JP5513658B2 - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
1.リソグラフィ装置で用いる基板ステージであって、
基板を保持する基板テーブルと、
使用中、前記リソグラフィ装置の投影システムに対して前記基板テーブルを位置決めするための位置決めデバイスとを備え、
前記位置決めデバイスは、
前記基板テーブルに設置された第1位置決め部材と、
前記基板テーブルを位置決めするために前記第1位置決め部材と協働する第2位置決め部材であって、サポート構造に設置される第2位置決め部材とを備え、
前記基板ステージは、前記サポート構造に対して実質的に固定された水平位置において前記基板テーブルの底面に垂直力を加えるアクチュエータをさらに備える、基板ステージ。
2.前記アクチュエータは前記サポート構造上に設置される、前記1に記載の基板ステージ。
3.前記アクチュエータは前記第2位置決め部材または第1位置決め部材上に設置される、前記1に記載の基板ステージ。
4.前記アクチュエータは、前記サポート構造に対して実質的に固定された水平位置を維持するように前記第2位置決め部材上に変位可能に設置される、前記1に記載の基板ステージ。
5.前記アクチュエータは、前記サポート構造に対して実質的に固定された位置を有する振動絶縁フレームに設置される、前記1に記載の基板ステージ。
6.前記アクチュエータは、振動絶縁体を介して前記サポート構造または前記第2位置決め部材上に設置される、前記2または3に記載の基板ステージ。
7.前記アクチュエータはローレンツアクチュエータを備える、前記1〜6のうちのいずれかに記載の基板ステージ。
8.前記アクチュエータは、使用中、上方に向いたガス流を提供する、前記1〜6のうちのいずれかに記載の基板ステージ。
9.前記基板テーブルの前記底面の垂直位置を決定するための位置測定システムをさらに備える、前記1〜8のうちのいずれかに記載の基板ステージ。
10.前記垂直位置を表す入力信号を入力端子で受け取り、かつ前記入力信号に基づいて前記アクチュエータを制御する制御ユニットをさらに備える、前記9に記載の基板ステージ。
11.投影システムと前記1〜10のうちのいずれかに記載の基板ステージとを備える、リソグラフィ装置。
12.リソグラフィ装置であって、
放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するサポートと、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターン付きビームを前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムとを備え、
前記装置は、使用中、前記投影システムに対して前記基板テーブルを位置決めするための位置決めデバイスをさらに備え、
前記位置決めデバイスは、
前記基板テーブルに設置された第1位置決め部材と、
前記基板テーブルを位置決めするために前記第1位置決め部材と協働する第2位置決め部材であって、サポート構造に設置される第2位置決め部材とを備え、
前記基板ステージは、前記投影システムの光軸に対して実質的に固定された水平位置において前記基板テーブルの底面に垂直力を加えるアクチュエータをさらに備える、リソグラフィ装置。
13.前記実質的に固定された水平位置は前記投影システムの前記光軸上にある、前記12に記載の装置。
14.前記アクチュエータは、メトロロジフレームなどの振動絶縁フレームに設置される、前記12または13に記載の装置。
15.前記光軸の方向における前記基板テーブルの第1位置を測定するための位置測定システムをさらに備える、前記12〜14のうちのいずれかに記載の装置。
16.前記位置測定システムは、前記光軸と実質的に直角の方向における前記基板テーブルの第2位置を決定するようにさらに構成される、前記15に記載の装置。
17.前記第1位置を表す第1入力信号および前記第2位置を表す第2入力信号を入力端子で受け取り、前記第1入力信号に基づいて前記アクチュエータを制御し、さらに前記第2入力信号に基づいて前記位置決めデバイスを制御する制御ユニットをさらに備える、前記16に記載の装置。
18.前記位置測定システムは、前記基板テーブルの前記底面に設置されたエンコーダ格子と、投影システムを支持するメトロロジフレームに設置された、前記第1位置および前記第2位置を決定するために該エンコーダ格子と協働するエンコーダヘッドとを備える、前記17に記載の装置。
19.前記第1位置決め部材は前記基板テーブルを位置決めするためのさらなる位置決めデバイスを備える、前記12〜18のうちのいずれかに記載の装置。
20.前記アクチュエータは、前記さらなる位置決めデバイスに力を加えることによって前記底面に前記垂直力を加える、前記19に記載の装置。
21.デバイス製造方法であって、
投影システムに対して基板を位置決めすることと、
パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影することとを含み、
前記基板を位置決めするステップは、
基板テーブルに設置された第1位置決め部材と、前記基板テーブルを位置決めするために前記第1位置決め部材と協働する、サポート構造に設置された第2位置決め部材とを備える位置決めデバイスを提供することと、
前記投影システムの光軸に対して実質的に固定された水平位置において前記基板テーブルの底面に垂直力を加えることとを含む、デバイス製造方法。
22.リソグラフィ装置で用いる基板ステージであって、
基板を保持する基板テーブルと、
前記リソグラフィ装置の投影システムに対して前記基板テーブルを位置決めする位置決めデバイスであって、前記基板テーブルに設置された第1位置決め部材と、前記基板テーブルを位置決めするために前記第1位置決め部材と協働する、サポート構造に設置された第2位置決め部材とを備える、位置決めデバイスと、
前記サポート構造に対して実質的に固定された水平位置において前記基板テーブルの底面に垂直力を加えるアクチュエータと、
を備える、基板ステージ。
23.前記アクチュエータは前記サポート構造上に設置される、前記22に記載の基板ステージ。
24.前記アクチュエータは前記第2位置決め部材または前記第1位置決め部材上に設置される、前記22に記載の基板ステージ。
25.前記アクチュエータは、前記サポート構造に対して実質的に固定された水平位置を維持するように前記第2位置決め部材上に変位可能に設置される、前記22に記載の基板ステージ。
26.前記アクチュエータは、前記サポート構造に対して実質的に固定された位置を有する振動絶縁フレームに設置される、前記22に記載の基板ステージ。
27.前記アクチュエータは、振動絶縁体を介して前記サポート構造または前記第2位置決め部材上に設置される、前記23に記載の基板ステージ。
28.前記アクチュエータはローレンツアクチュエータを備える、前記23に記載の基板ステージ。
29.前記アクチュエータは、使用中、上方に向いたガス流を提供する、前記22に記載の基板ステージ。
30.前記基板テーブルの前記底面の垂直位置を決定するための位置測定システムをさらに備える、前記22に記載の基板ステージ。
31.前記垂直位置を表す入力信号を入力端子で受け取り、かつ前記入力信号に基づいて前記アクチュエータを制御する制御ユニットをさらに備える、前記30に記載の基板ステージ。
32.リソグラフィ装置であって、
放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するサポートと、
基板を保持する基板テーブルであって、投影システムの光軸に対して実質的に固定された水平位置において該基板テーブルの底面に垂直力を加えるアクチュエータを備える、基板テーブルと、
前記パターン付きビームを前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、
使用中、前記投影システムに対して前記基板テーブルを位置決めするための位置決めデバイスと備え、
前記位置決めデバイスは、
前記基板テーブルに設置された第1位置決め部材と、
前記基板テーブルを位置決めするために前記第1位置決め部材と協働する、サポート構造に設置された第2位置決め部材とを備える、リソグラフィ装置。
33.前記実質的に固定された水平位置は前記投影システムの光軸上にある、前記32に記載の装置。
34.前記アクチュエータは、メトロロジフレームなどの振動絶縁フレームに設置される、前記32に記載の装置。
35.前記光軸の方向における前記基板テーブルの第1位置を測定する位置測定システムをさらに備える、前記32に記載の装置。
36.前記位置測定システムは、前記光軸と実質的に直角の方向における前記基板テーブルの第2位置を決定するようにさらに構成される、前記35に記載の装置。
37.前記第1位置を表す第1入力信号および前記第2位置を表す第2入力信号を入力端子で受け取り、前記第1入力信号に基づいて前記アクチュエータを制御し、さらに前記第2入力信号に基づいて前記位置決めデバイスを制御する制御ユニットをさらに備える、前記37に記載の装置。
38.前記位置測定システムは、前記基板テーブルの前記底面に設置されたエンコーダ格子と、前記投影システムを支持するメトロロジフレームに設置された、前記第1位置および前記第2位置を決定するために前記エンコーダ格子と協働するエンコーダヘッドとを備える、前記37に記載の装置。
39.前記第1位置決め部材は前記基板テーブルを位置決めするためのさらなる位置決めデバイスを備える、前記32に記載の装置。
40.前記アクチュエータは、前記さらなる位置決めデバイスに力を加えることによって前記底面に前記垂直力を加えるように構成される、前記39に記載の装置。
41.デバイス製造方法であって、
投影システムに対して基板を位置決めすることと、
パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影することとを含み、
前記基板を位置決めすることは、
基板テーブルに設置された第1位置決め部材と、前記基板テーブルを位置決めするために前記第1位置決め部材と協働する、サポート構造に設置された第2位置決め部材とを備える位置決めデバイスを提供することと、
前記投影システムの光軸に対して実質的に固定された水平位置において前記基板テーブルの底面に垂直力を加えることとを含む、デバイス製造方法。
Claims (15)
- リソグラフィ装置で用いる基板ステージであって、
基板を保持する基板テーブルと、
使用中、前記リソグラフィ装置の投影システムに対して前記基板テーブルを位置決めするための位置決めデバイスとを備え、
前記位置決めデバイスは、
前記基板テーブルに設置された第1位置決め部材と、
前記基板テーブルを位置決めするために前記第1位置決め部材と協働する、サポート構造に設置された第2位置決め部材とを備え、
前記基板ステージは、前記サポート構造に対して実質的に固定された水平位置において前記基板テーブルの底面に垂直力を加えるアクチュエータをさらに備える、
基板ステージ。 - 前記アクチュエータは前記サポート構造上に設置される、請求項1に記載の基板ステージ。
- 前記アクチュエータは前記第2位置決め部材または前記第1位置決め部材上に設置される、請求項1に記載の基板ステージ。
- 前記アクチュエータは、前記サポート構造に対して実質的に固定された水平位置を維持するように前記第2位置決め部材上に変位可能に設置される、請求項1に記載の基板ステージ。
- 前記アクチュエータは、前記サポート構造に対して実質的に固定された位置を有する振動絶縁フレームに設置される、請求項1に記載の基板ステージ。
- 前記アクチュエータは、振動絶縁体を介して前記サポート構造または前記第2位置決め部材上に設置される、請求項2または3に記載の基板ステージ。
- 前記アクチュエータは、使用中、上方に向いたガス流を提供する、請求項1〜6のうちのいずれかに記載の基板ステージ。
- デバイス製造方法であって、
投影システムに対して基板を位置決めすることと、
パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影することとを含み、
前記基板を位置決めするステップは、
基板テーブルに設置された第1位置決め部材と、前記基板テーブルを位置決めするために前記第1位置決め部材と協働する、サポート構造に設置された第2位置決め部材とを備える位置決めデバイスを提供することと、
前記投影システムの光軸に対して実質的に固定された水平位置において前記基板テーブルの底面に垂直力を加えることとを含む、デバイス製造方法。 - リソグラフィ装置で用いる基板ステージであって、
基板を保持する基板テーブルと、
前記リソグラフィ装置の投影システムに対して前記基板テーブルを位置決めする位置決めデバイスであって、前記基板テーブルに設置された第1位置決め部材と、前記基板テーブルを位置決めするために前記第1位置決め部材と協働する、サポート構造に設置された第2位置決め部材とを備える、位置決めデバイスと、
前記サポート構造に対して実質的に固定された水平位置において前記基板テーブルの底面に垂直力を加えるアクチュエータと、
を備える、基板ステージ。 - 前記アクチュエータは前記サポート構造上に設置される、請求項9に記載の基板ステージ。
- 前記アクチュエータは前記第2位置決め部材または前記第1位置決め部材上に設置される、請求項9に記載の基板ステージ。
- 前記アクチュエータは、前記サポート構造に対して実質的に固定された水平位置を維持するように前記第2位置決め部材上に変位可能に設置される、請求項9に記載の基板ステージ。
- 前記アクチュエータは、前記サポート構造に対して実質的に固定された位置を有する振動絶縁フレームに設置される、請求項9に記載の基板ステージ。
- リソグラフィ装置であって、
放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するサポートと、
基板を保持する基板テーブルであって、投影システムの光軸に対して実質的に固定された水平位置において該基板テーブルの底面に垂直力を加えるアクチュエータを備える基板テーブルと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、
使用中、前記投影システムに対して前記基板テーブルを位置決めするための位置決めデバイスとを備え、
前記位置決めデバイスは、
前記基板テーブルに設置された第1位置決め部材と、
前記基板テーブルを位置決めするために前記第1位置決め部材と協働する、サポート構造に設置された第2位置決め部材とを備える、リソグラフィ装置。 - 前記実質的に固定された水平位置は前記投影システムの光軸上にある、請求項14に記載の装置。
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