JP2000216079A - ステ―ジ装置及び露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ステージを正確に位置決め又は移動できるス
テージ装置を提供することである。 【解決手段】 ステージ１はリニアモータＭによりＹ方
向に移動される。リニアモータＭはコイル等の発熱部を
有する固定子２及びステージ１に取り付けられた可動子
３を有している。固定子２の発熱部としてのコイルの近
傍に冷却流体の流路が形成されており、温調機７により
温調された流体を配管９Ａ〜９Ｄを介して該流路に沿っ
て循環させることにより、リニアモータＭを冷却する。
これらの配管９Ａ〜９Ｄには流れ方向切替機８が介装さ
れており、制御装置１０による制御に基づき流れ方向切
替機８が作動されて、流体の流通方向が適宜に逆転され
る。リニアモータＭに沿って生じる温度勾配が少なくな
り、レーザ干渉計４等によるステージ１の位置の計測精
度が向上する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、加工対象物等を移
動するためのステージ装置及び該ステージ装置を備えた
露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、半導体素子、液晶表示素子、撮
像素子（ＣＣＤ等）、又は薄膜磁気ヘッド等の製造に使
用される露光装置には、レチクル（又はフォトマスク
等）又はウエハ（又はガラスプレート等）を位置決めす
るためのステージ装置としてレチクルステージ又はウエ
ハステージが使用される。最近では、レチクル及びウエ
ハを投影光学系に対して同期走査することにより、レチ
クルのパターンを逐次ウエハ上に転写するステップ・ア
ンド・スキャン方式等の走査露光型の露光装置も使用さ
れているが、斯かる走査露光型のステージ装置では、レ
チクル及びウエハを一定速度で高精度に走査する機能も
求められている。

【０００３】そして、露光装置用のレチクルステージ及
びウエハステージには、位置決め又は走査に際しステー
ジの位置を精密に測定するために、レーザ干渉計（レー
ザ光波干渉方式測長器）が備えられている。レーザ干渉
計は、ステージに固定された移動鏡にレーザビームを照
射し、移動鏡から反射されたレーザビームを受光するこ
とによりステージの位置を計測するものである。この場
合、レーザビームの光路上に空気の揺らぎがあると、レ
ーザ干渉計の測定値に誤差が生じる。このような空気の
揺らぎは、気流の乱れや光路近傍の環境温度の変化によ
り生ずる場合が多く、光路近傍の気流の乱れや温度変化
を極力少なくするための方策が求められてきた。

【０００４】ところで、レチクルステージやウエハステ
ージには、最近ステージを高速且つ非接触に駆動するた
めの駆動機構としてリニアモータが使用されつつある。
リニアモータは、ベース部材に固定された固定子と、そ
のベース部材に対して移動する部材上に固定された可動
子とからなり、固定子がコイルを含むときは、可動子は
磁石等の発磁体を含み、固定子が発磁体を含むときは、
可動子はコイルを含む。そして、発磁体が可動子に含ま
れ、コイルが固定子側に含まれているものをムービング
・マグネット型のリニアモータといい、コイルが可動子
に含まれ、発磁体が固定子側に含まれるものをムービン
グ・コイル型のリニアモータという。

【０００５】これらのリニアモータは、ムービング・マ
グネット型、ムービング・コイル型共に通常の回転型の
モータ（ロータリモータ）と比較して、構造的にコイル
と発磁体とのギャップを広くとる必要があるため、回転
型のモータと比較して、効率が悪く、発熱量が多いとい
う傾向がある。

【０００６】そして、リニアモータに使用される駆動用
のコイルは、そのまま空気中に露出した構造になってい
る場合が多く、コイルからの熱が周辺の空気温度の変化
の要因となっていた。そのため、レチクルステージやウ
エハステージの位置を計測するレーザ干渉計のレーザビ
ームの光路周辺の空気に揺らぎが生じ、レーザ干渉計の
計測値に誤差が生じる場合があり、最近では益々半導体
素子等の集積度が向上して露光装置に要求される位置決
め精度が高まっているため、そのような部分的な空気の
揺らぎ等に起因する計測誤差を低減することが求められ
ている。

【０００７】そのため、最近では発熱量の多いコイルの
周囲を筒状の容器で覆い、筒状の容器中に温度調節機
（以下、「温調機」という）により冷却液を流してコイ
ルの発熱による温度の上昇を防ぐ方法が提案されてい
る。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ものは発熱部分に冷却液を単純に流すだけの方法である
ため、レーザ干渉計のレーザビームの光路周辺の温度変
化をなくして、光路周辺の部分的な空気の揺らぎを十分
に防止することはできなかった。

【０００９】即ち、冷却液は発熱部分からの熱を吸収し
て温度が徐々に上昇するから、単純に冷却液を流通させ
るのみでは、冷却液の流れ方向に沿って温度勾配が生
じ、近傍に空気の揺らぎ（屈折率の変動）が発生する。
また、ステージの駆動部とその周辺部分の雰囲気等との
間に温度差があると、この部分にやはり空気の揺らぎが
発生する。

【００１０】ここで、近時においては、露光装置の生産
性の向上のため、ステージの高速度化、高加速度化が要
請されており、ステージの駆動装置としてのリニアモー
タにも高推力が要請されている。推力を大きくするため
には、コイル電流を大きくする必要があり、これに伴い
発熱量が増大することになり、上記の問題はさらに顕著
になる。

【００１１】このような問題の対策として、冷却液の流
量を増大すべく、流路断面積を大きくし、あるいは高流
速化することが考えられる。しかし、冷却液の流路はコ
イルと発磁体の間に配置されるので、流路断面積を大き
くすると、コイルと発磁体間のギャップが広くなり、一
方、高流速化するためには、流路壁面（筒状の容器）の
耐圧を大きくすべくその厚さを増大する必要があり、や
はりコイルと発磁体間のギャップが広くなって効率が低
下するとともに、装置の大型化を招くため、得策ではな
い。

【００１２】また、マスクや感光基板を移動するための
ステージ装置を備えた露光装置においては、ステージの
位置決めや移動の精度が低いと、露光精度が低下し、品
質の高いマイクロデバイスを製造することができない場
合があるという問題があった。

