JP4797089B2 - メトロロジーフレーム用のフィードフォワード圧力パルス補償を有するリソグラフィ装置 - Google Patents

Description

[0001] 本発明は、メトロロジーフレーム用のフィードフォワード圧力パルス補償を有するリソグラフィ装置及びデバイス製造方法に関する。

[0002] リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板に、通常は基板のターゲット部分に適用する機械である。リソグラフィ装置は例えば、集積回路（ＩＣ）の製造に使用可能である。このような場合、代替的にマスク又はレチクルとも呼ばれるパターニングデバイスを使用して、ＩＣの個々の層上に形成すべき回路パターンを生成することができる。このパターンを、基板（例えばシリコンウェーハ）上のターゲット部分（例えば１つ又は幾つかのダイの一部を含む）に転写することができる。パターンの転写は通常、基板に設けた放射感応性材料（レジスト）の層への結像により行われる。一般的に、１枚の基板は、順次パターンが与えられる互いに近接したターゲット部分のネットワークを含んでいる。従来のリソグラフィ装置は、パターン全体をターゲット部分に１回で露光することによって各ターゲット部分が照射される、いわゆるステッパと、基板を所定の方向（「スキャン」方向）と平行あるいは逆平行にスキャンしながら、パターンを所定の方向（「スキャン」方向）に放射ビームでスキャンすることにより、各ターゲット部分が照射される、いわゆるスキャナを含む。パターンを基板にインプリントすることによっても、パターニングデバイスから基板へとパターンを転写することが可能である。

[0003] リソグラフィ装置においては、地盤に支持されるベースフレームと、ベースフレーム及び／又は地盤の振動から絶縁されたフレームであるいわゆるメトロロジーフレームの両方を提供することが周知である。メトロロジーフレームは、投影システムを支持する。使用時に、パターニングデバイス及び／又は基板を支持し、及び／又は保持するステージは、メトロロジーフレームの一部又はメトロロジーフレームに接続された部品に近接して高速で移動する。

[0004] そのようなステージが移動すると、圧縮されたガス／空気の「高圧」領域がステージの前方に出現し、拡張されたガス／空気の「低圧」領域がステージの後方に出現する。高圧はメトロロジーフレームに垂直の押圧力を作用させ、低圧はメトロロジーフレームに引っ張り力を作用させる。その結果、メトロロジーフレームにはトルクが印加され、メトロロジーフレームは回転する。メトロロジーフレームとベースフレームとの間のエアマウントがメトロロジーフレームを静止させる働きをする。

[0005] しかし、例えばステージが移動するスキャン周波数が３Ｈｚの場合、メトロロジーフレームの＋／−３０〜６０μｍという残りの動きが発生する場合がある。メトロロジーフレームのこうした動きは、とりわけ、メトロロジーフレームに接続された投影システムの準静的変形を生じさせる場合がある。特にシステムの投影レンズが変形する場合があり、レンズマントルに対するレンズ要素の内部変位が発生する場合がある。これらの変形は、ステージ位置測定によっては測定されず、従ってステージによって追跡されない。その結果、０．４ｎｍを超えるオーバレイ状況が発生する場合がある。

[0006] 本発明のある実施形態は、装置の物体のそのメトロロジーフレームに対する動きによって引き起こされる圧力パルスの効率的なフィードフォワード補償機構を目的とする。

[0007] 本発明のある実施形態によれば、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成することができるパターンニングデバイスを支持するように構成された支持構造と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、パターン付放射ビームを基板のターゲット位置に投影するように構成された投影システムと、振動絶縁支持デバイスによって支持されたメトロロジーフレームと、メトロロジーフレームに対して移動可能な物体と、メトロロジーフレーム及び／又は投影システムに対する物体の位置、速度及び／又は加速度を決定する変位決定ユニットとを含むリソグラフィ装置であって、メトロロジーフレームに補正力及び／又はトルクを印加する少なくとも１つのアクチュエータが提供され、メトロロジーフレームに対する物体の動きに起因するメトロロジーフレームに作用する圧力パルスを補償するために、物体の決定された位置、速度及び／又は加速度に基づいてメトロロジーフレームに印加される補正力及び／又はトルクを計算するように構成された制御装置が提供されるリソグラフィ装置が提供される。

