JP4668248B2 - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4668248B2 JP4668248B2 JP2007212516A JP2007212516A JP4668248B2 JP 4668248 B2 JP4668248 B2 JP 4668248B2 JP 2007212516 A JP2007212516 A JP 2007212516A JP 2007212516 A JP2007212516 A JP 2007212516A JP 4668248 B2 JP4668248 B2 JP 4668248B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- coil assembly
- path
- coils
- gas flow
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70775—Position control, e.g. interferometers or encoders for determining the stage position
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70758—Drive means, e.g. actuators, motors for long- or short-stroke modules or fine or coarse driving
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
Claims (12)
- リソグラフィ装置用のステージシステムであって、
可動ステージと、
複数のコイルを含む静止モータコイルアセンブリであって、前記複数のコイルは、前記可動ステージの磁石アセンブリと相互作用することによって前記可動ステージを駆動するための移動磁気モータを形成する、静止モータコイルアセンブリと、
前記可動ステージの動作エリア内での位置を測定するための位置測定システムであって、前記位置測定システムは、前記静止モータコイルアセンブリの一部の上方を前記ステージに向かって延在する測定ビームパスに沿って測定ビームを移動させるように構成されており、前記静止モータコイルアセンブリは、前記複数のコイル間でかつ前記測定ビームパスの下方に延在するコイルアセンブリパスを有する、位置測定システムと、を備え、
前記測定ビームパスと前記コイルアセンブリパスの間には、ガス流を前記測定ビームパスから離れる方向に誘導するガス流誘導デバイスが設けられており、
前記ガス流誘導デバイスは、ほぼV字形の断面を有するプロファイルを備え、前記V字形断面の頂点部分が前記コイルアセンブリパス方向に配向している、ステージシステム。 - 前記ガス流誘導デバイスがプレートを備え、当該プレートの表面が前記モータコイルアセンブリの表面とほぼ平行に延在する、請求項1に記載のステージシステム。
- 前記コイルアセンブリパスから前記測定ビームパスに向かって流れるガス流を提供するためのガス流発生デバイスを備える、請求項1に記載のステージシステム。
- 前記ステージの移動方向における前記ステージの前記磁石間の距離が、少なくとも、前記ステージが保持するエレメントの光学的に使用可能なサイズに等しい、請求項1に記載のステージシステム。
- 前記ステージがリソグラフィ装置の基板テーブルを備え、前記位置測定システムがほぼ直交する二本の測定ビームパスに沿って二本の測定ビームを移動させ、各測定ビームパスが前記モータコイルアセンブリの各部分上に延在し、前記コイルアセンブリが前記複数のコイル間に二本のパスを備え、各パスが各前記測定ビームパスの下方に延在する、請求項1に記載のステージシステム。
- 前記可動ステージが、前記コイルアセンブリと相互作用する四つの磁石を備え、前記四つの磁石がそれぞれ前記可動ステージの各隅に配され、前記可動ステージの一側面に並ぶ二つの磁石間の距離が少なくとも前記側面の寸法に等しい、請求項4に記載のステージシステム。
- 前記動作エリアが、露光エリア及び基板表面平坦度測定エリアの一方を備える、請求項1に記載のステージシステム。
- 前記磁石アセンブリが、複数の磁石を備える、請求項1に記載のステージシステム。
- リソグラフィ装置用のステージシステムであって、
可動ステージと、
前記可動ステージを位置決めするように構成された位置決めデバイスであって、前記位置決めデバイスはコイルアセンブリ及び磁石アセンブリを含み、前記コイルアセンブリは、前記磁石アセンブリと相互作用して前記可動ステージを位置決めするように構成されており、前記コイルアセンブリは少なくとも一対のコイルを含み、前記一対のコイルはその間にパスが画定できるように間隔をあけて配されている、位置決めデバイスと、
前記可動ステージの位置を測定するように構成された位置測定システムであって、前記位置測定システムは、前記コイルアセンブリの一部の上方を前記可動ステージに向かって延在する測定ビームパスに沿って測定放射ビームを出すように構成されており、前記測定ビームパスは、前記一対のコイル間のパスとほぼ平行かつその上方に配置されている、位置測定システムと、
前記測定ビームパスと前記一対のコイル間のパスとの間に配されたガス流誘導デバイスとを備え、
前記ガス流誘導デバイスが、ガス流を前記測定ビームパスから離れる方向に誘導するように構成されており、前記ガス流誘導デバイスは、ほぼV字形の断面を有するプロファイルを備え、前記V字形断面の頂点部分が前記一対のコイル間のパスに向かって配向している、ステージシステム。 - 前記ガス流誘導デバイスがプレートを備え、前記プレートの表面が前記コイルアセンブリの表面とほぼ平行に延在する、請求項9に記載のステージシステム。
- 前記一対のコイル間のパスから前記測定ビームパスに向かって流れるガス流を提供するように構成されたガス流発生デバイスを備える、請求項9に記載のステージシステム。
