JPH10149975A - 露光装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
露光装置およびデバイス製造方法Info
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- JPH10149975A JPH10149975A JP8318616A JP31861696A JPH10149975A JP H10149975 A JPH10149975 A JP H10149975A JP 8318616 A JP8318616 A JP 8318616A JP 31861696 A JP31861696 A JP 31861696A JP H10149975 A JPH10149975 A JP H10149975A
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- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 原版ステージの加減速による振動を減少さ
せ、また、原版ステージや基板ステージ位置の計測精
度、さらには基板面の位置の計測精度を向上させる。 【解決手段】 走査型露光装置において、投影光学系お
よび原版ステージが設けられた鏡筒定盤と、複数の支柱
を有し各支柱の上のダンパを介して鏡筒定盤を支持する
ベースフレームとを備え、このベースフレーム１０は、
その支柱１２間をそれらの上部において結合する結合部
材５１を備える。また、このベースフレームの下部に、
空調する際の空気のリターン用の通路が設けられてい
る。また、原版側レーザ干渉計による計測光路上を空調
する原版側空調手段と、基板側レーザ干渉計による計測
光路上を空調する基板側空調手段とを別個に備える。ま
た、フォーカス検出手段における測定光の出射面または
入射面もしくはその面とそれに接続した面とで構成され
る面は、空調手段から吹き出される空気の流れに平行な
または滑らかに接する面形状を有する。
せ、また、原版ステージや基板ステージ位置の計測精
度、さらには基板面の位置の計測精度を向上させる。 【解決手段】 走査型露光装置において、投影光学系お
よび原版ステージが設けられた鏡筒定盤と、複数の支柱
を有し各支柱の上のダンパを介して鏡筒定盤を支持する
ベースフレームとを備え、このベースフレーム１０は、
その支柱１２間をそれらの上部において結合する結合部
材５１を備える。また、このベースフレームの下部に、
空調する際の空気のリターン用の通路が設けられてい
る。また、原版側レーザ干渉計による計測光路上を空調
する原版側空調手段と、基板側レーザ干渉計による計測
光路上を空調する基板側空調手段とを別個に備える。ま
た、フォーカス検出手段における測定光の出射面または
入射面もしくはその面とそれに接続した面とで構成され
る面は、空調手段から吹き出される空気の流れに平行な
または滑らかに接する面形状を有する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、設計パターンを基
板上のレジストに露光して半導体デバイス等を製造する
ために用いられる露光装置、およびそれを用い得るデバ
イス製造方法に関する。
板上のレジストに露光して半導体デバイス等を製造する
ために用いられる露光装置、およびそれを用い得るデバ
イス製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、このような露光装置としては、ウ
エハ等の基板をステップ移動させながら基板上の複数の
露光領域にマスクパターンを投影光学系を介して順次露
光するステッパや、投影光学系に対し相対的にマスクと
基板とを移動させ、マスクと基板をスリット状の露光光
によって走査することによりマスクパターンを基板上に
走査露光する走査型の露光装置等が知られている。
エハ等の基板をステップ移動させながら基板上の複数の
露光領域にマスクパターンを投影光学系を介して順次露
光するステッパや、投影光学系に対し相対的にマスクと
基板とを移動させ、マスクと基板をスリット状の露光光
によって走査することによりマスクパターンを基板上に
走査露光する走査型の露光装置等が知られている。
【０００３】また、近年、より高精度で微細なパターン
の露光が行えるように、前記ステップ移動と走査露光と
を繰り返すことにより、基板上の複数の領域に高精度で
微細なパターンの露光を行う、ステップ・アンド・スキ
ャン型の露光装置が提案されている。この露光装置で
は、スリットにより制限して投影光学系の比較的光軸に
近い部分のみを使用しているため、より高精度で微細な
パターンの露光が可能となっている。走査露光に際して
は、レチクルステージやウエハステージを走査方向等に
対して精密に制御しながら、移動させるために、レーザ
干渉計を用いてこれらのステージ位置をモニタするよう
にしている。また、投影光学系のフォーカス位置にウエ
ハを位置させるために、ウエハ上に測定光を投光手段に
より投光し、ウエハで反射される測定光を受光手段によ
り受光して、ウエハ面の位置を検出するようにしてい
る。さらに、レーザ干渉計による測長光路や、ウエハ面
位置を検出するための測定光の光路を、空調手段により
空調して測定精度を高めるようにしている。
の露光が行えるように、前記ステップ移動と走査露光と
を繰り返すことにより、基板上の複数の領域に高精度で
微細なパターンの露光を行う、ステップ・アンド・スキ
ャン型の露光装置が提案されている。この露光装置で
は、スリットにより制限して投影光学系の比較的光軸に
近い部分のみを使用しているため、より高精度で微細な
パターンの露光が可能となっている。走査露光に際して
は、レチクルステージやウエハステージを走査方向等に
対して精密に制御しながら、移動させるために、レーザ
干渉計を用いてこれらのステージ位置をモニタするよう
にしている。また、投影光学系のフォーカス位置にウエ
ハを位置させるために、ウエハ上に測定光を投光手段に
より投光し、ウエハで反射される測定光を受光手段によ
り受光して、ウエハ面の位置を検出するようにしてい
る。さらに、レーザ干渉計による測長光路や、ウエハ面
位置を検出するための測定光の光路を、空調手段により
空調して測定精度を高めるようにしている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな走査型の露光装置においては、より高精度で微細な
パターンの露光を実効あるものとするためには、レチク
ルステージやウエハステージの位置の測定精度、あるい
はウエハ面の位置の検出精度が不十分であるという問題
がある。また、レチクルステージを走査方向に移動する
際の加減速時により生じる振動が収束してから、走査露
光を行う必要があるが、この振動の収束までにかなりの
時間を要し、これが生産性を低下させているという問題
もある。
うな走査型の露光装置においては、より高精度で微細な
パターンの露光を実効あるものとするためには、レチク
ルステージやウエハステージの位置の測定精度、あるい
はウエハ面の位置の検出精度が不十分であるという問題
がある。また、レチクルステージを走査方向に移動する
際の加減速時により生じる振動が収束してから、走査露
光を行う必要があるが、この振動の収束までにかなりの
時間を要し、これが生産性を低下させているという問題
もある。
【０００５】本発明の目的は、このような従来技術の問
題点に鑑み、露光装置およびそれを用い得るデバイス製
造方法において、原版ステージの加減速による振動を減
少させることにある。また、原版ステージや基板ステー
ジ位置の計測精度、さらには基板面の位置の計測精度を
向上させることにある。
題点に鑑み、露光装置およびそれを用い得るデバイス製
造方法において、原版ステージの加減速による振動を減
少させることにある。また、原版ステージや基板ステー
ジ位置の計測精度、さらには基板面の位置の計測精度を
向上させることにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
本発明の露光装置は、原版を移動させる原版ステージ
と、基板を移動させる基板ステージと、原版のパターン
を基板上に投影する投影光学系とを有し、原版ステージ
と基板ステージを走査方向に移動させながら原版のパタ
ーンを基板上に投影して露光を行う走査型露光装置にお
いて、投影光学系および原版ステージが設けられた鏡筒
定盤と、複数の支柱を有し各支柱の上のダンパを介して
鏡筒定盤を支持するベースフレームとを備え、このベー
スフレームは、その支柱間をそれらの上部において結合
する結合部材を具備することを特徴とする。
本発明の露光装置は、原版を移動させる原版ステージ
と、基板を移動させる基板ステージと、原版のパターン
を基板上に投影する投影光学系とを有し、原版ステージ
と基板ステージを走査方向に移動させながら原版のパタ
ーンを基板上に投影して露光を行う走査型露光装置にお
いて、投影光学系および原版ステージが設けられた鏡筒
定盤と、複数の支柱を有し各支柱の上のダンパを介して
鏡筒定盤を支持するベースフレームとを備え、このベー
スフレームは、その支柱間をそれらの上部において結合
する結合部材を具備することを特徴とする。
【０００７】好ましい態様においては、支柱の数は３本
であり、結合部材は、各支柱上のダンパより上でかつダ
ンパに隣接した高さに位置し、かつ、上から見た場合、
各支柱およびその上のダンパをそれらにほぼ接してそれ
らを囲い込むような寸法および形状を有するほぼ三角形
状の部材と、この部材および各支柱の上端との間を、各
支柱のダンパの外側を経て結合する部材とを有すること
を特徴とする。この場合、鏡筒定盤の底部は、前記三角
形状の部材に嵌合させて、各ダンパ上に配置することが
できる。
であり、結合部材は、各支柱上のダンパより上でかつダ
ンパに隣接した高さに位置し、かつ、上から見た場合、
各支柱およびその上のダンパをそれらにほぼ接してそれ
らを囲い込むような寸法および形状を有するほぼ三角形
状の部材と、この部材および各支柱の上端との間を、各
支柱のダンパの外側を経て結合する部材とを有すること
を特徴とする。この場合、鏡筒定盤の底部は、前記三角
形状の部材に嵌合させて、各ダンパ上に配置することが
できる。
【０００８】あるいは、本発明の露光装置は、原版を移
動させる原版ステージと、基板を移動させる基板ステー
ジと、原版のパターンを基板上に投影する投影光学系と
を有し、原版ステージと基板ステージを走査方向に移動
させながら原版のパターンを基板上に投影して露光を行
う走査型露光装置において、投影光学系および原版ステ
ージが設けられた鏡筒定盤と、複数の支柱を有し各支柱
の上のダンパを介して鏡筒定盤を支持するベースフレー
ムとを備え、このベースフレームの下部には、装置をチ
ャンバ内に配置して空調する際の空気のリターン用の通
路が設けられていることを特徴とする。
動させる原版ステージと、基板を移動させる基板ステー
ジと、原版のパターンを基板上に投影する投影光学系と
を有し、原版ステージと基板ステージを走査方向に移動
させながら原版のパターンを基板上に投影して露光を行
う走査型露光装置において、投影光学系および原版ステ
ージが設けられた鏡筒定盤と、複数の支柱を有し各支柱
の上のダンパを介して鏡筒定盤を支持するベースフレー
ムとを備え、このベースフレームの下部には、装置をチ
ャンバ内に配置して空調する際の空気のリターン用の通
路が設けられていることを特徴とする。
【０００９】あるいは、本発明の露光装置は、原版を移
動させる原版ステージと、基板を移動させる基板ステー
ジと、原版のパターンを基板上に投影する投影光学系
と、原版ステージの位置を計測するための原版側レーザ
干渉計と、基板ステージの位置を計測するための基板側
レーザ干渉計とを備え、原版および基板ステージの計測
位置をフィードバックさせて原版ステージと基板ステー
ジを走査方向に移動させながら原版のパターンを基板上
に投影して露光を行う走査型露光装置において、原版側
レーザ干渉計による計測光路上を空調する原版側空調手
段と、基板側レーザ干渉計による計測光路上を空調する
基板側空調手段とを別個に具備することを特徴とする。
動させる原版ステージと、基板を移動させる基板ステー
ジと、原版のパターンを基板上に投影する投影光学系
と、原版ステージの位置を計測するための原版側レーザ
干渉計と、基板ステージの位置を計測するための基板側
レーザ干渉計とを備え、原版および基板ステージの計測
位置をフィードバックさせて原版ステージと基板ステー
ジを走査方向に移動させながら原版のパターンを基板上
に投影して露光を行う走査型露光装置において、原版側
