CN103676489B - 一种反射式物镜结构及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
一种用于EUV曝光光刻装置的反射式物镜结构及其制造方法，包括：数据采集，物镜外部结构构建以及物镜外部结构模型修正等步骤。本发明基于多面体结构设计，获得的物镜结构更为简单高效，能够达到更好的动态性能和稳定性。同时也符合主基板整体铸造或焊接成型的加工特性，其组合构成的物镜相比现有结构具有高模态、低质量的性能优势。
Description
技术领域
本发明涉及光刻领域，尤其涉及EUV曝光光刻装置。
背景技术
目前，极紫外光刻EUVL成为了下一代光刻技术的主流发展趋势，其中尤其以反射物镜设计是其中的一项关键技术。美国专利US 6977713 B2【1】、US 7116399 B2【2】、US 7126671 B2【3】、US 7161658 B2【4】、US 7450301 B2【5】、US 20070070322 B2【6】、US 20070283591 B2【7】、US 20090079952 B2【8】以及US 20090147386 B2【9】中提出了一种由六面反射镜所组成的EUVL弧形大视场物镜，其中每片反射镜底部或顶部有物镜安装座，物镜有调整装置可在6自由度范围内调节补偿，以激光干涉仪或电容传感器测量其每个镜片的相对位置。以解决因为反射式物镜设计所带来的因物镜内部工作光路较长（3-4米左右），对反射镜安装调整精度的要求。此外如美国专利US 20110090559 B2【10】所述，为了进一步提高数值空间，EUV物镜内部结构将可能进一步的变大。
物镜是光刻机实现曝光和光刻的心脏。随着光刻技术对光刻分辨率的不断下降，其光源也由深紫外光DUV向极紫外光EUV发展。随之物镜的设计也大为不同，由透镜式物镜转变为反射式物镜。就光刻机内部空间约束而言，由于物镜的发展使得共轭工作距不断增大，这使得整机内部世界需要提供从掩模面（物镜物面）到硅片面（物镜像面）跨度更大Z向高度的尺寸。由于物镜从透镜式物镜转变为反射式物镜,其传统的物镜镜筒为代表的圆柱体结构，开始向更复杂的空间多面体形状转变。
物镜框架结构是物镜设计的重要组成部分，它需要具备高的刚度以满足短期稳定性动态性能的需求，在主基板残余加速度的振动条件下，物镜框架结构需要达到高精度的位置稳定性，以此保证光刻纳米级的曝光分辨率。物镜框架结构需要高强度、高模态，同时又要满足低质量、轻量化的发展趋势。同时，物镜框架结构一般采用殷钢（Invar）或微晶玻璃（Zerodur）等低热膨胀系数的材料来制造，以减小框架受温度影响下的变形。美国专利【1】-【4】所述的物镜的框架结构采用上下两层复合结构，上层为一个顶部大，底部小的六面体结结构，形状如正方形台阶；下层为一个顶部小，底部大的六面体结结构，形状如方形漏斗，共有10个外围表面。这样设计的物镜优点在于结构简单，以8-9块板材复合而成型；缺点是体积过于庞大，占据光刻机内部空间多，且模态值相对偏低，不利于整机动态性能，不利于其曝光精度的保证。
发明内容
本发明提出了一种物镜的制造方法，能有效规划极紫外光刻EUVL 反射物镜的空间和结构，针对大工作距物镜（工作距1500mm左右）和物镜内部多个反射式镜片的复杂空间进行规划和设计，提高物镜结构动态稳定性，保证高精度光刻分辨率。
根据本发明的用于EUV曝光光刻装置的多面体物镜结构的制造方法，包括：
步骤S1：数据采集，
首先根据光学设计确定多面反射镜在三维空间的安装位置，以及光路在空间的布局，对多面体物镜内部的反射镜支撑装置、镜片装置、测量系统、调整装置和冷却系统装置的安装区域位置进行有效识别和定义，明确所有相关接口的位置点或安装区域的三维空间数据；
