JP2002252166A - ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法ならびに移動案内方法 - Google Patents

ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法ならびに移動案内方法

Info

Publication number
JP2002252166A
JP2002252166A JP2001052136A JP2001052136A JP2002252166A JP 2002252166 A JP2002252166 A JP 2002252166A JP 2001052136 A JP2001052136 A JP 2001052136A JP 2001052136 A JP2001052136 A JP 2001052136A JP 2002252166 A JP2002252166 A JP 2002252166A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
groove
delivery member
driving body
bearing
exhaust
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001052136A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigeo Sakino
茂夫 崎野
Mitsuru Inoue
充 井上
Tadayuki Kubo
忠之 久保
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2001052136A priority Critical patent/JP2002252166A/ja
Priority to US10/073,594 priority patent/US6644855B2/en
Priority to EP02251344A priority patent/EP1235115B1/en
Priority to DE60234062T priority patent/DE60234062D1/de
Priority to KR10-2002-0010239A priority patent/KR100488400B1/ko
Priority to EP08169249.3A priority patent/EP2037137B1/en
Publication of JP2002252166A publication Critical patent/JP2002252166A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70841—Constructional issues related to vacuum environment, e.g. load-lock chamber
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
    • F16C29/00—Bearings for parts moving only linearly
    • F16C29/02—Sliding-contact bearings
    • F16C29/025—Hydrostatic or aerostatic
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
    • F16C32/00—Bearings not otherwise provided for
    • F16C32/06—Bearings not otherwise provided for with moving member supported by a fluid cushion formed, at least to a large extent, otherwise than by movement of the shaft, e.g. hydrostatic air-cushion bearings
    • F16C32/0603—Bearings not otherwise provided for with moving member supported by a fluid cushion formed, at least to a large extent, otherwise than by movement of the shaft, e.g. hydrostatic air-cushion bearings supported by a gas cushion, e.g. an air cushion
    • F16C32/0614—Bearings not otherwise provided for with moving member supported by a fluid cushion formed, at least to a large extent, otherwise than by movement of the shaft, e.g. hydrostatic air-cushion bearings supported by a gas cushion, e.g. an air cushion the gas being supplied under pressure, e.g. aerostatic bearings
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
    • F16C33/00—Parts of bearings; Special methods for making bearings or parts thereof
    • F16C33/72—Sealings
    • F16C33/74—Sealings of sliding-contact bearings
    • F16C33/741—Sealings of sliding-contact bearings by means of a fluid
    • F16C33/748—Sealings of sliding-contact bearings by means of a fluid flowing to or from the sealing gap, e.g. vacuum seals with differential exhaust
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70716—Stages
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70816—Bearings
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/20—Means for supporting or positioning the object or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • H01L21/682—Mask-wafer alignment
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
    • F16C2300/00—Application independent of particular apparatuses
    • F16C2300/40—Application independent of particular apparatuses related to environment, i.e. operating conditions
    • F16C2300/62—Application independent of particular apparatuses related to environment, i.e. operating conditions low pressure, e.g. elements operating under vacuum conditions