レーザ干渉計による計測光路上を空調する原版側空調手
段と、基板側レーザ干渉計による計測光路上を空調する
基板側空調手段とを別個に具備することを特徴とする。
【００１０】あるいは、本発明の露光装置は、前記投影
光学系および原版ステージが設けられた鏡筒定盤と、複
数の支柱を有し各支柱の上のダンパを介して鏡筒定盤を
支持するベースフレームとを備え、基板側空調手段は、
装置をチャンバ内に配置して空調する際の空気のリター
ン用の通路をベースフレームの下部に有することを特徴
とする。この場合、露光待機時においても、前記原版ス
テージまたは基板ステージを移動し続けるのが好まし
い。
光学系および原版ステージが設けられた鏡筒定盤と、複
数の支柱を有し各支柱の上のダンパを介して鏡筒定盤を
支持するベースフレームとを備え、基板側空調手段は、
装置をチャンバ内に配置して空調する際の空気のリター
ン用の通路をベースフレームの下部に有することを特徴
とする。この場合、露光待機時においても、前記原版ス
テージまたは基板ステージを移動し続けるのが好まし
い。
【００１１】あるいは、本発明の露光装置は、原版のパ
ターンを基板上に投影する投影光学系と、この投影光学
系のフォーカス位置に原版を位置させるためのフォーカ
ス検出手段とを備え、このフォーカス検出手段は、露光
位置に配置された原版上に測定光を投光する投光手段
と、これによって投光され、原版で反射される測定光を
受光する受光手段とを備えたものである露光装置におい
て、前記測定光の光路上を空調する空調手段を備え、投
光手段または受光手段における測定光の出射面または入
射面もしくはその面とそれに接続した面とで構成される
面は、空調手段から吹き出される空気の流れに平行なま
たは滑らかに接する面形状を有することを特徴とする。
ターンを基板上に投影する投影光学系と、この投影光学
系のフォーカス位置に原版を位置させるためのフォーカ
ス検出手段とを備え、このフォーカス検出手段は、露光
位置に配置された原版上に測定光を投光する投光手段
と、これによって投光され、原版で反射される測定光を
受光する受光手段とを備えたものである露光装置におい
て、前記測定光の光路上を空調する空調手段を備え、投
光手段または受光手段における測定光の出射面または入
射面もしくはその面とそれに接続した面とで構成される
面は、空調手段から吹き出される空気の流れに平行なま
たは滑らかに接する面形状を有することを特徴とする。
【００１２】この場合、例えば、投光手段または受光手
段は測定光を出射する出射ガラス面または測定光が入射
する入射ガラス面を有し、この出射ガラス面または入射
ガラス面と空調手段の空気の吹出し方向とはほぼ平行で
あることを特徴とする。あるいは、前記測定光の光路と
空調手段の空気の吹出し方向とはほぼ直交することを特
徴とする。さらに、前記面形状は投光手段または受光手
段が有するシリンドリカルレンズまたは凸レンズの凸面
形状であることを特徴とする。また、空調手段の空気吹
出し方向でみて、投光手段または受光手段の前後におい
て、それに隣接する部材を有し、投光手段または受光手
段の出射面または入射面と、これに接続する前記部材の
曲面とで、前記面形状が構成されることを特徴とする。
段は測定光を出射する出射ガラス面または測定光が入射
する入射ガラス面を有し、この出射ガラス面または入射
ガラス面と空調手段の空気の吹出し方向とはほぼ平行で
あることを特徴とする。あるいは、前記測定光の光路と
空調手段の空気の吹出し方向とはほぼ直交することを特
徴とする。さらに、前記面形状は投光手段または受光手
段が有するシリンドリカルレンズまたは凸レンズの凸面
形状であることを特徴とする。また、空調手段の空気吹
出し方向でみて、投光手段または受光手段の前後におい
て、それに隣接する部材を有し、投光手段または受光手
段の出射面または入射面と、これに接続する前記部材の
曲面とで、前記面形状が構成されることを特徴とする。
【００１３】この場合さらに、露光装置は、原版を移動
させる原版ステージと、基板を移動させる基板ステージ
とを有し、原版ステージと基板ステージを走査方向に移
動させながら原版のパターンを基板上に投影して露光を
行う走査型のものであり、また、投影光学系および原版
ステージが設けられた鏡筒定盤と、３本の支柱を有し各
支柱の上のダンパを介して鏡筒定盤を支持するベースフ
レームとを備え、空調手段の空気吹出し方向は、いずれ
か２本の支柱を結ぶ線にほぼ垂直な方向であることを特
徴とする。
させる原版ステージと、基板を移動させる基板ステージ
とを有し、原版ステージと基板ステージを走査方向に移
動させながら原版のパターンを基板上に投影して露光を
行う走査型のものであり、また、投影光学系および原版
ステージが設けられた鏡筒定盤と、３本の支柱を有し各
支柱の上のダンパを介して鏡筒定盤を支持するベースフ
レームとを備え、空調手段の空気吹出し方向は、いずれ
か２本の支柱を結ぶ線にほぼ垂直な方向であることを特
徴とする。
【００１４】空調手段から吹き出される空気の流れを投
影光学系下部の前記測定光の光路上に導くための板状部
材を、空調手段の空気吹出し口と投影光学系との間に設
けるようにしてもよい。
影光学系下部の前記測定光の光路上に導くための板状部
材を、空調手段の空気吹出し口と投影光学系との間に設
けるようにしてもよい。
【００１５】本発明のデバイス製造方法は、原版と基板
を走査方向に移動させながら原版のパターンを投影光学
系を介して基板上に投影して走査露光することによりデ
バイスを製造するに際し、原版を移動させる原版ステー
ジおよび投影光学系が設けられた鏡筒定盤を、ベースフ
レーム上の複数の支柱によりそれらの上のダンパを介し
て支持するとともに、それらの支柱間をそれらの上部に
おいて結合部材により結合することを特徴とする。
を走査方向に移動させながら原版のパターンを投影光学
系を介して基板上に投影して走査露光することによりデ
バイスを製造するに際し、原版を移動させる原版ステー
ジおよび投影光学系が設けられた鏡筒定盤を、ベースフ
レーム上の複数の支柱によりそれらの上のダンパを介し
て支持するとともに、それらの支柱間をそれらの上部に
おいて結合部材により結合することを特徴とする。
【００１６】この場合、好ましくは、支柱の数は３本で
あり、結合部材は、各支柱上のダンパより上でかつダン
パに隣接した高さに位置し、かつ、上から見た場合、各
支柱およびその上のダンパをそれらにほぼ接してそれら
を囲い込むような寸法および形状を有するほぼ三角形状
の部材と、この部材および各支柱の上端との間を、各支
柱のダンパの外側を経て結合する部材とを有する。この
場合、鏡筒定盤の底部を、前記三角形状の部材に嵌合し
て、各ダンパ上に配置することができる。
あり、結合部材は、各支柱上のダンパより上でかつダン
パに隣接した高さに位置し、かつ、上から見た場合、各
支柱およびその上のダンパをそれらにほぼ接してそれら
を囲い込むような寸法および形状を有するほぼ三角形状
の部材と、この部材および各支柱の上端との間を、各支
柱のダンパの外側を経て結合する部材とを有する。この
場合、鏡筒定盤の底部を、前記三角形状の部材に嵌合し
て、各ダンパ上に配置することができる。
【００１７】あるいは、本発明のデバイス製造方法は、
原版と基板を走査方向に移動させながら原版のパターン
を投影光学系を介して基板上に投影して走査露光するこ
とによりデバイスを製造するに際し、原版を移動させる
原版ステージおよび投影光学系が設けられた鏡筒定盤
を、ベースフレーム上の複数の支柱によりそれらの上の
ダンパを介して支持し、装置をチャンバ内に配置して空
調するするとともに、この空調を、ベースフレームの下
部に設けたリターン用の通路を介して行うことを特徴と
する。
原版と基板を走査方向に移動させながら原版のパターン
を投影光学系を介して基板上に投影して走査露光するこ
とによりデバイスを製造するに際し、原版を移動させる
原版ステージおよび投影光学系が設けられた鏡筒定盤
を、ベースフレーム上の複数の支柱によりそれらの上の
ダンパを介して支持し、装置をチャンバ内に配置して空
調するするとともに、この空調を、ベースフレームの下
部に設けたリターン用の通路を介して行うことを特徴と
する。
【００１８】あるいは、本発明のデバイス製造方法は、
原版の位置を原版側レーザ干渉計により計測し、基板の
位置を基板側レーザ干渉計により計測し、原版および基
板の計測位置をフィードバックさせて原版と基板を走査
方向に移動させながら原版のパターンを投影光学系を介
して基板上に投影して走査露光することによりデバイス
を製造するに際し、原版側レーザ干渉計による計測光路
上および基板側レーザ干渉計による計測光路上を別個に
空調することを特徴とする。
原版の位置を原版側レーザ干渉計により計測し、基板の
位置を基板側レーザ干渉計により計測し、原版および基
板の計測位置をフィードバックさせて原版と基板を走査
方向に移動させながら原版のパターンを投影光学系を介
して基板上に投影して走査露光することによりデバイス
を製造するに際し、原版側レーザ干渉計による計測光路
上および基板側レーザ干渉計による計測光路上を別個に
空調することを特徴とする。
【００１９】この場合例えば、原版を移動させる原版ス
テージおよび投影光学系は鏡筒定盤上に設け、この鏡筒
定盤はベースフレーム上に設けた複数の支柱および各支
柱の上のダンパを介して支持し、装置をチャンバ内に配
置して空調する際の基板側の空調は、ベースフレームの
下部に設けたリターン用の通路を介して行うことを特徴
とする。また、露光待機時においても、原版ステージま
たは基板を移動させる基板ステージを移動し続けること
を特徴とする。
テージおよび投影光学系は鏡筒定盤上に設け、この鏡筒
定盤はベースフレーム上に設けた複数の支柱および各支
柱の上のダンパを介して支持し、装置をチャンバ内に配
置して空調する際の基板側の空調は、ベースフレームの
下部に設けたリターン用の通路を介して行うことを特徴
とする。また、露光待機時においても、原版ステージま
たは基板を移動させる基板ステージを移動し続けること
を特徴とする。
【００２０】あるいは、本発明のデバイス製造方法は、
露光位置に配置された原版上に測定光を投光手段により
投光し、原版で反射される測定光を受光手段により受光
して、投影光学系のフォーカス位置に原版を位置させ、
原版のパターンを投影光学系を介して基板上に投影して
露光することによりデバイスを製造するに際し、前記測
定光の光路上を空調手段により空調するとともに、投光
手段または受光手段における測定光の出射面または入射
面もしくはその面とそれに接続した面とで構成される面
の形状を、空調手段から吹き出される空気の流れに平行
なまたは滑らかに接する面形状とすることを特徴とす
る。
露光位置に配置された原版上に測定光を投光手段により
投光し、原版で反射される測定光を受光手段により受光
して、投影光学系のフォーカス位置に原版を位置させ、
原版のパターンを投影光学系を介して基板上に投影して
露光することによりデバイスを製造するに際し、前記測
定光の光路上を空調手段により空調するとともに、投光
手段または受光手段における測定光の出射面または入射
面もしくはその面とそれに接続した面とで構成される面
の形状を、空調手段から吹き出される空気の流れに平行
なまたは滑らかに接する面形状とすることを特徴とす
る。
【００２１】この場合例えば、投光手段または受光手段
は測定光を出射する出射ガラス面または測定光が入射す
る入射ガラス面を有し、この出射ガラス面または入射ガ
ラス面と空調手段の空気の吹出し方向とをほぼ平行にす
ることを特徴とする。さらには、前記測定光の光路と空
調手段の空気の吹出し方向とをほぼ直交させることを特
徴とする。さらには、前記面形状は投光手段または受光
手段が有するシリンドリカルレンズまたは凸レンズの凸
面形状で構成することを特徴とする。さらには、空調手
段の空気吹出し方向でみて、投光手段または受光手段の
前後において、それに隣接する部材を設け、投光手段ま
たは受光手段の出射面または入射面とこれに接続する前
記部材の曲面とで、前記面形状を構成することを特徴と
する。
は測定光を出射する出射ガラス面または測定光が入射す
る入射ガラス面を有し、この出射ガラス面または入射ガ
ラス面と空調手段の空気の吹出し方向とをほぼ平行にす
ることを特徴とする。さらには、前記測定光の光路と空
調手段の空気の吹出し方向とをほぼ直交させることを特
徴とする。さらには、前記面形状は投光手段または受光
手段が有するシリンドリカルレンズまたは凸レンズの凸
面形状で構成することを特徴とする。さらには、空調手
段の空気吹出し方向でみて、投光手段または受光手段の