然后针对EUV反射式物镜镜片位置空间复杂和安装结构的特点，以平面多边形进行离散和近似，以此确定边界点，多边形的面积大于容纳反射镜、反射镜支撑装置、镜筒装置、测量系统、调整装置和冷却系统装置所需的安装区域，对所有的反射镜及其安装附件装置进行多边形离散处理；
步骤S2：物镜外部结构构建，
根据步骤S1中采集的多面体物镜、光学接口、测量结构和机械安装位置接口以及支撑装置位置三维空间数据作为输入参数，对三维空间中已知的任意点进行求解，在满足安装空间的前提下，输出物镜的上下表面和外围板的结构获得外形结构为多边形面板的物镜；
步骤S3：物镜外部结构模型修正，对获得的物镜的外部结构进行有效的修正。
其中，所述物镜包括了所有的反射镜、所有反射镜支撑装置、镜筒装置、测量系统、调整执行装置和冷却系统装置。
其中，步骤S1中的所述反射镜为六面。
其中，在步骤S2中采用凸包算法进行求解。
其中，所述平面多边形为三角形、正方形、菱形、五边形、六边形或八边形。
其中，步骤S3中的所述模型修正包括根据应用需要对底板进行局部结构简化。
其中，步骤S3中的所述模型修正包括简化物镜外围板数量，将初步规划的多边形面板模型进行多边形边数简化，合并距离较近的一些多边形顶点，从而使各多边形面板的多边形边数保持在最小。
其中，将外围板的多面体结构分为上下多层进行规划。
本发明还提出了一种利用前述方法制得的用于EUV曝光光刻装置的多面体物镜，其多面体结构的上表面和下表面由上述的多边形组成，四周外围的表面为若干多边形组成，所围成的几何形状呈中间段周长大，顶部和底部周长小的形状。
其中，所述多边形为三角形、四边形、五边形、六边形或八边形。
本发明的方法通过对反射镜、光学光路范围空间，反射镜底座、反射镜调整装置、反射镜测量系统和冷却装置等的安装位置点的识别，应用特定的计算几何的算法（如凸包算法）对空间形状设计和体积计算，使得所设计的结构能够容纳物镜内部上述装置和系统，最后并根据算法结果对模型进行局部的修正和完善。针对EUV反射式物镜镜片位置空间复杂和安装结构的特点，本发明提出了以平面多边形（三角形、四边形、五角形、六角形等）进行离散和近似，以此确定边界点，使之能够生成满足容纳空间多个物镜镜片和光路的布置需求。
本发明提出的一系列多面体物镜结构，用于容纳和安装物镜内部装置，所述主基板上开设有至少一个工位，所述多面体物镜的外表面是由所述支撑装置、测量装置、镜筒装置的安装区域的多边形包络面所限定，并由若干其他平面按凸包规则连接构成的凸多面体。本发明基于多面体结构设计，获得的物镜结构更为简单高效，能够达到更好的动态性能和稳定性。同时也符合主基板整体铸造或焊接成型的加工特性，其组合构成的物镜相比现有结构具有高模态、低质量的性能优势。
本发明还具有以下优点：
基于物镜结构一体化的设计思想，有效提高整机内部世界的动态性能，以主基板振动模态值估计将会提高一阶模态值，约占10%至20%的比例；
以多面体主基板和测量支架的外形带来的主基板更小的体积，将有效的减轻内部世界的质量，约占25%至35%的比例；
可以降低采购成本和制造周期，不仅包括因外形体积减小和整体质量减轻带来的材料成本的降低；而且由于有效的规划了轮廓外形，减少了所需加工板材的数量。
附图说明
关于本发明的优点与精神可以通过以下的发明详述及所附图式得到进一步的了解。
图1所示为现有技术的EUVL反射式物镜框架结构；
图2所示为根据本发明的方法的流程图；
图3所示为EUVL反射式物镜镜片的空间分布图；
