖案化器件支撐件可為(例如)框架或台，其可根據需要而為固定或可移動的。圖案化器件支撐件可確保圖案化器件(例如)相對於投影系統而處於所要位置。可認為本文對術語「主光罩」或「光罩」之任何使用均與更通用之術語「圖案化器件」同義。
本文所使用之術語「圖案化器件」應被廣泛地解釋為指代可用以在輻射光束之橫截面中向輻射光束賦予圖案以便在基板之目標部分中形成圖案的任何器件。應注意，例如，若被賦予至輻射光束之圖案包括相移特徵或所謂的輔助特徵，則圖案可能不會精確地對應於基板之目標部分中的所要圖案。通常，被賦予至輻射光束之圖案將對應於目標部分中所形成之器件(諸如，積體電路)中的特定功能層。
圖案化器件可為透射或反射的。圖案化器件之實例包括光罩、可程式化鏡面陣列，及可程式化LCD面板。光罩在微影術中為熟知的，且包括諸如二元交變相移及衰減相移之光罩類型，以及各種混合光罩類型。可程式化鏡面陣列之一實例使用小鏡面之矩陣配置，該等小鏡面中之每一者可個別地傾斜，以便在不同方向上反射入射輻射光束。傾斜鏡面將圖案賦予於由鏡面矩陣所反射之輻射光束中。
本文所使用之術語「投影系統」應被廣泛地解釋為涵蓋任何類型之投影系統，包括折射、反射、反射折射、磁性、電磁及靜電光學系統或其任何組合，其適合於所使用之曝光輻射，或適合於諸如浸沒液體之使用或真空之使用的其他因素。可認為本文對術語「投影透鏡」之任何使用均與更通用之術語「投影系統」同義。
如此處所描繪，裝置為透射類型(例如，使用透射光罩)。或者，裝置可為反射類型(例如，使用如以上所提及之類型的可程式化鏡面陣列，或使用反射光罩)。
微影裝置可為具有兩個(雙平台)或兩個以上基板台或「基板支撐件」(及/或兩個或兩個以上光罩台或「光罩支撐件」)的類型。在該等「多平台」機器中，可並行地使用額外台或支撐件，或可在一或多個台或支撐件上進行預備步驟，同時將一或多個其他台或支撐件用於曝光。
微影裝置亦可為如下類型：其中基板之至少一部分可由具有相對較高折射率之液體(例如，水)覆蓋，以便填充投影系統與基板之間的空間。亦可將浸沒液體施加至微影裝置中之其他空間，例如，光罩與投影系統之間。浸沒技術可用以增加投影系統之數值孔徑。如本文所使用之術語「浸沒」不意謂諸如基板之結構必須浸漬於液體中，而是僅意謂液體在曝光期間位於投影系統與基板之間。
參看圖1，照明器IL自輻射源SO接收輻射光束。舉例而言，當輻射源為準分子雷射時，輻射源與微影裝置可為單獨實體。在該等情況下，不認為輻射源形成微影裝置之一部分，且輻射光束借助於包括(例如)適當引導鏡面及/或光束放大器之光束傳送系統BD而自輻射源SO傳遞至照明器IL。在其他情況下，例如，當輻射源為汞燈時，輻射源可為微影裝置之整體部分。輻射源SO及照明器IL連同光束傳送系統BD(在需要時)可被稱作輻射系統。
照明器IL可包括經組態以調整輻射光束之角強度分布的調整器AD。通常，可調整照明器之瞳孔平面中之強度分布的至少外部徑向範圍及/或內部徑向範圍(通常分別被稱作σ外部及σ內部)。此外，照明器IL可包括各種其他組件，諸如，積光器IN及聚光器CO。照明器可用以調節輻射光束，以在其橫截面中具有所要均一性及強度分布。