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Magnetic Bearings And Hydrostatic Bearings (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Machine Tool Units (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 移動体への配管による悪影響を軽減する。 【解決手段】 本発明のステージ装置は、第１の方向と
第２の方向に平行な基準面を有する定盤と、該第１の方
向に沿って移動可能な駆動体と、該駆動体に対して該第
２の方向に沿って移動可能な移動体と、該移動体に設け
られた静圧軸受と、該静圧軸受の周囲に設けられた排気
溝と、該移動体と該駆動体との間で該排気溝によって回
収した該静圧軸受の気体を受け渡す機構と、を有するこ
とを特徴とする。この構成のステージ装置によれば、移
動体への配管を軽減することができ、移動体の高精度な
位置決めを図ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子線描画装置、
精密計測器等の非大気雰囲気（特殊雰囲気）中で高速移
動，精密位置決めを行う、あるいは高精度にスキャン移
動するステージ装置及び該装置を用いた露光装置等に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の構成ステージは特表２０００−５
０６９６３に示すように、２本のロッド間に１軸のステ
ージを構成し、さらに前記１軸ステージ間に２本のロッ
ドを渡し、ＸＹ平面内を移動するステージを構成してい
る。また、エアー（ガス）の供給は移動体に可撓性を有
するチューブを結合することにより行い、エアー（ガ
ス）の回収はベローズ及び移動体に結合された可撓性を
有するチューブにより行なっていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来の構
成では、ラジアルタイプの軸受け２本で構成しており、 ラジアルタイプの軸受は全拘束の軸受けであるため、
２本の軸受の平行を保証する必要があり、２本間の組立
・調整が困難である。 温度変化等により軸受け隙間が変化し、制御特性が変
化する或いは軸受け隙間がなくなることにより破損のお
それがある。 ステージの位置によりロッドが変形し、静的な姿勢精
度が劣化する。 Ｘ，Ｙステージ間の６自由度方向全ての振動が連成
し、動的にも姿勢精度が劣化する。 ベローズを使用すると摩擦抵抗が発生し、精度劣化・
発塵等の原因となる。また、定期的にベローズを交換す
る等のメンテナンスが必要である。 等の欠点があった。
【０００４】また、移動体にエアー供給、排気配管がさ
れており、 配管の摩擦抵抗が発生し、姿勢，位置決め精度を劣化
させる。 ステージが移動することにより配管が摩耗し、発塵す
る恐れがある。 ステージが移動することにより配管が摩耗，破損し、
エアーが真空チャンバー内に流れ込むおそれがある。 等の欠点があった。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の課題のいずれかを
解決するための本発明のステージ装置は、第１の方向と
第２の方向に平行な基準面を有する定盤と、該第１の方
向に沿って移動可能な駆動体と、該駆動体に対して該第
２の方向に沿って移動可能な移動体と、該移動体に設け
られた静圧軸受と、該静圧軸受の周囲に設けられた排気
溝と、該移動体と該駆動体との間で該排気溝によって回
収した該静圧軸受の気体を受け渡す機構と、を有するこ
とを特徴とする。
【０００６】また、前記静圧軸受は、前記移動体と前記
定盤との間に設けられているものであって、前記機構
は、前記移動体と前記駆動体との間に設けられた受渡部
材を有することが望ましい。また、前記静圧軸受は、前
記移動体と前記駆動体との間に設けられているものであ
って、前記機構として、排気溝が受渡部材のとしての機
能を兼用することが望ましい。
【０００７】また、前記受渡部材は、長方形の溝を有す
ることが望ましく、前記長方形状は、長手方向が第２方
向と平行であることが良い。
【０００８】また、前記受渡部材と対面して回収口が設
けられていることが望ましい。また、前記受渡部材は前
記移動体に設けられ、前記回収口は前記駆動体に設けら
れていることが良い。または、前記受渡部材は前記駆動
体に設けられ、前記回収口は前記移動体に設けられてい
ることが良い。
【０００９】また、前記受渡部材は、複数の溝を有して
いることが望ましい。また、前記受渡部材の外側の溝
は、内側の溝を囲むように形成されていることが望まし
く、前記受渡部材の外側の溝の圧力は、前記受渡部材の
内側の溝の圧力よりも低く設定されることが好ましい。
【００１０】また、前記静圧軸受の周囲に設けられる排
気溝は、複数の溝を有することが望ましい。また、前記
排気溝のうちの外側の溝は、内側の溝を囲むように形成
されていることが望ましく、前記排気溝のうちの外側の
溝は、前記排気溝のうちの内側の溝の圧力よりも低く設
定されることが好ましい。
【００１１】また、該駆動体と該定盤との間に設けら
れ、該駆動体と該定盤との間で該排気溝によって回収し
た該静圧軸受の気体を受け渡す受渡部材を有することが
望ましい。
【００１２】また、前記駆動体と前記定盤との間に設け
られる受渡部材は、長方形の溝を有することが望まし
い。また、前記長方形状は、長手方向が第１方向と平行
であることが好ましい。
【００１３】また、前記駆動体と前記定盤との間に設け
られる受渡部材は、複数の溝を有していることが望まし
い。また、前記受渡部材の外側の溝は、内側の溝を囲む
ように形成されていることが好ましく、前記受渡部材の
外側の溝の圧力は、前記受渡部材の内側の溝の圧力より
も低く設定されることが好ましい。
【００１４】また、前記排気溝によって回収した静圧軸
受の気体を回収するための真空ポンプを有することが望
ましい。また、前記真空ポンプは、前記移動体と前記駆
動体との間に設けられた受渡部材と、前記駆動体と前記
定盤との間に設けられた受渡部材とを介して、前記静圧
軸受の気体を回収することが望ましい。
【００１５】なお、上記のステージ装置は、真空雰囲気
中で使用されることが望ましい。
【００１６】また、前記第２の方向に沿って移動可能な
駆動体を更に有し、前記移動体は、該第２方向に移動可
能な駆動体に対して第１方向に移動可能であることが望
ましい。
【００１７】上記のいずれかの課題を解決するための本
発明の別のステージ装置は、第１の方向と第２の方向に
平行な基準面を有する定盤と、該第１の方向に沿って移
動可能な第１の駆動体と、該第２の方向に沿って移動可
能な第２の駆動体と、該第１の駆動体に対しては該第２
の方向に、該第２の駆動体に対しては該第１の方向に移
動可能であって、該基準面に沿って移動可能な移動体
と、該第１の駆動体を第１方向に移動可能に支持する第
１のラジアル軸受ユニットと、該第１の駆動体の上下方
向を拘束する第１の平面軸受ユニットと、該第２の駆動
体を第２方向に移動可能に支持する第２のラジアル軸受
ユニットと、該第２の駆動体の上下方向を拘束する第２
の平面軸受ユニットと、を有することを特徴とする。
【００１８】前記第１および第２のラジアル軸受ユニッ
トは、前記定盤に固定された静圧軸受を有することが望
ましい。また、前記第１および第２のラジアル軸受ユニ
ットは、前記静圧軸受の外側に該静圧軸受の気体を回収
する排気溝をさらに有することが好ましい。また、前記
排気溝は、複数設けられていることが良い。
【００１９】また、前記第１および第２の平面軸受ユニ
ットは、前記定盤に固定された静圧軸受を有することが
望ましい。また、前記第１および第２の平面軸受ユニッ
トは、前記静圧軸受の周囲に該静圧軸受の気体を回収す
る排気溝を更に有することが好ましい。また、前記排気
溝は、複数設けられていることが良い。さらに、前記複
数の排気溝のうち、外側の溝は内側の溝を囲むように形
成されていることがよく、前記外側の溝の圧力は、前記
内側の溝の圧力よりも低く設定されていることがよい。
【００２０】なお、上記のステージ装置を備えた露光装
置も本発明の範疇である。そして、前記ステージ装置を
囲むチャンバーを備えていることが望ましく、前記露光
装置は、電子ビーム露光装置であることが望ましい。
【００２１】また、デバイス製造方法や移動案内方法も
本発明の範疇である。
【００２２】
【発明の実施の形態】＜ステージ装置の実施形態＞ ＜第１実施形態＞ （全体構成）図１は、本発明の第１実施形態のステージ
装置の全体概略図である。また、図２は、図１のＡ−
Ａ’断面図である。図３は、図１のＢ−Ｂ’断面図であ
る。
【００２３】同図において、１は、基準面を有する定盤
である。２１１はＸ方向のＸラジアル軸受ユニット、２
１２はＸ方向のＸ平面軸受ユニット、２２１はＹ方向の
Ｙラジアル軸受ユニット、２２２はＹ方向のＹ平面軸受
ユニットであり、これらの構成については後述する。
【００２４】３は、ＸＹ移動体である。ＸＹ移動体３
は、目的物（不図示）を搭載し、Ｘ方向およびＹ方向に
移動可能である。
【００２５】４１は、Ｘ駆動体である。Ｘ駆動体４１
は、Ｘ方向に移動可能である。４１１は、Ｘラジアルガ
イドである。Ｘラジアルガイド４１１は、Ｘ駆動体４１
と一体的に設けられている。Ｘラジアルガイド４１１
は、Ｘラジアル軸受ユニット２１１によって、Ｘ方向に
移動可能に支持されている。４１２は、Ｘ平面ガイドで
ある。Ｘ平面ガイド４１２は、Ｘ駆動体４１と一体的に
設けられている。Ｘ平面ガイド４１２は、Ｘ平面軸受ユ