图4所示为根据本发明的第一实施方式的三角形规划方案；
图5所示为根据本发明的第一实施方式的三角形规划的物镜与反射镜的对应图；
图6所示为根据本发明的第一实施方式获得的物镜的各向视图；
图7所示为根据本发明的第二实施方式的正方形规划方案；
图8所示为根据本发明的第二实施方式的正方形规划的物镜与反射镜的对应图；
图9所示为根据本发明的第二实施方式获得的物镜的各向视图；
图10所示为根据本发明的第三实施方式的菱形规划方案；
图11所示为根据本发明的第三实施方式的菱形规划的物镜与反射镜的对应图；
图12所示为根据本发明的第三实施方式获得的物镜的各向视图；
图13所示为根据本发明的第四实施方式的五边形规划方案；
图14所示为根据本发明的第四实施方式的五边形规划的物镜与反射镜的对应图；
图15所示为根据本发明的第四实施方式获得的物镜的各向视图；
图16所示为根据本发明的第五实施方式的六边形规划方案；
图17所示为根据本发明的第五实施方式的六边形规划的物镜与反射镜的对应图；
图18所示为根据本发明的第五实施方式获得的物镜的各向视图；
图19所示为根据本发明的第六实施方式的八边形规划方案；
图20所示为根据本发明的第六实施方式的八边形规划的物镜与反射镜的对应图；
图21所示为根据本发明的第六实施方式获得的物镜的各向视图。
具体实施方式
下面结合附图详细说明本发明的具体实施例。
第一实施方式
本实施方式提供了一种多面体物镜结构的制造方法，其流程如图2所示，具体包括以下步骤：
步骤S1：数据采集。
图3所示为所需的多面体物镜光路和以反射镜形式构成时的结构示意图，首先根据光学设计确定多面反射镜在三维空间的安装位置，以及光路在空间的布局。此外对多面体物镜内部的反射镜支撑装置、镜片装置、测量系统、调整装置和冷却系统装置的安装区域位置进行有效识别和定义，明确所有相关接口的位置点或安装区域的三维空间数据。在本实施例中，所述物镜，具体包括了所有的反射镜、所有反射镜支撑装置、镜筒装置、测量系统、调整执行装置和冷却系统装置。
图4针对EUV反射式物镜镜片位置空间复杂和安装结构的特点，以平面多边形（本实施例中为三角形）进行离散和近似，以此确定边界点，三角形的面积大于容纳反射镜、反射镜支撑装置、镜筒装置、测量系统、调整装置和冷却系统装置所需的安装区域，对所有的反射镜（在本实施例中为6面，但是实际应用时并不局限于6面，可以采用少于6面或6面以上的反射镜）及其安装附件装置进行多边形离散处理。
步骤S2：物镜外部结构构建。
参阅图5、6，在本实施例中，上述物镜外形结构为多边形面板，是采用凸包算法对所述物镜上表面和物镜下表面的以及内部所有物镜以多边形顶点在三维空间中进行求解获得的。
图6所示为多面体物镜、光学接口、测量接口和机械安装位置示意图，求解时可以根据上述步骤S1中采集的多面体物镜、光学接口、测量接口和机械安装位置接口和支撑装置位置三维空间数据作为输入参数，采用计算几何中的凸包算法对三维空间中已知的任意点进行求解，在满足安装空间的前提条件下，输出获得物镜的上下表面和外围板的结构。
步骤S3：物镜外部结构模型修正。
模型修正是指根据更多的设计约束对算法所得的物镜的外部结构进行有效的修正，它是一种对模型进行局部的、应用性的修正和完善的过程。所述模型修正包括：（1）简化物镜外围板数量，所述底板可根据应用需要进行局部结构简化，在本实施例中，外围板采用将初步规划的多边形面板模型进行多边形边数简化，合并距离较近的一些多边形顶点，从而使各多边形面板的多边形边数保持在最小；（2）考虑到物镜和主基板空间上存在干涉，将外围板的多面体结构分为上下多层进行规划。