- 前記コイルアセンブリが一対以上のコイルを含む、請求項9に記載のステージシステム。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/509,807 US7420299B2 (en) | 2006-08-25 | 2006-08-25 | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008072100A JP2008072100A (ja) | 2008-03-27 |
JP4668248B2 true JP4668248B2 (ja) | 2011-04-13 |
Family
ID=39223932
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007212516A Expired - Fee Related JP4668248B2 (ja) | 2006-08-25 | 2007-08-17 | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7420299B2 (ja) |
JP (1) | JP4668248B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7592760B2 (en) * | 2006-09-11 | 2009-09-22 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
NL1036180A1 (nl) | 2007-11-20 | 2009-05-25 | Asml Netherlands Bv | Stage system, lithographic apparatus including such stage system, and correction method. |
KR101640766B1 (ko) * | 2009-12-01 | 2016-07-20 | 삼성전자주식회사 | 반사형 레티클 척, 그것을 포함하는 반사형 조명 시스템, 그것을 이용한 반사형 레티클의 평탄성을 개선하는 방법 및 반도체 소자를 제조하는 방법 |
NL2006057A (en) * | 2010-02-24 | 2011-08-25 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and method for correcting a position of an stage of a lithographic apparatus. |
WO2020260566A1 (de) * | 2019-06-27 | 2020-12-30 | Beckhoff Automation Gmbh | Anordnung von statormodulen für ein planarantriebssystem |
DE102019117431A1 (de) * | 2019-06-27 | 2020-12-31 | Beckhoff Automation Gmbh | Anordnung von Statormodulen für ein Planarantriebssystem |
Citations (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH021505A (ja) * | 1988-06-03 | 1990-01-05 | Nikon Corp | 干渉計付ステージ |
JPH05283313A (ja) * | 1992-04-01 | 1993-10-29 | Nikon Corp | ステージの位置計測装置 |
JPH0917847A (ja) * | 1995-06-30 | 1997-01-17 | Nikon Corp | 磁気浮上型ステージ |
JPH0917846A (ja) * | 1995-06-30 | 1997-01-17 | Nikon Corp | 磁気浮上型ステージ |
JPH0917848A (ja) * | 1995-06-30 | 1997-01-17 | Nikon Corp | 磁気浮上型ステージ |
JPH09320934A (ja) * | 1996-05-28 | 1997-12-12 | Nikon Corp | ステージ装置 |
JPH10149975A (ja) * | 1996-11-15 | 1998-06-02 | Canon Inc | 露光装置およびデバイス製造方法 |
JPH11178311A (ja) * | 1997-10-09 | 1999-07-02 | Nikon Corp | 位置決め装置、駆動ユニット及び前記装置を備えた露光装置 |
JPH11354434A (ja) * | 1999-03-31 | 1999-12-24 | Nikon Corp | 走査露光方法、走査型露光装置、及び前記方法を用いるデバイス製造方法 |
JP2000216079A (ja) * | 1999-01-25 | 2000-08-04 | Nikon Corp | ステ―ジ装置及び露光装置 |
WO2000046911A1 (fr) * | 1999-02-04 | 2000-08-10 | Nikon Corporation | Dispositif a moteur plat et procede d'entrainement correspondant, unite d'activation et procede d'entrainement correspondant, appareil d'exposition et procede correspondant et dispositif avec procede de fabrication correspondant |
JP2001160531A (ja) * | 1999-12-01 | 2001-06-12 | Canon Inc | ステージ装置 |
JP2001244196A (ja) * | 2000-02-10 | 2001-09-07 | Asm Lithography Bv | 温度制御された熱シールドを有するリソグラフィ投影装置 |