ニット２１２によって、Ｘ方向に移動可能に支持されて
いる。４２は、Ｙ駆動体である。Ｙ駆動体４２は、Ｙ方
向に移動可能である。４２１は、Ｙラジアルガイドであ
る。Ｙラジアルガイド４２１は、Ｙ駆動体４２と一体的
に設けられている。Ｙラジアルガイド４２１は、Ｙラジ
アル軸受ユニット２２１によって、Ｙ方向に移動可能に
支持されている。４２２は、Ｙ平面ガイドである。Ｙ平
面ガイド４２２は、Ｙ駆動体４２と一体的に設けられて
いる。Ｙ平面ガイド４２２は、Ｙ平面軸受ユニット２２
２によって、Ｙ方向に移動可能に支持されている。
【００２６】５１１および５１２は、Ｘ駆動体４１をＸ
方向に駆動するためのリニアモータである。リニアモー
タ５１１・５１２がＸ方向に駆動力を発生すると、Ｘ駆
動体４１とＸラジアルガイド４１１とＸ平面ガイド４１
２が一体的にＸ方向に駆動され、それと共にＸＹ駆動体
もＸ方向に駆動される。５２１および５２２は、Ｙ駆動
体４２をＹ方向に駆動するためのリニアモータである。
リニアモータ５２１・５２２がＹ方向に駆動力を発生す
ると、Ｙ駆動体４２とＹラジアルガイド４２１とＹ平面
ガイド４２２が一体的にＹ方向に駆動され、それと共に
ＸＹ移動体３もＹ方向に駆動される。２本のリニアモー
タで駆動しているので、ＸＹ移動体３の位置に基づいて
適当に駆動力を調整することにより、ＸＹ移動体３のヨ
ーイング振動の発生を抑制することができる。なお、本
実施形態では、Ｘ駆動体４１およびＹ駆動体４２の駆動
にリニアモータ５１１・５１２が用いられているが、こ
れに限られるものではない。例えば、超音波モータ等の
他の駆動機構を用いても良い。
【００２７】６１１は、Ｘラジアル軸受ユニット２１１
に設けられるＸラジアル静圧軸受である。Ｘラジアル静
圧軸受６１１は、ラジアルガイド４１１をＸ方向に移動
可能に非接触で支持する。６１２は、Ｘ平面軸受ユニッ
ト２１２に設けられるＸ平面静圧軸受である。Ｘ平面静
圧軸受６１２は、平面ガイド４１２をＸ方向に移動可能
に非接触で支持する。６２１は、Ｙラジアル軸受ユニッ
ト２２１に設けられるＹラジアル静圧軸受である。Ｙラ
ジアル静圧軸受６２１は、ラジアルガイド４２１をＹ方
向に移動可能に非接触で支持する。６２２は、Ｙ平面軸
受ユニット２２２に設けられるＹ平面静圧軸受である。
Ｙ平面静圧軸受６２２は、平面ガイド４２２をＹ方向に
移動可能に非接触で支持する。６３１は、ＸＹ移動体３
に設けられるＸＹ静圧軸受である。ＸＹ静圧軸受６３１
は、ＸＹ移動体３をＸＹ方向に移動可能に非接触で定盤
１の基準面上に支持する。６４１は、ＸＹ移動体に設け
られるＹ静圧軸受である。Ｙ静圧軸受６４１は、Ｘ駆動
体４１に設けられたガイド面に対して対面するように設
けられ、ＸＹ移動体をＸ駆動体４１に対してＹ方向に移
動可能に非接触で支持する。なお、Ｘ駆動体４１がＸ方
向に駆動されると、ＸＹ移動体３は、Ｘ駆動体４１から
Ｙ静圧軸受６４１を介してＸ方向の駆動力を受ける。６
５１は、ＸＹ移動体に設けられるＸ静圧軸受である。Ｘ
静圧軸受６５１は、Ｙ駆動体４２に設けられたガイド面
に対して対面するように設けられ、ＸＹ移動体をＹ駆動
体４１に対してＸ方向に移動可能に非接触で支持する。
なお、Ｙ駆動体４２がＹ方向に駆動されると、ＸＹ移動
体３は、Ｙ駆動体４２からＸ静圧軸受６５１を介してＹ
方向の駆動力を受ける。
【００２８】ここで、例えば上記ステージ装置を真空雰
囲気中で使用する場合、静圧軸受から雰囲気中へ使用流
体が漏れ出ると、真空雰囲気の圧力を低く保つことがで
きなくなる。したがって、静圧軸受の流体が、外部に漏
洩するのを極力防ぐ必要がある。そこで、本実施形態の
ステージ装置は、以下のとおり、静圧軸受の流体を回収
するための排気機構を設けることとしている。
【００２９】本実施形態では、静圧軸受を用いているた
め、振動の伝達について、静圧軸受の隙間を介して振動
を抑制することができるので、動的な姿勢精度を良好に
保つことができる。また、静圧軸受は、非接触で摩擦が
ないため、ゴミ・熱の発生がなく、高精度であり、かつ
メンテナンスが容易である。
【００３０】（軸受ユニット構成）図４は、上記Ｘラジ
アル軸受ユニット２１１またはＹラジアル軸受ユニット
２２１の断面図である。
【００３１】同図において、Ｘラジアル静圧軸受６１１
（またはＹラジアル静圧軸受６２１）を含むＸラジアル
軸受ユニット２１１（またはＹラジアル軸受ユニット２
２１）は、定盤１に一体的に固定されている。Ｘラジガ
ルガイド４１１（またはＹラジアルガイド４２１）は、
Ｘラジアル静圧軸受６１１によって、紙面左右方向に移
動可能に支持されている。
【００３２】７１１は、Ｘラジアル軸受ユニット２１１
に設けられた排気溝である。排気溝７１１は、Ｘラジア
ル静圧軸受６１１の外側に設けられ、ラビリンス機構を
形成している。排気溝７１１は、真空ポンプ７２１と連
通している。真空ポンプ７２１は、排気溝７１１とＸラ
ジアルガイド４１１との間の空間内の気体を強制排気す
る。
【００３３】排気溝７１１は、複数設けられており（７
１１Ａ〜７１１Ｃ）、ラビリンス機構を形成している。
真空ポンプ７２１も複数設けてよく（７２１Ａ〜７２１
Ｃ）、それぞれ排気溝と連通する。この場合、排気溝７
１１内の圧力は、外側のものほど低くなるように設定す
る。つまり、内側の排気溝７１１Ａ内の圧力よりも、外
側の排気溝７１１Ｃ内の圧力の方が低くなるよう設定す
る。
【００３４】Ｘラジアル静圧軸受６１１から噴出される
気体は、排気溝７１１と真空ポンプ７２１によって、強
制排気される。これにより、Ｘラジアル静圧軸受６１１
からの気体が、外部に放出されるのを軽減することがで
きる。なお、Ｘラジアル静圧軸受６１１の外側に排気溝
７１１を設けているが、Ｘラジアル静圧軸受６１２の内
側に排気口を設けても良い。この場合、排気口からの排
気は、真空ポンプによるものではなく、大気開放による
ものであっても良い。
【００３５】図５は、上記Ｘ平面軸受ユニット２１２ま
たはＹ平面軸受ユニット２２２の断面図である。また、
図６は、平面軸受ユニットのラビリンス機構の説明図で
ある。
【００３６】同図において、Ｘ平面静圧軸受６１２（ま
たはＹ平面静圧軸受６２２）を含むＸ平面軸受ユニット
２１２（またはＹ平面軸受ユニット２２２）は、定盤１
に一体的に固定されている。Ｘ平面ガイド４１２（また
はＹ平面ガイド４２２）は、Ｘ平面静圧軸受６１２によ
って、紙面左右方向に移動可能に支持されている。
【００３７】７１２は、Ｘ平面軸受ユニット２１２に設
けられた排気溝である。排気溝７１２は、Ｘ平面静圧軸
受６１２の外側に設けられ、ラビリンス機構を形成して
いる。つまり、Ｘ平面静圧軸受６１２を囲むように、長
方形状に排気溝７１２が設けられている。排気溝７１２
は、真空ポンプ７２２と連通している。真空ポンプ７２
２は、排気溝７１２とＸ平面ガイド４１２との間の空間
内の気体を強制排気する。
【００３８】排気溝７１２は、複数設けられており（７
１２Ａ〜７１２Ｃ）、ラビリンス機構を形成している。
真空ポンプ７２２も複数設けてよく（７２２Ａ〜７２２
Ｃ）、それぞれ排気溝と連通する。この場合、排気溝７
１２内の圧力は、外側のものほど低くなるように設定す
る。つまり、内側の排気溝７１２Ａ内の圧力よりも、外
側の排気溝７１２Ｃ内の圧力の方が低くなるよう設定す
る。
【００３９】平面軸受ユニット２２１、２２２は、上下
方向のみの拘束を行うので、ＸＹ方向の拘束はない。し
たがって、Ｘ方向駆動体またはＹ方向駆動体が、温度変
化によって熱変形を起こしても、軸受の隙間は変化しな
い。
【００４０】なお、上記平面軸受ユニット２２１、２２
２の平面静圧軸受６１２、６２２に対して長方形状の排
気溝７１２を設けたのと同様に、ＸＹ静圧軸受６３１、
Ｙ静圧軸受６４１、Ｘ静圧軸受６５１に対しても長方形
状の排気溝を設ける。
【００４１】平面静圧軸受から噴出される気体は、長方
形状の排気溝と真空ポンプとによって、強制排気され
る。これにより、平面静圧軸受からの気体が、外部に放
出されるのを軽減することができる。
【００４２】上記の通り、本実施形態では、Ｘ駆動体４
１またはＹ駆動体は、１つのラジアル軸受ユニットと１
つの平面軸受ユニットとによって案内されるので、温度
変化等が発生しても軸受隙間は変化しない。また、組
立、調整も容易である。加えて、Ｘ駆動体４１とＹ駆動
体４２等の振動が練成せず、動的にも姿勢精度が向上す
る。
【００４３】（ＸＹ移動体−Ｘ駆動体間の排気系受渡
し）図７および図８は、ＸＹ移動体３の排気系の構成の
説明図である。図７は、ＸＺ断面をＹ方向から見た図で
ある。図８は、ＹＺ断面をＸ方向から見た図である。ま
た、図９は、排気系の受渡部材の形状を示す図である。
【００４４】ＸＹ移動体３は、ＸＹ静圧軸受６３１によ
って、定盤１に対して非接触で支持されている。ＸＹ静
圧軸受６３１の周りには、図６と同様に排気溝７１２が
複数設けられている（図８では、省略）。したがって、
排気溝７１２の内部を負圧にし、ＸＹ静圧軸受６３１か
らの気体を回収する機構が必要となる。本実施形態で
は、ＸＹ移動体のＸＹ静圧軸受６３１から噴出した気体
を、排気溝７１２で回収し、Ｘ駆動体４１（またはＹ駆
動体４２）を介して外部に排気することとしている。
【００４５】８１１は、ＸＹ移動体３とＸ駆動体４１と
の間の排気系を受け渡すための受渡部材である。受渡部
材８１１は、ＸＹ移動体３とＸ駆動体４１との間に設け
られる。本実施形態では、受渡部材８１１は、ＸＹ移動
体３側に設けられている。受渡部材８１１は、長方形の
形状をした回収溝８２１を複数有している。受渡機構８
１１の回収溝８２１は、ＸＹ静圧軸受６３１の外周に設