輻射光束B入射於被固持於圖案化器件支撐件(例如，光罩台)MT上之圖案化器件(例如，光罩)MA上，且由圖案化器件圖案化。在橫穿圖案化器件(例如，光罩)MA後，輻射光束B穿過投影系統PS，投影系統PS將光束聚焦至基板W之目標部分C上。借助於第二定位器件PW及位置感測器IF(例如，干涉量測器件、線性編碼器或電容性感測器)，基板台WT可精確地移動，例如，以便在輻射光束B之路徑中定位不同目標部分C。類似地，第一定位器件PM及另一位置感測器(其未在圖1中被明確地描繪)可用以(例如)在自光罩庫之機械擷取之後或在掃描期間相對於輻射光束B之路徑來精確地定位圖案化器件(例如，光罩)MA。一般而言，可借助於形成第一定位器件PM之一部分的長衝程模組(粗略定位)及短衝程模組(精細定位)來實現圖案化器件支撐件(例如，光罩台)MT之移動。類似地，可使用形成第二定位器PW之一部分的長衝程模組及短衝程模組來實現基板台WT或「基板支撐件」之移動。在步進器(與掃描器相對)之情況下，圖案化器件支撐件(例如，光罩台)MT可僅連接至短衝程致動器，或可為固定的。可使用光罩對準標記M1、M2及基板對準標記P1、P2來對準圖案化器件(例如，光罩)MA及基板W。儘管如所說明之基板對準標記佔用專用目標部分，但其可位於目標部分之間的空間中(此等被稱為切割道對準標記)。類似地，在一個以上晶粒提供於光罩MA上之情形中，光罩對準標記可位於該等晶粒之間。
所描繪裝置可用於以下模式中之至少一者中：
1.在步進模式中，在將被賦予至輻射光束之整個圖案一次性投影至目標部分C上時，使圖案化器件支撐件(例如，光罩台)MT或「光罩支撐件」及基板台WT或「基板支撐件」保持基本上靜止(亦即，單重靜態曝光)。接著，使基板台WT或「基板支撐件」在X及/或Y方向上移位，使得可曝光不同目標部分C。在步進模式中，曝光場之最大尺寸限制單重靜態曝光中所成像之目標部分C的尺寸。
2.在掃描模式中，在將被賦予至輻射光束之圖案投影至目標部分C上時，同步地掃描圖案化器件支撐件(例如，光罩台)MT或「光罩支撐件」及基板台WT或「基板支撐件」(亦即，單重動態曝光)。可藉由投影系統PS之放大率(縮小率)及影像反轉特性來判定基板台WT或「基板支撐件」相對於圖案化器件支撐件(例如，光罩台)MT或「光罩支撐件」之速度及方向。在掃描模式中，曝光場之最大尺寸限制單重動態曝光中之目標部分的寬度(在非掃描方向上)，而掃描運動之長度判定目標部分之高度(在掃描方向上)。
3.在另一模式中，在將被賦予至輻射光束之圖案投影至目標部分C上時，使圖案化器件支撐件(例如，光罩台)MT或「光罩支撐件」保持基本上靜止，從而固持可程式化圖案化器件，且移動或掃描基板台WT或「基板支撐件」。在此模式中，通常使用脈衝式輻射源，且在基板台WT或「基板支撐件」之每一移動之後或在掃描期間的順次輻射脈衝之間根據需要而更新可程式化圖案化器件。此操作模式可易於應用於利用可程式化圖案化器件(諸如，如以上所提及之類型的可程式化鏡面陣列)之無光罩微影術。
亦可使用對以上所描述之使用模式之組合及/或變化或完全不同的使用模式。
圖2描繪包括兩個感測器頭SH1、SH2及格線板之編碼器，編碼器用以量測感測器頭SH1、SH2相對於格線板GP之位置，或反之亦然。在此實例中，應用增量編碼器，其在相對於格線板而移動感測器頭時提供週期性感測器頭輸出信號。可自感測器頭之對應感測器頭輸出信號的週期性及相位而獲得位置資訊。在所示實施例中，描繪包括兩個感測器頭之感測器頭總成，每一感測器頭朝向格線板發射各別量測光束MB1、MB2。歸因於與格線板上之圖案(其可為一維或二維)的相互作用，光束在一角度下朝向感測器頭返回(如圖2示意性地所描繪)且由感測器頭之適當偵測器偵測。因此，感測器頭提供兩個量測，即，在格線板GP上之A處及B處。量測中之每一者提供在水平方向上以及在垂直方向上之敏感度。感測器頭中之左邊一者的敏感度係由向量ea示意性地指示，而感測器頭中之右邊一者的敏感度係由eb示意性地指示。在本實際實施例中，ea及eb相對於水平面之角度將較小(比圖2所指示的小)。事實上，出於說明性目的而稍微誇示ea及eb相對於水平面之角度。現可自ea與eb之相加而獲得水平位置之量測。如在以下表達式中所概述，可自ea與eb之相減而獲得垂直位置之量測。