JP2003224961A (ja) * | 2002-01-28 | 2003-08-08 | Canon Inc | リニアモータ、ステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2004146492A (ja) * | 2002-10-23 | 2004-05-20 | Canon Inc | Euv露光装置 |
WO2005083758A1 (ja) * | 2004-03-02 | 2005-09-09 | Nikon Corporation | ステ−ジ装置及び投影露光装置 |
JP2005327993A (ja) * | 2004-05-17 | 2005-11-24 | Canon Inc | 位置決め装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2005328682A (ja) * | 2004-05-17 | 2005-11-24 | Canon Inc | ステージ装置 |
JP2005333152A (ja) * | 2004-05-17 | 2005-12-02 | Asml Netherlands Bv | リソグラフ装置及びデバイス製造方法 |
JP2006211812A (ja) * | 2005-01-27 | 2006-08-10 | Canon Inc | 位置決め装置、露光装置、並びにデバイス製造方法 |
JP2007067193A (ja) * | 2005-08-31 | 2007-03-15 | Canon Inc | 露光装置 |
JP2007096294A (ja) * | 2005-09-29 | 2007-04-12 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及びデバイス製造装置の内部空間調整方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07117371B2 (ja) * | 1987-07-14 | 1995-12-18 | 株式会社ニコン | 測定装置 |
US5925956A (en) * | 1995-06-30 | 1999-07-20 | Nikon Corporation | Stage construction incorporating magnetically levitated movable stage |
US7282821B2 (en) * | 2002-01-28 | 2007-10-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Linear motor, stage apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing apparatus |
JPWO2006028188A1 (ja) * | 2004-09-10 | 2008-05-08 | 株式会社ニコン | ステージ装置及び露光装置 |
-
2006
- 2006-08-25 US US11/509,807 patent/US7420299B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-08-17 JP JP2007212516A patent/JP4668248B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH021505A (ja) * | 1988-06-03 | 1990-01-05 | Nikon Corp | 干渉計付ステージ |
JPH05283313A (ja) * | 1992-04-01 | 1993-10-29 | Nikon Corp | ステージの位置計測装置 |
JPH0917847A (ja) * | 1995-06-30 | 1997-01-17 | Nikon Corp | 磁気浮上型ステージ |
JPH0917846A (ja) * | 1995-06-30 | 1997-01-17 | Nikon Corp | 磁気浮上型ステージ |
JPH0917848A (ja) * | 1995-06-30 | 1997-01-17 | Nikon Corp | 磁気浮上型ステージ |
JPH09320934A (ja) * | 1996-05-28 | 1997-12-12 | Nikon Corp | ステージ装置 |
JPH10149975A (ja) * | 1996-11-15 | 1998-06-02 | Canon Inc | 露光装置およびデバイス製造方法 |
JPH11178311A (ja) * | 1997-10-09 | 1999-07-02 | Nikon Corp | 位置決め装置、駆動ユニット及び前記装置を備えた露光装置 |
JP2000216079A (ja) * | 1999-01-25 | 2000-08-04 | Nikon Corp | ステ―ジ装置及び露光装置 |
WO2000046911A1 (fr) * | 1999-02-04 | 2000-08-10 | Nikon Corporation | Dispositif a moteur plat et procede d'entrainement correspondant, unite d'activation et procede d'entrainement correspondant, appareil d'exposition et procede correspondant et dispositif avec procede de fabrication correspondant |
JPH11354434A (ja) * | 1999-03-31 | 1999-12-24 | Nikon Corp | 走査露光方法、走査型露光装置、及び前記方法を用いるデバイス製造方法 |
JP2001160531A (ja) * | 1999-12-01 | 2001-06-12 | Canon Inc | ステージ装置 |
JP2001244196A (ja) * | 2000-02-10 | 2001-09-07 | Asm Lithography Bv | 温度制御された熱シールドを有するリソグラフィ投影装置 |
