JP5667451B2 - ステージ装置 - Google Patents

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Description

本発明は、ステージ装置に関し、特に、電子ビーム露光装置等の真空内でのエアベアリングを使用したステージ装置に関する。
電子ビーム露光装置や電子顕微鏡では、試料をステージに載置して露光処理や試料の観察・測定が行われている。例えば、電子ビーム露光装置では、露光データに従ってウエハ上の所要の位置を露光するようにステージを移動させながら露光処理を行っている。
機械ベアリングを備えたステージとして、クロスローラ型の転がり方式のステージがある。このステージは、移動側ステージと固定側ステージとの間の軌道内に存在する複数個のコロが転がる(回転する)ことによってステージが移動する。
このような機械ベアリングを備えたステージを使用する場合にパーティクルが軌道上に存在すると、ステージ機構に歪みを生じさせ、ステージ位置の検出精度が劣化し、正確なステージ位置を検出することが困難になる。また、パーティクルは軌道上に一定箇所に存在するだけでなく、ステージの移動とともにパーティクルも移動するため、ステージ位置が変化する箇所を再現又は予測することができず、ステージ位置の補正を行うことが困難になる。さらに、軌道の潤滑や発塵防止のために、軌道やコロに真空用オイルを塗布した場合、オイルが存在している間はある程度のパーティクルの除去は可能であるが、オイルが切れたときに急激な発塵が発生することもある。
機械ベアリングを使用したステージに対して、エアベアリングを使用した技術も検討され使用されてきている。例えば、特許文献1には、フォトリソグラフィ工程で使用される露光装置において可動部材をベース部材に対して流体軸受(気体軸受)を使って非接触支持したステージ装置が記載されている。
このようなエアベアリングを使用することにより機械的なベアリングに比べて軌道上のパーティクルによるステージの精度劣化は抑制することができる。
一方、エアベアリングステージを使用する場合、ステージ機構を駆動させるためにエアを供給することが必要となる。通常、エア発生装置で発生させたエアは真空中で使用できるPTFE系の材料を用いて作られたエア配管を通してステージに供給される。
従って、ステージが移動するたびに、このチャンバ内のエア配管も移動し、エア配管に屈曲する部分が発生する。ステージの移動範囲は限定されているため、エア配管が屈曲する部分もある程度同じところになり、屈曲の回数により配管が疲労して破断するおそれがある。そのため、ステージ自体には故障がない場合であっても、エア配管の欠陥によってステージ装置全体の寿命が決定されてしまうことになる。例えば、現状ではステージ装置を連続使用したとき、数年でこの配管を交換することが必要とされている。
特開2006−66589号公報
本発明は、かかる従来技術の課題に鑑みなされたものであり、目的は、ステージ移動に伴うエア配管の屈曲による破断のおそれのないステージ装置を提供することである。
上述した従来技術の課題を解決するため、真空内で使用されるステージ装置であって、気体を発生させる気体供給部と、上下左右の4面を有するベース部材と、前記ベース部材の各面と対向する面を有して前記ベース部材を囲んで移動可能に配置される枠上に形成されたスライダと、前記スライダの前記ベース部材と対向する面に形成され、前記スライダを前記ベース部材から浮上させるためのエアを蓄える空気室と、前記ベース部材の内部に形成され、前記気体供給部で発生された気体を流入させる流入口と、前記スライダの空気室に前記気体を供給する流出口とをつなぐエア流通路と、前記スライダの移動方向と直角な方向に延びる第1の固定部材と、前記第1の固定部材の周囲に枠状に形成され、前記ベース部材と接続された第1のスライダと、前記第1の固定部材の内部に形成され、前記ベース部材又は前記スライダに供給される気体が通る第