JP2006344969A - リソグラフィ装置及び基板ステージ補償を利用したデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームを条件付ける照明システムと、パターニング・デバイスを支持するパターニング・デバイス・サポートとを有している。パターニング・デバイスによって放射ビームがパターン化される。リソグラフィ装置は、さらに、基板を支持する基板サポートと、基板サポートを支持するマシン・フレームと、パターン化されたビームを基板の目標部分に投射する投影システムと、基板サポートを少なくとも1つの方向に移動させる基板サポート・ドライブとを有している。リソグラフィ装置は、反動質量と、つり合い質量と、ベース・フレームとを有することができ、基板サポート・ドライブは、基板サポートと反動質量、つり合い質量又はサポート・フレームとの間に少なくとも1つの方向の力を生成するようになされている。
【選択図】図6
Description
特定の構成及び配置が説明されているが、それらは単に例示を目的としたものにすぎないことを理解されたい。本発明の精神及び範囲を逸脱することなく他の構成及び配置を使用することができることは当業者には認識されよう。他の様々なアプリケーションにも本発明を使用することができることは当業者には明らかであろう。
1.ステップ・モード:マスク・テーブルMT即ち「マスク・サポート」及び基板テーブルWT即ち「基板サポート」が基本的に静止状態に維持され、放射ビームに付与されたパターン全体が目標部分Cに1回で投影される(即ち単一静止露光)。次に、基板テーブルWT即ち「基板サポート」がX方向及び/又はY方向にシフトされ、異なる目標部分Cが露光される。ステップ・モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一静止露光で画像化される目標部分Cのサイズが制限される。
2.走査モード:放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影されている間、マスク・テーブルMT即ち「マスク・サポート」及び基板テーブルWT即ち「基板サポート」が同期走査される(即ち単一動的露光)。マスク・テーブルMT即ち「マスク・サポート」に対する基板テーブルWT即ち「基板サポート」の速度及び方向は、投影システムPSの倍率(縮小率)及び画像反転特性によって決まる。走査モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一動的露光における目標部分の幅(非走査方向の幅)が制限され、また、走査運動の長さによって目標部分の高さ(走査方向の高さ)が決まる。
3.その他のモード:プログラム可能パターニング・デバイスを保持するべくマスク・テーブルMT即ち「マスク・サポート」が基本的に静止状態に維持され、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影されている間、基板テーブルWT即ち「基板サポート」が移動又は走査される。このモードでは、通常、パルス放射源が使用され、走査中、基板テーブルWT即ち「基板サポート」が移動する毎に、或いは連続する放射パルスと放射パルスの間に、必要に応じてプログラム可能パターニング・デバイスが更新される。この動作モードは、上で参照したタイプのプログラム可能ミラー・アレイなどのプログラム可能パターニング・デバイスを利用しているマスクレス・リソグラフィに容易に適用することができる。微小レンズ・アレイをマスクレス・システムの投影システムに使用する場合、ピクセル格子画像化を使用して、パターニング・デバイスから微小レンズ・アレイを介して基板へパターンを露光することができる。
以上、本発明の様々な実施例について説明したが、以上の説明は単なる実施例を示したものにすぎず、本発明を何ら制限するものではないことを理解されたい。本発明の精神及び範囲を逸脱することなく、本発明の形態及び細部に様々な変更を加えることができることは当業者には明らかであろう。したがって、本発明の見解及び範囲は、上で説明した例示的実施例によっては一切制限されず、唯一、特許請求の範囲の各請求項及びそれらの均等物によってのみ定義されるものとする。
B 放射ビーム
BD ビーム引渡しシステム
BF ベース・フレーム質量
BM つり合い質量
C 基板の目標部分
CO コンデンサ
CS ケーブル・シャットル質量
CSM ケーブル・シャットル電動機
EE1、EE2、EE3 リニア基板ステージ・モータの固定子を支持している細長いエレメント
IF 位置センサ
IL 照明システム(イルミネータ)
IN インテグレータ
LM1、LM2 リニア基板ステージ・モータ
MA パターニング・デバイス(マスク)
MF マシン・フレーム質量(マシン・フレーム)
MF1、MF2 マシン・フレーム質量部分
MM1、MM2、MM3、MM4 取付け部材
MT パターニング・デバイス支持構造(マスク・テーブル)
M1、M2 マスク・アライメント・マーク
OP 投影光学系質量(投影光学系)
PM 第1の位置決めデバイス
PS 投影システム
PW 第2の位置決めデバイス(ポジショナ)
P1、P2 基板アライメント・マーク
RM 反動質量
SM1、SM2、SM3 ばね部材
SO 放射源
SS 基板ステージ質量(基板ステージ、基板質量)
SSM 基板ステージ電動機
SSM1 短ストローク基板ステージ電動機
SSM2 長ストローク基板ステージ電動機
W 基板
WT 基板テーブル
2、100、102、104、106、108 リソグラフィ装置
4 基板ステージ質量が移動する方向を示す両矢印
6、16 床
8 ケーブル及び配管スラブ
8、9 基板ステージ質量とベース・フレーム質量の間を接続しているケーブル及び配管スラブを示す線
10 ケーブル及び配管スラブの第1の部分
11 ケーブル及び配管スラブの第2の部分
Claims (13)
- リソグラフィ装置であって、
放射ビームを条件付ける照明システムと、
パターン化された放射ビームを形成するために前記放射ビームにパターンを付与するパターニング・デバイスを支持するパターニング・デバイス・サポートと、
