JP2004153092A - 露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】露光装置EXは、投影光学系PLと、投影光学系PLの光軸AXに垂直なXY平面内で移動可能な基板ステージPSTと、基板ステージPSTのX軸方向の位置を検出する位置検出装置20とを備えている。位置検出装置10は、基板ステージPSTに設けられたX移動鏡17Xと、投影光学系PLの外側であって、線膨張の方向がY軸方向となる部分に設けられた参照鏡19A,19Bと、移動鏡及び参照鏡19A,19Bのそれぞれに対してレーザビームを照射し、移動鏡及び参照鏡19A,19Bのそれぞれから発生した反射光を干渉するレーザ干渉計18とを備えている。
【選択図】 図2
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、移動するステージの位置を検出する位置検出装置を備えた露光装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
半導体デバイスや液晶表示デバイスは、マスク上に形成されたパターンを感光基板上に転写する、いわゆるフォトリソグラフィの手法により製造される。このフォトリソグラフィ工程で使用される露光装置は、感光基板を載置して2次元移動する基板ステージとパターンを有するマスクを載置して2次元移動するマスクステージとを有し、マスク上に形成されたパターンをマスクステージ及び基板ステージを逐次移動しながら投影光学系を介して感光基板に転写するものである。このような露光装置では、感光基板やマスクの位置計測を精度良く行う必要があり、基板ステージ及びマスクステージの位置検出装置としてレーザ干渉計が用いられている(特許文献1参照)。
【0003】
【特許文献1】
特開平6−163354号公報
【0004】
図13は、従来のレーザ干渉計を備えた露光装置の一般的な概略図である。
図13に示すように、露光装置EXJは、マスクMを支持するマスクステージMSTと、感光基板Pを支持する基板ステージPSTと、マスクMを露光光ELで照明する照明光学系ILと、露光光ELで照明されたマスクMのパターンを感光基板Pに投影する投影光学系PLとを備えている。マスクステージMST及び投影光学系PLはコラム104に支持されており、基板ステージPSTはステージ支持台103上に設けられている。そして、マスクステージMST及び基板ステージPSTのそれぞれは、投影光学系PLの光軸AXと一致するZ軸方向に垂直なXY平面内で移動可能である。基板ステージPSTのX軸方向における一端には移動鏡101が設けられており、投影光学系PLの鏡筒PKのX軸方向における一端には参照鏡102が設けられている。基板ステージPSTのX軸方向における位置を検出するレーザ干渉計100はコラム104に取り付けられており、移動鏡101にレーザビームである測長ビームWSを照射するとともに、参照鏡102にレーザビームである参照ビームWRを照射する。照射した測長ビームWS及び参照ビームWRに基づく移動鏡101及び参照鏡102それぞれからの反射光はレーザ干渉計100の受光部で受光され、レーザ干渉計100はこれら光を干渉し、参照ビームWRの光路長を基準とした測長ビームWSの光路長の変化量、ひいては、参照鏡102を基準とした移動鏡101の位置(座標)を検出する。移動鏡101の位置を検出することにより基板ステージPSTのX軸方向における位置が検出される。不図示ではあるが、露光装置EXJは、基板ステージPSTのY軸方向における位置検出に用いられる移動鏡及び参照鏡と、これら移動鏡及び参照鏡にレーザビームを照射可能なY軸方向位置検出用のレーザ干渉計とを備えている。同様に、マスクステージMSTにも移動鏡が設けられており、鏡筒PKにはマスクステージMSTの位置検出に用いられる参照鏡が取り付けられている。そして、これら移動鏡及び参照鏡にレーザビームを照射可能なマスクステージ位置検出用のレーザ干渉計によりマスクステージMSTの位置検出が行われれる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述したレーザ干渉計を有する従来の露光装置において、以下に述べる問題が生じるようになった。
参照鏡102を固定している鏡筒PKは温度変化により光軸AXに対して交わる方向に膨張あるいは収縮するように変形する場合がある。例えば、図14の模式図に示すように、鏡筒PKが実線で示す状態から破線で示す状態に膨張すると、位置検出のための基準位置(例えば投影光学系PLの光軸AXのXY平面内における位置)に対する参照鏡102の位置が移動する(図14中、符号δX参照)。すると、レーザ干渉計100は、基準位置に対して移動した参照鏡102を用いて基板ステージPSTの位置検出を行うことになるので、位置検出誤差を生じる。従来では、基準位置に対する参照鏡102の移動は大きな問題にならなかったが、近年におけるパターンの微細化の要求に伴い、基準位置に対する参照鏡102の移動は無視できなくなってきている。