其中ey及ez表示各別水平及垂直編碼器位置資訊。
如圖2所描繪之編碼器可形成平台系統之一部分(諸如，微影裝置之基板平台或圖案化器件平台)。可歸因於許多原因(諸如，格線之表面之不規則性、圖案之偏差，等等)而出現格線中之誤差。亦可重複地找到誤差之原因：因為可藉由順次(例如，相同)圖案部分之重複過程而將格線之圖案提供至格線板上，該製造過程可提供複數個誤差。
在圖2之實施例中，感測器頭SH1、SH2耦接至可移動平台，且格線板GP為大體上靜止的。然而，應瞭解，在本發明之另一實施例中，格線板GP可耦接至平台。在此後者組態中，感測器頭SH1、SH2為靜止的。
可執行校準，以便考慮到該等或其他誤差。另外，使平台(例如)在恆定速度下相對於光柵而移動。應用低頻寬控制器以控制平台之移動。控制器之低頻寬將導致用以使平台遵循格線中之不規則性的回饋校正緩慢。藉由量測低頻寬控制器之輸入信號，獲得關於在某一頻率範圍內光柵之不精確度的資訊。可接著應用此資訊以提供校準映像。在較早實施例中，自如自ea與eb之和所獲得之以上ey資訊而導出水平位置校準映像(例如，在y方向上)。然而，如以下將更詳細地解釋，根據本發明之一實施例，應用垂直位置資料以計算水平(Y方向)格線板誤差。
當執行以上校準時，在Y及Z座標中量測格線板偏差，因為可自藉由兩個感測器頭之量測而導出y及z位置資訊兩者。然而，發明者已認識到，兩個偏差均可主要地由格線板中之水平誤差導致，而非由垂直(平坦度)誤差導致。此外，發明者已認識到，因為A及B處之量測定位於格線板上之不同位置處，所以在A及B中不同之水平誤差將在Z及Y兩者中終止。因此，Z映像可能偏離於非零，但格線板自身可能不具有顯著Z誤差。
此外，發明者已認識到，在校準期間，在水平(Y)方向上之信號雜訊比可能偏離於在垂直(Z)方向上之信號雜訊比，因為出於兩個原因而使經量測Y誤差可能比Z誤差難以量測。第一，水平平台行為可部分地藉由馬達(諸如，平台之可寄生地影響平台之短衝程馬達的長衝程馬達)中之鑲齒效應而視方向而定。此效應可僅存在於水平方向上。此外，在平台上(例如)藉由附著至其之電纜或管道之干擾力可大體上在水平方向上。第二，對於雜訊之在Y中之敏感度可大於在Z中之敏感度，因為在位置量測自身中之Z敏感度可歸因於向量ea及eb之方向而大於在Y中之敏感度。
根據本發明之一實施例的校準方法可經描述為一種用以校準平台之編碼器位置量測系統的校準方法，編碼器位置量測系統包括編碼器格線及與編碼器格線協作之兩個感測器頭，每一感測器頭提供展示在水平方向及垂直方向上之位置敏感度的感測器頭輸出信號，方法包括：a)移動平台，藉此相對於編碼器格線而移動兩個感測器頭；b)在移動期間，藉由兩個感測器頭而量測平台相對於編碼器格線之位置；c)自雙感測器頭之感測器頭輸出信號而判定垂直位置資料映像；d)自垂直位置資料映像而計算水平位置資料映像；及e)應用經計算水平位置資料映像而校準編碼器位置量測系統。在c)中，自在垂直方向上之位置敏感度(亦即，自由感測器頭所提供之垂直位置資訊)而判定垂直位置資料映像。
應瞭解，使用控制器或控制系統而執行校準方法。控制器操作性地耦接至感測器頭SH1、SH2以執行校準。控制器亦可包括計算器以判定位置資料映像且執行所有所要程序(例如，感測器頭之計算及控制)以執行校準。
因此，根據本發明之一實施例，應用垂直位置資料以計算水平(Y方向)格線板誤差。結果，所得水平校準可因為對雜訊及水平掃描效應較不敏感而為更精確的。
