JP5417443B2 - 投影システム、リソグラフィ装置、放射ビームをターゲット上に投影する方法およびデバイス製造方法 - Google Patents
投影システム、リソグラフィ装置、放射ビームをターゲット上に投影する方法およびデバイス製造方法 Download PDFInfo
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Description
放射ビームB(例えば、UV放射またはEUV放射)を調整するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
パターニングデバイス(例えば、マスク)MAを支持するように構成され、かつ特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1ポジショナPMに連結されているサポート構造(例えば、マスクテーブル)MTと、
基板(例えば、レジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、かつ特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2ポジショナPWに連結されている基板テーブル(例えば、ウェーハテーブル)WTと、
パターニングデバイスMAによって放射ビームBに付与されたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば、1つ以上のダイを含む)上に投影するように構成されている投影システム(例えば、屈折投影レンズシステム)PSとを備える。
Claims (16)
- 放射ビームを投影する投影システムであって、
前記放射ビームの少なくとも一部を誘導するために使用される少なくとも1つの光学要素を支持するフレームと、
前記投影システムの使用中に前記フレームに加えられる力によって生成される前記フレームの物理的変形に関連する少なくとも1つのパラメータを測定するセンサシステムと、
前記センサシステムの測定を用いて、前記フレームの前記物理的変形により生じる前記投影システムによって投影される前記放射ビームの位置の予測されるずれを決定する制御システムと、
前記投影システムが取り付けられ得るシステムに対する前記フレームの位置を制御するアクチュエータシステムと
を含み、
前記制御システムは、前記フレームの位置を調整するために前記アクチュエータシステムを使用し、それによって前記制御システムは、前記制御システムによって決定される、前記投影システムによって投影される前記放射ビームの前記予測されるずれを補償する、
投影システム。 - 前記制御システムは前記投影システムのモデルを含んでおり、前記制御システムは、前記センサシステムからの測定値を前記投影システムの前記モデルに適用し、かつ前記モデルの応答を決定することによって、前記センサシステムからの前記測定値に対する前記放射ビームの位置の前記予測されるずれを決定する、請求項1に記載の投影システム。
- 前記制御システムは、前記センサシステムの以前の測定値を対応する前記放射ビームの位置の以前に測定されたずれに関連させる較正データを含んでおり、前記制御システムは、前記較正データを用いて前記センサシステムからの測定値に対する前記放射ビームの位置の前記予測されるずれを決定する、請求項1または2に記載の投影システム。
- 前記センサシステムは、前記投影システムの一部の加速を測定する少なくとも1つの加速度計を含む、請求項1ないし3のいずれか一項に記載の投影システム。
- 前記制御システムは、前記投影システムに加えられる力の測定値を生成するために前記少なくとも1つの加速度計からのデータを使用して前記測定された加速をもたらし、前記制御システムは、前記放射ビームの位置の前記予測されるずれを決定するために前記力の前記測定値を使用する、請求項4に記載の投影システム。
- 前記投影システムは、少なくとも1つの取付けポイントを含んでおり、前記少なくとも1つの取付けポイントを用いて前記投影システムが使用されるシステム内に前記投影システムが取り付けられ得るように構成され、
前記センサシステムは、前記取付けポイントを介して前記投影システムに加えられる力を測定する前記少なくとも1つの取付けポイントと関連する力センサを含む、請求項1ないし5のいずれか一項に記載の投影システム。 - 前記センサシステムは、前記フレームに取り付けられた少なくとも1つのひずみゲージを含む、請求項1ないし6のいずれか一項に記載の投影システム。
- 前記センサシステムは、前記フレームの2つの部分の間隔を測定する少なくとも1つのセンサを含む、請求項1ないし7のいずれか一項に記載の投影システム。
- 前記フレームによって支持される前記少なくとも1つの光学要素のうちの少なくとも1つの位置を制御するアクチュエータシステムをさらに含み、
前記制御システムは、前記少なくとも1つの光学要素の位置を調整するために前記アクチュエータシステムを使用し、それによって前記制御システムは、前記制御システムによって決定される、前記投影システムによって投影される前記放射ビームの前記予測されるずれを補償する、請求項1ないし8のいずれか一項に記載の投影システム。 - 前記フレームの制御された変形を誘導するアクチュエータシステムをさらに含み、
前記制御システムは、前記フレームの制御された変形を誘導するために前記アクチュエータシステムを使用し、それによって前記制御システムは、前記制御システムによって決定される、前記投影システムによって投影される前記放射ビームの前記予測されるずれを補償する、請求項1ないし9のいずれか一項に記載の投影システム。 - 放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するサポートと、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影する請求項1ないし10のいずれか一項に記載の投影システムと
を含む、リソグラフィ装置。 - 前記サポートによって支持されるパターニングデバイスの位置を制御するアクチュエータシステムをさらに含み、
前記制御システムは、前記パターニングデバイスの位置を調整するために前記アクチュエータシステムを使用し、それによって前記制御システムは、前記制御システムによって決定される、前記投影システムによって投影される前記放射ビームの前記予測されるずれを補償する、請求項11に記載のリソグラフィ装置。 - 前記基板テーブル上に保持される基板の位置を制御するアクチュエータシステムをさらに含み、
前記制御システムは、前記基板の位置を調整するために前記アクチュエータシステムを使用し、それによって前記制御システムは、前記制御システムによって決定される、前記投影システムによって投影される前記放射ビームの前記予測されるずれを補償する、請求項11または12に記載のリソグラフィ装置。 - 前記制御システムによって決定される、基板上に投影される前記放射ビームの位置の前記予測されるずれに対応するデータを記憶するメモリをさらに含む、請求項11ないし13のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 放射ビームをターゲット上に投影する方法であって、
フレームによって支持される少なくとも1つの光学要素を用いて前記放射ビームを誘導
することと、
前記放射ビームを前記ターゲット上に投影している間に前記フレームに加えられる力によって生成される前記フレームの物理的変形に関連する少なくとも1つのパラメータを測定することと、
前記測定された少なくとも1つのパラメータを用いて、前記フレームの前記物理的変形により生じる前記放射ビームの位置の予測されるずれを決定することと、
投影システムが取り付けられ得るシステムに対する前記フレームの位置を調整することによって、前記放射ビームの前記決定された予測されるずれを補償することと
を含む、方法。 - 請求項15に記載の方法を用いてパターン付き放射ビームを基板上に投影することを含む、デバイス製造方法。
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