【００１３】本発明はこのような従来技術の問題点に鑑
みてなされたものであり、効率の低下や装置の大型化を
招くことなく、駆動部の発熱による空気の揺らぎを十分
に抑え、ステージの位置を高精度に計測して、ステージ
を正確に位置決め又は移動できるステージ装置を提供す
ることを目的とする。また、高品質なマイクロデバイス
を製造できる露光装置を提供することを目的とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】以下、この項に示す説明
では、理解の容易化のため、本発明の各構成要件に実施
の形態の図に示す参照符号を付して説明するが、本発明
の各構成要件は、これら参照符号によって限定されるも
のではない。

【００１５】１．本発明による第１のステージ装置は、
ステージ（１）を駆動装置（Ｍ）により駆動するステー
ジ装置であって、前記駆動装置は前記ステージの駆動に
応じて発熱する部分（２１）を有しており、前記発熱す
る部分を冷却するために流体（２９）を供給する流体供
給装置（７，９Ａ〜９Ｄ）と、前記流体の流れる方向を
選択的に切り替える切替装置（８）とを備えたことを特
徴とする。

【００１６】また、本発明による第１の露光装置は、パ
ターンが形成されたマスクを介して感光基板を露光する
露光装置であって、前記マスク及び前記感光基板の少な
くとも一方を、前記第１のステージ装置により移動する
ことを特徴とする。この場合において、露光処理の後、
次の露光処理を行うまでの間に、前記流体の流れ方向の
切替を実施するよう前記切替装置を制御する制御装置
（１０）を設けることができる。

【００１７】流体を一方向に流し続けると、流体は駆動
装置の発熱する部分の熱を吸収することにより徐々に温
度が上昇し、駆動装置の流体の導入側における流体の温
度と、排出側における流体の温度との間に温度差が発生
し、流体の流れ方向に沿って温度勾配が生じるが、本発
明では、切替装置によって流体の流れる方向を選択的に
切り替えるようにしたので、流れ方向を逆転させる時期
を適宜に選定することにより、流体の流れ方向に平行す
る方向の温度勾配は平均化され、流体の導入側（一端
側）と排出側（他端側）の温度差を縮小することができ
る。

【００１８】これにより、流体の流量を増大しなくて
も、近傍における空気の揺らぎの発生が抑制され、干渉
計等による計測値がより正確となるから、ステージの位
置決め又は移動の精度を向上することができる。また、
このようなステージ装置を備えた本発明の露光装置によ
れば、ステージ装置の位置決め又は移動の精度が高いの
で、高精度、高品質なマイクロデバイスを製造すること
ができる。なお、流体は液体でも気体でもよい。

【００１９】２．本発明による第２のステージ装置は、
ステージ（１）を駆動装置（Ｍ）により駆動するステー
ジ装置であって、前記駆動装置は前記ステージの駆動に
応じて発熱する部分（２１）を有しており、前記発熱す
る部分を包囲する隔壁（２２）と、前記隔壁の内部に流
体（２９）を流す流体供給装置（７，９Ａ〜９Ｄ）と、
前記隔壁を加熱する加熱装置（３２）とを備えたことを
特徴とする。この場合において、前記隔壁の温度を検出
する温度検出装置（３１，１１）と、前記温度検出装置
により検出された温度に基づき、前記隔壁が所定の温度
となるように前記加熱装置の作動を制御する制御装置
（１２）とを設けることができる。

【００２０】また、本発明による第２の露光装置は、パ
ターンが形成されたマスクを介して感光基板を露光する
露光装置であって、前記マスク及び前記感光基板の少な
くとも一方を、前記第２のステージ装置により移動する
ことを特徴とする。

【００２１】本発明によると、流体が流通される隔壁を
加熱する加熱装置を設けているので、流体の温度と加熱
装置の作動量（発熱量）を適宜に調整することにより、
該隔壁をその周辺部分の雰囲気等と同様の温度に自在に
調整することが可能となり、その周辺部分の雰囲気の温
度分布の一様性を向上することができる。

【００２２】これにより、近傍における空気に揺らぎの
発生が防止され、干渉計等による計測値がより正確とな
るから、ステージの位置決め又は移動の精度を向上する
ことができる。また、このようなステージ装置を備えた
本発明の露光装置によれば、ステージ装置の位置決め又
は移動の精度が高いので、高精度、高品質なマイクロデ
バイスを製造することができるようになる。なお、流体
は液体でも気体でもよい。

【００２３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。図１は１軸用のステージ装置の概
略構成を説明するための図、図２は図１のステージ装置
のリニアモータの断面図である。

【００２４】図１において、１は移動すべき試料（ウエ
ハやマスク等）を保持するためのステージであり、ステ
ージ１は不図示のステージベース上に移動自在に支持さ
れている。ステージ１はムービング・マグネット型の一
対のリニアモータＭにより駆動される。なお、以下の説
明では、ステージ１の表面に平行な平面上であって、ス
テージ１の移動方向（図１で紙面に沿う左右方向）にＹ
軸をとり、これに直交する方向（図１で紙面に直交する
方向）にＸ軸をとり、これらに直交する方向（図１で紙
面に沿う上下方向）にＺ軸をとって説明する。

【００２５】一対のリニアモータＭはステージベース上
にＸ方向に離間して互いに対向するように配置されてい
る。リニアモータＭは、ステージベース上にＹ軸に平行
に設置された固定子（ステータ）２と、固定子２を上部
から挟むようにして架設された可動子（スライダ）３と
から構成され、可動子３の上面とステージ１の対応する
端部の上面とが不図示の固定用フレームを介して連結さ
れている。

【００２６】固定子２に内蔵されたコイルへ電流を流す
ことにより、発磁体を含む可動子３を固定子２上に浮か
せた状態で駆動し、可動子２とステージ１とに固定され
た固定用フレームを介してステージ１をＹ方向に移動す
る。一対のリニアモータＭは通常の場合、ステージ１に
同方向の駆動力を与えるように電流の方向が制御され
る。

【００２７】ステージ１の−Ｙ方向の端部には移動鏡６
が固定されている。ステージベースの端部で、移動鏡６
に対向する位置に設置されたステージ１（試料）の位置
検出装置であるレーザ干渉計４からレーザビーム５が移
動鏡６に照射され、移動鏡６から反射された反射ビーム
を再びレーザ干渉計４で受光して、ステージ１のＹ方向
の位置を計測する。また、レーザビーム５の光路の近傍
には、その光路周辺の空気温度を計測するための不図示
の温度センサが設置されている。この温度センサの計測
結果は、本実施の形態のステージ装置の周囲に温調され
た空気を供給する不図示の空調系に供給されている。