前後において、それに隣接する部材を設け、投光手段ま
たは受光手段の出射面または入射面とこれに接続する前
記部材の曲面とで、前記面形状を構成することを特徴と
する。
【００２２】この場合好ましくは、原版は原版ステージ
により移動させ、基板は基板ステージにより移動させ、
原版ステージと基板ステージを走査方向に移動させなが
ら原版のパターンを基板上に投影して走査露光を行うと
ともに、投影光学系および原版ステージは鏡筒定盤上に
設け、鏡筒定盤はベースフレーム上の３本の支柱および
各支柱の上のダンパを介して支持し、空調手段の空気吹
出し方向は、いずれか２本の支柱を結ぶ線にほぼ垂直な
方向とする。
により移動させ、基板は基板ステージにより移動させ、
原版ステージと基板ステージを走査方向に移動させなが
ら原版のパターンを基板上に投影して走査露光を行うと
ともに、投影光学系および原版ステージは鏡筒定盤上に
設け、鏡筒定盤はベースフレーム上の３本の支柱および
各支柱の上のダンパを介して支持し、空調手段の空気吹
出し方向は、いずれか２本の支柱を結ぶ線にほぼ垂直な
方向とする。
【００２３】空調手段の空気吹出し口と投影光学系との
間に設けた板状部材により、空調手段から吹き出される
空気の流れを投影光学系下部の前記測定光の光路上に導
くようにしてもよい。
間に設けた板状部材により、空調手段から吹き出される
空気の流れを投影光学系下部の前記測定光の光路上に導
くようにしてもよい。
【００２４】
【発明の実施の形態】以下、図面を用いて本発明の実施
形態を説明する。図１は本発明の第１の実施形態に係る
露光装置を側方から見た様子を模式的に示す図であり、
図２は、その露光装置の外観を示す斜視図である。これ
らの図に示すように、この露光装置はレチクルのパター
ンの一部を投影光学系２を介して、ＸＹステージ装置３
上に設けられた微動ステージ８０上のウエハに投影し、
投影光学系２に対し相対的にレチクルとウエハをＹ方向
に同期走査することによりレチクルのパターンをウエハ
に露光するとともに、この走査露光を、ウエハ上の複数
領域に対して繰返し行うためのステップ移動を介在させ
ながら行なうステップ・アンド・スキャン型の露光装置
である。
形態を説明する。図１は本発明の第１の実施形態に係る
露光装置を側方から見た様子を模式的に示す図であり、
図２は、その露光装置の外観を示す斜視図である。これ
らの図に示すように、この露光装置はレチクルのパター
ンの一部を投影光学系２を介して、ＸＹステージ装置３
上に設けられた微動ステージ８０上のウエハに投影し、
投影光学系２に対し相対的にレチクルとウエハをＹ方向
に同期走査することによりレチクルのパターンをウエハ
に露光するとともに、この走査露光を、ウエハ上の複数
領域に対して繰返し行うためのステップ移動を介在させ
ながら行なうステップ・アンド・スキャン型の露光装置
である。
【００２５】レチクルの走査方向（Ｙ方向）への移動
は、レチクル側ステージ装置によって行われ、このステ
ージ装置は、固定子４ａと可動子４ｂとの間で推力を付
与することにより可動子４ｂを走査方向へ移動させるリ
ニアモータ４を備え、可動子４ｂにレチクルステージ１
が結合している。固定子４ａは第１の支持手段１０１に
よりＹ方向には自由度をもたせて支持される。そして、
第２の支持手段１０５によりＹ方向について剛に、他の
方向について柔に支持される。この第２支持手段１０５
は、ベースフレーム１０から上方に伸びた柱部１０３、
および柱部１０３からＹ方向に伸び、固定子４ａをＹ方
向について剛に、他の方向について柔に支持する一軸支
持手段１０２を有する。
は、レチクル側ステージ装置によって行われ、このステ
ージ装置は、固定子４ａと可動子４ｂとの間で推力を付
与することにより可動子４ｂを走査方向へ移動させるリ
ニアモータ４を備え、可動子４ｂにレチクルステージ１
が結合している。固定子４ａは第１の支持手段１０１に
よりＹ方向には自由度をもたせて支持される。そして、
第２の支持手段１０５によりＹ方向について剛に、他の
方向について柔に支持される。この第２支持手段１０５
は、ベースフレーム１０から上方に伸びた柱部１０３、
および柱部１０３からＹ方向に伸び、固定子４ａをＹ方
向について剛に、他の方向について柔に支持する一軸支
持手段１０２を有する。
【００２６】レチクルステージ１はリニアモータ４によ
ってＹ方向へ駆動し、ＸＹステージ装置３のＸステージ
３ａはリニアモータ５によってＸ方向に駆動し、Ｙステ
ージ３ｂはリニアモータ６によってＹ方向へ駆動するよ
うになっている。レチクルおよびウエハの同期走査は、
レチクルステージ１およびＹステージ３ｂをＹ方向へ一
定の速度比率（例えば４：１）で駆動させることにより
行なう。また、Ｘ方向へのステップ移動はＸステージ３
ａにより行なう。
ってＹ方向へ駆動し、ＸＹステージ装置３のＸステージ
３ａはリニアモータ５によってＸ方向に駆動し、Ｙステ
ージ３ｂはリニアモータ６によってＹ方向へ駆動するよ
うになっている。レチクルおよびウエハの同期走査は、
レチクルステージ１およびＹステージ３ｂをＹ方向へ一
定の速度比率（例えば４：１）で駆動させることにより
行なう。また、Ｘ方向へのステップ移動はＸステージ３
ａにより行なう。
【００２７】ＸＹステージ装置３は、ステージ定盤７上
に設けられ、ステージ定盤７は３つのダンパ８を介して
３点で床等の上に支持されている。第１支持手段１０１
および投影光学系２は鏡筒定盤９上に設けられ、鏡筒定
盤９はベースフレーム１０上に３つのダンパ１１および
支柱１２を介して支持されている。ダンパ８は６軸方向
にアクティブに制振もしくは除振するアクティブダンパ
であるが、パッシブダンパを用いてもよく、あるいはダ
ンパを介せずに支持してもよい。
に設けられ、ステージ定盤７は３つのダンパ８を介して
３点で床等の上に支持されている。第１支持手段１０１
および投影光学系２は鏡筒定盤９上に設けられ、鏡筒定
盤９はベースフレーム１０上に３つのダンパ１１および
支柱１２を介して支持されている。ダンパ８は６軸方向
にアクティブに制振もしくは除振するアクティブダンパ
であるが、パッシブダンパを用いてもよく、あるいはダ
ンパを介せずに支持してもよい。
【００２８】この構成において、不図示の搬送手段によ
り、装置前部の２つの支柱１２間の搬送経路を経てＸＹ
ステージ装置３上にウエハが搬入され、所定の位置合せ
が終了すると、露光装置は、走査露光およびステップ移
動を繰り返しながら、ウエハ上の複数の露光領域に対し
てレチクルのパターンを露光転写する。走査露光に際し
ては、レチクルステージ１およびＹステージ３ｂをＹ方
向（走査方向）へ、所定の速度比で移動させて、スリッ
ト状の露光光でレチクル上のパターンを走査するととも
に、その投影像でウエハを走査することにより、ウエハ
上の所定の露光領域に対してレチクル上のパターンを露
光する。１つの露光領域に対する走査露光が終了した
ら、Ｘステージ３ａをＸ方向へ駆動してウエハをステッ
プ移動させることにより、他の露光領域を走査露光の開
始位置に対して位置決めし、走査露光を行なう。なお、
このＸ方向へのステップ移動と、Ｙ方向への走査露光の
ための移動との組合せにより、ウエハ上の複数の露光領
域に対して、順次効率良く露光が行なえるように、各露
光領域の配置、Ｙの正または負のいずれかへの走査方
向、各露光領域への露光順等が設定されている。
り、装置前部の２つの支柱１２間の搬送経路を経てＸＹ
ステージ装置３上にウエハが搬入され、所定の位置合せ
が終了すると、露光装置は、走査露光およびステップ移
動を繰り返しながら、ウエハ上の複数の露光領域に対し
てレチクルのパターンを露光転写する。走査露光に際し
ては、レチクルステージ１およびＹステージ３ｂをＹ方
向（走査方向）へ、所定の速度比で移動させて、スリッ
ト状の露光光でレチクル上のパターンを走査するととも
に、その投影像でウエハを走査することにより、ウエハ
上の所定の露光領域に対してレチクル上のパターンを露
光する。１つの露光領域に対する走査露光が終了した
ら、Ｘステージ３ａをＸ方向へ駆動してウエハをステッ
プ移動させることにより、他の露光領域を走査露光の開
始位置に対して位置決めし、走査露光を行なう。なお、
このＸ方向へのステップ移動と、Ｙ方向への走査露光の
ための移動との組合せにより、ウエハ上の複数の露光領
域に対して、順次効率良く露光が行なえるように、各露
光領域の配置、Ｙの正または負のいずれかへの走査方
向、各露光領域への露光順等が設定されている。
【００２９】図３は、レチクルステージ１、Ｘステージ
３ａ、Ｙステージ３ｂ、および微動ステージ装置８０の
駆動を制御するためにこれらのステージ位置を計測する
ための構成を模式的に示す。
３ａ、Ｙステージ３ｂ、および微動ステージ装置８０の
駆動を制御するためにこれらのステージ位置を計測する
ための構成を模式的に示す。
【００３０】同図に示すように、この構成は、レチクル
ステージ１および微動ステージ８０の位置をそれぞれ計
測するためのレチクル側のレーザ干渉計３１、３２、３
３およびウエハ側のレーザ干渉計３４、３５、３６とを
備える。レチクル側のレーザ干渉計３１、３２とウエハ
側のレーザ干渉計３６はともに同一のレーザヘッド３７
からのレーザ光を用いる。また、レチクル側のレーザ干
渉計３３およびウエハ側のレーザ干渉計３４、３５はと
もに同一のレーザヘッド３８からのレーザ光を用いる。
レチクル側のレーザ干渉計３１、３２はレチクルステー
ジ１のＹ軸方向（走査方向）位置およびＺ軸回りのθ位
置の計測に用いられ、レチクル側のレーザ干渉計３３
は、レチクルステージ１のＸ軸方向位置の計測に用いら
れる。ウエハ側のレーザ干渉計３６は微動ステージ８０
のＹ軸方向位置の計測に用いられ、ウエハ側のレーザ干
渉計３４および３５は、微動ステージ８０のＸ軸方向位
置およびＺ軸回りのθ位置の計測に用いられる。また、
図示はしていないが、各ステージ１、８０上には、各レ
ーザ干渉計からのその測長方向に沿った光を反射して各
レーザ干渉計における計測を可能にするミラーが固定さ
れている。これらのレーザ干渉計３１〜３６はいずれも
鏡筒定盤９に固定されている。
ステージ１および微動ステージ８０の位置をそれぞれ計
測するためのレチクル側のレーザ干渉計３１、３２、３
３およびウエハ側のレーザ干渉計３４、３５、３６とを
備える。レチクル側のレーザ干渉計３１、３２とウエハ
側のレーザ干渉計３６はともに同一のレーザヘッド３７
からのレーザ光を用いる。また、レチクル側のレーザ干
渉計３３およびウエハ側のレーザ干渉計３４、３５はと
もに同一のレーザヘッド３８からのレーザ光を用いる。
レチクル側のレーザ干渉計３１、３２はレチクルステー
ジ１のＹ軸方向（走査方向）位置およびＺ軸回りのθ位
置の計測に用いられ、レチクル側のレーザ干渉計３３
は、レチクルステージ１のＸ軸方向位置の計測に用いら
れる。ウエハ側のレーザ干渉計３６は微動ステージ８０
のＹ軸方向位置の計測に用いられ、ウエハ側のレーザ干
渉計３４および３５は、微動ステージ８０のＸ軸方向位
置およびＺ軸回りのθ位置の計測に用いられる。また、
図示はしていないが、各ステージ１、８０上には、各レ
ーザ干渉計からのその測長方向に沿った光を反射して各
レーザ干渉計における計測を可能にするミラーが固定さ
れている。これらのレーザ干渉計３１〜３６はいずれも
鏡筒定盤９に固定されている。
【００３１】レーザヘッド３７からＹ方向へ射出される
レーザ光は、反射ミラー３９によってＸ方向に反射さ
れ、さらにビームスプリッタ４０によってＸ方向とＺ方
向に分離される。分離されたＸ方向のレーザ光は、反射
ミラー４１によってＹ方向に反射され、レーザ干渉計３
６へ導かれる。分離されたＺ方向のレーザ光は、反射ミ
ラー４２によってＸ方向へ反射され、さらにビームスプ
リッタ４３によりＸ方向とＹ方向に分離される。分離さ
れたＸ方向のレーザ光は、反射ミラー４４によりＹ方向
に反射されて、レーザ干渉計３１へ導かれる。分離され
たＹ方向のレーザ光は、そのままレーザ干渉計３２に入
射し、レーザ干渉計３２によって用いられる。同様にし
て、レーザヘッド３８からのレーザ光は、ビームスプリ
ッタ４５、４６および反射ミラー４７、４８により分離
され導かれて、各レーザ干渉計３４、３５、３３で用い
られる。
レーザ光は、反射ミラー３９によってＸ方向に反射さ
れ、さらにビームスプリッタ４０によってＸ方向とＺ方
向に分離される。分離されたＸ方向のレーザ光は、反射
ミラー４１によってＹ方向に反射され、レーザ干渉計３
６へ導かれる。分離されたＺ方向のレーザ光は、反射ミ
ラー４２によってＸ方向へ反射され、さらにビームスプ
リッタ４３によりＸ方向とＹ方向に分離される。分離さ
れたＸ方向のレーザ光は、反射ミラー４４によりＹ方向