【0006】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、温度変化が生じて参照鏡を支持する部分が移動してもステージ位置計測を精度良く行うことができる位置検出装置を備えた露光装置を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するため本発明は、実施の形態に示す図1〜図12に対応付けした以下の構成を採用している。
本発明の露光装置(EX)は、投影光学系(PL)と、被露光物体(P)を載置するとともに投影光学系(PL)の光軸(AX)に垂直な平面内で移動可能なステージ(MST、PST)と、ステージ(MST、PST)の前記平面内における第1の方向(X)の位置を検出する位置検出装置(10、20)とを備えた露光装置において、位置検出装置(10、20)は、ステージ(MST、PST)に設けられた移動鏡(7X、17X)と、投影光学系(PL)の外側であって、線膨張の方向が前記平面内で第1の方向(X)と交わる第2の方向(Y)となる部分に設けられた参照鏡(9A、9B、19A、19B)と、移動鏡(7X、17X)及び参照鏡(9A、9B、19A、19B)のそれぞれに対して光ビームを照射し、移動鏡(7X、17X)及び参照鏡(9A、9B、19A、19B)のそれぞれから発生した光ビームの干渉光を検出する干渉計(8、18)とを備えることを特徴とする。
【0008】
本発明によれば、参照鏡を、線膨張の方向が投影光学系の光軸に垂直な平面内で第1の方向と交わる第2の方向となる部分に設けたので、温度変化によって参照鏡を固定している部分(例えば鏡筒あるいはコラム)が移動しても、この移動方向は第2の方向となるので、参照鏡と基準位置(投影光学系の光軸の前記平面内における位置)との第1の方向における相対位置は変化しない。したがって、レーザ干渉計は参照鏡からの反射光に基づくステージの第1の方向における位置検出を精度良く行うことができる。
【0009】
本発明の露光装置(EX)は、投影光学系(PL)と、投影光学系(PL)の光軸(AX)に垂直な平面内で移動可能なステージ(MST、PST)と、ステージ(MST、PST)の前記平面内における第1の方向(X)の位置を検出する位置検出装置(10、20)とを備えた露光装置において、位置検出装置(10、20)は、ステージ(10、20)に設けられた移動鏡(17X)と、第1の方向(X)において光軸(AX)を挟んで対向する投影光学系(PL)外側の少なくとも2つの位置にそれぞれ設けられた参照鏡(22A、22B)と、移動鏡(17X)及び参照鏡(22A、22B)のそれぞれに対して光ビームを照射し、移動鏡(17X)及び参照鏡(22A、22B)のそれぞれから発生した光ビームの干渉光を検出する干渉計(18)とを備えることを特徴とする。
【0010】
本発明によれば、温度変化によって参照鏡を固定している部分(鏡筒あるいはコラム)が移動しても、第1の方向において投影光学系の光軸を挟んで対向する2つの位置にそれぞれ設けられた参照鏡それぞれの光軸に対する移動量は略等しいので、これら2つの移動量に基づいて位置検出のための基準位置(投影光学系の光軸の前記平面内における位置)を求めることができる。そして、求めた基準位置に基づいて、レーザ干渉計はステージの位置検出を精度良く行うことができる。
【0011】
本発明の露光装置(EX)は、投影光学系(PL)と、投影光学系(PL)の光軸(AX)に垂直な平面(XY)内で移動可能なステージ(MST、PST)と、ステージ(MST、PST)の平面(XY)内における第1の方向(X)の位置を検出する位置検出装置(10、20)とを備えた露光装置において、位置検出装置(10、20)は、ステージ(MST、PST)に設けられた移動鏡(17X)と、第1の方向(X)と光軸(AX)とを結ぶ線上、及び第1の方向(X)に交わる第2の方向(Y)と光軸(AX)とを結ぶ線上の、投影光学系外側(PK)の少なくとも2つの位置にそれぞれ設けられた参照鏡(19B、19A)と、移動鏡(17X)及び参照鏡(19B、19A)のそれぞれに対して光ビームを照射し、移動鏡(17X)及び参照鏡(19B、19A)のそれぞれから発生した光ビームの干渉光を検出する干渉計(18)とを備えることを特徴とする。
【0012】
本発明によれば、一方の参照鏡を用いて第1の方向における基準位置を求めることができるとともに、もう一方の参照鏡の位置変化を干渉計で検出することにより、干渉計の検出結果に基づいて参照鏡を固定している部分(例えば鏡筒)の膨張量を求めることができる。
【0013】