[0008] 本発明のある実施形態によれば、パターニングデバイスから基板上へパターンを転写するステップを含み、さらに放射ビームを調節するステップと、パターニングデバイスを支持するステップと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成するステップと、基板テーブル上に基板を保持するステップと、パターン付放射ビームを基板のターゲット位置に投影するステップと、振動絶縁支持デバイスによってメトロロジーフレームを支持するステップと、メトロロジーフレームに対して装置の物体を移動させるステップと、メトロロジーフレームに対する物体の位置、速度及び／又は加速度を決定するステップと、メトロロジーフレームに対する物体の動きに起因するメトロロジーフレームに作用する圧力パルスを補償するために、物体の決定された位置、速度及び／又は加速度に基づいてメトロロジーフレームに印加される補正力及び／又はトルクを計算するステップと、メトロロジーフレームに補正力及び／又はトルクを印加するステップとを含むデバイス製造方法が提供される。

[0009] 次に、本発明の実施形態を添付の略図を参照しながら、ほんの一例として説明する。図面では対応する参照記号は対応する部品を示している。

[0010]本発明の実施形態によるリソグラフィ装置を示した図である。 [0011]基板テーブルのある位置でのメトロロジーフレームの圧力パルス補償を備えた図１の装置の部分概略図である。 [0012]本発明のある実施形態による図２の制御装置／フィルタの入力及び出力変数を示す図である。

[0013] 図１は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示したものである。この装置は、放射ビームＢ（例えばＵＶ放射又はＤＵＶ放射）を調節するように構成された照明システム（イルミネータ）ＩＬと、パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第一位置決めデバイスＰＭに接続されたパターニングデバイス支持構造（例えばマスクテーブル）ＭＴとを含む。また、この装置は、基板（例えばレジストコートウェーハ）Ｗを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第二位置決めデバイスＰＷに接続された基板テーブル（例えばウェーハテーブル）ＷＴ又は「基板支持構造」を含む。さらに、この装置は、パターニングデバイスＭＡによって放射ビームＢに与えられたパターンを基板Ｗのターゲット部分Ｃ（例えば１つ又は複数のダイを含む）に投影するように構成された投影システム（例えば屈折投影レンズシステム）ＰＳを含む。

[0014] 照明システムは、放射の誘導、整形、又は制御を行うための、屈折、反射、磁気、電磁気、静電気型の光学コンポーネント又は他のタイプの光学コンポーネント、又はその任意の組み合わせなどの種々のタイプの光学コンポーネントを含んでいてもよい。

[0015] パターニングデバイス支持構造は、パターニングデバイスの向き、リソグラフィ装置の設計、及びパターニングデバイスが真空環境内で保持されているか否かなどの他の条件に応じた形でパターニングデバイスを保持する。パターニングデバイス支持構造は、機械的、真空、静電気又は他のクランピング技術を用いてパターニングデバイスを保持することができる。パターニングデバイス支持構造は、例えば、必要に応じて固定するか、又は可動式のフレーム又はテーブルであってもよい。パターニングデバイス支持構造によって、例えば、投影システムに対してパターニングデバイスが確実に所望の位置にあるようにすることができる。本明細書に記載する「レチクル」又は「マスク」という用語のいかなる使用も「パターニングデバイス」というより一般的な用語と同義と考えてよい。

[0016] 本明細書において使用する「パターニングデバイス」という用語は、基板のターゲット部分にパターンを生成するように、放射ビームの断面にパターンを与えるために使用し得る任意のデバイスを指すものとして広義に解釈されるべきである。ここで、放射ビームに与えられるパターンは、例えばパターンが位相シフトフィーチャ又はいわゆるアシストフィーチャを含む場合、基板のターゲット部分における所望のパターンに正確には対応しないことがある点に留意されたい。一般的に、放射ビームに与えられるパターンは、集積回路などのターゲット部分に生成されるデバイスの特別な機能層に相当する。

[0017] パターニングデバイスは透過性又は反射性でよい。パターニングデバイスの例には、マスク、プログラマブルミラーアレイ、及びプログラマブルＬＣＤパネルがある。マスクはリソグラフィにおいて周知のものであり、これには、バイナリマスク、レベンソン型(alternating)位相シフトマスク、ハーフトーン型(attenuated)位相シフトマスクのようなマスクタイプ、さらには様々なハイブリッドマスクタイプも含まれる。プログラマブルミラーアレイの一例として、小さなミラーのマトリクス配列を使用し、そのミラーは各々、入射する放射ビームを異なる方向に反射するよう個々に傾斜することができる。傾斜したミラーは、ミラーマトリクスによって反射する放射ビームにパターンを与える。