に反射されて、レーザ干渉計３１へ導かれる。分離され
たＹ方向のレーザ光は、そのままレーザ干渉計３２に入
射し、レーザ干渉計３２によって用いられる。同様にし
て、レーザヘッド３８からのレーザ光は、ビームスプリ
ッタ４５、４６および反射ミラー４７、４８により分離
され導かれて、各レーザ干渉計３４、３５、３３で用い
られる。
【００３２】走査露光に際しては、レーザ干渉計３１ま
たは３２によるレチクルステージ１のＹ方向位置の計測
値をフィードバックして、リニアモータ４の駆動を制御
することによりレチクルステージ１をＹ方向へ移動させ
る。また、レーザ干渉計３６による微動ステージ８０の
Ｙ方向位置の計測値をフィードバックして、リニアモー
タ６の駆動を制御することにより、Ｙステージ３ｂをＹ
方向へ移動させる。この際、レチクルステージ１とＹス
テージ３ｂの移動は、上述のように、一定の速度比率
（例えば４：１）となるように同期をとって行うことが
必要である。この点、レーザ干渉計３１または３２と、
レーザ干渉計３６とは、同一のレーザヘッド３７からの
レーザ光を用いているため、レーザ光の変動による計測
誤差が、レチクル側とウエハ側双方のレーザ干渉計にお
いて同一に生じる。したがって、レーザ光の変動に起因
する同期ずれは生じない。
たは３２によるレチクルステージ１のＹ方向位置の計測
値をフィードバックして、リニアモータ４の駆動を制御
することによりレチクルステージ１をＹ方向へ移動させ
る。また、レーザ干渉計３６による微動ステージ８０の
Ｙ方向位置の計測値をフィードバックして、リニアモー
タ６の駆動を制御することにより、Ｙステージ３ｂをＹ
方向へ移動させる。この際、レチクルステージ１とＹス
テージ３ｂの移動は、上述のように、一定の速度比率
（例えば４：１）となるように同期をとって行うことが
必要である。この点、レーザ干渉計３１または３２と、
レーザ干渉計３６とは、同一のレーザヘッド３７からの
レーザ光を用いているため、レーザ光の変動による計測
誤差が、レチクル側とウエハ側双方のレーザ干渉計にお
いて同一に生じる。したがって、レーザ光の変動に起因
する同期ずれは生じない。
【００３３】また、この走査露光に際して、レチクルス
テージ１と微動ステージ８０とは、θ方向およびＸ方向
について、常に一定の位置関係を保持しなければならな
い。θ方向については、レーザ干渉計３１、３２による
レチクルステージ１のθ方向位置の計測値と、レーザ干
渉計３４、３５による微動ステージ８０のθ方向位置の
計測値とに基づき、レチクルステージ１のθ方向位置の
変動に追従するように微動ステージ８０のθ方向位置を
調整することにより、両ステージ間の所定の位置関係を
保持する。また、Ｘ方向については、レーザ干渉計３３
によるレチクルステージ１のＸ方向位置の計測値と、レ
ーザ干渉計３４または３５による微動ステージ８０のＸ
方向位置の計測値とに基づいて、レチクルステージ１の
Ｘ方向位置の変動に追従するようにＸステージ３ａのＸ
方向位置を調整することにより、両ステージ間の所定の
位置関係を保持する。これらの場合においてもレチクル
側およびウエハ側のレーザ干渉において、同一のレーザ
ヘッドからの光を用いているため、双方のステージ間の
位置関係を、レーザ光の変動に関係なく、正確に保持す
ることができる。
テージ１と微動ステージ８０とは、θ方向およびＸ方向
について、常に一定の位置関係を保持しなければならな
い。θ方向については、レーザ干渉計３１、３２による
レチクルステージ１のθ方向位置の計測値と、レーザ干
渉計３４、３５による微動ステージ８０のθ方向位置の
計測値とに基づき、レチクルステージ１のθ方向位置の
変動に追従するように微動ステージ８０のθ方向位置を
調整することにより、両ステージ間の所定の位置関係を
保持する。また、Ｘ方向については、レーザ干渉計３３
によるレチクルステージ１のＸ方向位置の計測値と、レ
ーザ干渉計３４または３５による微動ステージ８０のＸ
方向位置の計測値とに基づいて、レチクルステージ１の
Ｘ方向位置の変動に追従するようにＸステージ３ａのＸ
方向位置を調整することにより、両ステージ間の所定の
位置関係を保持する。これらの場合においてもレチクル
側およびウエハ側のレーザ干渉において、同一のレーザ
ヘッドからの光を用いているため、双方のステージ間の
位置関係を、レーザ光の変動に関係なく、正確に保持す
ることができる。
【００３４】図４および図５はベースフレーム１０を示
す正面図および斜視図である。これらの図に示すよう
に、ベースフレーム１０は、各支柱１２間をそれらの上
部において結合する結合部材５１を有する。なお、この
結合部材５１は図１および図２には示されていない。結
合部材５１は、各支柱１２上のダンパ（図２のダンパ１
１）より上でかつダンパに隣接した高さに位置し、か
つ、上から見た場合、各支柱１２およびその上のダンパ
をそれらにほぼ接してそれらを囲い込むような寸法およ
び形状を有するほぼ三角形状の部材５２と、部材５２お
よび各支柱１２の上端との間を、各支柱１２上のダンパ
の外側を経て結合する部材５３を有する。図４および図
５では示していないが、鏡筒定盤９の底部は、三角形状
の部材５２に嵌合して、各ダンパ１１上に配置されてい
る。また、ベースフレーム１０は床５５から１０ｃｍ程
度離して支持し、ベースフレーム１０下部の床５５との
間には、装置をチャンバ内に配置して空調する際の空気
のリターン用のスペース５４を確保している。
す正面図および斜視図である。これらの図に示すよう
に、ベースフレーム１０は、各支柱１２間をそれらの上
部において結合する結合部材５１を有する。なお、この
結合部材５１は図１および図２には示されていない。結
合部材５１は、各支柱１２上のダンパ（図２のダンパ１
１）より上でかつダンパに隣接した高さに位置し、か
つ、上から見た場合、各支柱１２およびその上のダンパ
をそれらにほぼ接してそれらを囲い込むような寸法およ
び形状を有するほぼ三角形状の部材５２と、部材５２お
よび各支柱１２の上端との間を、各支柱１２上のダンパ
の外側を経て結合する部材５３を有する。図４および図
５では示していないが、鏡筒定盤９の底部は、三角形状
の部材５２に嵌合して、各ダンパ１１上に配置されてい
る。また、ベースフレーム１０は床５５から１０ｃｍ程
度離して支持し、ベースフレーム１０下部の床５５との
間には、装置をチャンバ内に配置して空調する際の空気
のリターン用のスペース５４を確保している。
【００３５】このように、各支柱１２間を結合部材５１
で結合することにより、ベースフレーム１０の剛性を高
め、レチクルステージ１の加減速時に鏡筒定盤９が大き
く振動するのを防止することができる。したがって、レ
チクルステージ１の加速による鏡筒定盤９の振動が収束
するまでの時間を短縮し、加速後、速やかに走査露光を
行うことができる。また、リターン用のスペース５４を
ベースフレーム１０の下部に設けるようにしたため、チ
ャンバ内のスペースを有効に利用することができ、ま
た、チャンバ内の空調の均一化および高クリーン化を図
ることができる。また、空調の均一化により、レーザ干
渉計等の測定精度を向上させることができる。
で結合することにより、ベースフレーム１０の剛性を高
め、レチクルステージ１の加減速時に鏡筒定盤９が大き
く振動するのを防止することができる。したがって、レ
チクルステージ１の加速による鏡筒定盤９の振動が収束
するまでの時間を短縮し、加速後、速やかに走査露光を
行うことができる。また、リターン用のスペース５４を
ベースフレーム１０の下部に設けるようにしたため、チ
ャンバ内のスペースを有効に利用することができ、ま
た、チャンバ内の空調の均一化および高クリーン化を図
ることができる。また、空調の均一化により、レーザ干
渉計等の測定精度を向上させることができる。
【００３６】図６は本発明の第２の実施形態に係る投影
露光装置の要部概略図である。同図において６６は露光
照明系であり、レチクル（フォトマスク）６７を照明す
る。レチクル６７の下面にはクロム蒸着等で形成した回
路パターン６８が設けてある。６９はレチクル６７を保
持し、ＸＹθ方向に移動可能なレチクルステージ（レチ
クルホルダ）である。レチクルホルダ４は、レチクル６
７を吸着保持して第１直交座標系のＸＹ平面と平行な平
面内の第２の直交座標系ｘｙにて２次元移動する。な
お、第２直交座標系ｘｙの原点は、投影レンズ７０の光
軸である。
露光装置の要部概略図である。同図において６６は露光
照明系であり、レチクル（フォトマスク）６７を照明す
る。レチクル６７の下面にはクロム蒸着等で形成した回
路パターン６８が設けてある。６９はレチクル６７を保
持し、ＸＹθ方向に移動可能なレチクルステージ（レチ
クルホルダ）である。レチクルホルダ４は、レチクル６
７を吸着保持して第１直交座標系のＸＹ平面と平行な平
面内の第２の直交座標系ｘｙにて２次元移動する。な
お、第２直交座標系ｘｙの原点は、投影レンズ７０の光
軸である。
【００３７】投影レンズ（投影光学系）７０は、露光照
明系６６によって照明されたレチクル６７の回路パター
ン６８をウエハ７１に投影する。７２はウエハホルダで
あり、ウエハ７１を吸着保持している。７３はθＺチル
トステージであり、ウエハホルダ７２をＺ軸回りに微少
回転駆動（θ駆動）し、Ｚ方向へ微少駆動（Ｚ駆動）
し、Ｘ軸とＹ軸回りに微少回転駆動（チルト駆動）す
る。７４はＸＹステージであり、θＺチルトステージ７
３を第１直交座標系ＸＹ方向へ２次元駆動する。
明系６６によって照明されたレチクル６７の回路パター
ン６８をウエハ７１に投影する。７２はウエハホルダで
あり、ウエハ７１を吸着保持している。７３はθＺチル
トステージであり、ウエハホルダ７２をＺ軸回りに微少
回転駆動（θ駆動）し、Ｚ方向へ微少駆動（Ｚ駆動）
し、Ｘ軸とＹ軸回りに微少回転駆動（チルト駆動）す
る。７４はＸＹステージであり、θＺチルトステージ７
３を第１直交座標系ＸＹ方向へ２次元駆動する。
【００３８】７５は干渉計ミラーであり、ＸＹステージ
７４に固定されており、そのＸ方向位置を干渉計（レー
ザ干渉計）７６でモニタするためのものである。なお、
干渉計ミラー７５と干渉計７６はＹ方向についても同様
に配置している。そして２つの干渉計７６からのレーザ
光が投影レンズ７０の光軸上で一致するように設定して
いる。干渉計ミラー７５と干渉計７６から得られる信号
を用いてＸＹステージ制御系７７によりウエハ７１を常
に所定の位置となるように位置決めする。即ち、ＸＹス
テージ７４の移動中あるいは静止中に装置に予め設定さ
れた第１直交座標系ＸＹの原点である投影レンズ７０の
光軸に対するＸＹステージ７４の位置を逐次計測して、
これによりＸＹステージ制御系７７によりＸＹステージ
７４を所定の位置に位置決めする。
７４に固定されており、そのＸ方向位置を干渉計（レー
ザ干渉計）７６でモニタするためのものである。なお、
干渉計ミラー７５と干渉計７６はＹ方向についても同様
に配置している。そして２つの干渉計７６からのレーザ
光が投影レンズ７０の光軸上で一致するように設定して
いる。干渉計ミラー７５と干渉計７６から得られる信号
を用いてＸＹステージ制御系７７によりウエハ７１を常
に所定の位置となるように位置決めする。即ち、ＸＹス
テージ７４の移動中あるいは静止中に装置に予め設定さ
れた第１直交座標系ＸＹの原点である投影レンズ７０の
光軸に対するＸＹステージ７４の位置を逐次計測して、
これによりＸＹステージ制御系７７によりＸＹステージ
７４を所定の位置に位置決めする。
【００３９】６１は光フォーカス検出系であり、投光手
段６４および検出手段６５を備え、ウエハ７１の光軸方
向の面位置を検出する。投光手段６４はウエハ７１に塗
布したフォトレジストを感光させない光束７８でウエハ
７１を斜方向から照射する。光束７８はウエハ７１で反
射し検出手段６５に入射するので、ウエハ７１の光軸方
向の面位置に従ってその入射位置も変化する。検出手段
６５は、光束７８の入射位置を計測することにより、投
影レンズ７０を介さずに投影レンズ７０とウエハ７１と
の間の光軸方向の距離を計測する。
段６４および検出手段６５を備え、ウエハ７１の光軸方
向の面位置を検出する。投光手段６４はウエハ７１に塗
布したフォトレジストを感光させない光束７８でウエハ
７１を斜方向から照射する。光束７８はウエハ７１で反
射し検出手段６５に入射するので、ウエハ７１の光軸方
向の面位置に従ってその入射位置も変化する。検出手段
６５は、光束７８の入射位置を計測することにより、投
影レンズ７０を介さずに投影レンズ７０とウエハ７１と
の間の光軸方向の距離を計測する。
【００４０】即ち光フォーカス検出系６１は投影レンズ
７０に対するウエハ７１の表面の高さを検出し、その検