本発明の露光装置(EX)は、投影光学系(PL)と、被露光物体(P)を載置するとともに投影光学系(PL)の光軸(AX)に垂直な平面(XY)内で移動可能なステージ(PST)と、ステージ(PST)の平面(XY)内における第1の方向(X)の位置を検出する位置検出装置(20)とを備えた露光装置において、位置検出装置(20)は、ステージ(PST)に設けられた移動鏡と、所定の位置に設けられた参照鏡と、移動鏡及び参照鏡のそれぞれに対して光ビームを照射し、移動鏡及び参照鏡のそれぞれから発生した光ビームの干渉光を検出する干渉計(18)とを備え、移動鏡(17Xa、17Xb、21)は、第1の方向(X)におけるステージ(PST)上の被露光物体(P)を挟んだ両側、又は前記ステージ裏面のほぼ中央位置に設けられていることを特徴とする。
【0014】
本発明によっても、膨張などに起因する位置計測誤差を低減あるいは補正することができる。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の露光装置について図面を参照しながら説明する。図1は本発明の露光装置の第1実施形態を示す概略構成図であり、図2は図1の概略斜視図である。
図1において、露光装置EXは、マスクMを支持するマスクステージMSTと、感光基板(被露光物体)Pを支持する基板ステージPSTと、マスクMを露光光ELで照明する照明光学系ILと、露光光ELで照明されたマスクMのパターンを感光基板Pに投影する投影光学系PLとを備えている。ここで、本実施形態における露光装置EXは所謂スリットスキャン型露光装置であり、以下の説明において、投影光学系PLの光軸AXと一致する方向をZ軸方向、Z軸方向に垂直な平面内でマスクMと感光基板Pとの同期移動方向をX軸方向(第1の方向)、Z軸方向及びX軸方向に垂直な方向をY軸方向(第2の方向)とする。
【0016】
照明光学系ILは、マスクステージMSTに支持されているマスクMを露光光ELで照明するものであり、露光光ELとしては、例えば超高圧水銀ランプから射出される紫外域の輝線(g線、h線、i線)およびKrFエキシマレーザ光(波長248nm)等の遠紫外光(DUV光)や、ArFエキシマレーザ光(波長193nm)およびF2 レーザ光(波長157nm)等の真空紫外光(VUV)などが用いられる。
【0017】
マスクステージMSTは、ベースプレート1上に設けられたコラム3の上段部3Aにマスク定盤5を介して支持されている。マスク定盤5の中央部にはマスクMのパターンの像を通過させる開口部が設けられている。マスクステージMSTは非接触ベアリングであるエアベアリングによりマスク定盤5に対して浮上しており、不図示のアクチュエータにより投影光学系PLの光軸AXに垂直な平面内、すなわちXY平面内で移動可能となっている。
【0018】
投影光学系PLは、複数の光学素子(レンズ)により構成されており、これら光学素子を支持する鏡筒PKを備えている。本実施形態における投影光学系PLの倍率は縮小系であるが、等倍系及び拡大系のいずれでもよい。鏡筒PKのZ軸方向における略中央部にはフランジ部4が設けられており、投影光学系PLの鏡筒PKはフランジ部4を介してコラム3の中段部3Bに支持されている。ここで、フランジ部4は、低熱膨張の材質、例えばインバー(Inver;ニッケル36%、マンガン0.25%、および微量の炭素と他の元素を含む鉄からなる低膨張の合金)により形成されている。また、コラム3もインバーにより形成されている。
【0019】
基板ステージPSTは、ベースプレート1上に設けられたステージ支持台2に、基板定盤6を介して支持されている。基板ステージPSTは非接触ベアリングであるエアベアリングにより基板定盤6に対して浮上しており、不図示のアクチュエータにより投影光学系PLの光軸AXに垂直な平面内、すなわちXY平面内で移動可能となっている。更に、基板ステージPSTはZ軸方向にも移動可能に設けられており、基板ステージPSTに支持されている感光基板PのZ軸方向における位置は、投影光学系PLの鏡筒PKの一部に取り付けられた焦点位置検出系11により検出される。焦点位置検出系11は投光部11Aと受光部11Bとを有しており、投光部11Aから感光基板Pに照射され、この感光基板Pで発生した反射光は受光部11Bに検出される。受光部11Bの検出信号は制御装置CONTに出力され、制御装置CONTは受光部11Bの検出結果に基づいて感光基板PのZ軸方向における位置を求める。
【0020】
マスクステージMSTには、マスクステージMSTのX軸方向(第1の方向)における位置を検出する位置検出装置10が設けられている。このうち、位置検出装置10は、図2に示すように、マスクステージMST上の−X側縁にY軸方向に沿って延設され、反射面を−X側に向けられたX移動鏡7Xと、投影光学系PLの外側である鏡筒PKの外周面のうちY軸方向両側にそれぞれ設けられ、反射面を−X側に向けられた2つの参照鏡9A,9Bと、X移動鏡7X及び参照鏡9A,9Bのそれぞれに対してレーザビームを照射し、X移動鏡7X及び参照鏡9A,9Bのそれぞれから発生した反射光の干渉光を検出するレーザ干渉計8とを備えている。ここで、参照鏡9A,9Bのそれぞれは、投影光学系PLの光軸AXを挟んで対向する2つの位置にそれぞれ設けられ、投影光学系PLの鏡筒PKに固定された構成となっている。