在一實施例中，如圖3所說明，當量測位置(x1、y1)中之Y及Z誤差時，使用來自光點A1及B1之資訊。現在，如在圖4中，當編碼器沿著線A1-B1自(x1、y1)移位至(x2、y2)時，可見，在位置(x1、y1)中，光點B1精確地位於與光點A2(其與(x2、y2)中之量測相關)相同的位置中。因此，若已知在完整格線板上之所有A量測，則可易於藉由在B1-A1之方向上的距離d內移位A映像(含有A量測)而重新建構B量測。此外，因為Z基本上為A與B之間的差，所以當已知A1及Z(x1、y1)時，可計算B1(且因此可計算A2)。因此，自經量測Z映像及起始點A1，可計算與A1-B1等等成一直線之所有A點。自此A映像，可藉由在距離d內移位A而計算B映像。組合此等A與B映像會藉由使A與B映像基本上相加而提供Y映像。
根據此實施例，自Z而計算Y包括：
1.藉由使用Y及Z資料而計算板之邊緣處之區域中之A的起始值(需要此程序以形成以下計算之起始值)。自此等A起始值及Z量測資料，藉由使用下式而計算A值之下一層(進一步沿著對角線之距離d)：
e a 2 =e b 1 =e a 1 -2qZ 。
2.當以此方式而找到完整A映像時，可藉由沿著對角線在距離d內移位A映像而形成對應B映像。
3.藉由使用下式而計算Y映像：
在以上表達式中，p及q為考慮到ea及eb之角度的常數。可將向量ea相對於水平面之角度φ設定至φ=py+qz。因為ea及eb之方向與朝向垂直面相比更朝向水平面，所以p>q。當感測器頭回應於格線相對於感測器頭之位移而偵測相移時，可以每奈米(nm)之弧度(rad)來表達p及q。在一實施例中，p可為約1/100弧度/奈米，而q可為約1/1000弧度/奈米。
可描述以上程序，此在於：在根據本發明之一實施例的校準方法中，d)包括：d1)自垂直位置資料映像中之對應垂直位置資料點及初始水平位置資料點而計算起始點處之感測器頭量測值；d2)自經計算感測器頭量測值及垂直位置資料映像中之對應垂直位置資料而計算後續感測器頭量測值；d3)針對每一後續感測器頭量測值而重複d2)；及d4)自經計算感測器頭量測值而判定經計算水平位置資料映像。
在一實施例中，針對相反計算方向而重複d1至d3(例如，在以上實例中，代替右下角而自左上角)，且平均化因此針對相反方向所獲得之經計算水平位置資料映像。藉此，可獲得更精確校準。
在一實施例中，可在大體上垂直於計算方向之方向上(亦即，在圖3及圖4中在大體上垂直於線d之方向上)將低通濾波器應用於經計算水平位置資料映像上；此可濾波無用資訊，藉此改良校準精確度。
現將參看圖5來描述根據本發明之校準的另一實施例。圖5描繪由編碼器感測器頭所獲得之量測結果的圖形視圖，如沿著圖4中之線d所見。圖5中之水平軸線表示沿著線d之點。由感測器頭所獲得之量測結果之間的關係現可表達為延遲，此導致濾波等值：A =z -d B ，其中A及B表示藉由感測器頭之量測。藉由針對Z及Y而使用公式，可接著將此等之間的濾波關係寫為：
應注意，延遲運算子z視位置而定，換言之，形成「空間延遲」。因此，沿著對角線A-B，可使用此濾波器自Z而直接計算Y。無需首先計算A及B；然而，需要使用濾波器初始條件以匹配於邊緣處之經量測Y。類似於第一方法，基於逐線基礎自Z而計算Y，且因此，可在垂直方向上需要額外低通濾波。應注意，d可為非整數，其需要此濾波器之略微修改之版本：
其中將延遲表達為d =l +α，其中1為整數。
