JP2019502956A - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
[001] 本出願は、2016年1月7日に出願された欧州特許出願第16150424.6号の優先権を主張し、参照により全体として本明細書に取り入れられる。
放射ビームを調節するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを支持するように構築されたサポートであって、パターニングデバイスが放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成できるサポートと、
基板のターゲット部分にパターン付き放射ビームを投影するように構成された投影システムと、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
投影システムに対して基板テーブルを変位させるように構成された位置決めデバイスと、
を含む、ステージアセンブリと、
その上にステージアセンブリと投影システムが装着されるベースフレームと、
を含み、
ベースフレームが、ステージアセンブリを支持するように構成された第1の部分と、投影システムを支持するように構成された第2の部分とを含み、第1の部分と第2の部分がベースフレームのコンプライアント部分を介して互いに接続される、リソグラフィ装置が提供される。
放射ビームを調節するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを支持するように構築されたサポートであって、パターニングデバイスが放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成できるサポートと、
基板のターゲット部分にパターン付き放射ビームを投影するように構成された投影システムと、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
投影システムに対して基板テーブルを変位させるように構成された位置決めデバイスと、
を含む、ステージアセンブリと、
その上にステージアセンブリと投影システムが装着されるベースフレームと、
を含み、
ベースフレームが、ステージアセンブリを支持するように構成された第1の部分と、投影システムを支持するように構成された第2の部分とを含み、ベースフレームが、第1の部分と第2の部分との間のギャップを埋めるように配置された変形可能シールを更に含む、リソグラフィ装置が提供される。
本明細書で示すように、本装置は透過タイプである(例えば透過マスクを使用する)。あるいは、装置は反射タイプでもよい(例えば上記で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイを使用する、又は反射マスクを使用する)。
Claims (15)
- 放射ビームを調節するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを支持するように構築されたサポートであって、前記パターニングデバイスが前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成できるサポートと、
基板のターゲット部分に前記パターン付き放射ビームを投影するように構成された投影システムと、
前記基板を保持するように構築された基板テーブルと、
前記投影システムに対して前記基板テーブルを変位させるように構成された位置決めデバイスと、
を含む、ステージアセンブリと、
その上にステージアセンブリと前記投影システムが装着されるベースフレームと、
を含み、
前記ベースフレームが、前記ステージアセンブリを支持するように構成された第1の部分と、前記投影システムを支持するように構成された第2の部分とを含み、前記第1の部分と前記第2の部分が前記ベースフレームのコンプライアント部分を介して互いに接続される、リソグラフィ装置。 - 前記コンプライアント部分が前記ステージアセンブリの動作領域に外接する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ベースフレームの前記コンプライアント部分が前記第1の部分より小さい厚さを有する、請求項1又は請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1の部分、前記第2の部分、及び前記コンプライアント部分が単一の集合体を構成する、請求項1から3のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記コンプライアント部分が、垂直方向に又は水平軸の周りで前記第2の部分に対する前記第1の部分の変位を可能にするように構成される、請求項1から4のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 放射ビームを調節するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを支持するように構築されたサポートであって、前記パターニングデバイスが前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成できるサポートと、
基板のターゲット部分に前記パターン付き放射ビームを投影するように構成された投影システムと、
前記基板を保持するように構築された基板テーブルと、
前記投影システムに対して前記基板テーブルを変位させるように構成された位置決めデバイスと、
を含む、ステージアセンブリと、
その上にステージアセンブリと前記投影システムが装着されるベースフレームと、
を含み、
前記ベースフレームが、前記ステージアセンブリを支持するように構成された第1の部分と、前記投影システムを支持するように構成された第2の部分とを含み、前記ベースフレームが、前記第1の部分と前記第2の部分との間のギャップを埋めるように配置された変形可能シールを更に含む、リソグラフィ装置。 - 前記変形可能シールがベローを含む、請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ベースフレームが前記投影システムを密閉する真空チャンバの最下部部分を構成する、請求項1から7のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記真空チャンバが前記照明システム及び前記ステージアセンブリを更に密閉する、請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記投影システムが、防振装置を介して前記ベースフレームの前記第2の部分に装着される、請求項1から9のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記防振装置がシールされた空気アイソレータ及び/又は板バネを含む、請求項10に記載のリソグラフィ装置。
- 前記照明システムが前記ベースフレームの前記第2の部分に装着される、請求項1から11のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記ベースフレームがペデスタルに装着される、請求項1から12のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記ベースフレームの前記第1の部分が前記ペデスタルの第1の部分に装着され、前記ベースフレームの前記第2の部分が前記ペデスタルの第2の部分に装着される、請求項13に記載のリソグラフィ装置。
- 請求項1から14のいずれかに記載のリソグラフィ装置を使用して基板にパターン付き放射ビームを投影することを含むデバイス製造方法。
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