レーザ干渉計8は、X移動鏡7Xの反射面及び投影光学系PLの鏡筒PKに固定された参照鏡9A,9Bの反射面に向けてそれぞれレーザビームである測長ビームWS及び参照ビームWRを照射する。ここで、測長ビームWS及び参照ビームWRのそれぞれは互いに平行であり、X軸に対しても平行である。照射した測長ビームWS及び参照ビームWRに基づくX移動鏡7X及び参照鏡9A,9Bそれぞれからの反射光はレーザ干渉計8の受光部で受光され、レーザ干渉計8は参照ビームWRの光路長を基準とした測長ビームWSの光路長の変化量、ひいては、参照鏡9A,9Bのそれぞれを基準としたX移動鏡7Xの位置(座標)を検出する。X移動鏡7Xの位置を検出することによりマスクステージMSTのX軸方向における位置が所定の分解能でリアルタイムに検出される。なお、図2にはレーザ干渉計8が3つ示されているが、これはレーザビーム射出部を示しており、光源からのレーザビームがビームスプリッタにより分割されて射出される。
【0021】
同様に、マスクステージMST上の+Y側縁にX軸方向に沿って延設され、反射面を+Y側に向けられたY移動鏡7Yと、不図示であるが、投影光学系PLの外側である鏡筒PKの外周面のうちX軸方向両側にそれぞれ設けられ、反射面を+Y側に向けられた2つの参照鏡と、Y移動鏡7Y及び2つの参照鏡のそれぞれに対してレーザビームを照射し、Y移動鏡7Y及び参照鏡のそれぞれから発生した反射光の干渉光を検出するレーザ干渉計とが設けられており、マスクステージMSTのY軸方向における位置が所定の分解能でリアルタイムに検出される。
【0022】
基板ステージPSTには、基板ステージPSTのX軸方向(第1の方向)における位置を検出する位置検出装置20が設けられている。このうち、位置検出装置20は、図2に示すように、基板ステージPST上の+X側縁にY軸方向に沿って延設され、反射面を+X側に向けられたX移動鏡17Xと、投影光学系PLの外側である鏡筒PKの外周面のうちY軸方向両側にそれぞれ設けられ、反射面を+X側に向けられた2つの参照鏡19A,19Bと、X移動鏡17X及び参照鏡19A,19Bのそれぞれに対してレーザビームを照射し、X移動鏡17X及び参照鏡19A,19Bのそれぞれから発生した反射光の干渉光を検出するレーザ干渉計18とを備えている。ここで、参照鏡19A,19Bのそれぞれは、投影光学系PLの光軸AXを挟んで対向する2つの位置にそれぞれ設けられ、投影光学系PLの鏡筒PKに固定された構成となっている。レーザ干渉計18は、X移動鏡17Xの反射面及び投影光学系PLの鏡筒PKに固定された参照鏡19A,19Bの反射面に向けてそれぞれレーザビームである測長ビームWS及び参照ビームWRを照射する。ここで、測長ビームWS及び参照ビームWRのそれぞれは互いに平行であり、X軸に対しても平行である。照射した測長ビームWS及び参照ビームWRに基づくX移動鏡17X及び参照鏡19A,19Bそれぞれからの反射光はレーザ干渉計18の受光部で受光され、レーザ干渉計18は参照ビームWRの光路長を基準とした測長ビームWSの光路長の変化量、ひいては、参照鏡19A,19Bのそれぞれを基準としたX移動鏡17Xの位置(座標)を検出する。X移動鏡17Xの位置を検出することにより基板ステージPSTのX軸方向における位置が所定の分解能でリアルタイムに検出される。なお、図2にはレーザ干渉計18が3つ示されているが、これはレーザビーム射出部を示しており、光源からのレーザビームがビームスプリッタにより分割されて射出される。
【0023】
同様に、基板ステージPST上の−Y側縁にX軸方向に沿って延設され、反射面を−Y側に向けられたY移動鏡17Yと、不図示であるが、投影光学系PLの外側である鏡筒PKの外周面のうちX軸方向両側にそれぞれ設けられ、反射面を−Y側に向けられた2つの参照鏡と、Y移動鏡17Y及び2つの参照鏡のそれぞれに対してレーザビームを照射し、Y移動鏡17Y及び参照鏡のそれぞれから発生した反射光の干渉光を検出するレーザ干渉計とが設けられており、基板ステージPSTのY軸方向における位置が所定の分解能でリアルタイムに検出可能である。
【0024】
図3に示すように、投影光学系PLの鏡筒PKが、温度変化によって実線で示す状態から破線で示す状態PK’まで膨張した場合、基板ステージPSTのX軸方向(第1の方向)における位置検出に用いられる参照鏡19A,19Bは、投影光学系PLの外側であって、線膨張の方向がY軸方向(第2の方向)となる部分に設けられた構成であるので、参照鏡19A,19Bの反射面それぞれと、位置検出のための基準位置である投影光学系PLの光軸AXとのX軸方向における相対位置は変化しない。したがって、レーザ干渉計18は参照鏡19A,19Bからの反射光に基づく基板ステージPSTの位置検出を精度良く行うことができる。同様に、マスクステージMSTのX軸方向(第1の方向)における位置検出に用いられる参照鏡9A,9Bも、投影光学系PLの外側であって、線膨張の方向がY軸方向(第2の方向)となる部分に設けられた構成であるので、参照鏡9A,9Bの反射面それぞれと、位置検出のための基準位置である投影光学系PLの光軸AXとのX軸方向における相対位置は変化しない。したがって、レーザ干渉計8は参照鏡9A,9Bからの反射光に基づくマスクステージMSTの位置検出を精度良く行うことができる。