在以上校準中之任一者的另一實施例中，直接自雙感測器頭之如在平台之移動期間所獲得之感測器頭輸出信號(感測器頭輸出信號之水平部分)而判定另一水平位置資料映像，組合另一水平位置資料映像與經計算水平位置資料映像，且利用經組合水平位置資料映像而執行校準編碼器位置量測系統。藉此，當組合應用來自感測器頭之水平位置資料之先前應用的校準與如以上所描述之校準時，可提供校準誤差之平均化，其中應用垂直位置資料以自此導出水平位置。
儘管在此本文中可特定地參考微影裝置在IC製造中之使用，但應理解，本文所描述之微影裝置可具有其他應用，諸如，製造積體光學系統、用於磁域記憶體之導引及偵測圖案、平板顯示器、液晶顯示器(LCD)、薄膜磁頭，等等。熟習此項技術者應瞭解，在該等替代應用之情境中，可認為本文對術語「晶圓」或「晶粒」之任何使用分別與更通用之術語「基板」或「目標部分」同義。可在曝光之前或之後在(例如)軌道(通常將抗蝕劑層施加至基板且顯影經曝光抗蝕劑之工具)、度量衡工具及/或檢測工具中處理本文所提及之基板。適用時，可將本文之揭示應用於該等及其他基板處理工具。另外，可將基板處理一次以上，(例如)以便形成多層IC，使得本文所使用之術語基板亦可指代已經含有多個經處理層之基板。
儘管以上可特定地參考在光學微影術之情境中對本發明之實施例的使用，但應瞭解，本發明可用於其他應用(例如，壓印微影術)中，且在情境允許時不限於光學微影術。在壓印微影術中，圖案化器件中之構形界定形成於基板上之圖案。可將圖案化器件之構形壓入被供應至基板之抗蝕劑層中，在基板上，抗蝕劑藉由施加電磁輻射、熱、壓力或其組合而固化。在抗蝕劑固化之後，將圖案化器件移出抗蝕劑，從而在其中留下圖案。
本文所使用之術語「輻射」及「光束」涵蓋所有類型之電磁輻射，包括紫外線(UV)輻射(例如，具有為或為約365奈米、248奈米、193奈米、157奈米或126奈米之波長)及遠紫外線(EUV)輻射(例如，具有在為5奈米至20奈米之範圍內的波長)；以及粒子束(諸如，離子束或電子束)。
術語「透鏡」在情境允許時可指代各種類型之光學組件之任一者或組合，包括折射、反射、磁性、電磁及靜電光學組件。
儘管以上已描述本發明之特定實施例，但應瞭解，可以與所描述之方式不同的其他方式來實踐本發明。舉例而言，本發明可採取如下形式：電腦程式，其含有描述如以上所揭示之方法之機器可讀指令的一或多個序列；或資料儲存媒體(例如，半導體記憶體、磁碟或光碟)，其具有儲存於其中之該電腦程式。
以上描述意欲為說明性而非限制性的。因此，對於熟習此項技術者而言將顯而易見的為，可在不脫離以下所闡明之申請專利範圍之範疇的情況下對如所描述之本發明進行修改。
A．．．點/量測
A1．．．光點
A2．．．光點
AD．．．調整器
B．．．輻射光束
B1．．．光點
BD．．．光束傳送系統
C．．．目標部分
CO．．．聚光器
d．．．距離
ea．．．向量
eb．．．向量
GP．．．格線板
IF．．．位置感測器
IL．．．照明器
IN．．．積光器
M1．．．光罩對準標記
M2．．．光罩對準標記
MA．．．圖案化器件
MB1．．．量測光束
MB2．．．量測光束
MT．．．圖案化器件支撐件
P1．．．基板對準標記
P2．．．基板對準標記
PM．．．第一定位器件
PS．．．投影系統
PW．．．第二定位器件
SH1．．．感測器頭
SH2．．．感測器頭
SO．．．輻射源
W．．．基板
WT．．．基板台
X．．．方向
x1．．．量測位置
Y．．．方向
y1．．．量測位置
Z．．．方向
圖1描繪可提供本發明之一實施例的微影裝置；
圖2描繪可應用根據本發明之一實施例之校準之編碼器位置量測系統的示意性側視圖；
圖3描繪在格線上藉由根據圖2之編碼器位置量測系統之量測點的示意性俯視圖；