1の固定部材内部の流通路と、前記第1のスライダ内部に形成され、前記ベース部材の流入口と接続された第1のスライダ内部の流通路と、前記第1のスライダの前記第1の固定部材に対向する面に形成され、前記第1のスライダの移動方向に伸びるとともに、前記第1のスライダ内部の流通路に繋がった第1のエア供給溝と、前記第1のスライダの前記第1のエア供給溝が形成された面と反対側の面に形成され、前記第1の固定部材に関して前記第1のエア供給溝と対称に形成された第3のエア供給溝と、を備え、前記第1の固定部材内部の流通路は前記第1の固定部材の内部の所定位置で分岐して前記第1の固定部材を貫通して前記第1のエア供給溝及び前記第3のエア供給溝とに繋がっているステージ装置が提供される。
この形態に係るステージ装置において、前記ベース部材は、前記スライダの前記空気室を第1の空気室と第2の空気室に分割する受圧板を備え、前記スライダ移動用エア流通路は第1のスライダ移動用エア流通路と第2のスライダ移動用エア流通路とを備え、前記第1のスライダ移動用エア流通路の流出口から前記第1の空気室にエアを供給し、前記第2のスライダ移動用エア流通路の流出口から前記第2の空気室にエアを供給するようにしてもよく、前記スライダは、前記ベース部材と対向する面であって、当該スライダの上下又は左右の対向する両面に前記空気室を有し、前記ベース部材の内部に形成された前記スライダ移動用エア流通路の流出口は前記両面の空気室にそれぞれエアを供給するようにしてもよい。
また、この形態に係るステージ装置において、前記スライダは、当該スライダを前記ベース部材から浮上させるためのエアを放出するエアパッドと、前記エアパッドにエアを供給するエア供給溝と、を有し、前記ベース部材は、前記気体供給部で発生された空気を供給する供給口と、前記エア供給溝にエアを流入させるためのエア流出口とを結ぶエアパッド用エア流通路が設けられているようにしてもよく、前記流入されたエアは、前記スライダの前記エアパッドに前記スライダ内部の流通路を通して供給されるようにしてもよい。
また、この形態に係るステージ装置において、さらに、前記スライダの移動方向と直角な方向に同時に移動する第1のスライダと第2のスライダとを有し、前記ベース部材の一方の端部が前記第1のスライダに接続されるとともに他方の端部が前記第2のスライダに接続され、前記ベース部材の内部の前記スライダ移動用エア流通路又は前記エアパッド用エア流通路に供給するエアは、前記第1のスライダ及び前記第2のスライダを介して供給されるようにしてもよく、前記第1のスライダは、第1の固定部材の周囲に枠状に形成され、前記第2のスライダは、第2の固定部材の周囲に枠状に形成され、前記第1のスライダの内部の流通路と前記第1の固定部材の内部に形成された流通路とが前記第1のスライダの前記第1の固定部材に対向する面に形成された第1のエア供給溝を介して接続され、前記第2のスライダの内部の流通路と前記第2の固定部材の内部に形成された流通路とが前記第2のスライダの前記第2の固定部材に対向する面に形成された第2のエア供給溝を介して接続されるようにしてもよく、前記第1の固定部材の内部に形成された流通路は前記第1のスライダの移動する方向に形成され、所定の位置で当該流通路と直角方向に分岐して当該第1の固定部材を貫通し、前記第2の固定部材の内部に形成された流通路は前記第2のスライダの移動する方向に形成され、所定の位置で当該流通路と直角方向に分岐して当該第2の固定部材を貫通し、前記第1のスライダには、前記第1のエア供給溝と前記第1の固定部材に対して対称に第3のエア供給溝が形成され、前記第2のスライダには、前記第2のエア供給溝と前記第2の固定部材に対して対称に第4のエア供給溝が形成されているようにしてもよく、さらに、前記ベース部材と前記第1のスライダとの間の第1のエンドプレートと、前記ベース部材と前記第2のスライダとの間の第2のエンドプレートと、を備え、前記ベース部材の内部に形成したスライダ移動用エア流通路は第1のスライダ移動用エア流通路と第2のスライダ移動用エア流通路とを備え、前記第1の固定部材の内部に形成された流通路と前記第1のスライダの内部に形成された流通穴と前記第1のエンドプレートに形成された流通穴とを介して前記第1のスライダ移動用エア流通路にエアが供給され、前記第2の固定部材の内部に形成された流通路と前記第2のスライダの内部に形成された流通穴と前記第2のエンドプレートに形成された流通穴とを介して前記第2のスライダ移動用エア流通路にエアが供給されるようにしてもよい。