【0025】
マスクステージMSTに設けられたレーザ干渉計、及び基板ステージPSTに設けられたレーザ干渉計のそれぞれの位置検出結果は制御装置CONTに出力され、制御装置CONTは、レーザ干渉計の位置検出結果に基づいてマスクMと感光基板Pとの位置制御を行いつつ、照明光学系ILよりマスクMを露光光ELで照明し、マスクMのパターンを投影光学系PLを介して感光基板Pに転写する。
【0026】
以上説明したように、X軸方向における位置検出に用いる参照鏡19A,19B(9A,9B)を、線膨張の方向がX軸方向と交わるY軸方向となる部分に設けたので、温度変化によって参照鏡19A,19Bを固定している鏡筒PKが膨張あるいは収縮して参照鏡19A,19Bの位置が移動しても、この移動方向はY軸方向となるので、参照鏡19A,19Bと位置検出のための基準位置(投影光学系PLの光軸AXのXY平面内における位置)との相対位置は変化しない。したがって、レーザ干渉計18は参照鏡19A,19Bからの反射光に基づく基板ステージPSTの位置検出を精度良く行うことができる。同様に、マスクステージMSTの位置検出も精度良く行うことができる。したがって、精度良い露光処理を行うことができる。また、基準位置の線膨張による相対変化が無視できるため、鏡筒PKの光軸の傾き変化やねじれなどの姿勢情報も、この参照鏡9A、9B、19A、19Bの位置検出から計算により検出することができ、補正が可能となる。
【0027】
本実施形態では、参照鏡は投影光学系PLの光軸AXを挟んで対向する2つの位置にそれぞれ設けられた構成であるが、いずれか1つだけであってもよい。一方、本実施形態のように、2つの参照鏡19A,19Bを設け、参照鏡19Aに照射される参照ビームWRの光路長、及び参照鏡19Bに照射される参照ビームWRの光路長のそれぞれを求め、例えば平均値を求めることにより、鏡筒PKが線膨張を生じた際にも、前記求めた平均値と基準位置とのX軸方向における相対距離は大きく変動しないため、計測誤差を低減することができ、精度良い位置検出を行うことができる。
【0028】
本実施形態では、X軸方向の位置検出を行うための参照鏡19A,19BはX軸方向と直交する位置、すなわちY軸上に配置されている構成であるが、図4に示すように、参照鏡19A,19Bの設置位置は、Y軸に対してずれていてもよい。この場合、参照鏡19Aに照射される参照ビームWRの光路長、及び参照鏡19Bに照射される参照ビームWRの光路長のそれぞれを求めて、例えば平均値を求めることにより、鏡筒PKが線膨張を生じた際にも計測誤差を低減することができる。
【0029】
X軸方向におけるステージ位置を検出する際、図5に示すように、2つの参照鏡19A、19Bのうち、1つの参照鏡19Bを鏡筒PKの外周面のうちY軸方向における部分(Y軸方向と光軸とを結ぶ線上の投影光学系PLの外側)に取り付け、もう1つの参照鏡19Aを鏡筒PKの外周面のうちX軸方向における部分(X軸方向と光軸とを結ぶ線上の投影光学系PLの外側)に取り付けることにより、参照鏡19Bを用いてX軸方向における基準位置を求めることができるとともに、参照鏡19Aの位置変化をレーザ干渉計18で検出することにより、レーザ干渉計18の検出結果に基づいて鏡筒PKの膨張量を求めることができる。
【0030】
上記実施形態において、移動鏡はステージ上の側縁に設けられた構成であるが、図6に示すように、移動鏡をステージのほぼ中心位置に設けることもできる。図6は、基板ステージPSTを下方から見上げた図であって、基板ステージPST下面の中央部に、反射面を+X側に向けた移動鏡21が設けられている。レーザ干渉計18は、この移動鏡21に測長ビームWSを照射して、移動鏡21で発生した反射光を検出することによっても、基板ステージPSTのX軸方向おける位置を検出することができる。なお、基板ステージPSTの下面に移動鏡21を設ける場合、図1に示した基板定盤6には、レーザ干渉計18からの測長ビームWSを通過させるための例えば凹溝部が形成されている。
【0031】
ステージが熱膨張した際にも、熱膨張によるステージの位置誤差(移動)は中心位置より側縁位置のほうが大きいので、移動鏡をステージのほぼ中心位置に設けることにより、熱膨張に起因する移動鏡の移動を最小限に抑えることができ、ステージ位置検出を精度良く行うことができる。
【0032】
