JP2007258695A - リソグラフィ装置、リソグラフィ装置のコンポーネントを制御する方法およびデバイス製造方法 - Google Patents
リソグラフィ装置、リソグラフィ装置のコンポーネントを制御する方法およびデバイス製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】コンポーネント11は、第1アクチュエータ12によってリソグラフィ装置内の基準に対して動かされる。コンポーネント11と反作用質量体13との間に力を加える第2アクチュエータ15を使用して、リソグラフィ装置内の基準に対するコンポーネント11の位置、速度および加速度のうち少なくとも1つを調節する。
【選択図】図2
Description
Claims (18)
- リソグラフィ装置内の基準に対して動くように構成されたコンポーネントと、
リソグラフィ装置内の前記基準に対して前記コンポーネントを動かすように構成された第1アクチュエータと、
反作用質量体と、
前記コンポーネントと前記反作用質量体の間に力を加えるように構成された第2アクチュエータと、
前記第2アクチュエータによって前記コンポーネントに加えられる反力が、前記リソグラフィ装置内の前記基準に対する前記コンポーネントの位置、速度または加速度のうち少なくとも1つを調節できるように、前記第2アクチュエータを制御するように構成された制御装置と、
を備えるリソグラフィ装置。 - 前記制御装置が、前記第1アクチュエータによって前記コンポーネントに付与するように意図された力と、前記第1アクチュエータによって前記コンポーネントに付与される実際の力との差を求めて、前記第2コンポーネントに加えられる反力が前記差に対応するように、前記第2アクチュエータを制御するように構成される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記リソグラフィ装置が、前記第1アクチュエータによって前記コンポーネントに付与される力を測定する力センサを備え、前記制御装置が、前記力センサからの出力を使用して、前記差を求める、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記リソグラフィ装置が、前記コンポーネントの加速度を測定する加速度計を備え、前記制御装置が、前記加速度計の出力を使用して前記コンポーネントに付与される前記実際の力を求め、前記実際の力に基づいて前記差を求めるように構成される、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記リソグラフィ装置が、前記コンポーネントの位置または速度のうち少なくとも一方を測定するように構成された測定システムを備え、前記制御装置が、前記測定システムの前記出力を使用して、前記コンポーネントの加速度、前記コンポーネントに付与される前記実際の力、および前記差を求めるように構成される、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御装置が、前記コンポーネントの意図された位置、速度または加速度のうち少なくとも1つと、前記コンポーネントの実際の位置、速度または加速度それぞれとの差を求め、前記差を減少させるために前記第2アクチュエータを制御するように構成される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記リソグラフィ装置が、前記コンポーネントの加速度を測定するように構成された加速度計と、前記コンポーネントの位置または速度のうち少なくとも1つを測定するように構成された測定システムとのうち少なくとも1つを備え、前記制御装置が、前記加速度計または前記測定システムのうち前記少なくとも1つの出力を使用して、前記差を求めるように構成される、請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 前記反作用質量体が低剛性支持体によって前記コンポーネントに装着される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第2アクチュエータが、ローレンツ力アクチュエータ、圧電アクチュエータ、リラクタンスアクチュエータおよび空気式アクチュエータのうち少なくとも1つである、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第2アクチュエータが、前記コンポーネントと前記反作用質量体の間に2つまたは3つの直交方向で力を加えるように構成される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第2アクチュエータが、前記コンポーネントと前記反作用質量体の間に少なくとも1つのトルクが発生するように、前記コンポーネントと前記反作用質量体の間に力を加えるように構成される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第2アクチュエータが、リソグラフィ装置内の前記基準に対する前記コンポーネントの位置、速度または加速度のうち前記少なくとも1つを、6自由度で制御できるように、前記コンポーネントと前記反作用質量体の間に力を加えるように構成される、請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御装置が、(a)リソグラフィ装置内の前記基準に対する前記コンポーネントの位置、速度または加速度のうち前記少なくとも1つを調節するために、前記コンポーネントに付与すべき調節力と、(b)前記コンポーネントと同じ全体的加速度を前記反作用質量体に提供するために必要な加速力とを求めるように構成され、前記制御装置が、前記コンポーネントと前記反作用質量体の間に加えられる力が前記調節力と前記加速力の合計であるように、前記第2アクチュエータを制御するよう構成される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御装置が前記第1アクチュエータを制御するように構成され、前記制御装置が、前記コンポーネントの加速度に、前記コンポーネント、前記第2アクチュエータおよび前記反作用質量体の質量の合計をかけることによって、前記第1アクチュエータにより前記コンポーネントに付与すべき力を求める、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- リソグラフィ装置内の前記基準が基準計測フレームであり、前記第1アクチュエータが、前記基準計測フレームに対して前記コンポーネントを動作させるために、前記計測基準フレームとは異なる反作用フレームと前記コンポーネントとの間に力を加えるように構成される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- リソグラフィ装置内の基準に対するリソグラフィ装置のコンポーネントの位置、速度および加速度のうち少なくとも1つを制御する方法であって、
リソグラフィ装置内の前記基準に対して前記コンポーネントを動かすために第1アクチュエータを使用すること、および、
リソグラフィ装置内の前記基準に対する前記コンポーネントの位置、速度および加速度のうち少なくとも1つを調節するために、前記コンポーネントと反作用質量体との間に力を加えるように構成された第2アクチュエータによって発生した反力を使用すること、
を含む方法。 - パターンをパターニングデバイスから基板へと転写すること、および、
前記パターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、前記基板を支持するように構成された支持体とのうち少なくとも1つの位置、速度および加速度のうち少なくとも1つを制御することを含み、前記制御することが、
基準に対して前記少なくとも1つの支持体を動かすために第1アクチュエータを使用すること、および、
前記基準に対する前記少なくとも1つの支持体の位置、速度または加速度のうち少なくとも1つを調節するために、前記少なくとも1つの支持体と反作用質量体との間に力を加えるように構成された第2アクチュエータによって発生した反力を使用すること、
を含むデバイス製造方法。 - 前記基準が前記リソグラフィ装置の基準フレームである、請求項17に記載のデバイス製造方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/366,802 US7649613B2 (en) | 2006-03-03 | 2006-03-03 | Lithographic apparatus, method of controlling a component of a lithographic apparatus and device manufacturing method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007258695A true JP2007258695A (ja) | 2007-10-04 |
JP4638454B2 JP4638454B2 (ja) | 2011-02-23 |
Family
ID=38471150
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007043039A Expired - Fee Related JP4638454B2 (ja) | 2006-03-03 | 2007-02-23 | リソグラフィ装置およびリソグラフィ装置のコンポーネントを制御する方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7649613B2 (ja) |
JP (1) | JP4638454B2 (ja) |
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US11302512B2 (en) | 2017-09-04 | 2022-04-12 | Asml Netherlands B.V. | Electron beam inspection apparatus stage positioning |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4638454B2 (ja) | 2011-02-23 |
US7649613B2 (en) | 2010-01-19 |
US20070206169A1 (en) | 2007-09-06 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091218 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100318 |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |