JP2008072100A - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ装置用のステージシステムが提供される。当該ステージシステムは、可動ステージと、コイルを含む静止モータコイルアセンブリとを含み、当該コイルは、可動ステージの磁石と相互作用して可動ステージを駆動するための移動磁気モータを形成する。前記ステージシステムは、さらに、可動ステージの動作エリア内での位置を測定する位置測定システムを含み、この位置測定システムは、モータコイルアセンブリの一部の上方を可動ステージに向かって延在する測定ビームパスに沿って、測定ビームを移動させる。コイルアセンブリは、モータを駆動するモータコイル間にコイルアセンブリパスを含み、このコイルアセンブリパスは測定ビームパスの下方に延在する。可動ステージは基板ステージ又はレチクルステージを含むことができる。
【選択図】図2
Description
Claims (19)
- リソグラフィ装置用のステージシステムであって、
可動ステージと、
複数のコイルを含む静止モータコイルアセンブリであって、前記複数のコイルは、前記可動ステージの磁石アセンブリと相互作用することによって前記可動ステージを駆動するための移動磁気モータを形成する、静止モータコイルアセンブリと、
前記可動ステージの動作エリア内での位置を測定するための位置測定システムであって、前記位置測定システムは、前記静止モータコイルアセンブリの一部の上方を前記ステージに向かって延在する測定ビームパスに沿って測定ビームを移動させるように構成されており、前記静止モータコイルアセンブリは、前記複数のコイル間でかつ前記測定ビームパスの下方に延在するコイルアセンブリパスを有する、位置測定システムと、
を備えるステージシステム。 - 前記測定ビームパスと前記コイルアセンブリパスの間には、ガス流を前記測定ビームパスから離れる方向に誘導するガス流誘導デバイスが設けられている、
請求項1に記載のステージシステム。 - 前記ガス流誘導デバイスがプレートを備え、当該プレートの表面が前記モータコイルアセンブリの表面とほぼ平行に延在する、
請求項2に記載のステージシステム。 - 前記ガス流誘導デバイスがほぼV字形の断面を有するプロファイルを備え、前記V字形断面の頂点部分が前記コイルアセンブリパス方向に配向している、
請求項2に記載のステージシステム。 - 前記コイルアセンブリパスから前記測定ビームパスに向かって流れるガス流を提供するためのガス流発生デバイスを備える、
請求項1に記載のステージシステム。 - 前記ステージの移動方向における前記ステージの前記磁石間の距離が、少なくとも、前記ステージが保持するエレメントの光学的に使用可能なサイズに等しい、
請求項1に記載のステージシステム。 - 前記ステージがリソグラフィ装置の基板テーブルを備え、前記位置測定システムがほぼ直交する二本の測定ビームパスに沿って二本の測定ビームを移動させ、各測定ビームパスが前記モータコイルアセンブリの各部分上に延在し、前記コイルアセンブリが前記複数のコイル間に二本のパスを備え、各パスが各前記測定ビームパスの下方に延在する、
請求項1に記載のステージシステム。 - 前記可動ステージが、前記コイルアセンブリと相互作用する四つの磁石を備え、前記四つの磁石がそれぞれ前記可動ステージの各隅に配され、前記可動ステージの一側面に並ぶ二つの磁石間の距離が少なくとも前記側面の寸法に等しい、
請求項6に記載のステージシステム。 - 前記動作エリアが、露光エリア及び基板表面平坦度測定エリアの一方を備える、
請求項1に記載のステージシステム。 - 前記磁石アセンブリが、複数の磁石を備える、
請求項1に記載のステージシステム。 - (a)放射ビームを調整するように構成された照明システムと、
(b)パターニングデバイスを支持するように構成されたパターニングデバイスサポートであって、前記パターニングデバイスは、前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成することができる、パターニングデバイスサポートと、
(c)基板を保持するように構成された基板サポートと、
(d)前記基板のターゲット部分上に前記パターン付き放射ビームを投影するように構成された投影システムと、
(e)前記サポートのうち一方を位置決めするように構成された位置決めデバイスであって、前記位置決めデバイスは、複数のコイルを有する静止モータコイルアセンブリを含み、前記複数のコイルは、前記サポートのうちの一方の磁石アセンブリと相互作用して当該一方のサポートを駆動するための移動磁気モータを形成する、位置決めデバイスと、
(f)前記一方のサポートの動作エリア内での位置を測定するための位置測定システムと、
を備え、
前記位置測定システムは、前記静止モータコイルアセンブリの一部の上方を前記一方のサポートに向かって延在する測定ビームパスに沿って測定ビームを移動させるように構成されており、前記静止モータコイルアセンブリは、前記複数のコイル間でかつ前記測定ビームパスの下方に延在するコイルアセンブリパスを有する、
リソグラフィ装置。 - 前記位置決めデバイスが前記基板サポートを位置決めするように構成されており、前記位置測定システムがほぼ直行する二本の測定ビームパスに沿って二本の測定ビームを移動させ、各測定ビームパスが前記モータコイルアセンブリの各部分上に延在し、前記コイルアセンブリが前記コイル間に二本のパスを備え、各パスが各前記測定ビームパスの下方に延在する、
請求項11に記載のリソグラフィ装置。 - 請求項11に記載のリソグラフィ装置を使用して基板上にパターンを照射する工程と、
前記照射された基板を現像する工程と、
前記現像された基板からデバイスを製造する工程と、
を含むデバイス製造方法。 - リソグラフィ装置用のステージシステムであって、
可動ステージと、
前記可動ステージを位置決めするように構成された位置決めデバイスであって、前記位置決めデバイスはコイルアセンブリ及び磁石アセンブリを含み、前記コイルアセンブリは、前記磁石アセンブリと相互作用して前記可動ステージを位置決めするように構成されており、前記コイルアセンブリは少なくとも一対のコイルを含み、前記一対のコイルはその間にパスが画定できるように間隔をあけて配されている、位置決めデバイスと、
前記可動ステージの位置を測定するように構成された位置測定システムであって、前記位置測定システムは、前記コイルアセンブリの一部の上方を前記可動ステージに向かって延在する測定ビームパスに沿って測定放射ビームを出すように構成されており、前記測定ビームパスは、前記一対のコイル間のパスとほぼ平行かつその上方に配置されている、位置測定システムと、
を備えるステージシステム。 - 前記測定ビームパスと前記一対のコイル間のパスとの間に配されたガス流誘導デバイスをさらに備え、前記ガス流誘導デバイスが、ガス流を前記測定ビームパスから離れる方向に誘導するように構成されている、
請求項14に記載のステージシステム。 - 前記ガス流誘導デバイスがプレートを備え、前記プレートの表面が前記コイルアセンブリの表面とほぼ平行に延在する、
請求項15に記載のステージシステム。 - 前記ガス流誘導デバイスがほぼV字形の断面を有するプロファイルを備え、前記V字形断面の頂点部分が前記一対のコイル間のパスに向かって配向している、
請求項15に記載のステージシステム。 - 前記一対のコイル間のパスから前記測定ビームパスに向かって流れるガス流を提供するように構成されたガス流発生デバイスを備える、
請求項14に記載のステージシステム。 - 前記コイルアセンブリが一対以上のコイルを含む、
請求項14に記載のステージシステム。
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