圖4描繪執行根據本發明之一實施例之校準之計算步驟的順次點的示意性表示；且
圖5描繪根據本發明之一實施例之編碼器量測結果的圖形表示。
A．．．點/量測
B．．．輻射光束
ea．．．向量
eb．．．向量
GP．．．格線格
MB1．．．量測光束
MB2．．．量測光束
SH1．．．感測器頭
SH2．．．感測器頭
X．．．方向

Claims (19)

  1. 一種用以校準一平台之一編碼器位置量測系統的校準方法，該編碼器位置量測系統包含一編碼器格線(grid)及與該編碼器格線協作(cooperating)之至少兩個感測器頭，每一感測器頭提供指示在一水平方向及一垂直方向上之一位置敏感度的一感測器頭輸出信號，該方法包含：移動該平台，使得該等感測器頭相對於該編碼器格線而移動，或反之亦然；在該移動期間，使用該編碼器格線及該等感測器頭而量測該平台之一位置；自該等感測器頭之感測器頭輸出信號而判定一垂直位置資料映像(map)；自該垂直位置資料映像而計算一水平位置資料映像；及基於該經計算水平位置資料映像而校準該編碼器位置量測系統。
  2. 如請求項1之校準方法，其中該平台之該位置受控於一平台控制器，該平台控制器經提供具有該平台之該經量測位置的一回饋信號，由該平台控制器所形成之一控制迴路具有一低頻寬以提供該平台之相對於該編碼器格線中之間距誤差暫態為緩慢的一回應。
  3. 如請求項1之校準方法，其中計算該水平資料映像包含：(a)自該垂直位置資料映像中之一對應垂直位置資料點及一初始水平位置資料點而計算一起始點處之一感測器 頭量測值；(b)自該經計算感測器頭量測值及/或一先前計算之感測器頭量測值以及該垂直位置資料映像中之一對應垂直位置資料而計算複數個後續感測器頭量測值；及(c)自該等經計算感測器頭量測值而判定該經計算水平位置資料映像。
  4. 如請求項3之校準方法，其包含針對該垂直位置資料映像中之一相反計算方向而重複(a)至(b)，且平均化針對該等相反方向所獲得之該等經計算水平位置資料映像。
  5. 如請求項3之校準方法，其包含在大體上垂直於該垂直位置資料映像中之該計算方向的一方向上將一低通濾波器應用於該經計算水平位置資料映像上。
  6. 如請求項1之校準方法，其中計算該水平位置資料映像包含藉由一濾波器而濾波該垂直位置資料映像以形成該水平位置資料映像，該濾波器包含一空間延遲運算子以在該編碼器格線上之一相同光點處提供一量測時表示該兩個感測器頭之間的一空間距離。
  7. 如請求項6之校準方法，其進一步包含應用濾波器初始條件以匹配於該編碼器格線之一邊緣處的該水平位置資料映像。
  8. 如請求項6之校準方法，其進一步包含在大體上垂直於如應用於該垂直位置資料映像上之該濾波方向的一方向上將一低通濾波器應用於該經獲得水平位置資料映像上。
  9. 如請求項1之校準方法，其中自如在該平台之該移動期間所獲得之該等感測器頭輸出信號而判定一另一水平位置資料映像，組合該另一水平位置資料映像與該經計算水平位置資料映像，且利用該等經組合水平位置資料映像而執行該校準該編碼器位置量測系統。
  10. 如請求項1之校準方法，其中在判定該垂直位置映像的過程中，自由該等感測器頭所提供之一垂直位置資訊而判定該垂直位置資料映像。
  11. 一種平台系統，其包含：一可移動平台；一量測系統，該量測系統經組態以提供該平台之一位置的一量測，該量測系統包含一編碼器格線及與該編碼器格線協作之兩個感測器頭，每一感測器頭提供指示在一水平方向及一垂直方向上之一位置敏感度的一感測器頭輸出信號；及一控制器，該控制器經組態以校準該量測系統，該控制器經組態以：自該等感測器頭之感測器頭輸出信號而判定一垂直位置資料映像；自該垂直位置資料映像而計算一水平位置資料映像；及基於該經計算水平位置資料映像而校準該量測系統。