出値が所定のベストフォーカス値Ｚａ（投影レンズ７０
の像面の高さを示す所定の指令値）になるように、θＺ
チルトステージ７３はウエハ７１をＺ駆動する。これに
よりレチクル６７の回路パターン６８の投影像をウエハ
７１の表面に結像する。即ち焦点合せをして常にコント
ラストの高い投影像が転写できるようにしている。なお
所定のベストフォーカス値Ｚａの設定は、例えば回路パ
ターン６８の露光に先立って、所定のテストパターンを
フォーカスを振りながら露光し、現像して、それらの解
像の具合を評価して行なう。
７０に対するウエハ７１の表面の高さを検出し、その検
出値が所定のベストフォーカス値Ｚａ（投影レンズ７０
の像面の高さを示す所定の指令値）になるように、θＺ
チルトステージ７３はウエハ７１をＺ駆動する。これに
よりレチクル６７の回路パターン６８の投影像をウエハ
７１の表面に結像する。即ち焦点合せをして常にコント
ラストの高い投影像が転写できるようにしている。なお
所定のベストフォーカス値Ｚａの設定は、例えば回路パ
ターン６８の露光に先立って、所定のテストパターンを
フォーカスを振りながら露光し、現像して、それらの解
像の具合を評価して行なう。
【００４１】なお以降の説明の便宜上、光フォーカス検
出系６１の光束７８は１本で示しているが、実際には複
数本、例えば５本の光束を有しており、ウエハ７１の傾
斜（チルト）も測定し、投影像のどの像高においてもベ
ストフォーカスになるようにθＺチルトステージ７３が
ウエハ７１をチルト駆動する。
出系６１の光束７８は１本で示しているが、実際には複
数本、例えば５本の光束を有しており、ウエハ７１の傾
斜（チルト）も測定し、投影像のどの像高においてもベ
ストフォーカスになるようにθＺチルトステージ７３が
ウエハ７１をチルト駆動する。
【００４２】図７は図６のＡＡ断面で見たときの要部概
略の平面図である。同図に示すように投光手段６４、光
束７８、検出手段６５は、第１直交座標系ＸＹのＸ軸に
対し時計回りに４５度回転した方向に配列している。図
７において、７９は温調エア吹出しフィルタであり、不
図示の温調ユニットから供給される温調エア８０をウエ
ハ７１に向けて均一に吹出しする。なお温調エア８０
は、温調エア吹出しフィルタ７９の開口部の全面に渡っ
て吹出し温度が±０．０５℃以下になるように制御され
ている。
略の平面図である。同図に示すように投光手段６４、光
束７８、検出手段６５は、第１直交座標系ＸＹのＸ軸に
対し時計回りに４５度回転した方向に配列している。図
７において、７９は温調エア吹出しフィルタであり、不
図示の温調ユニットから供給される温調エア８０をウエ
ハ７１に向けて均一に吹出しする。なお温調エア８０
は、温調エア吹出しフィルタ７９の開口部の全面に渡っ
て吹出し温度が±０．０５℃以下になるように制御され
ている。
【００４３】そして本実施形態の特徴は、温調エア８０
の吹出し方向が光フォーカス検出系６１の光束７８の方
向と略直交していることにある。これにより、温調エア
８０は投光手段６４と検出手段６５との間では、上流か
ら下流へ均一に流れ、下流側のよどんで温度変化した空
気を巻き込む渦をつくることがほとんどない。
の吹出し方向が光フォーカス検出系６１の光束７８の方
向と略直交していることにある。これにより、温調エア
８０は投光手段６４と検出手段６５との間では、上流か
ら下流へ均一に流れ、下流側のよどんで温度変化した空
気を巻き込む渦をつくることがほとんどない。
【００４４】このことを、投光手段６４と検出手段６５
との間を拡大して示した図８により説明する。この図に
おいて、８１は投光手段６４から光束７８が出射してく
る出射ガラス面であり、光束７８に対して直交してい
る。８２は検出手段６５に光束７８が入射する入射ガラ
ス面であり、光束７８に対して直交している。このた
め、出射ガラス面８１、入射ガラス面８２は共に温調エ
ア８０の吹出し方向と略平行になっている。よって、投
光手段６４と検出手段６５との中間部はもとより、出射
ガラス面８１、入射ガラス面８２の各境界面においても
温調エア８０は直進していく。なお、投光手段６４と検
出手段６５のそれぞれの下流側に渦８３が発生し、下流
側のよどんで温度変化した空気を巻き込む渦となるが、
出射ガラス面８１、入射ガラス面８２の前まで入り込ん
だ渦にはならない。また、上流側にも投光手段６４と検
出手段６５のそれぞれに温調エア８０がぶつかって、流
れの乱れ８４が発生するが、よどむことはないので温度
変化は極めて少ない。よって流れの乱れ８４からの空気
が出射ガラス面８１、入射ガラス面８２の各境界面へ流
れる温調エア８０とたとえ混ざったとしてもその温度変
化は極めて少ない。
との間を拡大して示した図８により説明する。この図に
おいて、８１は投光手段６４から光束７８が出射してく
る出射ガラス面であり、光束７８に対して直交してい
る。８２は検出手段６５に光束７８が入射する入射ガラ
ス面であり、光束７８に対して直交している。このた
め、出射ガラス面８１、入射ガラス面８２は共に温調エ
ア８０の吹出し方向と略平行になっている。よって、投
光手段６４と検出手段６５との中間部はもとより、出射
ガラス面８１、入射ガラス面８２の各境界面においても
温調エア８０は直進していく。なお、投光手段６４と検
出手段６５のそれぞれの下流側に渦８３が発生し、下流
側のよどんで温度変化した空気を巻き込む渦となるが、
出射ガラス面８１、入射ガラス面８２の前まで入り込ん
だ渦にはならない。また、上流側にも投光手段６４と検
出手段６５のそれぞれに温調エア８０がぶつかって、流
れの乱れ８４が発生するが、よどむことはないので温度
変化は極めて少ない。よって流れの乱れ８４からの空気
が出射ガラス面８１、入射ガラス面８２の各境界面へ流
れる温調エア８０とたとえ混ざったとしてもその温度変
化は極めて少ない。
【００４５】以上から光束７８が通過していく空気の温
度は投光手段６４と検出手段６５との間のすべてに渡っ
て、温調エア吹出しフィルタ７９からの吹出し温度とほ
とんど同じになっている。このため、検出手段６５に入
射する光束７８の位置が、空気の温度の短期的な周期変
動により発生するいわゆる「ゆらぎ」によって変動する
量は、温調エア８０の吹出し温度の制御精度の影響だけ
にほとんど限定されて、非常に小さくなっている。
度は投光手段６４と検出手段６５との間のすべてに渡っ
て、温調エア吹出しフィルタ７９からの吹出し温度とほ
とんど同じになっている。このため、検出手段６５に入
射する光束７８の位置が、空気の温度の短期的な周期変
動により発生するいわゆる「ゆらぎ」によって変動する
量は、温調エア８０の吹出し温度の制御精度の影響だけ
にほとんど限定されて、非常に小さくなっている。
【００４６】なお本実施形態において、温調エア８０の
吹出し方向が光フォーカス検出系６１の光束７８の方向
と略直交しているとしたが、定性的にはできるだけ直交
である方が効果が大きく望ましいものの、４５度程度ま
で斜めに交差した略直交においても所望の効果が得られ
る。
吹出し方向が光フォーカス検出系６１の光束７８の方向
と略直交しているとしたが、定性的にはできるだけ直交
である方が効果が大きく望ましいものの、４５度程度ま
で斜めに交差した略直交においても所望の効果が得られ
る。
【００４７】また本実施形態においては、光フォーカス
検出系６１すなわち投光手段６４、光束７８、検出手段
６５は、第１直交座標系ＸＹ軸に対し時計回りに４５度
回転した方向に配列しているが、その方向に限定される
訳ではなく、要はその方向と温調エア８０の吹出し方向
が略直交していればどの方向でも構わないことは、以上
の説明で明らかである。但し、本実施形態の方向に配列
すると、２つの干渉計７６からのレーザ光も温調エア８
０によって温調されて計測値の安定化が図られるので、
温調エア吹出しフィルタ７９を光フォーカス検出系６１
と干渉計７６のそれぞれに個別に設ける必要がない。
検出系６１すなわち投光手段６４、光束７８、検出手段
６５は、第１直交座標系ＸＹ軸に対し時計回りに４５度
回転した方向に配列しているが、その方向に限定される
訳ではなく、要はその方向と温調エア８０の吹出し方向
が略直交していればどの方向でも構わないことは、以上
の説明で明らかである。但し、本実施形態の方向に配列
すると、２つの干渉計７６からのレーザ光も温調エア８
０によって温調されて計測値の安定化が図られるので、
温調エア吹出しフィルタ７９を光フォーカス検出系６１
と干渉計７６のそれぞれに個別に設ける必要がない。
【００４８】以上のことから、光フォーカス検出系６１
のフォーカス検出精度が向上する。なお、ここで言及し
ていない他の構成としては、第１実施形態のものを採用
することができる。
のフォーカス検出精度が向上する。なお、ここで言及し
ていない他の構成としては、第１実施形態のものを採用
することができる。
【００４９】図９は本発明の第３の実施形態に係る投影
露光装置の要部慨略図である。同図は図６を側方から見
た図に相当し、図６のものに対してじゃま板９１のみを
追加してある。じゃま板９１は、温調エア吹出しフィル
タ７９の上部と投影レンズ７０の下部を結ぶように設け
られた板で、温調エア８０が投影レンズ７０の下部に、
よりスムーズに流れるようにしている。このため、光フ
ォーカス検出系６１の光束７８を通過していく空気の流
速が上がり、その空気の温度安定性がより増して、光フ
ォーカス検出系７８のフォーカス検出精度がより向上す
る効果がある。なお、図９中、９２はフィルタ７９に接
続した空調機、９３はそのリターンダクトである。
露光装置の要部慨略図である。同図は図６を側方から見
た図に相当し、図６のものに対してじゃま板９１のみを
追加してある。じゃま板９１は、温調エア吹出しフィル
タ７９の上部と投影レンズ７０の下部を結ぶように設け
られた板で、温調エア８０が投影レンズ７０の下部に、
よりスムーズに流れるようにしている。このため、光フ
ォーカス検出系６１の光束７８を通過していく空気の流
速が上がり、その空気の温度安定性がより増して、光フ
ォーカス検出系７８のフォーカス検出精度がより向上す
る効果がある。なお、図９中、９２はフィルタ７９に接
続した空調機、９３はそのリターンダクトである。
【００５０】図１０は本発明の第４の実施形態に係る投
影露光装置の要部慨略図である。本実施形態の特徴は、
投光手段６４から出射してくる光束７８と出射ガラス面
８１が直交せずに斜めであり、かつ検出手段６５に入射
していく光束７８と入射ガラス面８２も直交せずに斜め
であり、かつ出射ガラス面８１、入射ガラス面８２は共
に温調エア８０の吹出し方向と略平行になっている。こ
のため、光束７８と温調エア８０の吹出し方向が直交し
ていないにもかかわらず、投光手段６４と検出手段６５
との中間部はもとより、出射ガラス面８１、入射ガラス
面８２の各境界面においても温調エア８０は直進してい
く。すなわち、光束７８と温調エア８０の吹出し方向を
斜めに交差させた場合においては、出射ガラス面８１、
入射ガラス面８２を温調エア８０の吹出し方向と略平行
にすることにより、所望の効果が大きくなる。
影露光装置の要部慨略図である。本実施形態の特徴は、
投光手段６４から出射してくる光束７８と出射ガラス面
８１が直交せずに斜めであり、かつ検出手段６５に入射
していく光束７８と入射ガラス面８２も直交せずに斜め
であり、かつ出射ガラス面８１、入射ガラス面８２は共
に温調エア８０の吹出し方向と略平行になっている。こ
のため、光束７８と温調エア８０の吹出し方向が直交し
ていないにもかかわらず、投光手段６４と検出手段６５
との中間部はもとより、出射ガラス面８１、入射ガラス
面８２の各境界面においても温調エア８０は直進してい
く。すなわち、光束７８と温調エア８０の吹出し方向を
斜めに交差させた場合においては、出射ガラス面８１、
入射ガラス面８２を温調エア８０の吹出し方向と略平行
にすることにより、所望の効果が大きくなる。
【００５１】図１１は本発明の第５の実施形態に係る投
影露光装置における、投光手段６４と検出手段６５との
間を拡大して示した図である。本実施形態の特徴は、投
光手段６４の出射ガラス面８１および検出手段６５の入
射ガラス面８２を平面ではなく円筒面状（あるいは球面
状）にしていること、すなわちそれぞれをシリンドリカ
ルレンズ（あるいは凸レンズ）８６および８５の凸面で
構成することにある。これは投光手段６４を、光源９０
およびマスク照明系８９によりマスク８８を照明し、マ
スク８８に設けられたマーク９４をマーク投影光学系８
７およびシリンドリカルレンズ（あるいは凸レンズ）８
６によりウエハ上に像９５として投影する構成とし、検
出手段６５を、ウエハで反射した像９２をシリンドリカ
ルレンズ（あるいは凸レンズ）８５およびマーク受光光
学系８４にて受光素子８３に結像するように構成するこ
とで実現できる。このように、出射ガラス面８１および
入射ガラス面８２を円筒面状（あるいは球面状）にする
と、光束７８と温調エア８０の吹出し方向が斜めに交差
していても、出射ガラス面８１、入射ガラス面８２の各
境界面において温調エア８０はかい離することなく滑ら
かに流れていく。すなわち、光束７８と温調エア８０の
吹出し方向を斜めに交差させた場合においても、所望の
効果が大きく、斜めにできる範囲が広くなる効果があ
る。
影露光装置における、投光手段６４と検出手段６５との
間を拡大して示した図である。本実施形態の特徴は、投
光手段６４の出射ガラス面８１および検出手段６５の入
射ガラス面８２を平面ではなく円筒面状（あるいは球面
状）にしていること、すなわちそれぞれをシリンドリカ
ルレンズ（あるいは凸レンズ）８６および８５の凸面で
構成することにある。これは投光手段６４を、光源９０
およびマスク照明系８９によりマスク８８を照明し、マ
スク８８に設けられたマーク９４をマーク投影光学系８
７およびシリンドリカルレンズ（あるいは凸レンズ）８
６によりウエハ上に像９５として投影する構成とし、検
出手段６５を、ウエハで反射した像９２をシリンドリカ
ルレンズ（あるいは凸レンズ）８５およびマーク受光光
学系８４にて受光素子８３に結像するように構成するこ
とで実現できる。このように、出射ガラス面８１および
入射ガラス面８２を円筒面状（あるいは球面状）にする
と、光束７８と温調エア８０の吹出し方向が斜めに交差
していても、出射ガラス面８１、入射ガラス面８２の各
境界面において温調エア８０はかい離することなく滑ら
かに流れていく。すなわち、光束７８と温調エア８０の
吹出し方向を斜めに交差させた場合においても、所望の
効果が大きく、斜めにできる範囲が広くなる効果があ
る。
【００５２】図１２は本発明の第６の実施形態に係る投
影露光装置における光フォーカス検光系を示す。同図に
示すように、この装置では、出射ガラス面８１、入射ガ
ラス面８２は第２実施形態と同様に平面であるが、その
前後に曲面部材９６を設けて第５実施形態と同様の効果
を得るようにしている。
影露光装置における光フォーカス検光系を示す。同図に
示すように、この装置では、出射ガラス面８１、入射ガ
ラス面８２は第２実施形態と同様に平面であるが、その
前後に曲面部材９６を設けて第５実施形態と同様の効果
を得るようにしている。
【００５３】図１３は本発明の第７の実施形態に係る投
影露光装置における空調の様子を示す模式図である。同
図に示すように、空調は、レチクル側のレーザ干渉計３
１、３２、３３およびウエハ側のレーザ干渉計３４、３
５、３６（図３）によるそれぞれの計測光路上を別個の
空調機９２および９４によって行う。空調機６２のリタ
ーン用の通路９３は、図４で示したように、ベースフレ
ーム１０の下に設けられている。７９および９５は、そ
れぞれ空調機９２および９４の、温調エアの吹出し口で
ある。なお、ここで言及していない構成や、図１３で示
されていない構成としては、第１実施形態の構成を採用
することができる。
影露光装置における空調の様子を示す模式図である。同
図に示すように、空調は、レチクル側のレーザ干渉計３
１、３２、３３およびウエハ側のレーザ干渉計３４、３
５、３６（図３）によるそれぞれの計測光路上を別個の
空調機９２および９４によって行う。空調機６２のリタ
ーン用の通路９３は、図４で示したように、ベースフレ
ーム１０の下に設けられている。７９および９５は、そ
れぞれ空調機９２および９４の、温調エアの吹出し口で
ある。なお、ここで言及していない構成や、図１３で示
されていない構成としては、第１実施形態の構成を採用
することができる。
【００５４】レチクル側のレーザ干渉計の計測光路と、
ウエハ側のレーザ干渉計による計測光路は、図１や２に
示されるように鏡筒定盤９を介してかなり離れているた
め、１つの空調機あるいは吹出し口により各計測光路を
均一に空調するのは困難であるが、本実施形態のよう
に、レチクル側とウエハ側の計測光路を別個に空調する
ことにより、レチクル側とウエハ側の計測光路をより均
一に空調することができる。
ウエハ側のレーザ干渉計による計測光路は、図１や２に
示されるように鏡筒定盤９を介してかなり離れているた
め、１つの空調機あるいは吹出し口により各計測光路を
均一に空調するのは困難であるが、本実施形態のよう
に、レチクル側とウエハ側の計測光路を別個に空調する
ことにより、レチクル側とウエハ側の計測光路をより均
一に空調することができる。
【００５５】さらに、露光装置は、露光待機時において
も、レチクルステージ６９およびＸＹステージ７４を移
動し続ける。これにより、レチクル側およびウエハ側の
各計測光路上の空気がかき混ぜられ、周囲との温度差が
一定に保持される。また、レチクルステージ６９および
ＸＹステージ７４を移動するリニアモータの発熱量が一
定に保たれる。したがって、各計測光路上の温度安定性
が向上し、高精度な計測が可能となる。
も、レチクルステージ６９およびＸＹステージ７４を移
動し続ける。これにより、レチクル側およびウエハ側の
各計測光路上の空気がかき混ぜられ、周囲との温度差が
一定に保持される。また、レチクルステージ６９および
ＸＹステージ７４を移動するリニアモータの発熱量が一
定に保たれる。したがって、各計測光路上の温度安定性
が向上し、高精度な計測が可能となる。
【００５６】次に、以上の各形態の露光装置を利用する
ことができるデバイス製造例を説明する。図１４は、微
小デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネ
ル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製
造のフローを示す。ステップ３１（回路設計）では半導
体デバイスの回路設計を行なう。ステップ３２（マスク
製作）では設計した回路パターンを形成したマスクを製
作する。一方、ステップ３３（ウエハ製造）ではシリコ
ン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ３４
（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記用意したマ
スクとウエハを用いて、リソグラフィ技術によってウエ
ハ上に実際の回路を形成する。次のステップ３５（組み
立て）は後工程と呼ばれ、ステップ３４によって作製さ
れたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、ア
ッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケ
ージング工程（チップ封入）等の工程を含む。ステップ
３６（検査）では、ステップ３５で作製された半導体デ
バイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行な
う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これ
を出荷（ステップ３７）する。
ことができるデバイス製造例を説明する。図１４は、微
小デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネ
ル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製
造のフローを示す。ステップ３１（回路設計）では半導
体デバイスの回路設計を行なう。ステップ３２（マスク
製作）では設計した回路パターンを形成したマスクを製
作する。一方、ステップ３３（ウエハ製造）ではシリコ
ン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ３４
（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記用意したマ
スクとウエハを用いて、リソグラフィ技術によってウエ
ハ上に実際の回路を形成する。次のステップ３５（組み
立て）は後工程と呼ばれ、ステップ３４によって作製さ
れたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、ア
ッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケ
ージング工程（チップ封入）等の工程を含む。ステップ
３６（検査）では、ステップ３５で作製された半導体デ
バイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行な
う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これ
を出荷（ステップ３７）する。
【００５７】図１５は、上記ウエハプロセスの詳細なフ
ローを示す。ステップ４１（酸化）ではウエハの表面を
酸化させる。ステップ４２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に
絶縁膜を形成する。ステップ４３（電極形成）ではウエ
ハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップ４４（イ
オン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ
４５（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。
ステップ４６（露光）では、上記説明した露光装置によ
ってマスクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ス
テップ４７（現像）では露光したウエハを現像する。ス
テップ４８（エッチング）では現像したレジスト像以外
の部分を削り取る。ステップ４９（レジスト剥離）で
は、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除
く。これらのステップを繰り返し行なうことによってウ
エハ上に多重に回路パターンを形成する。
ローを示す。ステップ４１（酸化）ではウエハの表面を
酸化させる。ステップ４２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に
絶縁膜を形成する。ステップ４３（電極形成）ではウエ
ハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップ４４（イ
オン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ
４５（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。
ステップ４６（露光）では、上記説明した露光装置によ
ってマスクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ス
テップ４７（現像）では露光したウエハを現像する。ス
テップ４８（エッチング）では現像したレジスト像以外
の部分を削り取る。ステップ４９（レジスト剥離）で
は、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除
く。これらのステップを繰り返し行なうことによってウ
エハ上に多重に回路パターンを形成する。
【００５８】この製造方法を用いれば、従来は製造が難
しかった高集積度の半導体デバイスを低コストで製造す
ることができる。
しかった高集積度の半導体デバイスを低コストで製造す
ることができる。
【００５９】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、原
版を移動させる原版ステージおよび投影光学系が設けら
れた鏡筒定盤を、ベースフレーム上の複数の支柱により
それらの上のダンパを介して支持するとともに、それら
の支柱間をそれらの上部において結合部材により結合す
るようにしたため、ベースフレームの剛性を高め、原板
ステージの加減速等による振動を小さくすることができ
る。したがって、処理速度を向上させ、生産性の向上を
図ることができる。
版を移動させる原版ステージおよび投影光学系が設けら
れた鏡筒定盤を、ベースフレーム上の複数の支柱により
それらの上のダンパを介して支持するとともに、それら
の支柱間をそれらの上部において結合部材により結合す
るようにしたため、ベースフレームの剛性を高め、原板
ステージの加減速等による振動を小さくすることができ
る。したがって、処理速度を向上させ、生産性の向上を
図ることができる。
【００６０】また、支柱を３本とし、結合部材は、各支
柱上のダンパより上でかつダンパに隣接した高さに位置
し、かつ、上から見た場合、各支柱およびその上のダン
パをそれらにほぼ接してそれらを囲い込むような寸法お
よび形状を有するほぼ三角形状の部材と、この部材およ
び各支柱の上端との間を、各支柱のダンパの外側を経て
結合する部材とを有するため、スペースを要せずに、各
支柱を結合し、ベースフレームの剛性を向上させること
ができる。この場合、鏡筒定盤の底部を、前記三角形状
の部材に嵌合して、各ダンパ上に配置することができ
る。
柱上のダンパより上でかつダンパに隣接した高さに位置
し、かつ、上から見た場合、各支柱およびその上のダン
パをそれらにほぼ接してそれらを囲い込むような寸法お
よび形状を有するほぼ三角形状の部材と、この部材およ
び各支柱の上端との間を、各支柱のダンパの外側を経て
結合する部材とを有するため、スペースを要せずに、各
支柱を結合し、ベースフレームの剛性を向上させること
ができる。この場合、鏡筒定盤の底部を、前記三角形状
の部材に嵌合して、各ダンパ上に配置することができ
る。
【００６１】また、空調を、ベースフレームの下部に設
けたリターン用の通路を介して行うようにしたため、省
スペースおよび空調の均一化を図ることができる。した
がって、高精度の露光およびチャンバ内の高クリーン化
を達成することができる。
けたリターン用の通路を介して行うようにしたため、省
スペースおよび空調の均一化を図ることができる。した
がって、高精度の露光およびチャンバ内の高クリーン化
を達成することができる。
【００６２】また、原版側レーザ干渉計による計測光路
上および基板側レーザ干渉計による計測光路上を別個に
空調するようにしたため、相互に離れているこれら計測
光路上をそれぞれ均一に空調し、装置全体としての温度
の均一性を保証することができる。
上および基板側レーザ干渉計による計測光路上を別個に
空調するようにしたため、相互に離れているこれら計測
光路上をそれぞれ均一に空調し、装置全体としての温度
の均一性を保証することができる。
【００６３】また、基板側の空調は、ベースフレームの
下部に設けたリターン用の通路を介して行うようにした
ため、省スペース、および、空調の均一化を図ることが
できる。
下部に設けたリターン用の通路を介して行うようにした
ため、省スペース、および、空調の均一化を図ることが
できる。
【００６４】また、露光待機時においても、原版ステー
ジまたは基板を移動させる基板ステージを移動し続ける
ようにしたため、各ステージの移動空間内の空気を常に
かき混ぜ、それら空間と周囲環境との温度差を一定に保
つことができる。また、各ステージの移動手段における
発熱量を、露光時と露光待機時とで一定に保つことがで
きる。したがって、各ステージ周辺の温度安定性を向上
させ、高精度で露光を行うことができる。
ジまたは基板を移動させる基板ステージを移動し続ける
ようにしたため、各ステージの移動空間内の空気を常に
かき混ぜ、それら空間と周囲環境との温度差を一定に保
つことができる。また、各ステージの移動手段における
発熱量を、露光時と露光待機時とで一定に保つことがで
きる。したがって、各ステージ周辺の温度安定性を向上
させ、高精度で露光を行うことができる。
【００６５】また、フォーカス検出手段の投光手段また
は受光手段における測定光の出射面または入射面もしく
はその面とそれに接続した面とで構成される面の形状
を、空調手段から吹き出される空気の流れに平行なまた
は滑らかに接する面形状とするようにしたため、フォー
カス検出精度を向上させることができる。
は受光手段における測定光の出射面または入射面もしく
はその面とそれに接続した面とで構成される面の形状
を、空調手段から吹き出される空気の流れに平行なまた
は滑らかに接する面形状とするようにしたため、フォー
カス検出精度を向上させることができる。
【００６６】具体的には、投光手段または受光手段は測
定光を出射する出射ガラス面または測定光が入射する入
射ガラス面を有し、この出射ガラス面または入射ガラス
面と空調手段の空気の吹出し方向とをほぼ平行にし、あ
るいはほぼ直交させるようにしたため、出射ガラス面ま
たは入射ガラス面の前の空気流をよどませることがない
ので、フォーカス検出精度を向上させることができる。
定光を出射する出射ガラス面または測定光が入射する入
射ガラス面を有し、この出射ガラス面または入射ガラス
面と空調手段の空気の吹出し方向とをほぼ平行にし、あ
るいはほぼ直交させるようにしたため、出射ガラス面ま
たは入射ガラス面の前の空気流をよどませることがない
ので、フォーカス検出精度を向上させることができる。
【００６７】あるいは前記面形状を、投光手段または受
光手段が有するシリンドリカルレンズまたは凸レンズの
凸面形状で構成し、または、空調手段の空気吹出し方向
でみて、投光手段または受光手段の前後において、それ
に隣接する部材を設け、投光手段または受光手段の出射
面または入射面と、これに接続する前記部材の曲面と
で、前記面形状を構成するようにしたため、同様に、出
射ガラス面または入射ガラス面の前の空気流をよどませ
ることがないので、フォーカス検出精度を向上させるこ
とができる。
光手段が有するシリンドリカルレンズまたは凸レンズの
凸面形状で構成し、または、空調手段の空気吹出し方向
でみて、投光手段または受光手段の前後において、それ
に隣接する部材を設け、投光手段または受光手段の出射
面または入射面と、これに接続する前記部材の曲面と
で、前記面形状を構成するようにしたため、同様に、出
射ガラス面または入射ガラス面の前の空気流をよどませ
ることがないので、フォーカス検出精度を向上させるこ
とができる。
【００６８】また、鏡筒定盤はベースフレーム上の３本
の支柱および各支柱の上のダンパを介して支持し、空調
手段の空気吹出し方向は、いずれか２本の支柱を結ぶ線
にほぼ垂直な方向とするようにしたため、露光装置、空
調手段、およびフォーカス検出手段の配置を適切なもの
とすることができる。例えば、図７に示すように、フォ
ーカス検出系と、ＸＹ方向のレーザ干渉計の計測光路の
双方を１つの空調手段で空調し、かつ、露光装置上のス
ペースを有効に利用することができる。
の支柱および各支柱の上のダンパを介して支持し、空調
手段の空気吹出し方向は、いずれか２本の支柱を結ぶ線
にほぼ垂直な方向とするようにしたため、露光装置、空
調手段、およびフォーカス検出手段の配置を適切なもの
とすることができる。例えば、図７に示すように、フォ
ーカス検出系と、ＸＹ方向のレーザ干渉計の計測光路の
双方を１つの空調手段で空調し、かつ、露光装置上のス
ペースを有効に利用することができる。
【００６９】また、空調手段の空気吹出し口と投影光学
系との間に設けた板状部材により、空調手段から吹き出
される空気の流れを投影光学系下部のフォーカス検出手
段の測定光の光路上に導くようにしたため、光路上を通
過する空気の流速を高め、光路上の温度安定性をより向
上させることができる。
系との間に設けた板状部材により、空調手段から吹き出
される空気の流れを投影光学系下部のフォーカス検出手
段の測定光の光路上に導くようにしたため、光路上を通
過する空気の流速を高め、光路上の温度安定性をより向
上させることができる。
【００７０】よって、原版のパターンを基板上に高精度
で走査露光することができ、高精度な回路パターン等を
有するデバイスを、高い効率で製造することができる。
で走査露光することができ、高精度な回路パターン等を
有するデバイスを、高い効率で製造することができる。
【図１】 本発明の第１の実施形態に係る露光装置を側
方から見た様子を模式的に示す図である。
方から見た様子を模式的に示す図である。
【図２】 図１の露光装置の外観を示す斜視図である。
【図３】 図１の各ステージの駆動を制御するためにこ
れらのステージ位置を計測するための構成を模式的に示
す図である。
れらのステージ位置を計測するための構成を模式的に示
す図である。
【図４】 図１の装置のベースフレームを示す正面図で
ある。
ある。
【図５】 図２の装置のベースフレームを示す斜視図で
ある。
ある。
【図６】 本発明の第２の実施形態に係る投影露光装置
の、要部概略図である。
の、要部概略図である。
【図７】 図６のＡＡ断面で見たときの要部概略を示す
平面図である。
平面図である。
【図８】 図７の投光手段と検出手段との間を拡大して
示す図である。
示す図である。
【図９】 本発明の第３の実施形態に係る投影露光装置
の、要部概略図である。
の、要部概略図である。
【図１０】 本発明の第４の実施形態に係る投影露光装
置の、要部概略図である。
置の、要部概略図である。
【図１１】 本発明の第５の実施形態に係る投影露光装
置における、投光手段と検出手段との間を拡大して示す
図である。
置における、投光手段と検出手段との間を拡大して示す
図である。
【図１２】 本発明の第６の実施形態に係る投影露光装
置における、光フォーカス検出系を示す図である。
置における、光フォーカス検出系を示す図である。
【図１３】 本発明の第７の実施形態に係る投影露光装
置における空調の様子を示す模式図である。
置における空調の様子を示す模式図である。
【図１４】 図１〜１３の装置により製造し得る微小デ
バイスの製造の流れを示すフローチャートである。
バイスの製造の流れを示すフローチャートである。
【図１５】 図１４におけるウエハプロセスの詳細な流
れを示すフローチャートである。
れを示すフローチャートである。
１：レチクルステージ、２：投影光学系、３：ＸＹステ
ージ、４：リニアモータ、４ａ：固定子、４ｂ：可動
子、３ａ：Ｘステージ、３ｂ：Ｙステージ、６：リニア
モータ、７：ステージ定盤、８：ダンパ、９：鏡筒定
盤、１０：ベースフレーム、１１：ダンパ、１２：支
柱、１３：距離測定手段、３１〜３６：レーザ干渉計、
３７，３８：レーザヘッド、３９，４１，４２，４４，
４７，４８：反射ミラー、４０，４３，４５，４６：ビ
ームスプリッタ、６１：光フォーカス検出系、６４：投
光手段、６５：検出手段、６６：露光照明系、６７：レ
チクル、６８：回路パターン、６９：レチクルステー
ジ、７０：投影レンズ、７１：ウエハ、７２：ウエハホ
ルダ、７３：θＺチルトステージ、７４：ＸＹステー
ジ、７５：干渉計ミラー、７６：干渉計、７７：ＸＹス
テージ制御系、７８：光束、７９：吹出しフィルタ、８
０：エア、：８０：微動ステージ装置、８１：出射ガラ
ス面、８２：入射ガラス面、８３：渦、８４：乱れ、８
５，８６：シリンドリカルレンズ（凸レンズ）、８７：
マーク投影光学系、８８：マスク、８９：マスク照明
系、９０：光源、９１：じゃま板、９２：空調機、９
３：リターンダクト、９４：マーク、９５：像、９６：
曲面部材。
ージ、４：リニアモータ、４ａ：固定子、４ｂ：可動
子、３ａ：Ｘステージ、３ｂ：Ｙステージ、６：リニア
モータ、７：ステージ定盤、８：ダンパ、９：鏡筒定
盤、１０：ベースフレーム、１１：ダンパ、１２：支
柱、１３：距離測定手段、３１〜３６：レーザ干渉計、
３７，３８：レーザヘッド、３９，４１，４２，４４，
４７，４８：反射ミラー、４０，４３，４５，４６：ビ
ームスプリッタ、６１：光フォーカス検出系、６４：投
光手段、６５：検出手段、６６：露光照明系、６７：レ
チクル、６８：回路パターン、６９：レチクルステー
ジ、７０：投影レンズ、７１：ウエハ、７２：ウエハホ
ルダ、７３：θＺチルトステージ、７４：ＸＹステー
ジ、７５：干渉計ミラー、７６：干渉計、７７：ＸＹス
テージ制御系、７８：光束、７９：吹出しフィルタ、８
０：エア、：８０：微動ステージ装置、８１：出射ガラ
ス面、８２：入射ガラス面、８３：渦、８４：乱れ、８
５，８６：シリンドリカルレンズ（凸レンズ）、８７：
マーク投影光学系、８８：マスク、８９：マスク照明
系、９０：光源、９１：じゃま板、９２：空調機、９
３：リターンダクト、９４：マーク、９５：像、９６：
曲面部材。
【手続補正書】
【提出日】平成９年１０月１３日
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正内容】
【図４】
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正内容】
【図５】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 野川 秀樹 東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノ ン株式会社内
Claims (28)
- 【請求項１】 原版を移動させる原版ステージと、基板