[0018] 本明細書において使用する「投影システム」という用語は、使用する露光放射、又は液浸液の使用や真空の使用などの他の要因に合わせて適宜、屈折光学システム、反射光学システム、反射屈折光学システム、磁気光学システム、電磁気光学システム及び静電気光学システム、又はその任意の組み合わせを含む任意のタイプの投影システムを網羅するものとして、広義に解釈されるべきである。本明細書において「投影レンズ」という用語を使用した場合、これはさらに一般的な「投影システム」という用語と同義と見なされる。

[0019] 本明細書で示すように、本装置は透過タイプである（例えば透過マスクを使用する）。あるいは、装置は反射タイプでもよい（例えば上記で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイを使用する、又は反射マスクを使用する）。

[0020] リソグラフィ装置は２つ（デュアルステージ）又はそれ以上の基板テーブル又は「基板支持構造」（及び／又は２つ以上のマスクテーブル又は「マスク支持構造」）を有するタイプでよい。このような「マルチステージ」機械においては、追加のテーブル又は支持構造を並行して使用するか、１つ又は複数の他のテーブル又は支持構造を露光に使用している間に１つ又は複数のテーブル又は支持構造で予備工程を実行することができる。

[0021] リソグラフィ装置は、投影システムと基板との間の空間を充填するように、基板の少なくとも一部を水などの比較的高い屈折率を有する液体で覆えるタイプでもよい。液浸液は、例えばマスクと投影システムの間など、リソグラフィ装置の他の空間に適用することもできる。液浸技術を用いて投影システムの開口数を増加させることもできる。本明細書で使用する「液浸」という用語は、基板などの構造を液体に沈めなければならないという意味ではなく、露光中に投影システムと基板の間に液体が存在するというほどの意味である。

[0022] 図１を参照すると、イルミネータＩＬは放射源ＳＯから放射ビームを受ける。放射源とリソグラフィ装置とは、例えば放射源がエキシマレーザである場合に、別々の構成要素であってもよい。このような場合、放射源はリソグラフィ装置の一部を形成すると見なされず、放射ビームは、例えば適切な誘導ミラー及び／又はビームエクスパンダなどを備えるビームデリバリシステムＢＤの助けにより、放射源ＳＯからイルミネータＩＬへと渡される。他の事例では、例えば放射源が水銀ランプの場合は、放射源がリソグラフィ装置の一体部分であってもよい。放射源ＳＯ及びイルミネータＩＬは、必要に応じてビームデリバリシステムＢＤとともに放射システムと呼ぶことができる。

[0023] イルミネータＩＬは、放射ビームの角度強度分布を調節するように構成されたアジャスタＡＤを備えていてもよい。通常、イルミネータの瞳面における強度分布の外側及び／又は内側半径範囲（一般にそれぞれ、σ-outer及びσ-innerと呼ばれる）を調節することができる。また、イルミネータＩＬは、インテグレータＩＮ及びコンデンサＣＯなどの他の種々のコンポーネントを備えていてもよい。イルミネータを用いて放射ビームを調整し、その断面にわたって所望の均一性と強度分布とが得られるようにしてもよい。