また、この形態に係るステージ装置において、前記第1のスライダの内部に形成されたエアパッド用エア流通路と前記第1の固定部材の内部に形成されたエアパッド用エア流通路とが前記第1のスライダの前記第1の固定部材に対向する面に形成されたエア供給溝を介して接続されるようにしてもよく、前記第1の固定部材の内部に形成されたエアパッド用エア流通路は前記第1のスライダの移動する方向に形成され、所定の位置で当該エアパッド用エア流通路と直角方向に分岐して当該第1の固定部材を貫通し、前記第1のスライダには、前記エア供給溝と前記第1の固定部材に対して対称にエア供給溝が形成されているようにしてもよく、さらに、前記ベース部材と前記第1のスライダとの間のエンドプレートを備え、前記ベース部材のエアパッド用エア流通路には、前記第1の固定部材の内部に形成されたエアパッド用エア流通路と前記第1のスライダの内部に形成された流通穴と前記第1のエンドプレートに形成された流通穴とを介してエアが供給されるようにしてもよい。
本発明のステージ装置によれば、ベース部材の内部にエアの流通路を備えている。そして、この流通路を通して、スライダの移動のために必要なエアやスライダの浮上のために必要なエアをスライダの空気室やエア供給溝に供給するようにしている。これにより、真空チャンバ内にエア供給用の配管を設ける必要がなくなり、配管の破断による危険をなくすとともに、ステージの寿命が配管に依存することもなくなる。
電子ビーム露光装置の構成図である。 図1に係る露光装置の試料ステージ装置のブロック構成図である。 試料ステージ装置のエアベアリングを使用した主要部の概略構成図である。 試料ステージ装置のエアベアリングを使用した主要部を説明する図(その1)である。 試料ステージ装置のエアベアリングを使用した主要部を説明する図(その2)である。 従来の試料ステージ装置におけるエア供給管を説明する図である。 角軸内部にスライダを移動させるためのエアサーボ用のエアの流通路を設けた試料ステージ装置の主要部の概略構成図である。 角軸内部にエアパッドに供給するエアの流通路を設けた試料ステージ装置の主要部の概略構成図である。 XY方向に移動するXY試料ステージ装置の概略構成図である。 図10(a)は、従来のXY試料ステージ装置におけるエア供給管の配置を説明する図であり、図10(b)は、角軸内部にエア供給用の流通路を配置した概略構成図である。 移動軸と固定軸との間でのエアの流通路の構成を説明する概略図である。
(1)第1の実施形態
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。まず、図1から図5を参照して、電子ビーム露光装置の構成及びステージ装置について説明をする。次に、図6から図8を参照して、真空チャンバ内にエアの供給管を必要としないエア供給機構について説明する。なお、以下の説明ではステージ装置を電子ビーム露光装置に使用する場合を対象としているが、それに限らず、他の真空装置、例えば電子顕微鏡のステージに適用可能なことは勿論である。
(電子ビーム露光装置及びステージ装置の構成)
図1は、本実施形態に係るステージ装置を備えた電子ビーム露光装置の概略構成図である。
電子ビーム露光装置は、露光部100と、露光部100を制御するデジタル制御部200とに大別される。このうち、露光部100は、電子ビーム生成部130、マスク偏向部140及び基板偏向部150によって構成される。