【００２８】また、本実施の形態のステージ装置は、リ
ニアモータＭの温度を調節するための流体温調系及び加
熱温調系を備えている。流体温調系は、流体の温度を調
節するための温調機７、流れ方向切替機８、配管９Ａ，
９Ｂ，９Ｃ，９Ｄ及び流体温調系を全体的に制御する流
体制御装置１０等を備えて構成される。温調機７で温度
が調節（以下、単に「温調」という）された流体２９
（図２参照）は、配管９Ａ，９Ｂ，９Ｃ，９Ｄを通じて
リニアモータＭのコイルを含む固定子２の一端部（＋Ｙ
方向の端部又は−Ｙ方向の端部）からそれらの内部に供
給され、他端部（−Ｙ方向の端部又は＋Ｙ方向の端部）
から排出されて温調機７に戻り循環されるようになって
いる。配管９Ａと９Ｂ、及び配管９Ｃと９Ｄの間には、
流れ方向切替機８が介装されている。

【００２９】図２は、図１のリニアモータの断面図であ
り、この図２において、リニアモータＭの可動子３は、
断面形状がコの字型の磁石支持部（ヨーク）２７の内側
に一対の磁石２６を固定して構成されている。そして固
定子２は、固定子支持体２８上に断面形状の外形が矩形
の筒状のステンレス（ＳＵＳ２７等）又はアルミニウム
等からなるジャケット２２を固定し、このジャケット２
２の内側に接着した上下一対の樹脂からなる支持体２４
に、両面にコイル２１をそれぞれ装着した支持板２３を
固定して構成されている。コイル２１を囲む筒状のジャ
ケット２２内の流路２５を温調用の流体２９が流れ、コ
イル２１からの発生熱を吸収する。

【００３０】加熱温調系は、図１に示されているよう
に、温度検出装置１１、ヒータ制御装置１２及び一対の
シートヒータ１３等を備えて構成されている。シートヒ
ータ１３は、図２に示されているように、リニアモータ
Ｍの固定子２のジャケット２２の両面にそれぞれ接着さ
れている。このシートヒータ１３は、図３に示されてい
るように、フィルム状の絶縁層３３の内層（中間層）
に、薄膜白金抵抗体からなる温度センサ３１、アルミ等
の薄膜電気抵抗体からなるヒータ（発熱回路）３２、及
び配線パターンＰ１，Ｐ２，Ｓ１〜Ｓ４をパターンニン
グして構成されている。シートヒータ１３としては、一
般に市販されているものを用いることができ、例えば、
厚さ１００〜１５０μｍ程度のものを用いることができ
る。

【００３１】シートヒータ１３の温度センサ３１に接続
された配線パターンＳ１〜Ｓ４は、温度検出装置１１に
接続されており、温度検出装置１１は温度センサ３１の
抵抗値の変化に基づきジャケット２２の温度を検出す
る。温度検出装置１１により検出されたジャケット２２
の温度はヒータ制御装置１２に送られ、ヒータ制御装置
１２は配線パターンＰ１，Ｐ２を介してシートヒータ１
３のヒータ３２に通電して、リニアモータＭの周辺雰囲
気の温度として仕様上予め決められた所定の温度（例え
ば、前記空調系によるレーザ干渉系４のレーザビーム５
の光路の近傍の空気温度の制御目標値）に一致するよう
にヒータ３２による発熱量を調整制御する。

【００３２】なお、ヒータ３２による発熱量は、仕様上
決められた所定の温度に一致するように制御する以外
に、レーザ干渉系４のレーザビーム５の光路の近傍の空
気温度を検出する温度センサによる検出温度に一致する
ように制御するようにしてもよい。

【００３３】図４は、流れ方向切替機８の構成を示す図
であり、（ａ）は順方向の送りを、（ｂ）は逆方向の送
りを示している。同図において、８Ａ，８Ｂは、流体温
調系の流体制御装置１０からの制御信号に応じて作動さ
れる３ポートの電磁弁である。

【００３４】電磁弁８Ａは温調機７の流体が吐出される
配管９ＡとリニアモータＭ（ジャケット２２）の一端部
（＋Ｙ方向の端部）へ接続された配管９Ｂとリニアモー
タＭ（ジャケット２２）の他端部（−Ｙ方向の端部）へ
接続された配管９Ｃに接続された連絡管８Ｃの交差部に
介装されており、配管９Ａと配管９Ｂ又は配管９Ａと配
管９Ｃ（連絡管８Ｃ）を流体制御装置１０による制御に
基づき選択的に連通する。一方、電磁弁８Ｂは温調機７
の流体が吸入される配管９Ｄと配管９Ｂに接続された連
絡管８Ｄと配管９Ｃの交差部に介装されており、配管９
Ｃと配管９Ｄ又は配管９Ｂ（連絡管８Ｄ）と配管９Ｄと
を流体制御装置１０による制御に基づき選択的に連通す
る。

【００３５】これらの電磁弁８Ａ，８Ｂを、図４（ａ）
又は（ｂ）に示されているように、同時に切り替えるこ
とにより、流体の流通方向を正方向又は逆方向に自在に
切り替えることができるようになっている。

【００３６】しかして、流体制御装置１０は、流れ方向
切替機８の電磁弁８Ａ，８Ｂを図４（ａ）の状態に設定
して、温調機７を作動すると、温調機７から温調された
流体２９が配管９Ａに吐出され、流体２９は電磁弁８Ａ
により配管９Ｂに導かれ、固定子２のジャケット２２の
一端側（＋Ｙ方向の端部側）の流出入口を介してジャケ
ット２２の内部に供給される。流体２９はジャケット２
２の内部でコイル２１の熱を吸収して昇温され、ジャケ
ット２２の他端側（−Ｙ方向の端部側）の流出入口から
配管９Ｃに排出され、電磁弁８Ｂにより配管９Ｄに導か
れて、温調機７に戻り、再度温調されて、以下同様の経
路で循環される。

【００３７】流体制御装置１０は予め決められたスケジ
ュールに従って、所定の時間が経過した時点で、流れ方
向切替機８の電磁弁８Ａ，８Ｂを図４（ｂ）の状態に切
り替える。これにより、流体２９の流れ方向が逆転され
る。