図7に示すように、基板ステージPSTのX軸方向における2つの端部のそれぞれに、すなわち、基板ステージPST上の感光基板Pを挟んだ両側のそれぞれに移動鏡17Xを設けることができる。移動鏡17Xaは基板ステージPSTの+X側縁に設けられており、移動鏡17Xbは基板ステージPSTの−X側縁に設けられている。レーザ干渉計18は、基板ステージPSTの−X側に設けられており、移動鏡17Xaは移動鏡17Xbより高く(Z軸方向における距離を長く)形成されている。レーザ干渉計18は、+X側縁に設けられた移動鏡17Xaと、−X側縁に設けられた移動鏡17Xbとのそれぞれに対して測長ビームWSを照射し、これら移動鏡17Xa,17Xbそれぞれで発生した反射光に基づいて、移動鏡17Xa,17XbそれぞれのX軸方向における位置を求め、これらの例えば平均値を求めることにより、基板ステージPSTの中心位置における座標を求めることができる。
【0033】
このように、移動鏡17XをX軸方向における2つの端部のそれぞれに設けることにより、ステージが熱膨張を生じても、これら2つの移動鏡17Xa、17Xbの位置を検出することにより、この検出結果に基づいて基板ステージPSTの熱膨張に起因する位置誤差を補正しつつ精度良い露光処理を行うことができる。同様に、基板ステージPSTのY軸方向における2つの端部のそれぞれに移動鏡を設けることも可能であり、マスクステージMSTのX軸方向及びY軸方向における2つの端部のそれぞれに移動鏡を設けることも可能である。
【0034】
次に、本発明の露光装置の第2実施形態について図8を参照しながら説明する。ここで、以下の説明において、上述した第1実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略もしくは省略する。
図8に示すように、基板ステージPSTのX軸方向(第1の方向)における位置を検出する位置検出装置20は、基板ステージPSTに設けられた移動鏡17Xと、X軸方向において投影光学系PLの光軸AXを挟んで対向する投影光学系PLの外側の2つの位置にそれぞれ設けられた参照鏡22A,22Bと、移動鏡17X及び参照鏡22A,22Bのそれぞれに対してレーザビームを照射し、移動鏡17X及び参照鏡22A,22Bのそれぞれから発生した反射光を干渉するレーザ干渉計18とを備えている。参照鏡22Aは、投影光学系PLの鏡筒PKのうち−X側部分に固定されており、参照鏡22Bは+X側部分に固定されている。参照鏡22Aは参照鏡22Bより下方(−Z方向)に長く形成されており、レーザ干渉計18は基板ステージPSTの+X側に設けられている。レーザ干渉計18の受光部による検出信号は制御装置(算出装置)CONTに出力され、制御装置CONTは、2つの参照鏡22A,22Bそれぞれの位置情報に基づいて、例えば鏡筒PKの中心位置、すなわち、投影光学系PLの光軸AXのXY平面内における位置(基準位置)を求める。
【0035】
以上説明したように、参照鏡を、投影光学系PLの光軸AXを挟んで対向する2つの位置にそれぞれ設けたことにより、温度変化によって参照鏡を固定している部分である鏡筒PKが膨張し、これら参照鏡がX軸方向に移動しても、X軸方向における参照鏡22A,22Bそれぞれの光軸AXに対する移動量は略等しいので、これら2つの移動量に基づいて位置検出のための基準位置、すなわち投影光学系PLの光軸AXのXY平面内における位置を求めることができる。そして、求めた基準位置に基づいて、レーザ干渉計18は基板ステージPSTの位置検出を精度良く行うことができる。
【0036】
更に、図9に示すように、レーザ干渉計18により参照鏡22A,22Bそれぞれの位置変化量ΔXを検出することにより、この検出結果に基づいて制御装置CONTは鏡筒PKの膨張量を求めることができる。そして、求めた鏡筒PKの膨張量に基づいて、この鏡筒PKに取り付けられている焦点位置検出系11の位置を補正することができる。
【0037】
また、図10に示すように、鏡筒PKにアライメント系ALが取り付けられている場合であっても、鏡筒PKの膨張量を検出することによって、鏡筒PKに取り付けられているアライメント系ALの鏡筒PKの線膨張に起因する検出誤差を補正することができる。
【0038】
なお、上記第1,第2実施形態のそれぞれにおいて、図11に示すように、レーザ干渉計の受光部を例えば3つとし、Y軸方向に2つ、及びZ軸方向に2つ並ぶように配置し、これら3つの受光部で参照鏡からの反射光を受光することにより、参照鏡を固定している鏡筒PKのθZ方向(Z軸回り)における回転量、及びθY方向(Y軸回り)における回転量を検出することができる。すなわち、3つの受光部のうち、Y軸方向に2つ並んだ受光部30A,30Bを用い、例えば参照鏡からの反射光が受光部30Aで受光されていたものが、受光部30Bで受光されるようになった場合、参照鏡を固定している鏡筒PKはθZ方向に回転移動している。一方、Z軸方向に2つ並んだ受光部30B,30Cを用い、例えば参照鏡からの反射光が受光部30Bで受光されていたものが、受光部30Cで受光されるようになった場合、参照鏡を固定している鏡筒PKはθY方向に回転移動している。レーザ干渉計は、これら複数の受光部30A〜30Cのうちいずれの受光部で参照鏡からの反射光を受光したかに応じて、鏡筒PKの回転量を求めることができる。
【0039】