けられている排気溝７１２と連通している。
【００４６】８３１は、回収流路である。回収流路８３
１は、Ｘ駆動体４１（またはＹ駆動体４２）に設けられ
る。受渡部材８１１と対向する位置に設けられる回収口
８４１は、Ｘ駆動体４１側に設けられている。回収流路
８３１は、複数設けられており、また、回収口８４１も
複数設けられている。
【００４７】回収口８４１は、常に受渡部材８１１の回
収溝８２１と対向する必要がある。一方、ＸＹ移動体３
はＸ移動体４１に対してＹ方向に移動する。したがっ
て、受渡部材８１１の回収溝８２１は、Ｙ方向が長手方
向である長方形形状の溝となる。
【００４８】Ｘ駆動体４１に設けられた回収流路８３１
は、負圧とされる（後述）。したがって、回収口８４１
を介して、受渡部材８１１の回収溝８２１内の気体は吸
引され、受渡機構８１１の回収溝８２１内も負圧とな
る。受渡部材８１１の回収溝８２１内が負圧となると、
回収溝８２１と排気溝７１２とが連通しているので、排
気溝７１２内も負圧となる。これにより、静圧軸受６３
１から噴出した気体は、排気溝７１２によって吸引さ
れ、受渡部材８１１と回収口８４１とによってＸＹ移動
体３とＸ駆動体４１との間で非接触に受け渡され、Ｘ駆
動体４１を介して外部に排出される。
【００４９】なお、前述した通り、排気溝７１２内の圧
力は、外側ほど圧力が低くなっている。同様に、受渡部
材８１１に複数設けられた回収溝８２１内の圧力は、外
側ほど圧力を低くするのが良い。外部に回収した気体が
漏れないようにするためである。したがって、排気溝７
１２のうちの内側の溝は、受渡部材８１１の回収溝８２
１のうちの内側の溝と連通している。また、排気溝７１
２のうちの外側の溝は、受渡部材８１１の回収溝８２１
のうちの外側の溝と連通している。
【００５０】本実施形態では、長方形状の溝を有する受
渡部材８１１をＸＹ移動体３側に設け、受渡部材８１１
に対面する回収口８４１をＸ駆動体４１（またはＹ駆動
体４２）側に設けているが、これに限られるものではな
い。例えば、図１０に示すように、受渡部材８１１をＸ
駆動体４１（またはＹ駆動体４２）側に設け、受渡部材
８１１に対面する回収口８４１をＸＹ移動体３側に設け
ても良い。
【００５１】なお、上記のＸＹ移動体３とＸ駆動体４１
との間の排気系受渡しの構成は、ＸＹ移動体３とＹ駆動
体４２との間の排気系受渡しの構成にも同様に適用する
ことができる。
【００５２】（Ｘ駆動体−定盤間の排気系受渡し）図１
１は、Ｘ駆動体４１と定盤１との間の排気系の受け渡し
の構成の説明図である。図１１は、ＹＺ断面をＸ方向か
ら見た図である。
【００５３】Ｘ駆動体４１は、前述の通り、Ｘ方向に移
動可能である。Ｘ駆動体内部には、前述の通り、ＸＹ静
圧軸受からの気体を回収するための回収流路８３１が設
けられている。
【００５４】８１２は、Ｘ駆動体４１と定盤１との間の
排気系を受け渡すための受渡部材である。受渡部材８１
２は、Ｘ駆動体４１と定盤１との間に設けられる。本実
施形態では、受渡部材８１２は、Ｘ駆動体４１側に設け
られている。受渡部材８１２の回収溝８２２は、Ｘ駆動
体内部に設けられた回収流路８３１と連通している。
【００５５】８３２は、定盤１に設けられた回収流路で
ある。受渡部材８１２と対向する位置に設けられる回収
口８４２は、定盤１側に設けられている。回収流路８３
２は、複数設けられており、また、回収口８４２も複数
設けられている。
【００５６】回収口８４２は、常に受渡部材８１２の回
収溝８２２と対向する必要がある。一方、Ｘ移動体４１
は、定盤１に対してＸ方向に移動する。したがって、受
渡部材８１２の回収溝８２２は、Ｘ方向が長手方向であ
る長方形形状の溝となる。
【００５７】定盤１に設けられた回収流路８３２は、真
空ポンプ８５２につながっている。真空ポンプ８５２
は、回収流路８３２中の気体を吸引し、回収流路８３２
を負圧とする。回数流路８３２とつながる回収口８４２
を介して、受渡部材８１２の回収溝８２２内の気体は吸
引され、受渡機構８１２の回収溝８２２内も負圧とな
る。受渡部材８１２の回収溝８２２内が負圧となると、
回収溝８２２とＸ駆動体４１の回収流路８３１とが連通
しているので、回収流路８３１も負圧となる。回収流路
８３１が負圧となるとの前述の記載は、このためであ
る。
【００５８】よって、ＸＹ移動体３の静圧軸受６３１か
ら噴出した気体は、Ｘ駆動体４１を介して、受渡部材８
１２と回収口８４２とによってＸ駆動体４１と定盤１と
の間で非接触で受け渡され、外部に排出される。
【００５９】なお、前述した通り、複数の回収流路８３
１の圧力は、異なっている。このようにするためには、
受渡部材８１２に複数設けられた回収溝８２２内の圧力
は、外側ほど圧力を低くするのが良い。外部に回収した
気体が漏れないようにするためである。したがって、受
渡部材８１２の回収溝８２２のうちの内側の溝は、ＸＹ
移動体３に設けられた受渡部材８１１の回収溝８２１の
うちの内側の溝と対面する回収口８４１と連通してい
る。また、受渡部材８１２の回収溝８２２のうちの外側
の溝は、ＸＹ移動体３に設けられた受渡部材８１１の回
収溝８２１のうちの内側の溝と対面する回収口８４１と
連通している。なお、受渡部材８１２のうちの外側の溝
と対面する回収口８４２とつながる真空ポンプ８５２
は、受渡部材８１２のうちの内側の溝と対面する回収口
８４２とつながる真空ポンプ８５２よりも、低い圧力を
作用させる。
【００６０】本実施形態では、長方形状の溝を有する受
渡部材８１２をＸ駆動体４１側に設け、受渡部材８１２
に対面する回収口８４２を定盤１側に設けているが、こ
れに限られるものではない。例えば、受渡部材８１２を
定盤１側に設け、受渡部材８１２に対面する回収口８４
２をＸ駆動体４１側に設けても良い。
【００６１】なお、上記のＸ駆動体４１と定盤１との間
の排気系受渡しの構成は、Ｙ駆動体４２と定盤１との間
の排気系受渡しの構成にも同様に適用することができ
る。
【００６２】本実施形態によれば、ＸＹ移動体への配管
数を減らすことができる。したがって、配管の摩擦や抵
抗によるＸＹ移動体の位置決め精度の劣化を抑えること
ができる。また、配管を減らすことができるので、配管
からの漏れ等の防止をすることができる。
【００６３】＜第２実施形態＞ （排気系受渡し）図１２および図１３は、本発明の第２
実施形態のステージ装置の説明図である。図１２は、Ｘ
Ｙ移動体３とＸ駆動体４１（またはＹ駆動体４２）間の
排気系受渡しの説明図であって、ＸＺ断面をＹ方向から
見た図である。図１３は、Ｘ駆動体４１（またはＹ駆動
体４２）と定盤１間の排気系受渡しの説明図であって、
ＹＺ断面をＸ方向から見た図である。本実施系では、ス
テージ装置の全体構成は、前述の実施形態とほぼ同様の
ため、同じ構成要素に関しては、同じ符号を付してお
り、説明は省略する。
【００６４】前述の実施形態では、ＸＹ移動体３と定盤
１との間の静圧軸受からの気体を回収していた。しか
し、本発明は、これに限られるものではなく、他の構成
でも配管を減らすことができる。本実施形態では、ＸＹ
移動体とＸ駆動体との間の静圧軸受からの気体を回収す
る機構を示す。
【００６５】６４（または６５）は、ＸＹ移動体とＸ駆
動体（またはＹ駆動体）との間に設けられている静圧軸
受である（前述の実施形態の６４１（または６５１）に
相当）。静圧軸受６４は、気体を噴出し、Ｘ駆動体とＸ
Ｙ移動体との間を非接触に保ち、ＸＹ移動体をＸ駆動体
に対してＹ方向に移動可能に支持する。そして、Ｘ駆動
体４１がＸ方向に駆動されると、静圧軸受６４が形成す
る空気膜を介して、ＸＹ移動体にＸ方向の力が付与され
る。
【００６６】静圧軸受６４の周囲には、前述の実施形態
の静圧軸受６３と同様に、排気溝が複数設けられてい
る。本実施形態では、排気溝７１２が、前述の受渡し部
材の回収溝の機能を兼用することになる。排気溝７１２
は、長手方向がＹ方向である長方形の形状をした溝とな
っている。
【００６７】回収流路８３１は、前述の実施形態と同様
にＸ駆動体に設けられている。回収口８４１は、排気溝
７１２と対向する位置に設けられている。回収流路８３
１と回収口８４１の内部が負圧となると、排気溝７１２
の内部が吸引され、排気溝７１２の内部が負圧となる。
したがって、静圧軸受６３からの気体は、回収口８４
１、回収流路８３１を介して、Ｘ駆動体に設けられた受
渡部材８１１と定盤に設けられた回収口８４２とを通じ
て、真空ポンプ８５２によって排気される（図１３）。
【００６８】本実施形態によれば、静圧軸受６４からの
気体の回収のためのＸＹ移動体３への配管を減らすこと
ができる。したがって、例え、静圧軸受６３からの気体
の回収のためにＸＹ移動体３へ直接的に配管を行ったと
しても（図１２）、静圧軸受６４の排気に関しては、配
管数を減らすことができている。
【００６９】＜露光装置の実施形態＞図１４は、上記の
実施形態のステージ装置を用いた電子ビーム露光装置の
概略図を示している。
【００７０】同図において、ウエハを搭載して位置決め
を行うため、上記の実施形態のステージ装置が設けられ
ている。定盤１は、ダンパ１０９３により、床から除振
されている。ダンパ１０９３は、受動的でも能動的でも
よい。ダンパ１０９３は、例えば、エアばね等を有し、
能動的なダンパの場合は、さらにアクチュエータを有す
る。ＸＹ移動体３は、レーザ干渉計１０９４により位置
計測され、この位置計測結果に基づいて所定の位置に位
置決めされる。
【００７１】１０９５は、電子ビーム露光装置の電子光
学系である。電子光学系１０９５は、電子ビーム照射装
置と、電子レンズとを有する。電子光学系１０９５は、
鏡筒定盤１０９６に支持されている。鏡筒定盤１０９６