【００３８】即ち、温調機７からの温調されて配管９Ａ
に吐出された流体２９は、電磁弁８Ａにより連絡管８Ｃ
を介して配管９Ｃに導かれ、固定子２のジャケット２２
の一端側（−Ｙ方向の端部側）の流出入口を介してジャ
ケット２２の内部に供給される。流体２９はジャケット
２２の内部で逆方向に流通してコイル２１の熱を吸収し
て昇温され、ジャケット２２の他端側（＋Ｙ方向の端部
側）の流出入口から配管９Ｂに排出され、連絡管８Ｄを
介して電磁弁８Ｂにより配管９Ｄに導かれて、温調機７
に戻り、再度温調されて、以下同様の経路で循環され
る。

【００３９】流体制御装置１０は前記スケジュールに従
って、所定の時間が経過した時点で、同様に流れ方向切
替機８を制御して、流体２９の流れ方向の切り替えを一
定時間間隔で順次繰り返す。

【００４０】配管９Ａに通ずる温調機７の吐出口には、
リニアモータＭに供給される流体２９の温度を検出する
ための温度センサ（不図示）が、配管９Ａに挿設する形
で設置されている。同様に、配管９Ｄの温調機７への流
入口には、コイル２１の熱で昇温された流体２９の温度
を検出するための温度センサ（不図示）が配管９Ｄに挿
設されている。これらの温度センサの測定結果は流体制
御装置１０に供給されており、流体制御装置１０は、こ
れらの温度センサの測定結果に基づいて、流体２９の温
度及び流量を制御する。なお、流体２９の温度を制御す
るための温度センサは、流体２９の流通経路中の他の位
置、例えば、リニアモータＭの流体２９の一端側及び他
端側の流出入口の近くに設けてもよい。また、流体２９
の流通経路中に流量制御弁を設けて、流体２９の流量を
制御することによりリニアモータＭのコイル２１の表面
温度を制御するようにしてもよい。

【００４１】なお、流体２９としてはコイル２１の絶縁
性が良好な場合には、例えば純水等純度の高い水が使用
できる。また、ヘリウム（Ｈｅ）等の不活性ガスも使用
できる。但し、流体２９としてはコイル２１及びジャケ
ット２２等に対する腐食性がなく、導電性が小さく、伝
熱性に優れ、且つ化学的に不活性な液体が望ましい。流
体２９として、具体的には例えば商品名がフロリナート
（住友スリーエム（株）製造）等のフッ素系の不活性液
体を使用することができる。

【００４２】次に、本実施の形態のステージ装置の動作
について説明する。本実施の形態では、図１のステージ
１が駆動されている間、不図示の温度センサによりレー
ザ干渉計４のレーザビーム５の光路周辺の温度Ｔ_Ｌ を
常時計測する。この温度センサの計測温度Ｔ_Ｌ は、不
図示の空調系に送られる。その空調系では、計測された
温度Ｔ_Ｌが目標温度Ｔ_Ｏに近づくように供給する空気の
温度を制御する。

【００４３】また、温調機７には予めその制御温度Ｔ
_Ｃ が設定されている。そして、温調機７は、リニアモ
ータＭに供給される前の流体２９の温度、即ち配管９Ａ
に設けられた温度センサで計測される温度Ｔ_Ｒ がその
制御温度Ｔ_Ｃ と等しくなるように制御しながら温調機
７に内蔵されたポンプを駆動して、流体２９をリニアモ
ータＭに供給する構成となっている。

【００４４】加熱温調系１１〜１３を作動させない場合
には、制御温度Ｔ_Ｃ は目標温度Ｔ _Ｏ と等しくなるよ
うに設定する。一方、加熱温調系１１〜１３を作動させ
る場合には、制御温度Ｔ_Ｃ は目標温度Ｔ_Ｏ よりも低
くなるように設定し、加熱温調系によって目標温度Ｔ
_Ｏ となるように加熱制御する。

【００４５】なお、温調機７では、配管９Ｄに設けられ
た温度センサで計測されるリニアモータＭを通過した後
の流体２９の温度が高くなり過ぎる場合には、例えば流
体２９の流量を増加して過度の温度上昇を防止してい
る。

【００４６】特に、物理的な要因により気流が乱される
場合を除き、レーザ干渉計４のレーザビーム５の光路上
の気流の乱れはステージ装置及びステージ装置周辺の環
境温度の位置による温度差（以下、「位置温度差」とい
う）により発生する。即ち、位置温度差により空気の流
れが生じ、レーザビーム５の光路の周辺に空気の流れに
抵抗する障害物があれば、そこで気流の乱れが発生し、
光路上の空気に揺らぎが生じる。

【００４７】そのため、本実施の形態においては、発生
熱の大きなリニアモータＭの固定子２に含まれるコイル
２１を覆うジャケット２２を設け、このジャケット２２
内に所定の温度に制御された流体２９を流すことで、コ
イル２１を冷却することに加えて、流体２９の流通方向
を適宜に逆転することにより、リニアモータＭに沿って
温度勾配が生じることを抑制するようにしている。これ
により、レーザビーム５の光路上の空気の揺らぎが抑え
られ、レーザ干渉計４によりステージ１の位置を正しく
計測することができる。そして、そのレーザ干渉計４の
計測値に基づいてステージ１を正確に位置決めできる。

【００４８】さらに、本実施の形態では、リニアモータ
Ｍの固定子２のジャケット２２の表面温度が、シートヒ
ータ１３の温度センサ３１及び温度検出装置１１により
検出され、ヒータ制御装置１２はシートヒータ１３のヒ
ータ３２に通電して、リニアモータＭの周辺環境の温度
として仕様上予め決められた所定の温度に一致するよう
にヒータ３２による発熱量を調整制御するようにしてい
る。

【００４９】このように、流体２９が流通されるジャケ
ット２２の壁面をヒータ３２により周辺環境温度と一致
するように加熱するようにしたので、ジャケット２２の
壁面はその周辺の環境温度と同様の温度となり、その近
傍の温度分布が一様となる。従って、リニアモータＭの
周辺環境における空気に揺らぎの発生が防止され、レー
ザ干渉計４による計測値がより正確となり、ステージの
位置決め又は移動の精度が向上する。