  12. 如請求項11之平台系統，其中該控制器經進一步組態 以：移動該平台，使得該等感測器頭相對於該編碼器格線而移動，或反之亦然；及在該移動期間，控制該量測系統以使用該編碼器格線及該等感測器頭而量測該平台之一位置。
  13. 一種微影裝置，其包含：一圖案化器件支撐件，該圖案化器件支撐件經建構以支撐一圖案化器件，該圖案化器件能夠在一輻射光束之橫截面中向該輻射光束賦予一圖案以形成一經圖案化輻射光束；一基板支撐件，該基板支撐件經建構以固持一基板；一投影系統，該投影系統經組態以將該經圖案化輻射光束投影至該基板之一目標部分上；及一平台系統，該平台系統經組態以移動該等支撐件中之一者，該平台系統包含：一可移動平台；一量測系統，該量測系統經組態以提供該平台之一位置的一量測，該量測系統包含一編碼器格線及與該編碼器格線協作之至少兩個感測器頭，每一感測器頭提供指示在一水平方向及一垂直方向上之一位置敏感度的一感測器頭輸出信號；及一控制器，該控制器用以校準該量測系統，該控制器經組態以：自該兩個感測器頭之感測器頭輸出信號而判定一垂直位置資料映像； 自該垂直位置資料映像而計算一水平位置資料映像；及基於該經計算水平位置資料映像而校準該量測系統。
  14. 如請求項13之微影裝置，其中該控制器經進一步組態以：移動該平台，使得該等感測器頭相對於該編碼器格線而移動，或反之亦然；及在該移動期間，控制該量測系統以使用該編碼器格線及該等感測器頭而量測該平台之一位置。
  15. 一種具有機器可執行指令之電腦程式產品，該等指令可由一機器執行以執行一用於校準一平台之一編碼器位置量測系統的方法，該編碼器位置量測系統包含一編碼器格線及與該編碼器格線協作之至少兩個感測器頭，每一感測器頭提供指示在一水平方向及一垂直方向上之一位置敏感度的一感測器頭輸出信號，該方法包含：移動該平台，使得該等感測器頭相對於該編碼器格線而移動，或反之亦然；在該移動期間，使用該編碼器格線及該等感測器頭而量測該平台之一位置；自該等感測器頭之感測器頭輸出信號而判定一垂直位置資料映像；自該垂直位置資料映像而計算一水平位置資料映像；及基於該經計算水平位置資料映像而校準該編碼器位置量測系統。
  16. 如請求項15之產品，其中計算該水平資料映像包含：(a)自該垂直位置資料映像中之一對應垂直位置資料點及一初始水平位置資料點而計算一起始點處之一感測器頭量測值；(b)自該經計算感測器頭量測值及/或一先前計算之感測器頭量測值以及該垂直位置資料映像中之一對應垂直位置資料而計算複數個後續感測器頭量測值；及(c)自該等經計算感測器頭量測值而判定該經計算水平位置資料映像。
  17. 如請求項16之產品，其包含針對該垂直位置資料映像中之一相反計算方向而重複(a)至(b)，且平均化針對該等相反方向所獲得之該等經計算水平位置資料映像。
  18. 如請求項16之產品，其包含在大體上垂直於該垂直位置資料映像中之該計算方向的一方向上將一低通濾波器應用於該經計算水平位置資料映像上。
  19. 如請求項16之產品，其中計算該水平位置資料映像包含藉由一濾波器而濾波該垂直位置資料映像以形成該水平位置資料映像，該濾波器包含一空間延遲運算子以在該編碼器格線上之一相同光點處提供一量測時表示該兩個感測器頭之間的一空間距離。
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