[0024] 放射ビームＢは、パターニングデバイス支持構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴ上に保持されたパターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡに入射し、パターニングデバイスによってパターンが与えられる。放射ビームＢは、パターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡを通り抜けて、投影システムＰＳを通過し、投影システムＰＳは、基板Ｗのターゲット部分Ｃ上にビームを集束する。第二位置決めデバイスＰＷ及び位置センサＩＦ（例えば、干渉計デバイス、リニアエンコーダ又は容量センサ）の助けにより、基板テーブルＷＴを、例えば放射ビームＢの経路において様々なターゲット部分Ｃに位置決めするように正確に移動できる。同様に、第一位置決めデバイスＰＭ及び別の位置センサ（図１には明示されていない）を使用して、例えば、マスクライブラリから機械的に検索した後に、又はスキャン中に、放射ビームＢの経路に対してパターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡを正確に位置決めすることができる。一般に、パターニングデバイス支持構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴの移動は、第一位置決めデバイスＰＭの一部を形成するロングストロークモジュール（粗動位置決め）とショートストロークモジュール（微動位置決め）の助けを借りて実現することができる。同様に、基板テーブルＷＴ又は「基板支持構造」の移動は、第二位置決めＰＷの一部を形成するロングストロークモジュールとショートストロークモジュールを使用して実現できる。ステッパの場合（スキャナとは対照的に）、パターニングデバイス支持構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴをショートストロークアクチュエータのみに接続するか、固定してもよい。パターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡ及び基板Ｗは、マスクアライメントマークＭ１、Ｍ２及び基板アライメントマークＰ１、Ｐ２を使用して位置合わせすることができる。図示のような基板アライメントマークは、専用のターゲット部分を占有するが、ターゲット部分の間の空間に配置してもよい（スクライブレーンアライメントマークとして知られる）。同様に、パターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡ上に複数のダイを設ける状況では、マスクアライメントマークをダイ間に配置してもよい。

[0025] 図示のリソグラフィ装置は以下のモードのうち少なくとも１つにて使用可能である。

[0026] １．ステップモードにおいては、パターニングデバイス支持構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴ又は「マスク支持構造」及び基板テーブルＷＴ又は「基板支持構造」が基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームに与えられたパターン全体が１回でターゲット部分Ｃに投影される（すなわち、１回の静止露光）。次に、基板テーブルＷＴ又は「基板支持構造」がＸ及び／又はＹ方向に移動され、様々なターゲット部分Ｃを露光することができる。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、１回の静止露光で像が形成されるターゲット部分Ｃのサイズが制限される。

[0027] ２．スキャンモードにおいては、放射ビームに与えられたパターンがターゲット部分Ｃに投影されている間、パターニングデバイス支持構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴ又は「マスク支持構造」及び基板テーブルＷＴ又は「基板支持構造」が同期してスキャンされる（１回の動的露光）。パターニングデバイス支持構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴ又は「マスク支持構造」に対する基板テーブルＷＴ又は「基板支持構造」の速度及び方向は、投影システムＰＳの拡大（縮小）及び画像反転特性によって求めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、１回の動的露光におけるターゲット部分の幅（非スキャン方向）が制限され、スキャン運動の長さによってターゲット部分の高さ（スキャン方向）が決まる。

[0028] ３．別のモードでは、パターニングデバイス支持構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴ又は「マスク支持構造」が基本的に静止状態に維持されてプログラマブルパターニングデバイスを保持する。放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Ｃに投影する間、基板テーブルＷＴ又は「基板支持構造」が移動又はスキャンされる。このモードでは、一般に、パルス放射線源が使用される。スキャン中、基板テーブルＷＴ又は「基板支持構造」が移動するたびに、又は連続する放射パルスの間に、適宜、プログラマブルパターニングデバイスが更新される。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。

[0029] 上述した使用モードの組み合わせ及び／又は変形、又は全く異なる使用モードも利用できる。

[0030] 図２は、図１のリソグラフィ装置の部分概略図である。図２は、ベースフレームＢＦとメトロロジーフレームＭＦの両方に対して逆の水平方向に移動可能な基板テーブルＷＴとバランスマスＢＭとを示す。メトロロジーフレームＭＦは、ベースフレームＢＦ上のいくつかの振動絶縁支持デバイスＩＳＤで支持されている。ベースフレームは、地盤に支持されている。基板テーブルＷＴ及びバランスマスＢＭは、ベースフレームＢＦ上に支持されている。各振動絶縁支持デバイスＩＳＤは、スプリングＳ、例えば、エアマウントなどのガスベアリングと、アクチュエータＦ、特にメトロロジーフレームＭＦ上に垂直の力を作用させるアクチュエータを含む。いくつかの振動絶縁支持デバイスＩＳＤのアクチュエータＦは共にメトロロジーフレームに力を作用させるだけではなく、追加的に、又は代替的にメトロロジーフレーム上にトルクを作用させることができる。