なお、上記各実施形態において、参照鏡は投影光学系PLの鏡筒PKに固定されているように説明したが、例えばコラム3等、鏡筒PK以外の部分に取り付けられてもよい。すなわち、参照鏡が例えばX軸方向における位置検出に用いられる場合、この参照鏡は、投影光学系PLの外側の部材・装置であって、線膨張の方向がY軸方向となる部分に設けられればよい。
【0040】
なお、上記各実施形態の露光装置EXとしては、マスクMと感光基板Pとを同期移動してマスクMのパターンを露光する走査型の露光装置にも適用することができるし、マスクMと感光基板Pとを静止した状態でマスクMのパターンを露光し、感光基板Pを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート型の露光装置にも適用することができる。
【0041】
露光装置EXの用途としては半導体製造用の露光装置や、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを露光する液晶用の露光装置に限定されることなく、薄膜磁気ヘッドを製造するための露光装置にも広く適当できる。
【0042】
投影光学系PLとしては、エキシマレーザなどの遠紫外線を用いる場合は硝材として石英や蛍石などの遠紫外線を透過する材料を用い、F2レーザやX線を用いる場合は反射屈折系または屈折系の光学系にし(マスクも反射型タイプのものを用いる)、また、電子線を用いる場合には光学系として電子レンズおよび偏向器からなる電子光学系を用いればいい。なお、電子線が通過する光路は真空状態にすることはいうまでもない。
【0043】
基板ステージPSTやマスクステージPSMSTにリニアモータを用いる場合は、エアベアリングを用いたエア浮上型およびローレンツ力またはリアクタンス力を用いた磁気浮上型のどちらを用いてもいい。また、ステージは、ガイドに沿って移動するタイプでもいいし、ガイドを設けないガイドレスタイプでもよい。
【0044】
ステージの駆動装置として平面モ−タを用いる場合、磁石ユニット(永久磁石)と電機子ユニットのいずれか一方をステージに接続し、磁石ユニットと電機子ユニットの他方をステージの移動面側(ベース)に設ければよい。
【0045】
基板ステージPSTの移動により発生する反力は、特開平8−166475号公報に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床(大地)に逃がしてもよい。本発明は、このような構造を備えた露光装置においても適用可能である。
【0046】
マスクステージMSTの移動により発生する反力は、特開平8−330224号公報に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床(大地)に逃がしてもよい。本発明は、このような構造を備えた露光装置においても適用可能である。
【0047】
以上のように、本実施形態の露光装置EXは、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【0048】
半導体デバイスは、図12に示すように、デバイスの機能・性能設計を行うステップ201、この設計ステップに基づいたマスク(レチクル)を製作するステップ202、デバイスの基材である基板(ウエハ、ガラスプレート)を製造するステップ203、前述した実施形態の露光装置によりマスクMのパターンを感光基板Pに露光する基板処理ステップ204、デバイス組み立てステップ(ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む)205、検査ステップ206等を経て製造される。
【0049】
【発明の効果】
以上説明したように、ステージの第1の方向における位置検出を干渉計を用いて行う際、参照鏡の取り付け位置を、線膨張の方向が、投影光学系の光軸に垂直な平面内で第1の方向と交わる第2の方向となる部分に設定したので、温度変化によって参照鏡を取り付けている部分が移動しても、この移動方向は第2の方向となるので、参照鏡と位置検出のための基準位置との相対位置を大きく変化させることがない。したがって、レーザ干渉計は参照鏡からの反射光を用いてステージの位置検出を精度良く行うことができ、ひいては精度良い露光処理を行うことができる。
【0050】
また、第1の方向において投影光学系の光軸を挟んで対向する2つの位置にそれぞれ参照鏡を設ける構成とすることにより、温度変化によって参照鏡が取り付けられている部分が移動しても、参照鏡それぞれの光軸に対する移動量は略等しいので、これら2つの移動量に基づいて位置検出のための基準位置、すなわち光軸位置を求めることができる。したがって、求めた基準位置に基づいて、干渉計はステージの位置検出を精度良く行うことができるので、露光装置は精度良い露光処理を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の露光装置の第1実施形態を示す概略構成図である。
【図2】図1の概略斜視図である。
【図3】参照鏡を固定している鏡筒をZ軸方向から見た図である。
