JP5196669B2 - リソグラフィ装置 - Google Patents
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Description
Claims (9)
- 放射ビームを調整する照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するサポートと、
基板を保持する基板ホルダを備える基板テーブルと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影する投影システムと、を備え、
前記基板テーブルが、
前記基板ホルダを前記基板テーブルに対して摩擦のない状態で浮かして支持するベアリングと、
前記基板ホルダの複数の側部にて前記基板テーブルに固定する撓み部と、
前記基板テーブルに対する前記基板ホルダの位置及び方向を測定する1つ又は複数のセンサと、
ロングストロークムーバに力を加えるロングストロークモジュールと、前記ロングストロークムーバ及び前記基板テーブルの間に力を加えるショートストロークモジュールと、を備えるテーブルドライブを備える基板ホルダ位置決めシステムと、
を備え、
前記撓み部は、前記基板ホルダを前記基板テーブルに対して前記基板の半径方向に移動可能に保持するものであり、
前記基板ホルダ位置決めシステムは、前記センサが測定した前記基板テーブルに対する前記基板ホルダの位置及び方向に基づいて前記基板ホルダを位置決めするように構成されている、
リソグラフィ装置。 - 前記センサが容量センサ又は光学エンコーダである、請求項1に記載の装置。
- 前記ベアリングがガスベアリングである、請求項1に記載の装置。
- 前記ベアリングが撓みベアリングを備える、請求項1に記載の装置。
- 前記ベアリングがアクティブベアリングを備える、請求項1に記載の装置。
- 前記アクティブベアリングが1つ又は複数の可変リラクタンス型アクチュエータを備える、請求項5に記載の装置。
- 前記アクティブベアリングが1つ又は複数のローレンツアクチュエータを備える、請求項5に記載の装置。
- 前記ロングストロークモジュールが、前記ロングストロークムーバと前記リソグラフィ装置の残りの部分との間に力を加える、請求項1に記載の装置。
- 前記ロングストロークモジュールが、前記ロングストロークムーバと前記リソグラフィ装置内で動作可能なバランスマスとの間に力を加える、請求項1に記載の装置。
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