[0031] 基板テーブルＷＴは、メトロロジーフレームＭＦに対して左右に移動でき、特にメトロロジーフレームＭＦの底面の下で水平方向に移動可能である。変位測定デバイス又はセンサは、メトロロジーフレームＭＦ（図示せず）に接続されている。変位測定デバイス又はセンサは、メトロロジーフレームＭＦ及び／又はメトロロジーフレームＭＦによって支持された投影システムに対して基板テーブルＷＴの位置、速度及び／又は加速度及び／又は他の位置に関する信号を測定するように構成され配置されている。測定された位置は、制御ループ内で基板テーブルＷＴを所望の位置に配置するために使用される。動作時には、測定された位置は、位置セットポイント（位置設定点）と比較され、その差が制御装置によって最小化される。位置セットポイントは、セットポイントジェネレータによって生成される。この差は、大きさが１０ｎｍ程度であるため、基板ＷＴの位置セットポイントと基板テーブルＷＴの測定された位置の両方が、基板テーブルＷＴの位置の正確な測定を提供する。

[0032] 基板テーブルＷＴが移動すると、「高圧」領域ＨＰＡが基板テーブルＷＴの前方に広がり、「低圧」領域ＬＰＡが基板テーブルＷＴの後方に広がる。高圧は、局所的な実質的に上を向いた押圧力ＦｕをメトロロジーフレームＭＦに作用させ、一方、低圧は、局所的な実質的に下を向いた引っ張り力ＦｄをメトロロジーフレームＭＦに作用させる。補正を加えないとしたら、結果として、トルクＴがメトロロジーフレームＭＦ上に印加され、メトロロジーフレームＭＦは幾分回転するであろう。メトロロジーフレームＭＦ上の結果として生じるトルクＴは、基板テーブルＷＴの加速度と速度との時間依存関数である。また、メトロロジーフレームＭＦの下の基板テーブルＷＴの絶対位置は、結果として生じるトルクＴに影響を与える。例えば、空気が両側面からより容易に供給できるために、作業領域の縁部、すなわち、基板テーブルＷＴがその部分の下で動くメトロロジーフレームＭＦの領域の縁部付近で、広がった低圧領域ＬＰＡがメトロロジーフレームＭＦに作用させる引っ張り力Ｆｄが小さくなるという可能性がある。その場合、高圧領域ＨＰＡからの押圧力Ｆｕは大きいままであるため、メトロロジーフレームＭＦに正味の垂直力が作用する場合がある。

[0033] 本発明のある実施形態によれば、振動絶縁支持デバイスＩＳＤのアクチュエータＦを用いてベースフレームＢＦに対するメトロロジーフレームＭＦ上のトルクを生成する補正力が印加される。このために、基板テーブルＷＴの変位測定デバイスＤＭＤによって所与の瞬間に測定された位置、速度及び／又は加速度、又は基板テーブルの瞬間的な位置、速度及び／又は加速度セットポイントの値に基づいてメトロロジーフレームＭＦに印加される補正力／トルクを計算するように構成された制御装置Ｃが提供される。基板テーブルＷＴの位置セットポイントと実際の位置との差は、特にこのフィードフォワードでの所望の精度に関して極めて小さい。使用時、例えばスキャン動作中に、制御装置Ｃは、毎回、基板テーブルＷＴの測定された位置、速度及び／又は加速度、又は基板テーブルＷＴのセットポイントの位置、速度及び／又は加速度を受信し、所望の補正力／トルクを計算し、アクチュエータＦがメトロロジーフレームＭＦに計算された補正力／トルクを印加できるようにアクチュエータＦに向けてステアリング信号を送出する。こうして、基板テーブルＷＴの動きから発生する圧力パルスによるいかなるメトロロジーフレームＭＦの動きも補正される。

[0034] ステージ、この例では基板テーブルＷＴの動きの結果としての圧力の上昇（ＨＰＡ内の）は、基板ステージの加速度に実質的に正比例する。ステージの背後の圧力の低下（ＬＰＡ内の）についてもこれはあてはまる。メトロロジーフレームＭＦ上に加わるトルクは、ＨＰＡとＬＰＡの圧力差に正比例し、従って、ステージの加速度にも正比例する。これは、基本的に、ステージの動きによって生成された圧力パルスの影響を打ち消すメトロロジーフレーム上で必要な補正トルクは、ステージの加速度に正比例するということを意味する。比例係数は、ステージの位置に依存する。特にステージの作業領域の縁部では、ステージを取り囲む空気が外界と連通し、それによって比例定数が小さくなる。また、ＨＰＡ内の圧力は、ＬＰＡ内の圧力低下とは（ステージの位置に応じて）異なる上昇を示す。次に、メトロロジーフレーム上には、正味の垂直力が働き、垂直方向の補正力も必要である。実際、空気流に影響する多数のコンポーネントを含むマシンの構造が原因で、６自由度の力及び／又はトルクはステージの動きによって引き起こされる圧力パルスの結果としてメトロロジーフレーム上に作用する。すべての力とトルクはステージの加速度に実質的に正比例し、比例係数はステージの位置に依存する。また、同じコンポーネント内に複数のステージがある場合、他のステージの位置は、メトロロジーフレーム上の圧力パルスの効果に影響する場合がある。これは、このステージの位置によってコンポーネント内の空気の流れやすさが決まり、ＨＰＡ及びＬＰＡ内の圧力増加に影響するからである。これらの効果は、すべて図３の「フィルタ」というブロックに含まれる。