基板を支持する基板サポートと、
前記基板サポートを支持するマシン・フレームと、
前記パターン化された放射ビームを前記基板の目標部分に投射する投影システムと、
前記基板サポートを少なくとも1つの方向に移動させる基板サポート・ドライブと、
たわみ継手を介して前記マシン・フレームに結合された反動質量であって、前記基板サポート・ドライブが、前記基板サポートと前記反動質量の間に少なくとも1つの方向の力を生成するようになされた反動質量とを備えたリソグラフィ装置。 - 前記たわみ継手がばね部材を備えた、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- リソグラフィ装置であって、
放射ビームを条件付ける照明システムと、
パターン化された放射ビームを形成するために前記放射ビームにパターンを付与するパターニング・デバイスを支持するパターニング・デバイス・サポートと、
基板を支持する基板サポートと、
前記基板サポートを支持するマシン・フレームと、
前記パターン化された放射ビームを前記基板の目標部分に投射する投影システムと、
前記基板サポートを少なくとも1つの方向に移動させる基板サポート・ドライブと、
前記マシン・フレームによって移動可能に支持されたつり合い質量であって、前記基板サポート・ドライブが、前記基板サポートと前記つり合い質量の間に少なくとも1つの方向の力を生成するようになされたつり合い質量とを備えたリソグラフィ装置。 - リソグラフィ装置であって、
放射ビームを条件付ける照明システムと、
パターン化された放射ビームを形成するために前記放射ビームにパターンを付与するパターニング・デバイスを支持するパターニング・デバイス・サポートと、
基板を支持する基板サポートと、
前記基板サポートを支持するマシン・フレームと、
前記パターン化された放射ビームを前記基板の目標部分に投射する投影システムと、
前記基板サポートを少なくとも1つの方向に移動させる基板サポート・ドライブと、
前記マシン・フレームとは切り離して取り付けられたベース・フレームであって、前記基板サポート・ドライブが、前記基板サポートと前記ベース・フレームの間に少なくとも1つの方向の力を生成するようになされたベース・フレームとを備えたリソグラフィ装置。 - 前記基板サポート・ドライブが、第1の剛性をその長手方向に有し、且つ、前記第1の剛性より小さい第2の剛性を前記長手方向に直角の方向に有する細長いエレメントによって前記ベース・フレームに接続された、請求項4に記載のリソグラフィ装置。
- 基板ステージを供給する、前記基板サポートと前記ベース・フレームの間に接続されたフレキシブルな臍の緒をさらに備えた、請求項4に記載のリソグラフィ装置。
- 臍の緒サポートと、
前記臍の緒サポートを前記臍の緒サポートと前記ベース・フレームの間で少なくとも1つの方向に移動させる臍の緒サポート・ドライブであって、前記臍の緒の第1の部分が前記基板サポートと前記臍の緒サポートの間に接続され、前記臍の緒の第2の部分が前記臍の緒サポートと前記ベース・フレームの間に接続された臍の緒サポート・ドライブとをさらに備えた、請求項6に記載のリソグラフィ装置。 - リソグラフィ装置であって、
放射ビームを条件付ける照明システムと、
パターン化された放射ビームを形成するために前記放射ビームにパターンを付与するパターニング・デバイスを支持するパターニング・デバイス・サポートと、
基板を支持する基板サポートと、
前記基板サポートを支持するマシン・フレームと、
前記パターン化された放射ビームを前記基板の目標部分に投射する投影システムと、
直列に配置された短ストローク・ドライブ及び長ストローク・ドライブを備えた、前記基板サポートを少なくとも1つの方向に移動させる基板サポート・ドライブと、
前記マシン・フレームとは切り離して取り付けられたベース・フレームであって、前記基板サポート・ドライブが、前記基板サポートと前記ベース・フレームの間に少なくとも1つの方向の力を生成するようになされたベース・フレームとを備えたリソグラフィ装置。 - 基板ステージを供給する、前記基板サポートと前記ベース・フレームの間に接続されたフレキシブルな臍の緒をさらに備えた、請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記臍の緒の第1の部分が、前記基板サポートと、短ストローク・ドライブと長ストローク・ドライブの間に接続された臍の緒サポートとの間に接続され、
前記臍の緒の第2の部分が前記臍の緒サポートと前記ベース・フレームの間に接続された、請求項9に記載のリソグラフィ装置。 - デバイス製造方法であって、
パターン化された放射のビームを基板に投射するステップと、
前記基板をマシン・フレームに対して支持するように構築された基板サポートを提供するステップと、
前記基板サポートと前記マシン・フレームにたわみ結合された反動質量との間に少なくとも1つの方向の力を生成することによって前記基板サポートを少なくとも1つの方向に移動させるステップとを含む方法。 - デバイス製造方法であって、
パターン化された放射のビームを基板に投射するステップと、
前記基板をマシン・フレームに対して支持するように構築された基板サポートを提供するステップと、
前記基板サポートと前記マシン・フレームによって移動可能に支持されたつり合い質量との間に少なくとも1つの方向の力を生成することによって前記基板サポートを少なくとも1つの方向に移動させるステップとを含む方法。 - デバイス製造方法であって、
パターン化された放射のビームを基板に投射するステップと、
前記基板をマシン・フレームに対して支持する基板サポートを提供するステップと、
前記基板サポートと前記マシン・フレームから切り離して取り付けられたベース・フレームとの間に少なくとも1つの方向の力を生成することによって前記基板サポートを少なくとも1つの方向に移動させるステップとを含む方法。
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