を移動させる基板ステージと、原版のパターンを基板上
に投影する投影光学系とを有し、原版ステージと基板ス
テージを走査方向に移動させながら原版のパターンを基
板上に投影して露光を行う走査型露光装置において、投
影光学系および原版ステージが設けられた鏡筒定盤と、
複数の支柱を有し各支柱の上のダンパを介して鏡筒定盤
を支持するベースフレームとを備え、このベースフレー
ムは、その支柱間をそれらの上部において結合する結合
部材を具備することを特徴とする露光装置。 - 【請求項２】 前記支柱の数は３本であり、前記結合部
材は、各支柱上のダンパより上でかつダンパに隣接した
高さに位置し、かつ、上から見た場合、各支柱およびそ
の上のダンパをそれらにほぼ接してそれらを囲い込むよ
うな寸法および形状を有するほぼ三角形状の部材と、こ
の部材および各支柱の上端との間を、各支柱のダンパの
外側を経て結合する部材とを有することを特徴とする請
求項１記載の露光装置。 - 【請求項３】 鏡筒定盤の底部は、前記三角形状の部材
に嵌合して、各ダンパ上に配置されていることを特徴と
する請求項２記載の露光装置。 - 【請求項４】 原版を移動させる原版ステージと、基板
を移動させる基板ステージと、原版のパターンを基板上
に投影する投影光学系とを有し、原版ステージと基板ス
テージを走査方向に移動させながら原版のパターンを基
板上に投影して露光を行う走査型露光装置において、投
影光学系および原版ステージが設けられた鏡筒定盤と、
複数の支柱を有し各支柱の上のダンパを介して鏡筒定盤
を支持するベースフレームとを備え、このベースフレー
ムの下部には、装置をチャンバ内に配置して空調する際
の空気のリターン用の通路が設けられていることを特徴
とする露光装置。 - 【請求項５】 原版を移動させる原版ステージと、基板
を移動させる基板ステージと、原版のパターンを基板上
に投影する投影光学系と、原版ステージの位置を計測す
るための原版側レーザ干渉計と、基板ステージの位置を
計測するための基板側レーザ干渉計とを備え、原版およ
び基板ステージの計測位置をフィードバックさせて原版
ステージと基板ステージを走査方向に移動させながら原
版のパターンを基板上に投影して露光を行う走査型露光
装置において、原版側レーザ干渉計による計測光路上を
空調する原版側空調手段と、基板側レーザ干渉計による
計測光路上を空調する基板側空調手段とを別個に具備す
ることを特徴とする露光装置。 - 【請求項６】 前記投影光学系および原版ステージが設
けられた鏡筒定盤と、複数の支柱を有し各支柱の上のダ
ンパを介して鏡筒定盤を支持するベースフレームとを備
え、基板側空調手段は、装置をチャンバ内に配置して空
調する際の空気のリターン用の通路をベースフレームの
下部に有することを特徴とする請求項５記載の露光装
置。 - 【請求項７】 露光待機時においても、前記原版ステー
ジまたは基板ステージを移動し続けることを特徴とする
請求項５または６記載の露光装置。 - 【請求項８】 原版のパターンを基板上に投影する投影
光学系と、この投影光学系のフォーカス位置に原版を位
置させるためのフォーカス検出手段とを備え、このフォ
ーカス検出手段は、露光位置に配置された原版上に測定
光を投光する投光手段と、これによって投光され、原版
で反射される測定光を受光する受光手段とを備えたもの
である露光装置において、前記測定光の光路上を空調す
る空調手段を備え、投光手段または受光手段における測
定光の出射面または入射面もしくはその面とそれに接続
した面とで構成される面は、空調手段から吹き出される
空気の流れに平行なまたは滑らかに接する面形状を有す
ることを特徴とする露光装置。 - 【請求項９】 投光手段または受光手段は測定光を出射
する出射ガラス面または測定光が入射する入射ガラス面
を有し、この出射ガラス面または入射ガラス面と空調手
段の空気の吹出し方向とはほぼ平行であることを特徴と
する請求項８記載の露光装置。 - 【請求項１０】 前記測定光の光路と空調手段の空気の
吹出し方向とはほぼ直交することを特徴とする請求項８
または９記載の露光装置。 - 【請求項１１】 前記面形状は投光手段または受光手段
が有するシリンドリカルレンズまたは凸レンズの凸面形
状であることを特徴とする請求項８〜１０記載の露光装
置。 - 【請求項１２】 空調手段の空気吹出し方向でみて、投
光手段または受光手段の前後において、それに隣接する
部材を有し、投光手段または受光手段の出射面または入
射面と、これに接続する前記部材の曲面とで、前記面形
状が構成されることを特徴とする請求項８〜１１記載の
露光装置。 - 【請求項１３】 原版を移動させる原版ステージと、基
板を移動させる基板ステージとを有し、原版ステージと
基板ステージを走査方向に移動させながら原版のパター
ンを基板上に投影して露光を行う走査型の露光装置であ
り、また、投影光学系および原版ステージが設けられた
鏡筒定盤と、３本の支柱を有し各支柱の上のダンパを介
して鏡筒定盤を支持するベースフレームとを備え、空調
手段の空気吹出し方向は、いずれか２本の支柱を結ぶ線
にほぼ垂直な方向であることを特徴とする請求項８〜１
２記載の露光装置。 - 【請求項１４】 空調手段から吹き出される空気の流れ
を投影光学系下部の前記測定光の光路上に導くための板
状部材を、空調手段の空気吹出し口と投影光学系との間
に設けたことを特徴とする請求項８〜１３記載の露光装
置。 - 【請求項１５】 原版と基板を走査方向に移動させなが
ら原版のパターンを投影光学系を介して基板上に投影し
て走査露光することによりデバイスを製造するに際し、
原版を移動させる原版ステージおよび投影光学系が設け
られた鏡筒定盤を、ベースフレーム上の複数の支柱によ
りそれらの上のダンパを介して支持するとともに、それ
らの支柱間をそれらの上部において結合部材により結合
することを特徴とするデバイス製造方法。 - 【請求項１６】 前記支柱の数は３本であり、前記結合
部材は、各支柱上のダンパより上でかつダンパに隣接し
た高さに位置し、かつ、上から見た場合、各支柱および
その上のダンパをそれらにほぼ接してそれらを囲い込む
ような寸法および形状を有するほぼ三角形状の部材と、
この部材および各支柱の上端との間を、各支柱のダンパ
の外側を経て結合する部材とを有することを特徴とする
請求項１５記載のデバイス製造方法。 - 【請求項１７】 鏡筒定盤の底部を、前記三角形状の部
材に嵌合して、各ダンパ上に配置することを特徴とする
請求項１６記載のデバイス製造方法。 - 【請求項１８】 原版と基板を走査方向に移動させなが
ら原版のパターンを投影光学系を介して基板上に投影し
て走査露光することによりデバイスを製造するに際し、
原版を移動させる原版ステージおよび投影光学系が設け
られた鏡筒定盤を、ベースフレーム上の複数の支柱によ
りそれらの上のダンパを介して支持し、装置をチャンバ
内に配置して空調するするとともに、この空調を、ベー
スフレームの下部に設けたリターン用の通路を介して行
うことを特徴とするデバイス製造方法。 - 【請求項１９】 原版の位置を原版側レーザ干渉計によ
り計測し、基板の位置を基板側レーザ干渉計により計測
し、原版および基板の計測位置をフィードバックさせて
原版と基板を走査方向に移動させながら原版のパターン
を投影光学系を介して基板上に投影して走査露光するこ
とによりデバイスを製造するに際し、原版側レーザ干渉
計による計測光路上および基板側レーザ干渉計による計
測光路上を別個に空調することを特徴とするデバイス製
造方法。 - 【請求項２０】 原版を移動させる原版ステージおよび
投影光学系は鏡筒定盤上に設け、この鏡筒定盤はベース
フレーム上に設けた複数の支柱および各支柱の上のダン
パを介して支持し、装置をチャンバ内に配置して空調す
る際の基板側の空調は、ベースフレームの下部に設けた
リターン用の通路を介して行うことを特徴とする請求項
１９記載のデバイス製造方法。 - 【請求項２１】 露光待機時においても、原版ステージ
または基板を移動させる基板ステージを移動し続けるこ
とを特徴とする請求項１９または２０記載のデバイス製
造方法。 - 【請求項２２】 露光位置に配置された原版上に測定光
を投光手段により投光し、原版で反射される測定光を受
光手段により受光して、投影光学系のフォーカス位置に
原版を位置させ、原版のパターンを投影光学系を介して
基板上に投影して露光することによりデバイスを製造す
るに際し、前記測定光の光路上を空調手段により空調す
るとともに、投光手段または受光手段における測定光の
出射面または入射面もしくはその面とそれに接続した面
とで構成される面の形状を、空調手段から吹き出される
空気の流れに平行なまたは滑らかに接する面形状とする
ことを特徴とするデバイス製造方法。 - 【請求項２３】 投光手段または受光手段は測定光を出
射する出射ガラス面または測定光が入射する入射ガラス
面を有し、この出射ガラス面または入射ガラス面と空調
手段の空気の吹出し方向とをほぼ平行にすることを特徴
とする請求項２２記載のデバイス製造方法。 - 【請求項２４】 前記測定光の光路と空調手段の空気の
吹出し方向とをほぼ直交させることを特徴とする請求項
２２または２３記載のデバイス製造方法。 - 【請求項２５】 前記面形状は投光手段または受光手段
が有するシリンドリカルレンズまたは凸レンズの凸面形
状で構成することを特徴とする請求項２２〜２４記載の
デバイス製造方法。 - 【請求項２６】 空調手段の空気吹出し方向でみて、投
光手段または受光手段の前後において、それに隣接する
部材を設け、投光手段または受光手段の出射面または入
射面と、これに接続する前記部材の曲面とで、前記面形
状を構成することを特徴とする請求項２２〜２５記載の
デバイス製造方法。 - 【請求項２７】 原版は原版ステージにより移動させ、
基板は基板ステージにより移動させ、原版ステージと基
板ステージを走査方向に移動させながら原版のパターン
を基板上に投影して走査露光を行うとともに、投影光学
系および原版ステージは鏡筒定盤上に設け、鏡筒定盤は
ベースフレーム上の３本の支柱および各支柱の上のダン
パを介して支持し、空調手段の空気吹出し方向は、いず
れか２本の支柱を結ぶ線にほぼ垂直な方向とすることを
特徴とする請求項２２〜２６記載のデバイス製造方法。 - 【請求項２８】 空調手段の空気吹出し口と投影光学系
との間に設けた板状部材により、空調手段から吹き出さ
れる空気の流れを投影光学系下部の前記測定光の光路上
に導くことを特徴とする請求項２２〜２７記載のデバイ
ス製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31861696A JP3689510B2 (ja) | 1996-11-15 | 1996-11-15 | 露光装置およびデバイス製造方法 |
| US08/968,726 US6133982A (en) | 1996-11-15 | 1997-11-12 | Exposure apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31861696A JP3689510B2 (ja) | 1996-11-15 | 1996-11-15 | 露光装置およびデバイス製造方法 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005002358A Division JP3958321B2 (ja) | 2005-01-07 | 2005-01-07 | 露光装置およびデバイス製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10149975A true JPH10149975A (ja) | 1998-06-02 |
| JP3689510B2 JP3689510B2 (ja) | 2005-08-31 |
Family
ID=18101133
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31861696A Expired - Fee Related JP3689510B2 (ja) | 1996-11-15 | 1996-11-15 | 露光装置およびデバイス製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6133982A (ja) |
| JP (1) | JP3689510B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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