【００５０】なお、シートヒータ１３はこの実施の形態
では、ジャケット２２の両面にそれぞれ設けているが、
このリニアモータＭは左右対称なので、いずれか一方の
面にのみ設けるようにしてもよい。また、温度センサ３
１はジャケット２２の一の面に対して単一である必要は
なく、複数箇所に設けてもよい。さらに、ヒータ３２は
ジャケット２２の一の面を全体的に加熱するもののみな
らず、独立して設けた複数のヒータによりそれぞれ部分
的に異なる加熱量で加熱することにより全体としての温
度を一様に制御するようにしてもよい。

【００５１】上述した実施の形態においては、前記流体
温調系による流体２９の流通方向の切替制御及び前記加
熱温調系によるヒータ３２の発熱量の制御の双方を行う
ようにしているが、いずれか一方のみを採用するように
してもよい。

【００５２】また、上述した実施の形態においては、予
め決められた所定のスケジュールに従って、流体２９の
流通方向を逆転させるようにしているが、リニアモータ
Ｍ（ジャケット２２）の一端側と他端側の温度を検出し
て、その温度差が予め決められた所定の値となったとき
に、流体２９の流通方向を逆転させるようにしてもよ
い。

【００５３】図５は本発明の他の実施の形態の露光装置
の概略構成を示す図である。この露光装置はステップ・
アンド・リピート方式の縮小投影型露光装置である。

【００５４】図５において、照明光学系５１は、エキシ
マレーザ光を射出する露光光源、照度分布均一化用のフ
ライアイレンズ又はロッド・インテグレータ等のオプチ
カルインテグレータ（ホモジナイザー）、照明系開口絞
り、レチクルブラインド（可変視野絞り）、及びコンデ
ンサレンズ系等から構成されている。転写すべきパター
ンが形成されたフォトマスクとしてのレチクルＲは、レ
チクルステージＲＳ上に吸着保持されており、照明光学
系５１により露光光ＩＬがレチクルステージＲＳ上のレ
チクルＲに照射される。

【００５５】レチクルＲの照明領域内のパターンの像
は、投影光学系ＰＬを介して縮小倍率１／α（αは例え
ば５、又は４等）で、露光対象としてのフォトレジスト
が塗布されたウエハＷの表面に投影される。

【００５６】レチクルステージＲＳは、この上に吸着保
持されたレチクルＲをＸＹ平面内で位置決めする。レチ
クルステージＲＳは、図１に示した１軸用のステージ装
置と同様のステージ装置を２台組み合わせて、２軸用と
したステージ装置である。レチクルステージＲＳの位置
はレーザ干渉計によって計測され、この計測値及び主制
御系５２からの制御情報によってレチクルステージＲＳ
の動作が制御される。

【００５７】一方、ウエハＷは、不図示のウエハホルダ
上に真空吸着により保持され、このウエハホルダは試料
台（ウエハテーブル）ＷＴ上に同じく真空吸着されるこ
とにより着脱可能に保持されている。試料台ＷＴはウエ
ハステージＷＳ上にＺ方向に変位する複数のアクチュエ
ータ（不図示）などを介して設置されている。試料台Ｗ
Ｔは、オートフォーカス方式でウエハＷのフォーカス位
置（光軸ＡＸ方向の位置）、及び傾斜角を制御すること
によって、ウエハＷの表面を投影光学系ＰＬの像面に合
わせ込む。

【００５８】ウエハステージＷＳは、ウエハベースＷＳ
上に載置されており、ウエハＷをＸＹ平面内で位置決め
する。ウエハステージＷＳは、図１に示した１軸用のス
テージ装置と同様のステージ装置を２台組み合わせて、
２軸用としたステージ装置である。試料台ＷＴにはウエ
ハの位置検出装置であるレーザ干渉計の移動鏡（反射
鏡）５４（図１の移動鏡６に相当）が固定されており、
この移動鏡５４及び移動鏡５４に対向して配置されたレ
ーザ干渉計５５（図１のレーザ干渉計４に相当）によっ
て試料台ＷＴのＸ座標、Ｙ座標、及び回転角が計測さ
れ、この計測値がステージ制御系５６及び主制御系５２
に供給されている。ステージ制御系５６は、レーザ干渉
計５５による計測値及び主制御系５２からの制御情報に
基づいて、ウエハステージＷＳのリニアモータなどの動
作を制御する。

【００５９】主制御系５２は、図１の流体温調系の流体
制御装置１０及び加熱温調系のヒータ制御装置１２の上
位の制御装置であり、これらの流体制御装置１０、ヒー
タ制御装置１２及びステージ制御系５６は主制御系５２
からの指令に従って、各種の装置を制御する。

【００６０】ウエハステージＷＳによりウエハＷ上の露
光対象のショット領域を順次露光位置に位置決めした
後、レチクルステージＲＳにより所定の位置に設定され
たレチクルＲのパターン領域に対して、照明光学系５１
よりエキシマレーザ光等の露光光ＩＬを照射すること
で、パターン領域内のパターンを縮小倍率１／αで縮小
した像がショット領域に転写される。

【００６１】このようにしてウエハＷ上の各ショット領
域にパターンの縮小像を順次転写露光した後、ウエハＷ
の現像を行って、エッチング等のプロセスを実行するこ
とによって、ウエハＷ上の各ショット領域に半導体デバ
イスのあるレイヤの回路パターンが形成される。

【００６２】次に、この露光装置に採用したウエハステ
ージＷＳの詳細構成について、図６を参照して説明す
る。なお、レチクルステージＲＳについては、ウエハス
テージＷＳとほぼ同様の構成のステージ装置を採用する
ものとし、その説明は省略することにする。

【００６３】このウエハステージＷＳはＸ軸及びＹ軸の
２軸のステージ装置であり、ウエハベースＷＢ上をＸ方
向に駆動されるＸステージ６１、Ｘステージ６１上をＹ
方向に駆動されるＹステージ６２、及び試料台（ウエハ
テーブル）ＷＴ等により構成されている。