JP2003224961A (ja) * | 2002-01-28 | 2003-08-08 | Canon Inc | リニアモータ、ステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2004146492A (ja) * | 2002-10-23 | 2004-05-20 | Canon Inc | Euv露光装置 |
WO2005083758A1 (ja) * | 2004-03-02 | 2005-09-09 | Nikon Corporation | ステ−ジ装置及び投影露光装置 |
JP2005327993A (ja) * | 2004-05-17 | 2005-11-24 | Canon Inc | 位置決め装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2005328682A (ja) * | 2004-05-17 | 2005-11-24 | Canon Inc | ステージ装置 |
JP2005333152A (ja) * | 2004-05-17 | 2005-12-02 | Asml Netherlands Bv | リソグラフ装置及びデバイス製造方法 |
JP2006211812A (ja) * | 2005-01-27 | 2006-08-10 | Canon Inc | 位置決め装置、露光装置、並びにデバイス製造方法 |
JP2007067193A (ja) * | 2005-08-31 | 2007-03-15 | Canon Inc | 露光装置 |
JP2007096294A (ja) * | 2005-09-29 | 2007-04-12 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及びデバイス製造装置の内部空間調整方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008072100A (ja) | 2008-03-27 |
US7420299B2 (en) | 2008-09-02 |
US20080073561A1 (en) | 2008-03-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4639214B2 (ja) | メトロロジーツール、リソグラフィ装置およびメトロロジーツールを備えるシステム、および、基板のパラメータを決定する方法 | |
JP4669868B2 (ja) | ステージ装置およびリソグラフィ装置 | |
US7633600B2 (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method | |
JP5539251B2 (ja) | リソグラフィ装置 | |
JP5159740B2 (ja) | リソグラフィ装置及びアクチュエータ | |
JP2010166037A (ja) | リソグラフィ装置、及びリソグラフィ工程で使用するパターニングデバイス | |
JP4881215B2 (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP2006054460A (ja) | 位置合せマークを提供する方法、基板を位置合せする方法、デバイス製造方法、コンピュータ・プログラム及びデバイス | |
JP5661670B2 (ja) | リソグラフィ装置、ステージ装置及びデバイス製造方法 | |
TWI417679B (zh) | 微影裝置及圖案化元件 | |
JP2008112997A (ja) | リソグラフィ装置および方法 | |
JP6013396B2 (ja) | 基板テーブルを備えるリソグラフィ装置 | |
JP2007258707A (ja) | リソグラフィ装置および二重露光オーバレイ制御を用いたデバイス製造方法 | |
JP2009130355A (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP4668248B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP5559284B2 (ja) | レチクルアセンブリ、リソグラフィ装置、リソグラフィプロセスにおけるその使用、およびリソグラフィプロセスの単一スキャン移動において2つ以上のイメージフィールドを投影する方法 | |
JP5600138B2 (ja) | 位置決めデバイス、位置決め方法及びデバイス製造方法 | |
JP5456848B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP2009267406A (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP5196669B2 (ja) | リソグラフィ装置 | |
JP4806651B2 (ja) | ガスベアリング、およびそのようなベアリングを備えたリソグラフィ装置 | |
JP5103451B2 (ja) | リソグラフィ装置及び位置合わせ方法 | |
JP4977174B2 (ja) | オブジェクトサポート位置決めデバイスおよびリソグラフィ装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101004 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101116 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101213 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110112 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140121 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |