JP5447388B2 - 誤差補償付きオートフォーカスシステム - Google Patents
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Description
本願は、2007年11月28日に出願された「オートフォーカス誤差補償スキーム(AUTOFOCUS ERROR COMPENSATION SCHEME)」と題する仮出願第61/004,527号の優先権を主張している。許容される範囲において、仮出願第61/004,527号の内容をここに援用して本文の記載の一部とする。
本実施形態では、例えば、ワークピース200は露光装置10(図1に表示)により処理されているウエハ28(図1に表示)にすることができる。さらに、本実施形態では、オートフォーカスシステム222Cは、ウエハ28のZ軸沿いの位置を監視する測定系22(図1に表示)の一部とすることができる。あるいは、ワークピース200は、ステージアセンブリにより位置付けられる別の種類のデバイスにすることもできる。例えば、ワークピース200はレチクル26(図1に表示)でもよく、レチクル26のZ軸沿いの位置を監視するためにオートフォーカスシステム222Cを使用することができる。あるいは、オートフォーカスシステム222Cは、製造及び/または検査の間、他の種類のワークピース200の位置を監視するために使用することができる。
Claims (17)
- 第1スリット領域を含むワークピースに交差する方向の軸に沿った前記ワークピースの位置を測定するオートフォーカスシステムであって、
前記ワークピースの前記第1スリット領域に第1スリット光を向けるスリット光源アセンブリ、
前記第1スリット領域から反射した光を検出し、前記第1スリット領域から反射した光の量に関連する第1スリット信号を生成するスリット検出器アセンブリ、
前記第1スリット領域の前記反射に関する第1反射情報を生成する反射測定系、
及び、
前記スリット検出器アセンブリからの前記第1スリット信号及び前記第1スリット領域の前記第1反射情報を用いて、前記軸に沿った前記ワークピースの位置を決定する制御系を含み、
前記反射測定系は、前記第1スリット領域から反射した光を複数のサブスリットに分割して検出し、前記複数のサブスリットごとの複数の反射情報を、前記第1反射情報として生成する前記オートフォーカスシステム。 - 前記反射測定系が領域型検出器を含む、請求項1に記載のオートフォーカスシステム。
- 前記領域型検出器が電荷結合素子である、請求項2に記載のオートフォーカスシステム。
- 前記制御系が、前記スリット検出器アセンブリからの前記第1スリット信号の補償因子として前記第1反射情報を使用する、請求項1に記載のオートフォーカスシステム。
- (i)前記スリット光源アセンブリが、第2スリット光を前記ワークピースの第2スリット領域に向け、(ii)前記スリット検出器アセンブリが、第2スリット領域から反射した光を検出し、前記第2スリット領域から反射した光の量に関連する第2スリット信号を前記スリット検出器アセンブリにて生成し、(iii) 前記制御系が、前記スリット検出器アセンブリからの前記スリット信号、前記第1スリット領域からの第1反射情報、及び前記第2スリット領域からの第2反射情報を使用して前記軸に沿った前記ワークピースの位置を決定する、請求項1に記載のオートフォーカスシステム。
- 前記反射測定系は、前記第2スリット領域から反射した光を複数のサブスリットに分割して検出し、前記複数のサブスリットごとの複数の反射情報を、前記第2反射情報として生成する、請求項5に記載のオートフォーカスシステム。
- 前記第1反射情報は前記複数のサブスリットの相対的反射である、請求項1〜6のいずれか一項に記載のオートフォーカスシステム。
- ワークピースを移動させるステージアセンブリであって、前記ワークピースを保持するステージ及び、軸に沿った前記ワークピースの位置を測定する、請求項1から7のいずれか一項に記載の前記オートフォーカスシステムを含むステージアセンブリ。
- 照明系及び、前記照明系に対して前記ステージを移動させる、請求項8に記載の前記ステージアセンブリを含む露光装置。
- 基板を提供する工程及び、請求項9に記載の前記露光装置により前記基板に像を形成する工程を含むデバイス製造方法。
- 第1スリット領域を含むワークピースに交差する方向の軸に沿った前記ワークピースの位置を測定する方法であって、
スリット光源アセンブリで第1スリット光を前記ワークピースの前記第1スリット領域に向ける工程、
前記第1スリット領域から反射した光の量に関連する第1スリット信号を生成するスリット検出器アセンブリにより、前記第1スリット領域から反射した光を検出する工程、
前記第1領域の前記反射を測定する反射測定系で、第1反射情報を生成する工程、
及び
前記スリット検出器アセンブリからの前記第1スリット信号及び前記第1スリット領域の前記第1反射情報を使用する制御系により、前記軸に沿った前記ワークピースの前記位置を決定する前記工程を含み、
前記反射測定系は、前記第1スリット領域から反射した光を複数のサブスリットに分割して検出し、前記複数のサブスリットごとの複数の反射情報を、前記第1反射情報として生成する方法。 - 前記決定をする工程が、前記制御系により、前記第1反射情報を前記スリット検出器アセンブリからの前記第1スリット信号の補償因子として使用することを含む、請求項11に記載の方法。
- さらに、(i)前記スリット光源アセンブリにより、第2スリット光を前記ワークピースの第2スリット領域に向ける工程、及び(ii)前記スリット検出器アセンブリにより、前記第2スリット領域から反射した前記光を検出し、前記第2スリット領域から反射した光の量に関連する第2スリット信号を前記スリット検出器アセンブリにて生成する工程を含み、前記制御系が、前記スリット検出器アセンブリからのスリットデータ、前記第1スリット領域からの第1反射情報、及び前記第2スリット領域からの第2反射情報を使用して前記軸に沿った前記ワークピースの位置を決定する、請求項11に記載の方法。
- 前記反射測定系は、前記第2スリット領域から反射した光を複数のサブスリットに分割して検出し、前記複数のサブスリットごとの複数の反射情報を、前記第2反射情報として生成する、請求項13に記載の方法。
- 前記第1反射情報は前記複数のサブスリットの相対的反射である、請求項11〜14のいずれか一項に記載のオートフォーカスシステム。
- ワークピースを移動させる方法であって、前記ワークピースをステージで保持する工程、ステージムーバアセンブリで前記ステージを移動させる工程、及び請求項11〜14のいずれか一項に記載の方法により前記ワークピースの前記位置を測定する工程を含む、前記ワークピースを移動させる方法。
- デバイスを製造する方法であって、ワークピースを提供する工程、請求項16の方法により前記ワークピースを移動させる工程、及び前記ワークピース上に像を転写する工程を含む、前記デバイスを製造する方法。
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