は、ダンパ１０９３に支持され、床から除振されてい
る。鏡筒定盤を支持するダンパも、上述のダンパと同
様、受動的でも能動的でもよい。ＸＹ移動体３の位置を
計測する上記のレーザ干渉計１０９４は、鏡筒定盤１０
９６に設けられている。これにより、ＸＹ移動体３は、
鏡筒定盤を基準として、すなわち、電子光学系１０９５
を基準として、位置決めされる。
【００７２】１０９７は、所定の領域を密閉するチャン
バーである。ここで、所定の領域については、後述の説
明から明らかになる。１０９８は、密閉性を保持し、物
体間の相対変位を許容するベローズである。ベローズ１
０９８は、チャンバー１０９７と電子光学系１０９５と
の間、チャンバー１０９７と鏡筒定盤１０９６との間、
およびチャンバー１０９７と定盤１との間に設けられて
いる。これにより、チャンバー内の雰囲気Ａは、密閉さ
れている。１０９９は、真空ポンプである。真空ポンプ
１０９９が作動し、チャンバー内の雰囲気Ａにある気体
が排出され、真空雰囲気となる。ここで、真空雰囲気と
は、厳密な真空までをも要求するものではなく、高い減
圧雰囲気であれば良いことは、上述したとおりである。
【００７３】真空ポンプによってチャンバー１０９７内
の雰囲気Ａが真空雰囲気となると、チャンバーの内外で
圧力差が生じるため、チャンバー１０９７が変形する。
一方、チャンバー１０９７と電子光学系１０９５との間
にはベローズ１０９８が設けられており、ベローズ１０
９８は、密閉を保持しつつ両者の相対変位を許容してい
る。これにより、チャンバーの変形の影響が電子光学系
１０９５に伝わるのを軽減している。同様に、チャンバ
ー１０９７と鏡筒定盤１０９６との間もベローズ１０９
８が設けられており、チャンバーの変形の影響が鏡筒定
盤１０９６に伝わるのを軽減し、電子光学系にチャンバ
ーの変形の影響を与えないようにしている。
【００７４】上記の構成の露光装置により、ステージ装
置周辺の雰囲気は、真空雰囲気となる。そして、ステー
ジ装置に用いられている静圧軸受付近の周りも真空雰囲
気となる。静圧軸受の周囲が真空雰囲気の場合、静圧軸
受に用いる流体を雰囲気中に漏洩するのを防ぐ必要があ
る。本実施形態の電子ビーム露光装置は、ステージ装置
として上記の実施形態で説明したステージ装置を用いて
いるので、静圧軸受からの気体が真空雰囲気中に漏れ出
るのを軽減することができる。
【００７５】なお、本実施形態では、電子ビーム露光装
置に前述の実施形態のステージ装置を適用した例を用い
て説明したが、これに限られるものではない。特にステ
ージ装置周辺の雰囲気が真空雰囲気とする必要のある露
光装置に前述の実施形態のステージ装置を適用すること
が望ましい。したがって、例えば、ＥＵＶ露光装置に前
述の実施形態のステージ装置を適用しても良い。
【００７６】＜デバイス生産方法の実施形態＞次に上記
説明した電子ビーム露光装置を利用したデバイスの生産
方法の実施例を説明する。
【００７７】図１５は、微小デバイス（ＩＣやＬＳＩ等
の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッ
ド、マイクロマシン等）の製造のフローを示す。ステッ
プ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行な
う。ステップ２（露光制御データ作成）では設計した回
路パターンに基づいて露光装置の露光制御データを作成
する。一方、ステップ３（ウエハ製造）ではシリコン等
の材料を用いてウエハを製造する。ステップ４（ウエハ
プロセス）は前工程と呼ばれ、上記用意した露光制御デ
ータが入力された露光装置とウエハを用いて、リソグラ
フィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次
のステップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ
４によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化す
る工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンデ
ィング）、パッケージング工程（チップ封入）等の工程
を含む。ステップ６（検査）ではステップ５で作製され
た半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の
検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバイスが完
成し、これが出荷（ステップ７）される。
【００７８】図１６は上記ウエハプロセスの詳細なフロ
ーを示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸
化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶
縁膜を形成する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ
上に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオ
ン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１
５（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ス
テップ１６（露光）では上記説明した露光装置によって
回路パターンをウエハに焼付露光する。ステップ１７
（現像）では露光したウエハを現像する。ステップ１８
（エッチング）では現像したレジスト像以外の部分を削
り取る。ステップ１９（レジスト剥離）ではエッチング
が済んで不要となったレジストを取り除く。これらのス
テップを繰り返し行なうことによって、ウエハ上に多重
に回路パターンが形成される。
【００７９】本実施形態の製造方法を用いれば、従来は
製造が難しかった高集積度の半導体デバイスを低コスト
に製造することができる。
【００８０】
【発明の効果】本発明の請求項１に記載のステージ装置
によれば、移動体への配管を軽減することができる。こ
れにより、移動体の位置決め精度を向上させることがで
きる。
【００８１】本発明の請求項１１に記載のステージ装置
によれば、静圧軸受の気体が外部に漏れ出ることを軽減
することができる。
【００８２】本発明の請求項１５に記載のステージ装置
によれば、駆動体への配管を軽減することができる。こ
れにより、駆動体の位置決め精度を向上させることがで
き、ひいては、移動体の位置決め精度を向上させること
ができる。
【００８３】本発明の請求項２０に記載のステージ装置
によれば、静圧軸受の気体が外部に漏れ出ることを軽減
することができる。
【００８４】本発明の請求項２５に記載のステージ装置
によれば、軸受隙間の変化を軽減させることができ、ま
たは、組立・調整が容易である。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１実施形態のステージ装置の実施形態の全体
外略図
【図２】図１のＡ−Ａ’断面図
【図３】図１のＢ−Ｂ’断面図
【図４】ラジアル軸受ユニットの断面図
【図５】平面軸受ユニットの断面図
【図６】静圧軸受のラビリンス機構の説明図
【図７】ＸＹ移動体−Ｘ駆動体間の排気系受渡し説明図
（ＸＺ断面）
【図８】ＸＹ移動体−Ｘ駆動体間の排気系受渡し説明図
（ＹＺ断面）
【図９】受渡し部材の形状の説明図
【図１０】ＸＹ移動体−Ｘ駆動体間の排気系受渡しの別
の例の説明図
【図１１】Ｘ駆動体−定盤間の排気系受渡し説明図
【図１２】第２実施形態のＸＹ移動体−Ｘ駆動体間の排
気系受渡しの説明図（ＸＺ断面図）
【図１３】第２実施形態のＸ駆動体−定盤間の排気系受
渡しの説明図（ＹＺ断面図）
【図１４】電子ビーム露光装置の実施形態の概略図
【図１５】デバイス製造フロー図
【図１６】ウエハプロセスフロー図
【符号の説明】
１ 定盤 ２１１ Ｘラジアル軸受ユニット ２１２ Ｘ平面軸受ユニット ２２１ Ｙラジアル軸受ユニット ２２２ Ｙ平面軸受ユニット ３ ＸＹ移動体 ４１ Ｘ駆動体 ４１１ Ｘラジアルガイド ４１２ Ｘ平面ガイド ４２ Ｙ駆動体 ４２１ Ｙラジアルガイド ４２２ Ｙ平面ガイド ５１１、５１２ Ｘ方向駆動用リニアモータ ５２１、５２２ Ｙ方向駆動用リニアモータ ６１１ Ｘラジアル静圧軸受 ６１２ Ｘ平面静圧軸受 ６２１ Ｙラジアル静圧軸受 ６２２ Ｙ平面静圧軸受 ６３１ ＸＹ静圧軸受 ６４１ Ｙ静圧軸受 ６５１ Ｘ静圧軸受 ７１１ 排気溝（ラジアル） ７１２ 排気溝（平面） ７２１ 真空ポンプ（ラジアル） ７２２ 真空ポンプ（平面） ７３１ 排気溝 ８１１ 受渡部材（ＸＹ移動体−Ｘ駆動体間） ８１２ 受渡部材（Ｘ駆動体−定盤間） ８２１ 回収溝（受渡部材８１１） ８２２ 回収溝（受渡部材８１２） ８３１ 回収流路（Ｘ駆動体内部） ８３２ 回収流路（定盤内部） ８４１ 回収口（Ｘ駆動体） ８４２ 回収口（定盤） ８５２ 真空ポンプ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 久保 忠之 東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノ ン株式会社内 Ｆターム(参考） 2F078 CA02 CA08 CB12 CB14 CB15 CC02 CC11 5F031 CA02 KA06 LA02 MA27 NA05 NA14 PA06 PA26 5F046 CC01 CC02 CC18 GA11 GA12 5F056 CB21 CC05 EA14