【００６４】試料台ＷＴの＋Ｙ方向の端部には移動鏡６
３（図１の移動鏡６に相当）が固定されている。ウエハ
ベースＷＢの＋Ｙ方向の端部で、移動鏡６３に対向する
位置に設置されたレーザ干渉計６４（図１のレーザ干渉
系４に相当）からレーザビームが移動鏡６３に照射さ
れ、移動鏡６３から反射された反射ビームを再びレーザ
干渉計６４で受光することにより、試料台ＷＴ（ウエハ
Ｗ）のＹ方向の位置が計測される。また、試料台ＷＴの
−Ｘ方向の端部には移動鏡６５が固定されており、ウエ
ハベースＷＢの−Ｘ方向の端部で、移動鏡６５に対向す
る位置に設置されたレーザ干渉計６６からレーザビーム
が移動鏡６５に照射され、移動鏡６５から反射された反
射ビームを再びレーザ干渉計６６で受光することにより
試料台ＷＴ（ウエハＷ）のＸ方向の位置が計測される。

【００６５】Ｘステージ６１は、固定子２及び可動子３
からなる一対のリニアモータＭＸによりウエハベースＷ
Ｂ上をＸ方向に駆動される。Ｙステージ６２は、同じく
固定子２及び可動子３からなる一対のリニアモータＭＹ
によりＸステージ６１上をＹ方向に駆動される。これら
のリニアモータＭＸ，ＭＹは、図２に示したリニアモー
タＭと同様のムービング・コイル型のリニアモータであ
るので、その詳細な説明は省略することにする。なお、
Ｙ軸のリニアモータＭＹは、図２のリニアモータＭの全
体を横倒したような状態で設置されているが、構成的に
は同様である。

【００６６】Ｘ軸のリニアモータＭＸのそれぞれのコイ
ルを含む固定子２は共にウエハベースＷＢ上のＹ方向の
両端に沿って固定され、可動子３はそれぞれ固定板６９
を介してＸステージ６１に固定されている。また、Ｙ軸
のリニアモータＭＹのそれぞれのコイルを含む固定子２
は共にＸステージ６１の両側部に固定され、可動子３は
直接Ｙステージ６２の側面に固定されている。

【００６７】各固定子２の外面には、図２のリニアモー
タＭと同様に、内部をコイルの熱を吸収するための流体
が循環するジャケット（２２）が設けられ、外部に設置
された温調機７から流れ方向切替機８を介して、温調さ
れた流体が各固定子２に並列に供給されている。図６で
は、流体を循環するための配管を線（一点鎖線）で示
し、流体の正方向の流れを矢印で示している。なお、温
調機７及び流れ方向切替機８の構成は図１と同様である
ので、その説明は省略する。また、この実施の形態で
は、各リニアモータＭＸ，ＭＹについて、図１に示した
加熱温調系１１〜１３に相当する温調系は設けていない
ものとする。

【００６８】温調機７で温調された流体は、温調機７の
吐出配管９Ａに流入する。初期状態では、流れ方向切替
機８は配管９Ａと９Ｂを接続し、配管９Ｃと９Ｄを接続
するように設定されており、温調された流体は配管９Ｂ
に導入される。配管９Ｂは２つの配管７０Ｘ，７０Ｙに
分岐しており、これら２つの配管７０Ｘ，７０Ｙはそれ
ぞれ更に２つの枝管に分岐している。

【００６９】配管９Ｂから配管７０Ｘに流入した流体は
配管７０Ｘから分岐された２つの枝管を経由して、それ
ぞれＸステージ６１の２つの固定子２のジャケット（２
２）の流出入口に流入する。Ｘステージ６１の２つの固
定子２のコイルの熱をそれぞれ吸収した流体は、ジャケ
ットの反対側の流出入口から排出され、それぞれのジャ
ケットに接続された枝管を経由した後に合流されて、配
管７１Ｘを介して配管９Ｃに導入され、さらに流れ方向
切替機８を介して配管９Ｄに導入され、温調機７に戻さ
れる。

【００７０】同様に、配管９Ｂから配管７０Ｙに流入し
た流体は配管７０Ｙから分岐された２つの枝管を経由し
て、それぞれＹステージ６２の２つの固定子２のジャケ
ット（２２）の流出入口に流入する。Ｙステージ６２の
２つの固定子２のコイルの熱をそれぞれ吸収した流体
は、ジャケットの反対側の流出入口から排出され、それ
ぞれのジャケットに接続された枝管を経由して合流され
て、配管７１Ｙを介して配管９Ｃに合流され、同様に温
調機７に戻される。温調機７に戻された流体は温調機７
で所定の温度に調整され、再び各固定子２の温調のため
に循環される。

【００７１】予め決められた所定のスケジュール（主制
御系５２の記憶装置に格納されているものとする）に従
って所定の時間が経過すると、主制御系５２が流体制御
装置１０に対して流体の流通方向の切替指令を送る。流
体制御装置１０は流れ方向切替機８の電磁弁（８Ａ，８
Ｂ）を作動させて、配管９Ａと９Ｂの接続を遮断して配
管９Ａと９Ｃを接続するとともに、配管９Ｃと９Ｄの接
続を遮断して配管９Ｂと９Ｄを接続する。これにより、
流体は切替前と逆の流通方向に流通されることになる。

【００７２】即ち、温調機７で温調された流体は、温調
機７の吐出配管９Ａに流入する。切替後の状態では、流
れ方向切替機８は配管９Ａと９Ｃを接続し、配管９Ｂと
９Ｄを接続するように設定されており、温調された流体
は分配管８Ｃを介して配管９Ｃに導入される。流体は図
６中の矢印方向と反対方向に流れ、２つの配管７１Ｘ，
７１Ｙに分配される。

【００７３】配管９Ｃから配管７１Ｘに流入した流体は
配管７１Ｘから分岐された２つの枝管を経由して、それ
ぞれＸステージ６１の２つの固定子２のジャケット（２
２）の流出入口に流入する。Ｘステージ６１の２つの固
定子２のコイルの熱をそれぞれ吸収した流体は、ジャケ
ットの反対側の流出入口から排出され、それぞれのジャ
ケットに接続された枝管を経由した後に合流されて、配
管７０Ｘを介して配管９Ｂに導入され、流れ方向切替機
８の分配管８Ｄを介して配管９Ｄに導入され、温調機７
に戻される。

【００７４】同様に、配管９Ｃから配管７１Ｙに流入し
た流体は配管７１Ｙから分岐された２つの枝管を経由し
て、それぞれＹステージ６２の２つの固定子２のジャケ
ット（２２）の流出入口に流入する。Ｙステージ６２の
２つの固定子２のコイルの熱をそれぞれ吸収した流体
は、ジャケットの反対側の流出入口から排出され、それ
ぞれのジャケットに接続された枝管を経由して合流され
て、配管７０Ｙを介して配管９Ｂに合流され、同様に温
調機７に戻される。温調機７に戻された流体は温調機７
で所定の温度に調整され、再び各固定子２の温調のため
に循環される。