【図4】図3の変形例を示す図である。
【図5】参照鏡の配置の他の例を示す図である。
【図6】移動鏡の配置の他の例を示す図であって、基板ステージを下方から見上げた図である。
【図7】移動鏡の配置の他の例を示す図である。
【図8】本発明の露光装置の第2実施形態を示す概略図である。
【図9】鏡筒の膨張により焦点位置検出系の位置が移動する様子を示す図である。
【図10】鏡筒の膨張によりアライメント系の位置が移動する様子を示す図である。
【図11】レーザ干渉計の受光部の一例を示す図である。
【図12】半導体デバイスの製造工程の一例を示すフローチャート図である。
【図13】従来の露光装置の一例を示す図である。
【図14】図13の鏡筒部分をZ軸方向から見た図である。
【符号の説明】
7X、17X、21 X移動鏡(移動鏡)
8、18 レーザ干渉計(干渉計)
9A、9B、19A、19B 参照鏡
10 (マスク側)位置検出装置
20 (基板側)位置検出装置
AX 光軸
CONT 制御装置
MST マスクステージ(ステージ)
P 感光基板(被露光物体)
PK 鏡筒
PL 投影光学系
PST 基板ステージ(ステージ)
Claims (10)
- 投影光学系と、被露光物体を載置するとともに前記投影光学系の光軸に垂直な平面内で移動可能なステージと、前記ステージの前記平面内における第1の方向の位置を検出する位置検出装置とを備えた露光装置において、
前記位置検出装置は、前記ステージに設けられた移動鏡と、
前記投影光学系の外側であって、線膨張の方向が前記平面内で前記第1の方向と交わる第2の方向となる部分に設けられた参照鏡と、
前記移動鏡及び前記参照鏡のそれぞれに対して光ビームを照射し、前記移動鏡及び前記参照鏡のそれぞれから発生した光ビームの干渉光を検出する干渉計とを備えることを特徴とする露光装置。 - 前記第1の方向と前記第2の方向とは直交することを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 前記参照鏡は、前記光軸を挟んで対向する2つの位置にそれぞれ設けられていることを特徴とする請求項1又は2記載の露光装置。
- 前記参照鏡は前記投影光学系の鏡筒に固定されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記移動鏡は、前記第1の方向における前記ステージ上の前記被露光物体を挟んだ両側のそれぞれに設けられていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記移動鏡は、前記ステージ裏側のほぼ中心位置に設けられていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項記載の露光装置。
- 投影光学系と、前記投影光学系の光軸に垂直な平面内で移動可能なステージと、前記ステージの前記平面内における第1の方向の位置を検出する位置検出装置とを備えた露光装置において、
前記位置検出装置は、前記ステージに設けられた移動鏡と、
前記第1の方向において前記光軸を挟んで対向する前記投影光学系外側の少なくとも2つの位置にそれぞれ設けられた参照鏡と、
前記移動鏡及び前記参照鏡のそれぞれに対して光ビームを照射し、前記移動鏡及び前記参照鏡のそれぞれから発生した光ビームの干渉光を検出する干渉計とを備えることを特徴とする露光装置。 - 前記少なくとも2つの参照鏡のそれぞれから発生した光ビームを用いて、所定の基準位置を求める算出装置を備えることを特徴とする請求項7記載の露光装置。
- 投影光学系と、前記投影光学系の光軸に垂直な平面内で移動可能なステージと、前記ステージの前記平面内における第1の方向の位置を検出する位置検出装置とを備えた露光装置において、
前記位置検出装置は、前記ステージに設けられた移動鏡と、
前記第1の方向と前記光軸とを結ぶ線上、及び前記第1の方向に交わる第2の方向と前記光軸とを結ぶ線上の、前記投影光学系外側の少なくとも2つの位置にそれぞれ設けられた参照鏡と、
前記移動鏡及び前記参照鏡のそれぞれに対して光ビームを照射し、前記移動鏡及び前記参照鏡のそれぞれから発生した光ビームの干渉光を検出する干渉計とを備えることを特徴とする露光装置。 - 投影光学系と、被露光物体を載置するとともに前記投影光学系の光軸に垂直な平面内で移動可能なステージと、前記ステージの前記平面内における第1の方向の位置を検出する位置検出装置とを備えた露光装置において、
前記位置検出装置は、前記ステージに設けられた移動鏡と、所定の位置に設けられた参照鏡と、前記移動鏡及び前記参照鏡のそれぞれに対して光ビームを照射し、前記移動鏡及び前記参照鏡のそれぞれから発生した光ビームの干渉光を検出する干渉計とを備え、
前記移動鏡は、前記第1の方向における前記ステージ上の前記被露光物体を挟んだ両側、又は前記ステージ裏面のほぼ中央位置に設けられていることを特徴とする露光装置。
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