JP5145379B2 - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
Claims (11)
- リソグラフィ装置であって、
放射ビームの断面にパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持する支持体と、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影する投影システムと、
前記基板テーブル及び/又は前記支持体に設けられ前記基板テーブル及び/又は前記支持体の加速度を測定する複数の加速度計と、
前記基板テーブル及び/又は前記支持体の前記位置を測定し、位置測定信号を提供する複数の測定センサを含む測定システムと、
前記加速度計と通信し前記加速度計によって測定された前記加速度から加速度に基づく位置信号を計算するカルキュレータと、
前記測定システムと前記カルキュレータとに接続されたコントローラと
を備え、
前記コントローラが、前記複数の測定センサのうち特定の測定センサが前記位置を測定できない場合、前記複数の加速度計のうち前記特定の測定センサに対応する加速度計に基づく位置信号、及び、前記複数の測定センサのうち他の測定センサの前記測定信号のいずれかを選択可能であるように構成された、
リソグラフィ装置。 - 前記カルキュレータが、前記加速度を2回積分し、前記加速度に基づく位置信号を計算する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記測定センサが、範囲の第一部分にわたって第一方向で前記基板テーブル及び/又は前記支持体の前記位置を測定する、請求項1又は2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記コントローラが、前記第一範囲にわたって前記測定センサの前記測定信号を、及び前記範囲の第二部分にわたって前記加速度に基づく信号を選択する、請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記測定センサが、前記範囲の前記第一部分にわたって延在するスケールに対して前記センサの位置を測定するインクリメンタルエンコーダである、請求項4に記載のリソグラフィ装置。
- 前記インクリメンタルエンコーダが、前記Z方向及び少なくとも1つの直線方向に対して位置を測定する、請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- 前記複数の測定センサは4つの測定センサであり、毎回、前記4つの測定センサのうち少なくとも3つが、スケールに対するその位置を測定している、請求項1から6のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記4つの測定センサがそれぞれ前記加速度計を備える、請求項7に記載のリソグラフィ装置。
- 前記コントローラが、前記加速度計の特定の周波数を基準として前記位置信号又は前記測定信号を選択する、請求項1から8のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記特定の周波数が約200Hzである、請求項9に記載のリソグラフィ装置。
- パターニングデバイスから基板にパターンを転写すること、
複数の加速度計によって前記基板及び/又は前記パターニングデバイスの加速度を測定すること、
前記基板及び/又は前記パターニングデバイスの加速度に基づく位置信号を計算すること、
複数の測定センサによって前記基板及び/又は前記パターニングデバイスの位置を測定すること
を含み、
前記複数の加速度計と前記複数の測定センサとにはコントローラが接続されており、
前記複数の測定センサのうち特定の測定センサが前記位置を測定できない場合、前記コントローラによって、前記複数の加速度計のうち前記特定の測定センサに対応する加速度計に基づく位置信号、及び、前記複数の測定センサのうち他の測定センサの前記測定信号のいずれかを選択する、
デバイス製造方法。
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