【００７５】流体の流通方向の流れ方向切替機８による
切り替えは、一のショット領域に対する露光処理が終了
した後、次のショット領域に対する露光処理を開始する
前までのステップ移動中、あるいはウエハＷの交換中に
行うようにすることが望ましい。流体の流通方向の切替
直後は、流体の流れが不安定になり、振動等が生じるこ
とがあり得るので、露光処理中に行うと露光精度が低下
する恐れがあるからである。

【００７６】なお、Ｘステージ６１を駆動する一対のリ
ニアモータＭＸの各固定子２、Ｙステージ６２を駆動す
る一対のリニアモータＭＹの各固定子２に、それぞれ図
１に示した加熱温調系（１１〜１３）と同様の温調系を
設け、主制御系５２からの指令に基づき、ヒータ制御装
置１２が作動されて、各固定子２のジャケット（２２）
の温度を制御するようにしてもよい。この場合には、リ
ニアモータＭＸ，ＭＹの周辺の雰囲気温度（目標温度又
は検出温度）よりも低くなるように、温調機７により流
体を温調して、ヒータ３１により当該雰囲気温度に一致
するように加熱制御する。

【００７７】図１の場合と同様に、各固定子２の流出入
口の近くに流体の温度を測定するための温度センサを個
別に設けるようにしてもよい。また、各固定子２のジャ
ケットに接続する枝管内に流量制御弁を個別に設けて、
各固定子２への流体の流量を個別に制御するようにして
もよい。

【００７８】本実施の形態のウエハステージＷＳは静圧
空気軸受式のステージであり、Ｘステージ６１とリニア
モータＭＸとの間に案内面となるエアガイド７２が設け
られ、Ｘステージ６１のエアガイド７２に対向する側面
に静圧気体軸受け７３が設けられている。この静圧気体
軸受け７３の吹出口から所定の圧力に調整された空気を
エアガイド７２の対応する側面に吹き出すと共に、吹出
口に併設された吸引口から空気を吸引する。空気の吹出
口と吸引口とはＸステージ６１の側面全体に交互に設け
られており、空気吹き出しによる反発力と、真空吸引力
との釣り合いにより、Ｘステージ６１とエアガイド７２
との間に一定の隙間が保たれるようになっている。ま
た、Ｘステージ６１の底面側にも同様に静圧気体軸受け
が設けられており、Ｘステージ６１とウエハベースＷＢ
との間に一定の隙間が保持されるようになっているが、
本発明と直接関係しないので詳細説明は省略する。

【００７９】上述した他の実施の形態によると、リニア
モータＭＸ，ＭＹの各固定子２を冷却するための流体の
流通方向を所定のスケジュールに従って逆転させるよう
にしたので、各リニアモータＭＸ，ＭＹの各固定子２の
コイルの発熱によりリニアモータＭＸ，ＭＹの長手方向
に生じる温度勾配が平均化されることにより小さくな
る。

【００８０】これにより、流体の流量を増大しなくて
も、リニアモータＭＸ，ＭＹの近傍における空気の揺ら
ぎの発生が抑制され、レーザ干渉計６４，６６による計
測値がより正確となるから、ステージ６１，６２の位置
決め又は移動の精度を向上することができる。従って、
このような高精度なステージ装置を備えた露光装置を用
いることにより、高精度、高品質なマイクロデバイスを
製造することができる。

【００８１】なお、マイクロデバイスは、デバイスの機
能・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づ
いたレチクルを製作するステップ、シリコン材料からウ
エハを制作するステップ、上述の他の実施の形態の露光
装置によりレチクルのパターンをウエハに露光転写する
ステップ、デバイス組み立てステップ（ダイシング工
程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）、検査
ステップ等を経て製造される。

【００８２】以上説明した実施形態は、本発明の理解を
容易にするために記載されたものであって、本発明を限
定するために記載されたものではない。従って、上記の
実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に
属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。

【００８３】例えば、上述の実施の形態及び他の実施の
形態においては、ムービング・マグネット型のリニアモ
ータＭ，ＭＸ，ＭＹを使用したが、本発明は、可動子側
にコイルを含み、固定子に発磁体を含むムービング・コ
イル型のリニアモータを使用する場合にも同様に適用で
きる。また、ステージを駆動する駆動装置としてリニア
モータを例にとって説明したが、本発明はこれに限定さ
れず、その他の形式のモータ、例えば、いわゆる平面モ
ータを駆動装置とするステージ装置にも適用することが
できる。

【００８４】平面モータは、ステージをＸ方向及びＹ方
向に移動するとともに、Ｚ方向に微動し、さらに、Ｘ
軸、Ｙ軸及びＺ軸周りに微少回転することができ、全部
で６自由度を有する駆動装置である。平面モータは、詳
細な図示は省略するが、概略以下のような構成である。

【００８５】即ち、平面モータは、強磁性体からなる底
部ヨークの上面に複数の駆動ユニットを配設し、該駆動
ユニットから上部に離間して、強磁性体からなる上部ヨ
ークを配置する。駆動ユニットは強磁性体からなるコア
に適宜に複数のコイルを配置して構成され、該駆動ユニ
ットと該上部ヨークの間に、磁石板を有するウエハステ
ージを配置する。これにより、ウエハステージは浮遊し
た状態で保持され、駆動ユニットに適宜に通電すること
により、所望の方向に推力を発生することで、かかる６
自由度を実現している。

【００８６】駆動ユニット（コイル）は発熱するため、
これの冷却に上述の流体温調系（７，８，９Ａ〜９Ｄ，
１０等）と同様の温調系を設けて、駆動ユニットの近傍
に温調された流体を流通させ、該流体の流通方向を適宜
に切り替えることにより、該流体の流路に沿って生じる
温度勾配が平均化されて小さくなり、ステージ位置の計
測精度等を向上できる。

【００８７】さらに、上述の他の実施の形態において
は、レチクルとウエハとを静止させた状態でレチクルパ
ターンの全面に露光用照明光を照射して、そのレチクル
パターンが転写されるべきウエハ上の１つの区画領域
（ショット領域）を一括露光するステップ・アップ・リ
ピート方式の縮小投影型露光装置（ステッパー）を例に
とって説明したが、本発明はこれに限定されず、マスク
やウエハを移動するためにステージ装置を用いるあらゆ
る形式の露光装置に適用することができる。

【００８８】例えば、レチクルとウエハとを同期移動し
て、矩形その他の形状のスリット光で走査・照明してウ
エハ上のショット領域を逐次露光し、順次ウエハを移動
して他のショット領域に対して走査・露光を繰り返すス
テップ・アンド・スキャン方式の縮小投影型走査露光装
置（スキャニング・ステッパー）にも同様に本発明を適
用することができる。この場合において、流体温調系に
よるリニアモータＭＸ，ＭＹに対する流体の流通方向の
切り替えは、同期精度等に悪影響を与えないように、露
光動作中を含むスキャニング動作中以外の例えばステッ
プ移動中、あるいはウエハの交換動作中等に行うように
するとよい。

【００８９】露光用照明光としては、水銀ランプから射
出される輝線（例えばｇ線、ｉ線）、ＫｒＦエキシマレ
ーザ（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（波長
１９３ｎｍ）、Ｆ_２ レーザ（波長１５７ｎｍ）、Ａｒ
_２ レーザ（波長１２６ｎｍ）又はＹＡＧレーザなどの
高調波のいずれであってもよい。また、露光用照明光と
して、ＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発
振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザを、例え
ばエルビウム（又はエルビウムとイットリビウムの両
方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形
光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いて
もよい。

【００９０】さらに、例えば５〜１５ｎｍ（軟Ｘ線領
域）に発振スペクトルを有するＥＵＶ（Ｅｘｔｒｅｍｅ
Ｕｌｔｒａ Ｖｉｏｌｅｔ）光を露光用照明光とし、
反射マスク上での照明領域を円弧スリット状に規定する
とともに、複数の反射光学素子（ミラー）のみからなる
縮小投影光学系を有し、縮小投影光学系の倍率に応じた
速度比で反射マスクとウエハとを同期移動して反射マス
クのパターンをウエハ上に転写するＥＵＶ露光装置など
にも、本発明を適用することができる。

【００９１】加えて、半導体素子、液晶ディスプレイ、
薄膜磁気ヘッド、及び撮像素子（ＣＣＤ等）の製造に用
いられる投影露光装置だけでなく、レチクル、又はマス
クを製造するために、ガラス基板、又はシリコンウエハ
等に回路パターンを転写する投影露光装置にも本発明を
適用できる。

【００９２】

【発明の効果】本発明によると、効率の低下や装置の大
型化を招くことなく、駆動部の発熱による空気の揺らぎ
を十分に抑え、ステージの位置を高精度に計測して、ス
テージを正確に位置決め又は移動できるステージ装置を
提供することができるという効果がある。また、高品質
なマイクロデバイスを製造できる露光装置を提供するこ
とができるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の実施の形態のステージ装置の概略構
成を示す図である。

【図２】 図１のステージ装置のリニアモータの構成を
示す断面図である。

【図３】 図１のステージ装置のリニアモータに取り付
けるシートヒータの構成を示す図である。

【図４】 図１のステージ装置の流れ方向切替機の構成
を示す図であり、（ａ）は流体を正方向に流す場合を、
（ｂ）は流体を逆方向に流す場合を示している。

【図５】 本発明の他の実施の形態の露光装置の全体の
概略構成を示す図である。

【図６】 図５の露光装置に用いたステージ装置の詳細
構成を示す斜視図である。

【符号の説明】

Ｍ，ＭＸ，ＭＹ…リニアモータ １，６１，６２…ステージ ２…固定子 ３…可動子 ４，５５，６４，６６…レーザ干渉計 ５…レーザビーム ６，５４，６３，６５…移動鏡 ７…温調機 ８…流れ方向切替機 ８Ａ，８Ｂ…電磁弁 ８Ｃ，８Ｄ…連絡管 ９Ａ〜９Ｄ，７０Ｘ，７０Ｙ，７１Ｘ，７１Ｙ…配管 １０…流体制御装置 １１…温度検出装置 １２…ヒータ制御装置 １３…シートヒータ ２１…駆動用コイル ２２…ジャケット ２５…流路 ２６…磁石 ２９…流体 ３１…温度センサ ３２…ヒータ Ｒ…レチクル Ｗ…ウエハ ＲＳ…レチクルステージ ＷＳ…ウエハステージ ＷＴ…試料台 ＰＬ…投影光学系 ５１…照明光学系 ５２…主制御系

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/30 ５１５Ｇ

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ステージを駆動装置により駆動するステ
   ージ装置であって、 前記駆動装置は前記ステージの駆動に応じて発熱する部
   分を有しており、 前記発熱する部分を冷却するために流体を供給する流体
   供給装置と、 前記流体の流れる方向を選択的に切り替える切替装置と
   を備えたことを特徴とするステージ装置。
2. 【請求項２】 パターンが形成されたマスクを介して感
   光基板を露光する露光装置であって、 前記マスク及び前記感光基板の少なくとも一方を、請求
   項１に記載のステージ装置により移動することを特徴と
   する露光装置。
3. 【請求項３】 露光処理の後、次の露光処理を行うまで
   の間に、前記流体の流れ方向の切替を実施するよう前記
   切替装置を制御する制御装置を備えたことを特徴とする
   請求項２に記載の露光装置。
4. 【請求項４】 ステージを駆動装置により駆動するステ
   ージ装置であって、 前記駆動装置は前記ステージの駆動に応じて発熱する部
   分を有しており、 前記発熱する部分を包囲する隔壁と、 前記隔壁の内部に流体を流す流体供給装置と、 前記隔壁を加熱する加熱装置とを備えたことを特徴とす
   るステージ装置。
5. 【請求項５】 前記隔壁の温度を検出する温度検出装置
   と、 前記温度検出装置により検出された温度に基づき、前記
   隔壁が所定の温度となるように前記加熱装置の作動を制
   御する制御装置とを備えたことを特徴とする請求項４に
   記載のステージ装置。
6. 【請求項６】 パターンが形成されたマスクを介して感
   光基板を露光する露光装置であって、 前記マスク及び前記感光基板の少なくとも一方を、請求
   項４又は５に記載のステージ装置により移動することを
   特徴とする露光装置。