[0035] 基板テーブルＷＴの測定された位置、速度及び／又は加速度と印加する所望の補正力／トルクとの間の依存度は数学的に決定できる。しかし、正確な制御装置（フィルタ）の内容は較正によって決定され、制御装置に入力される。様々な位置で基板テーブルを大きく動かすことで、加速度、速度及び位置への正確な依存度を決定することができる。

[0036] 従って、本発明のある実施形態によれば、基板テーブルの迅速な動きによって引き起こされる圧力パルスを効率的に補正することができる信頼性が高いフィードフォワードシステムが提供される。基板テーブルＷＴとメトロロジーフレームＭＦとの間の空間は小さく、実際、圧力パルスを阻止するように構成された（鋼製の）プレート部材を基板テーブルＷＴとメトロロジーフレームＭＦとの間に配置するには小さすぎるため、このことは特に有益である。本発明のある実施形態による補正の結果、メトロロジーフレームＭＦの動きが大幅に低減され、リソグラフィ工程中のオーバレイが改善される。実際、０．４ｎｍのオーバレイの改善が達成される。

[0037] 図示の実施形態以外に、多数の変形実施形態が可能である。基板テーブルの動きが原因の圧力パルスの補正の代わりに、他の物体が原因の圧力パルスも補正することができる。例えば、高速で移動できるリソグラフィ装置のパターニングデバイスの支持構造の動きに起因する圧力パルスや、装置の振動絶縁フレーム部に対する加速度も同様に補正することができる。さらに、別のタイプの測定デバイス及び／又は別のタイプの振動絶縁支持デバイス、例えば、磁石、弱いスプリングも使用することができる。振動絶縁支持デバイスのアクチュエータを使用する代わりに、メトロロジーフレームに補正力／トルクを作用させる別々の専用アクチュエータを使用することもできる。図示の例では、基板テーブルはメトロロジーフレーム上に直接支持されていないが、バランスマスと共に、ベースフレーム上に支持されている。変形例では、メトロロジーフレームに対して移動可能で、その上に支持された物体に起因する圧力パルスを補正するために本発明のある実施形態を使用することもできる。

[0038] 本文ではＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用に特に言及しているが、本明細書で説明するリソグラフィ装置には他の用途もあることを理解されたい。例えば、これは、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用誘導及び検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドなどの製造である。こうした代替的な用途に照らして、本明細書で「ウェーハ」又は「ダイ」という用語を使用している場合、それぞれ、「基板」又は「ターゲット部分」という、より一般的な用語と同義と見なしてよいことが、当業者には認識される。本明細書に述べている基板は、露光前又は露光後に、例えばトラック（通常はレジストの層を基板に塗布し、露光したレジストを現像するツール）、メトロロジーツール及び／又はインスペクションツールで処理することができる。適宜、本明細書の開示は、以上及びその他の基板処理ツールに適用することができる。さらに基板は、例えば多層ＩＣを生成するために、複数回処理することができ、したがって本明細書で使用する基板という用語は、既に複数の処理済み層を含む基板も指すことができる。

[0039] 以上、光リソグラフィの分野での本発明の実施形態の使用に特に言及してきたが、本発明は、他の用途、例えばインプリントリソグラフィでも使用することができ、文脈によっては、光リソグラフィに限定されないことを理解されたい。インプリントリソグラフィでは、パターニングデバイス内のトポグラフィが基板上に作成されたパターンを画定する。パターニングデバイスのトポグラフィは、基板に供給されたレジスト層内に刻印され、電磁放射、熱、圧力又はそれらの組み合わせを印加することでレジストは硬化する。パターニングデバイスはレジストから取り除かれ、レジストが硬化すると内部にパターンが残される。