通过上述设计构建步骤，可使所述物镜整体结构更简洁高效，能够有效减小上、下表面面积。同时，在物镜上表面和物镜下表面之间采用若干个多边形组成外围板，以作为所述物镜上表面与所述物镜下表面的有效过渡，削除了物镜外侧多余的体积，使得上下表面合理有效的搭接和过渡。多边体和多边形的几何形状不仅适合板材切割和焊接的制造工艺，而且也符合物镜整体铸造的加工特性，使物镜呈现高模态、低质量的性能优势。
第二实施方式
本实施方式提供了一种多面体物镜结构的制造方法，其流程与第一实施方式的流程相同，包括：
步骤S1：数据采集。
图3所示为所需的多面体物镜光路和以反射镜形式构成时的结构示意图，首先根据光学设计确定多面反射镜在三维空间的安装位置，以及光路在空间的布局。此外对多面体物镜内部的反射镜支撑装置、镜片装置、测量系统、调整装置和冷却系统装置的安装区域位置进行有效识别和定义，明确所有相关接口的位置点或安装区域的三维空间数据。在本实施例中，所述物镜，具体包括了所有的反射镜、所有反射镜支撑装置、镜筒装置、测量系统、调整执行装置和冷却系统装置。
图7针对EUV反射式物镜镜片位置空间复杂和安装结构的特点，以平面多边形（本实施例中为正方形）进行离散和近似，以此确定边界点，正方形的面积大于容纳反射镜、反射镜支撑装置、镜筒装置、测量系统、调整装置和冷却系统装置所需的安装区域，对所有的反射镜（在本实施例中为6面，但是实际应用时并不局限于6面，可以采用少于6面或6面以上的反射镜）及其安装附件装置进行多边形离散处理。
步骤S2：物镜外部结构构建。
参阅图8、9，在本实施例中，上述物镜外形结构为多边形面板，是采用凸包算法对所述物镜上表面和物镜下表面的以及内部所有物镜以多边形顶点在三维空间中进行求解获得的。
图9所示为多面体物镜、光学接口、测量接口和机械安装位置示意图，求解时可以根据上述步骤S1中采集的多面体物镜、光学接口、测量接口和机械安装位置接口和支撑装置位置三维空间数据作为输入参数，采用计算几何中的凸包算法对三维空间中已知的任意点进行求解，在满足安装空间的前提条件下，输出获得物镜的上下表面和外围板的结构。
步骤S3：物镜外部结构模型修正。
模型修正是指根据更多的设计约束对算法所得的物镜的外部结构进行有效的修正，它是一种对模型进行局部的、应用性的修正和完善的过程。所述模型修正包括：（1）简化物镜外围板数量，所述底板可根据应用需要进行局部结构简化，在本实施例中，外围板采用将初步规划的多边形面板模型进行多边形边数简化，合并距离较近的一些多边形顶点，从而使各多边形面板的多边形边数保持在最小；（2）考虑到物镜和主基板空间上存在干涉，将外围板的多面体结构分为上下多层进行规划。
第三实施方式
本实施方式提供了一种多面体物镜结构的制造方法，其流程与第一实施方式的流程相同，包括：
步骤S1：数据采集。
图3所示为所需的多面体物镜光路和以反射镜形式构成时的结构示意图，首先根据光学设计确定多面反射镜在三维空间的安装位置，以及光路在空间的布局。此外对多面体物镜内部的反射镜支撑装置、镜片装置、测量系统、调整装置和冷却系统装置的安装区域位置进行有效识别和定义，明确所有相关接口的位置点或安装区域的三维空间数据。在本实施例中，所述物镜，具体包括了所有的反射镜、所有反射镜支撑装置、镜筒装置、测量系统、调整执行装置和冷却系统装置。
图10针对EUV反射式物镜镜片位置空间复杂和安装结构的特点，以平面多边形（本实施例中为菱形）进行离散和近似，以此确定边界点，菱形的面积大于容纳反射镜、反射镜支撑装置、镜筒装置、测量系统、调整装置和冷却系统装置所需的安装区域，对所有的反射镜（在本实施例中为6面，但是实际应用时并不局限于6面，可以采用少于6面或6面以上的反射镜）及其安装附件装置进行多边形离散处理。
步骤S2：物镜外部结构构建。
参阅图11、12，在本实施例中，上述物镜外形结构为多边形面板，是采用凸包算法对所述物镜上表面和物镜下表面的以及内部所有物镜以多边形顶点在三维空间中进行求解获得的。
图12所示为多面体物镜、光学接口、测量接口和机械安装位置示意图，求解时可以根据上述步骤S1中采集的多面体物镜、光学接口、测量接口和机械安装位置接口和支撑装置位置三维空间数据作为输入参数，采用计算几何中的凸包算法对三维空间中已知的任意点进行求解，在满足安装空间的前提条件下，输出获得物镜的上下表面和外围板的结构。
步骤S3：物镜外部结构模型修正。
模型修正是指根据更多的设计约束对算法所得的物镜的外部结构进行有效的修正，它是一种对模型进行局部的、应用性的修正和完善的过程。所述模型修正包括：（1）简化物镜外围板数量，所述底板可根据应用需要进行局部结构简化，在本实施例中，外围板采用将初步规划的多边形面板模型进行多边形边数简化，合并距离较近的一些多边形顶点，从而使各多边形面板的多边形边数保持在最小；（2）考虑到物镜和主基板空间上存在干涉，将外围板的多面体结构分为上下多层进行规划。
第四实施方式
本实施方式提供了一种多面体物镜结构的制造方法，其流程与第一实施方式的流程相同，包括：
步骤S1：数据采集。
图3所示为所需的多面体物镜光路和以反射镜形式构成时的结构示意图，首先根据光学设计确定多面反射镜在三维空间的安装位置，以及光路在空间的布局。此外对多面体物镜内部的反射镜支撑装置、镜片装置、测量系统、调整装置和冷却系统装置的安装区域位置进行有效识别和定义，明确所有相关接口的位置点或安装区域的三维空间数据。在本实施例中，所述物镜，具体包括了所有的反射镜、所有反射镜支撑装置、镜筒装置、测量系统、调整执行装置和冷却系统装置。
图13针对EUV反射式物镜镜片位置空间复杂和安装结构的特点，以平面多边形（本实施例中为五边形）进行离散和近似，以此确定边界点，五边形的面积大于容纳反射镜、反射镜支撑装置、镜筒装置、测量系统、调整装置和冷却系统装置所需的安装区域，对所有的反射镜（在本实施例中为6面，但是实际应用时并不局限于6面，可以采用少于6面或6面以上的反射镜）及其安装附件装置进行多边形离散处理。
步骤S2：物镜外部结构构建。
请参阅图14、15，在本实施例中，上述物镜外形结构为多边形面板，是采用凸包算法对所述物镜上表面和物镜下表面的以及内部所有物镜以多边形顶点在三维空间中进行求解获得的。
图15所示为多面体物镜、光学接口、测量接口和机械安装位置示意图，求解时可以根据上述步骤S1中采集的多面体物镜、光学接口、测量接口和机械安装位置接口和支撑装置位置三维空间数据作为输入参数，采用计算几何中的凸包算法对三维空间中已知的任意点进行求解，在满足安装空间的前提条件下，输出获得物镜的上下表面和外围板的结构。
步骤S3：物镜外部结构模型修正。
模型修正是指根据更多的设计约束对算法所得的物镜的外部结构进行有效的修正，它是一种对模型进行局部的、应用性的修正和完善的过程。所述模型修正包括：（1）简化物镜外围板数量，所述底板可根据应用需要进行局部结构简化，在本实施例中，外围板采用将初步规划的多边形面板模型进行多边形边数简化，合并距离较近的一些多边形顶点，从而使各多边形面板的多边形边数保持在最小；（2）考虑到物镜和主基板空间上存在干涉，将外围板的多面体结构分为上下多层进行规划。
第五实施方式
本实施方式提供了一种多面体物镜结构的制造方法，其流程与第一实施方式的流程相同，包括：
步骤S1：数据采集。
图3所示为所需的多面体物镜光路和以反射镜形式构成时的结构示意图，首先根据光学设计确定多面反射镜在三维空间的安装位置，以及光路在空间的布局。此外对多面体物镜内部的反射镜支撑装置、镜片装置、测量系统、调整装置和冷却系统装置的安装区域位置进行有效识别和定义，明确所有相关接口的位置点或安装区域的三维空间数据。在本实施例中，所述物镜，具体包括了所有的反射镜、所有反射镜支撑装置、镜筒装置、测量系统、调整执行装置和冷却系统装置。
图16针对EUV反射式物镜镜片位置空间复杂和安装结构的特点，以平面多边形（本实施例中为六边形）进行离散和近似，以此确定边界点，六边形的面积大于容纳反射镜、反射镜支撑装置、镜筒装置、测量系统、调整装置和冷却系统装置所需的安装区域，对所有的反射镜（在本实施例中为6面，但是实际应用时并不局限于6面，可以采用少于6面或6面以上的反射镜）及其安装附件装置进行多边形离散处理。
步骤S2：物镜外部结构构建。
参阅图17、18，在本实施例中，上述物镜外形结构为多边形面板，是采用凸包算法对所述物镜上表面和物镜下表面的以及内部所有物镜以多边形顶点在三维空间中进行求解获得的。
图18所示为多面体物镜、光学接口、测量接口和机械安装位置示意图，求解时可以根据上述步骤S1中采集的多面体物镜、光学接口、测量接口和机械安装位置接口和支撑装置位置三维空间数据作为输入参数，采用计算几何中的凸包算法对三维空间中已知的任意点进行求解，在满足安装空间的前提条件下，输出获得物镜的上下表面和外围板的结构。
步骤S3：物镜外部结构模型修正。
模型修正是指根据更多的设计约束对算法所得的物镜的外部结构进行有效的修正，它是一种对模型进行局部的、应用性的修正和完善的过程。所述模型修正包括：（1）简化物镜外围板数量，所述底板可根据应用需要进行局部结构简化，在本实施例中，外围板采用将初步规划的多边形面板模型进行多边形边数简化，合并距离较近的一些多边形顶点，从而使各多边形面板的多边形边数保持在最小；（2）考虑到物镜和主基板空间上存在干涉，将外围板的多面体结构分为上下多层进行规划。
第六实施方式
本实施方式提供了一种多面体物镜结构的制造方法，其流程与第一实施方式的流程相同，包括：
步骤S1：数据采集。
图3所示为所需的多面体物镜光路和以反射镜形式构成时的结构示意图，首先根据光学设计确定多面反射镜在三维空间的安装位置，以及光路在空间的布局。此外对多面体物镜内部的反射镜支撑装置、镜片装置、测量系统、调整装置和冷却系统装置的安装区域位置进行有效识别和定义，明确所有相关接口的位置点或安装区域的三维空间数据。在本实施例中，所述物镜，具体包括了所有的反射镜、所有反射镜支撑装置、镜筒装置、测量系统、调整执行装置和冷却系统装置。
参阅图19，针对EUV反射式物镜镜片位置空间复杂和安装结构的特点，以平面多边形（本实施例中为八边形）进行离散和近似，以此确定边界点，八边形的面积大于容纳反射镜、反射镜支撑装置、镜筒装置、测量系统、调整装置和冷却系统装置所需的安装区域，对所有的反射镜（在本实施例中为6面，但是实际应用时并不局限于6面，可以采用少于6面或6面以上的反射镜）及其安装附件装置进行多边形离散处理。
步骤S2：物镜外部结构构建。
参阅图20、21，在本实施例中，上述物镜外形结构为多边形面板，是采用凸包算法对所述物镜上表面和物镜下表面的以及内部所有物镜以多边形顶点在三维空间中进行求解获得的。
图21所示为多面体物镜、光学接口、测量接口和机械安装位置示意图，求解时可以根据上述步骤S1中采集的多面体物镜、光学接口、测量接口和机械安装位置接口和支撑装置位置三维空间数据作为输入参数，采用计算几何中的凸包算法对三维空间中已知的任意点进行求解，在满足安装空间的前提条件下，输出获得物镜的上下表面和外围板的结构。