Claims (43)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 第１の方向と第２の方向に平行な基準面
    を有する定盤と、 該第１の方向に沿って移動可能な駆動体と、 該駆動体に対して該第２の方向に沿って移動可能な移動
    体と、 該移動体に設けられた静圧軸受と、 該静圧軸受の周囲に設けられた排気溝と、 該移動体と該駆動体との間で該排気溝によって回収した
    該静圧軸受の気体を受け渡す機構と、を有することを特
    徴とするステージ装置。
  2. 【請求項２】 前記静圧軸受は、前記移動体と前記定盤
    との間に設けられているものであって、 前記機構は、前記移動体と前記駆動体との間に設けられ
    た受渡部材を有することを特徴とする請求項１に記載の
    ステージ装置。
  3. 【請求項３】 前記静圧軸受は、前記移動体と前記駆動
    体との間に設けられているものであって、 前記機構として、排気溝が受渡部材のとしての機能を兼
    用することを特徴とする請求項１に記載のステージ装
    置。
  4. 【請求項４】 前記受渡部材は、長方形の溝を有するこ
    とを特徴とする請求項２または３に記載のステージ装
    置。
  5. 【請求項５】 前記長方形状は、長手方向が第２方向と
    平行であることを特徴とする請求項４に記載のステージ
    装置。
  6. 【請求項６】 前記受渡部材と対面して回収口が設けら
    れていることを特徴とする請求項２または３に記載のス
    テージ装置。
  7. 【請求項７】 前記受渡部材は前記移動体に設けられ、
    前記回収口は前記駆動体に設けられていることを特徴と
    する請求項６に記載のステージ装置。
  8. 【請求項８】 前記受渡部材は前記駆動体に設けられ、
    前記回収口は前記移動体に設けられていることを特徴と
    する請求項６に記載のステージ装置。
  9. 【請求項９】 前記受渡部材は、複数の溝を有している
    ことを特徴とする請求項２または３に記載のステージ装
    置。
  10. 【請求項１０】 前記受渡部材の外側の溝は、内側の溝
    を囲むように形成されていることを特徴とする請求項２
    または３に記載のステージ装置。
  11. 【請求項１１】 前記受渡部材の外側の溝の圧力は、前
    記受渡部材の内側の溝の圧力よりも低く設定されること
    を特徴とする請求項１０に記載のステージ装置。
  12. 【請求項１２】 前記静圧軸受の周囲に設けられる排気
    溝は、複数の溝を有することを特徴とする請求項１０ま
    たは１１に記載のステージ装置。
  13. 【請求項１３】 前記排気溝のうちの外側の溝は、内側
    の溝を囲むように形成されていることを特徴とする請求
    項１２に記載のステージ装置。
  14. 【請求項１４】 前記排気溝のうちの外側の溝は、前記
    排気溝のうちの内側の溝の圧力よりも低く設定されるこ
    とを特徴とする請求項１３に記載のステージ装置。
  15. 【請求項１５】 該駆動体と該定盤との間に設けられ、
    該駆動体と該定盤との間で該排気溝によって回収した該
    静圧軸受の気体を受け渡す受渡部材を有することを特徴
    とする請求項１〜１４いずれかに記載のステージ装置。
  16. 【請求項１６】 前記駆動体と前記定盤との間に設けら
    れる受渡部材は、長方形の溝を有することを特徴とする
    請求項１５に記載のステージ装置。
  17. 【請求項１７】 前記長方形状は、長手方向が第１方向
    と平行であることを特徴とする請求項１６に記載のステ
    ージ装置。
  18. 【請求項１８】 前記駆動体と前記定盤との間に設けら
    れる受渡部材は、複数の溝を有していることを特徴とす
    る請求項１５〜１７いずれかに記載のステージ装置。
  19. 【請求項１９】 前記受渡部材の外側の溝は、内側の溝
    を囲むように形成されていることを特徴とする請求項１
    ８に記載のステージ装置。
  20. 【請求項２０】 前記受渡部材の外側の溝の圧力は、前
    記受渡部材の内側の溝の圧力よりも低く設定されること
    を特徴とする請求項１９に記載のステージ装置。
  21. 【請求項２１】 前記排気溝によって回収した静圧軸受
    の気体を回収するための真空ポンプを有することを特徴
    とする請求項１５〜２０いずれかに記載のステージ装
    置。
  22. 【請求項２２】 前記真空ポンプは、前記移動体と前記
    駆動体との間に設けられた受渡部材と、前記駆動体と前
    記定盤との間に設けられた受渡部材とを介して、前記静
    圧軸受の気体を回収することを特徴とする請求項２１に
    記載のステージ装置。
  23. 【請求項２３】 真空雰囲気中で使用されることを特徴
    とする請求項１〜２２いずれかに記載のステージ装置。
  24. 【請求項２４】 前記第２の方向に沿って移動可能な駆
    動体を更に有し、前記移動体は、該第２方向に移動可能
    な駆動体に対して第１方向に移動可能であることを特徴
    とする請求項１〜２３いずれかに記載のステージ装置。
  25. 【請求項２５】 第１の方向と第２の方向に平行な基準
    面を有する定盤と、 該第１の方向に沿って移動可能な第１の駆動体と、 該第２の方向に沿って移動可能な第２の駆動体と、 該第１の駆動体に対しては該第２の方向に、該第２の駆
    動体に対しては該第１の方向に移動可能であって、該基
    準面に沿って移動可能な移動体と、 該第１の駆動体を第１方向に移動可能に支持する第１の
    ラジアル軸受ユニットと、 該第１の駆動体の上下方向を拘束する第１の平面軸受ユ
    ニットと、 該第２の駆動体を第２方向に移動可能に支持する第２の
    ラジアル軸受ユニットと、 該第２の駆動体の上下方向を拘束する第２の平面軸受ユ
    ニットと、を有することを特徴とするステージ装置。
  26. 【請求項２６】 前記第１および第２のラジアル軸受ユ
    ニットは、前記定盤に固定された静圧軸受を有すること
    を特徴とする請求項２５に記載のステージ装置。
  27. 【請求項２７】 前記第１および第２のラジアル軸受ユ
    ニットは、前記静圧軸受の外側に該静圧軸受の気体を回
    収する排気溝をさらに有することを特徴とする請求項２
    ６に記載のステージ装置。
  28. 【請求項２８】 前記排気溝は、複数設けられているこ
    とを特徴とする請求項２７に記載のステージ装置。
  29. 【請求項２９】 前記第１および第２の平面軸受ユニッ
    トは、前記定盤に固定された静圧軸受を有することを特
    徴とする請求項２５に記載のステージ装置。
  30. 【請求項３０】 前記第１および第２の平面軸受ユニッ
    トは、前記静圧軸受の周囲に該静圧軸受の気体を回収す
    る排気溝を更に有することを特徴とする請求項２９に記
    載のステージ装置。
  31. 【請求項３１】 前記排気溝は、複数設けられているこ
    とを特徴とする請求項３０に記載のステージ装置。
  32. 【請求項３２】 前記複数の排気溝のうち、外側の溝は
    内側の溝を囲むように形成されていることを特徴とする
    請求項３１に記載のステージ装置。
  33. 【請求項３３】 前記外側の溝の圧力は、前記内側の溝
    の圧力よりも低く設定されていることを特徴とする請求
    項３２に記載のステージ装置。
  34. 【請求項３４】 請求項１〜３３いずれかに記載のステ
    ージ装置を備えたことを特徴とする露光装置。
  35. 【請求項３５】 前記ステージ装置を囲むチャンバーを
    備えていることを特徴とする請求項３４に記載の露光装
    置。
  36. 【請求項３６】 前記露光装置は、電子ビーム露光装置
    またはＥＵＶ露光装置であることを特徴とする請求項３
    ４または３５に記載の露光装置。
  37. 【請求項３７】 基板に感光剤を塗布する工程と請求項
    ３４〜３６いずれかに記載の露光装置を用いて、該基板
    を露光する工程と、 該露光した基板を現像する工程とを有することを特徴と
    するデバイス製造方法。
  38. 【請求項３８】 定盤に設けられた回収流路を負圧にす
    る工程と、 第１の方向に移動可能な駆動体と該定盤との間に設けら
    れた受渡部材の溝を負圧にする工程と、 該駆動体に設けられた回収流路を負圧にする工程と、 該駆動体に対して第２の方向に移動可能な移動体と該駆
    動体との間に設けられた受渡部材の溝を負圧にする工程
    と、 該移動体に設けられた静圧軸受の周りの排気溝を負圧に
    する工程とを有することを特徴とする移動案内方法。
  39. 【請求項３９】 前記駆動体と定盤との間に設けられた
    受渡部材は、複数の溝を有し、外側の溝は内側の溝を囲
    むように形成されており、 該外側の溝を内側の溝よりも低い圧力にする工程を更に
    有することを特徴とする請求項３８に記載の移動案内方
    法。
  40. 【請求項４０】 前記移動体と駆動体との間に設けられ
    た受渡部材は、複数の溝を有し、外側の溝は内側の溝を
    囲むように形成されており、 該外側の溝を内側の溝よりも低い圧力にする工程を更に
    有することを特徴とする請求項３８または３９に記載の
    移動案内方法。
  41. 【請求項４１】 移動体に設けられた静圧軸受からの気
    体を、該静圧軸受の周りに設けられた排気溝によって回
    収する工程と、 該移動体を第１方向に駆動する駆動体と該移動体との間
    に設けられた受渡部材を介して、該排気溝によって回収
    した静圧軸受からの気体を該駆動体に受け渡す工程と、 該駆動体に設けられた回収流路に該回収した気体を流す
    工程と、 該駆動体と定盤との間に設けられた受渡部材を介して、
    該回収した気体を定盤に受け渡す工程と、 該定盤に設けられた回収流路を介して、回収した気体を
    排気する工程と、を有することを特徴とする移動案内方
    法。
  42. 【請求項４２】 前記駆動体と定盤との間に設けられた
    受渡部材は、複数の溝を有し、外側の溝は内側の溝を囲
    むように形成されており、 該外側の溝を内側の溝よりも低い圧力にする工程を更に
    有することを特徴とする請求項４１に記載の移動案内方
    法。
  43. 【請求項４３】 前記移動体と駆動体との間に設けられ
    た受渡部材は、複数の溝を有し、外側の溝は内側の溝を
    囲むように形成されており、 該外側の溝を内側の溝よりも低い圧力にする工程を更に
    有することを特徴とする請求項４１または４２に記載の
    移動案内方法。
JP2001052136A 2001-02-27 2001-02-27 ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法ならびに移動案内方法 Pending JP2002252166A (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001052136A JP2002252166A (ja) 2001-02-27 2001-02-27 ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法ならびに移動案内方法
US10/073,594 US6644855B2 (en) 2001-02-27 2002-02-12 Stage device, exposure apparatus, device manufacturing method and movement guidance method
EP02251344A EP1235115B1 (en) 2001-02-27 2002-02-26 Stage device and movement guidance method
DE60234062T DE60234062D1 (de) 2001-02-27 2002-02-26 Trägerplattevorrichtung und Verfahren zur Bewegungsführung
KR10-2002-0010239A KR100488400B1 (ko) 2001-02-27 2002-02-26 스테이지장치, 노광장치 및 디바이스제조방법과이동안내방법
EP08169249.3A EP2037137B1 (en) 2001-02-27 2002-02-26 Stage device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001052136A JP2002252166A (ja) 2001-02-27 2001-02-27 ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法ならびに移動案内方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002252166A true JP2002252166A (ja) 2002-09-06

Family

ID=18912814

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001052136A Pending JP2002252166A (ja) 2001-02-27 2001-02-27 ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法ならびに移動案内方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US6644855B2 (ja)
EP (2) EP2037137B1 (ja)
JP (1) JP2002252166A (ja)
KR (1) KR100488400B1 (ja)
DE (1) DE60234062D1 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004349289A (ja) * 2003-05-20 2004-12-09 Canon Inc 移動案内装置及びそれを用いた露光装置
US7030964B2 (en) 2003-06-10 2006-04-18 Canon Kabushiki Kaisha Stage system, exposure apparatus, and device manufacturing method
WO2011104806A1 (ja) * 2010-02-23 2011-09-01 株式会社アドバンテスト ステージ装置
WO2024190524A1 (ja) * 2023-03-13 2024-09-19 住友重機械工業株式会社 気体圧駆動装置、位置決め装置、処理装置、デバイス製造方法

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4012024B2 (ja) * 2002-09-10 2007-11-21 キヤノン株式会社 位置決め装置に於ける衝撃吸収装置
JP4763228B2 (ja) * 2003-05-23 2011-08-31 キヤノン株式会社 電子ビーム露光装置用ステージ装置、位置決め方法、電子ビーム露光装置及びデバイス製造方法
JP3781421B2 (ja) * 2003-07-23 2006-05-31 キヤノン株式会社 位置決め方法および位置決め本体装置
JP2005155658A (ja) * 2003-11-20 2005-06-16 Canon Inc 静圧気体軸受装置およびそれを用いたステージ装置
JP2006038067A (ja) * 2004-07-26 2006-02-09 Fanuc Ltd 軸受構造及び直線駆動装置
JP3919782B2 (ja) * 2004-10-08 2007-05-30 キヤノン株式会社 露光装置及びデバイス製造方法
JP4594031B2 (ja) * 2004-10-18 2010-12-08 大日本スクリーン製造株式会社 基板保持装置
DE102008019681B4 (de) 2008-04-11 2013-10-17 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Mittels aerostatischer Lagerelemente geführter Tisch für Vakuumanwendung
CN100560294C (zh) * 2008-07-03 2009-11-18 厦门大学 磨床的拼块式薄膜节流静压导轨结构
DE102008046636B4 (de) 2008-09-09 2014-04-03 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Aerostatische Lageranordnung mit zugeordneter elektrostatischer Vorspanneinheit, insbesondere für die Vakuumanwendung
DE102008058306B4 (de) 2008-11-17 2012-03-08 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Aerostatisch geführtes Tischsystem für die Vakuumanwendung
US20120064460A1 (en) * 2010-09-07 2012-03-15 Nikon Corporation Movable body apparatus, object processing device, exposure apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method
TWI463125B (zh) * 2011-12-23 2014-12-01 Stone & Resource Ind R & D Ct Membrane Rigidity Testing Platform for Air Floating Plane Bearing and Its Application
CN114607701A (zh) * 2015-03-31 2022-06-10 住友重机械工业株式会社 致动器
JP6382251B2 (ja) * 2016-04-01 2018-08-29 株式会社ミツトヨ エアベアリング
JP7210234B2 (ja) * 2018-11-14 2023-01-23 株式会社ミツトヨ エアベアリング
EP3954497A1 (en) 2020-08-11 2022-02-16 Patrick Meunier High accuracy sliding assembly for a manufacturing machine, and manufacturing machine comprising at least one such assembly
KR102511566B1 (ko) * 2022-02-16 2023-03-17 주식회사 큐리오시스 결로 방지를 위한 벤트 구조가 있는 스테이지 조립체

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0569256A (ja) * 1991-09-12 1993-03-23 Minolta Camera Co Ltd 多軸エアスライドテ−ブル
JPH05283321A (ja) * 1992-03-31 1993-10-29 Canon Inc 移動ステージ装置
JPH09280251A (ja) * 1996-04-10 1997-10-28 Nikon Corp ステージ装置
WO1999066221A1 (fr) * 1998-06-17 1999-12-23 Nikon Corporation Palier a gaz sous pression statique, etage mettant en oeuvre ce palier, et dispositif optique dote de cet etage
WO2000025352A1 (fr) * 1998-10-28 2000-05-04 Nikon Corporation Dispositif a plateau, systeme d'exposition et procede de fabrication dudit dispositif
WO2000049303A1 (en) * 1999-02-19 2000-08-24 Nikon Corporation Static pressure air bearing
JP2001020951A (ja) * 1999-07-07 2001-01-23 Toto Ltd 静圧気体軸受

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS569140A (en) 1979-06-28 1981-01-30 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Table movable in x and y directions
JPS5617341A (en) * 1979-07-23 1981-02-19 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Alignment stage for step and repeat exposure
US4744675A (en) 1986-01-21 1988-05-17 Canon Kabushiki Kaisha Moving mechanism
US5040431A (en) 1988-01-22 1991-08-20 Canon Kabushiki Kaisha Movement guiding mechanism
US5280677A (en) 1990-05-17 1994-01-25 Canon Kabushiki Kaisha Positioning mechanism
JPH04191521A (ja) * 1990-11-26 1992-07-09 Canon Inc 移動案内装置
JP3089150B2 (ja) 1993-10-19 2000-09-18 キヤノン株式会社 位置決めステージ装置
US5874820A (en) * 1995-04-04 1999-02-23 Nikon Corporation Window frame-guided stage mechanism
JPH08229759A (ja) * 1995-02-24 1996-09-10 Canon Inc 位置決め装置並びにデバイス製造装置及び方法
JPH08323567A (ja) * 1995-05-31 1996-12-10 Ntn Corp Ｘｙテーブル
JP3709896B2 (ja) * 1995-06-15 2005-10-26 株式会社ニコン ステージ装置
JPH09237756A (ja) * 1996-02-28 1997-09-09 Canon Inc 位置決めステージおよびこれを用いた露光装置
JP3659529B2 (ja) 1996-06-06 2005-06-15 キヤノン株式会社 露光装置およびデバイス製造方法
JP3266515B2 (ja) 1996-08-02 2002-03-18 キヤノン株式会社 露光装置、デバイス製造方法およびステージ装置
US6172738B1 (en) 1996-09-24 2001-01-09 Canon Kabushiki Kaisha Scanning exposure apparatus and device manufacturing method using the same
JPH10144596A (ja) 1996-11-05 1998-05-29 Canon Inc 露光装置およびデバイス製造方法
JP3689510B2 (ja) 1996-11-15 2005-08-31 キヤノン株式会社 露光装置およびデバイス製造方法
US5784925A (en) 1996-12-13 1998-07-28 Etec Systems, Inc. Vacuum compatible linear motion device
JP3963410B2 (ja) * 1997-04-22 2007-08-22 キヤノン株式会社 位置決め装置およびこれを用いた露光装置
JPH11166990A (ja) * 1997-12-04 1999-06-22 Nikon Corp ステージ装置及び露光装置並びに走査型露光装置
US6126169A (en) * 1998-01-23 2000-10-03 Nikon Corporation Air bearing operable in a vacuum region
JP3869938B2 (ja) 1998-06-05 2007-01-17 キヤノン株式会社 ステージ装置、露光装置、およびデバイス製造方法
JP3621605B2 (ja) * 1999-06-23 2005-02-16 富士通株式会社 真空用気体軸受
JP2001091681A (ja) * 1999-09-28 2001-04-06 Kyocera Corp Ｘｙステージ機構及び露光装置
JP2001143984A (ja) * 1999-11-16 2001-05-25 Canon Inc 位置決め装置
JP2002151380A (ja) * 2000-11-08 2002-05-24 Nikon Corp ステージ装置及び露光装置

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0569256A (ja) * 1991-09-12 1993-03-23 Minolta Camera Co Ltd 多軸エアスライドテ−ブル
JPH05283321A (ja) * 1992-03-31 1993-10-29 Canon Inc 移動ステージ装置
JPH09280251A (ja) * 1996-04-10 1997-10-28 Nikon Corp ステージ装置
WO1999066221A1 (fr) * 1998-06-17 1999-12-23 Nikon Corporation Palier a gaz sous pression statique, etage mettant en oeuvre ce palier, et dispositif optique dote de cet etage
WO2000025352A1 (fr) * 1998-10-28 2000-05-04 Nikon Corporation Dispositif a plateau, systeme d'exposition et procede de fabrication dudit dispositif
WO2000049303A1 (en) * 1999-02-19 2000-08-24 Nikon Corporation Static pressure air bearing
JP2001020951A (ja) * 1999-07-07 2001-01-23 Toto Ltd 静圧気体軸受

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004349289A (ja) * 2003-05-20 2004-12-09 Canon Inc 移動案内装置及びそれを用いた露光装置
JP4500507B2 (ja) * 2003-05-20 2010-07-14 キヤノン株式会社 移動案内装置及びそれを用いた露光装置
US7030964B2 (en) 2003-06-10 2006-04-18 Canon Kabushiki Kaisha Stage system, exposure apparatus, and device manufacturing method
WO2011104806A1 (ja) * 2010-02-23 2011-09-01 株式会社アドバンテスト ステージ装置
US8530857B2 (en) 2010-02-23 2013-09-10 Advantest Corp. Stage device
JP5667451B2 (ja) * 2010-02-23 2015-02-12 株式会社アドバンテスト ステージ装置
WO2024190524A1 (ja) * 2023-03-13 2024-09-19 住友重機械工業株式会社 気体圧駆動装置、位置決め装置、処理装置、デバイス製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
US6644855B2 (en) 2003-11-11
DE60234062D1 (de) 2009-12-03
KR100488400B1 (ko) 2005-05-11
US20020118897A1 (en) 2002-08-29
EP2037137B1 (en) 2013-07-10
EP2037137A2 (en) 2009-03-18
EP1235115A2 (en) 2002-08-28
EP1235115A3 (en) 2007-09-05
KR20020071733A (ko) 2002-09-13
EP1235115B1 (en) 2009-10-21
EP2037137A3 (en) 2009-09-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2002252166A (ja) ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法ならびに移動案内方法
US7280185B2 (en) Stage system including fine-motion cable unit, exposure apparatus, and method of manufacturing device
JP2009158973A (ja) ステージ装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法
JP2006253572A (ja) ステージ装置、露光装置、及びデバイス製造方法
KR20070039952A (ko) 광학 부재의 지지 방법 및 지지 구조, 광학 장치, 노광장치, 그리고 디바이스 제조 방법
JP2013506973A (ja) 露光装置及びデバイス製造方法
JP5020662B2 (ja) ステージ装置、露光装置、及びデバイス製造方法
JPWO2006040890A1 (ja) 露光装置及びデバイス製造方法
KR101220613B1 (ko) 스테이지 장치 및 노광 장치
JP3984841B2 (ja) 歪み計測装置、歪み抑制装置、及び露光装置、並びにデバイス製造方法
US6328473B1 (en) Static air-bearing and stage apparatus using the bearing and optical apparatus using the stage apparatus
JP2004146492A (ja) Ｅｕｖ露光装置
JP2002257138A (ja) 静圧流体軸受装置、およびこれを用いたステージ装置、露光装置ならびにデバイス製造方法
JP2001143984A (ja) 位置決め装置
US9312159B2 (en) Transport apparatus and exposure apparatus
JP2000173884A (ja) デバイス製造装置および方法ならびにデバイス製造装置の配線・配管実装方法
JP4612777B2 (ja) 移動案内装置、それを用いた露光装置及び半導体デバイス製造方法
US8937289B2 (en) High heat load optics with vibration isolated hoses in an extreme ultraviolet lithography system
JP4500507B2 (ja) 移動案内装置及びそれを用いた露光装置
KR20020036698A (ko) 스테이지 장치 및 노광 장치
JPH11297616A (ja) ステージ装置およびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法
JP2005331009A (ja) 防振装置及び露光装置
JP2001015579A (ja) ステージ装置およびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法
JPH10209033A (ja) 位置決めステージ装置およびこれを用いた露光装置
JP2012109606A (ja) ステージ装置、露光装置、及びデバイス製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080226

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20100201

RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20100630

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20101025

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20101102

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101227

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110426

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20120110