[0040] 本明細書で使用する「放射」及び「ビーム」という用語は、紫外線（ＵＶ）放射（例えば、３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍ若しくは１２６ｎｍ、又はこれら辺りの波長を有する）及び極端紫外線（ＥＵＶ）放射（例えば、５〜２０ｎｍの範囲の波長を有する）、並びにイオンビーム又は電子ビームなどの粒子ビームを含むあらゆるタイプの電磁放射を網羅する。

[0041] 「レンズ」という用語は、状況が許せば、屈折、反射、磁気、電磁気及び静電光学部品を含む様々なタイプの光学部品のいずれか１つ又はその組み合わせを指す。

[0042] 以上、本発明の特定の実施形態を説明したが、説明とは異なる方法でも本発明を実践できることが理解される。例えば、本発明の実施形態は、上記で開示したような方法を述べる機械読み取り式命令の１つ又は複数のシーケンスを含むコンピュータプログラム、又はこのようなコンピュータプログラムを内部に記憶したデータ記憶媒体（例えば半導体メモリ、磁気又は光ディスク）の形態をとることができる。

[0043] 上記の説明は例示的であり、限定的ではない。したがって、請求の範囲から逸脱することなく、記載されたような本発明を改修できることが当業者には明白である。

Claims (12)

1. 放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成することができるパターンニングデバイスを支持するように構成された支持構造と、
   基板を保持するように構成された基板テーブルと、
   前記パターン付放射ビームを前記基板のターゲット位置に投影するように構成された投影システムと、
   振動絶縁支持デバイスによって支持されたメトロロジーフレームと、
   前記メトロロジーフレームに対して移動可能な物体と、
   前記メトロロジーフレーム、前記投影システム、あるいはメトロロジーフレームと投影システムの両方に対する物体の位置、速度、加速度、あるいはそれらの任意の組み合わせを決定するように構成されたセンサと、
   前記メトロロジーフレームに補正力を印加するように構成されたアクチュエータと、
   前記メトロロジーフレームに対する物体の動きに起因する前記メトロロジーフレームに作用する圧力パルスを補償するために、前記物体の決定された位置、速度、加速度、あるいはそれらの任意の組み合わせに基づいて前記メトロロジーフレームに印加される補正力を計算するように構成された制御装置と、
   を備えるリソグラフィ装置。
2. 前記物体が、前記基板テーブルである、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
3. 前記センサが、レーザ干渉計である、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
4. 前記基板テーブルを所望の位置に配置するために、セットポイントシグナルを印加するように構成されたセットポイントジェネレータをさらに含む、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
5. 前記アクチュエータが、前記振動絶縁支持デバイスの一部である、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
6. 前記振動絶縁支持デバイスが、ガススプリングを備える、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
7. 前記物体の位置、速度、加速度、あるいはそれらの任意の組み合わせと前記制御装置内で印加される前記補正力との間の依存度が較正によって決定され、前記制御装置に入力される、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
8. 前記物体が、前記メトロロジーフレームに隣接した方向に沿って移動可能である、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
9. 前記物体が、前記メトロロジーフレームの底面の下で水平方向に移動可能であり、前記アクチュエータが、前記メトロロジーフレームに垂直力を作用させるように構成される、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
10. 前記補正力が、前記メトロロジーフレーム上にトルクを発生させる、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
11. パターン付放射ビームを基板のターゲット位置に投影するステップと、
    振動絶縁支持デバイスによってメトロロジーフレームを支持するステップと、
    前記メトロロジーフレームに対して物体を移動させるステップと、
    前記メトロロジーフレームに対する前記物体の位置、速度、加速度、あるいはそれらの任意の組み合わせを決定するステップと、
    前記物体に対する前記物体の動きに起因する前記メトロロジーフレームに作用する圧力パルスを補償するために、前記物体の決定された位置、速度、加速度、あるいはそれらの任意の組み合わせに基づいて前記メトロロジーフレームに印加される補正力を計算するステップと、
    を含むデバイス製造方法。
12. 前記補正力が、前記メトロロジーフレーム上にトルクを発生させる、請求項１１に記載の方法。

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