步骤S3：物镜外部结构模型修正。
模型修正是指根据更多的设计约束对算法所得的物镜的外部结构进行有效的修正，它是一种对模型进行局部的、应用性的修正和完善的过程。所述模型修正包括：（1）简化物镜外围板数量，所述底板可根据应用需要进行局部结构简化，在本实施例中，外围板采用将初步规划的多边形面板模型进行多边形边数简化，合并距离较近的一些多边形顶点，从而使各多边形面板的多边形边数保持在最小；（2）考虑到物镜和主基板空间上存在干涉，将外围板的多面体结构分为上下多层进行规划。
本说明书中所述的只是本发明的较佳具体实施例，以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非对本发明的限制。凡本领域技术人员依本发明的构思通过逻辑分析、推理或者有限的实验可以得到的技术方案，皆应在本发明的范围之内。
Claims (10)
1.一种用于EUV曝光光刻装置的多面体物镜结构的制造方法，包括：
步骤S1：数据采集，
首先根据光学设计确定多面反射镜在三维空间的安装位置，以及光路在空间的布局，对多面体物镜内部的反射镜支撑装置、镜片装置、测量系统、调整装置和冷却系统装置的安装区域位置进行有效识别和定义，明确所有相关接口的位置点或安装区域的三维空间数据；
然后针对EUV反射式物镜镜片位置空间复杂和安装结构的特点，以平面多边形进行离散和近似，以此确定边界点，多边形的面积大于容纳反射镜、反射镜支撑装置、镜筒装置、测量系统、调整装置和冷却系统装置所需的安装区域，对所有的反射镜及其安装附件装置进行多边形离散处理；
步骤S2：物镜外部结构构建，
根据步骤S1中采集的多面反射镜、光学接口、测量结构和机械安装位置接口以及支撑装置位置三维空间数据作为输入参数，对三维空间中已知的任意点进行求解，在满足安装空间的前提下，输出物镜的上下表面和外围板的结构获得外形结构为多边形面板的物镜；
步骤S3：物镜外部结构模型修正，对获得的物镜的外部结构进行有效的修正。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述物镜包括了所有的反射镜、所有反射镜支撑装置、镜筒装置、测量系统、调整装置和冷却系统装置。
3.根据权利要求2所述的方法，其中，步骤S1中的所述反射镜为六面。
4.根据权利要求2或3所述的方法，其中，在步骤S2中采用凸包算法进行求解。
5.根据权利要求4所述的方法，其中，所述平面多边形为三角形、正方形、菱形、五边形、六边形、八边形其中之一。
6.根据权利要求5所述的方法，其中，步骤S3中的所述模型修正包括根据应用需要对底板进行局部结构简化。
7.根据权利要求5或6所述的方法，其中，步骤S3中的所述模型修正包括简化物镜外围板数量，将初步规划的多边形面板模型进行多边形边数简化，合并距离较近的一些多边形顶点，从而使各多边形面板的多边形边数保持在最小。
8.根据权利要求7所述的方法，其中，将外围板的多面体结构分为上下多层进行规划。
9.一种利用权利要求1-8中任意一种方法制得的用于EUV曝光光刻装置的多面体物镜，其特征在于：其多面体结构的上表面和下表面由权利要求4所述的多边形组成，四周外围的表面为若干多边形组成，所围成的几何形状呈中间段周长大，顶部和底部周长小的形状。
10.如权利要求9所述的用于EUV曝光光刻装置的多面体物镜，其中，所述多边形为三角形、四边形、五边形、六边形、八边形其中之一。
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