電子ビーム生成部130では、電子銃101から生成した電子ビームEBが第1電磁レンズ102で収束作用を受けた後、ビーム整形用マスク103の矩形アパーチャ103a(第1の開口)を透過し、電子ビームEBの断面が矩形に整形される。
矩形に整形された電子ビームEBは、第2電磁レンズ105a及び第3電磁レンズ105bによってビーム整形用の第2マスク106上に結像される。そして、電子ビームEBは、可変矩形整形用の第1静電偏向器104a及び第2静電偏向器104bによって偏向され、ビーム整形用の第2のマスク106の矩形アパーチャ106a(第2の開口)を透過する。第1の開口と第2の開口により電子ビームEBが成形される。
その後、電子ビームEBは、マスク偏向部140の第4電磁レンズ107a及び第5電磁レンズ107bによってステンシルマスク111上に結像される。そして、電子ビームEBは、第3静電偏向器108a(第1選択偏向器とも呼ぶ)及び第4静電偏向器108b(第2選択偏向器とも呼ぶ)により、ステンシルマスク111に形成された特定のパターンPに偏向され、その断面形状がパターンPの形状に成形される。このパターンはキャラクタープロジェクション(CP)パターンとも呼ぶ。第5電磁レンズ107bの付近に配置した偏向器108bによって、電子ビームEBは光軸と平行にステンシルマスク111に入射するように曲げられる。
なお、ステンシルマスク111はマスクステージに固定されるが、そのマスクステージは水平面内において移動可能であって、第3静電偏向器108a及び第4静電偏向器108bの偏向範囲(ビーム偏向領域)を超える部分にあるパターンPを使用する場合、マスクステージ123を移動することにより、そのパターンPをビーム偏向領域内に移動させる。
ステンシルマスク111の下に配された第6電磁レンズ113は、その電流量を調節することにより、電子ビームEBを遮蔽板115付近で平行にする役割を担う。
ステンシルマスク111を通った電子ビームEBは、第5静電偏向器112a(第1振り戻し偏向器とも呼ぶ)及び第6静電偏向器112b(第2振り戻し偏向器とも呼ぶ)の偏向作用によって光軸に振り戻される。第6電磁レンズ113の付近に配置した偏向器112bによって、電子ビームEBは軸上に乗った後、軸に沿って進むように曲げられる。
マスク偏向部140には、第1、第2補正コイル109、110が設けられており、それらにより、第1〜第6静電偏向器104a、104b、108a、108b、112a、及び112bで発生するビーム偏向収差が補正される。
その後、電子ビームEBは、基板偏向部150を構成する遮蔽板115のアパーチャ115a(ラウンドアパーチャ)を通過し、投影用電磁レンズ121によって基板上に投影される。これにより、ステンシルマスク111のパターンの像が、所定の縮小率、例えば1/10の縮小率で基板に転写されることになる。
基板偏向部150には、第7静電偏向器119と第8静電偏向器120とが設けられており、これらの偏向器119、120によって電子ビームEBが偏向され、基板の所定の位置にステンシルマスクのパターンの像が投影される。
更に、基板偏向部150には、基板上における電子ビームEBの偏向収差を補正するための第3、第4補正コイル117、118が設けられる。
一方、デジタル制御部200は、電子銃制御部202、電子光学系制御部203、マスク偏向制御部204、マスクステージ制御部205、ブランキング制御部206、基板偏向制御部207及びウエハステージ制御部208を有する。これらのうち、電子銃制御部202は電子銃101を制御して、電子ビームEBの加速電圧やビーム放射条件等を制御する。また、電子光学系制御部203は、電磁レンズ102、105a、105b、107a、107b、113、及び121への電流量等を制御して、これらの電磁レンズが構成される電子光学系の倍率や焦点位置等を調節する。ブランキング制御部206は、ブランキング偏向器への印加電圧を制御することにより、露光開始前から発生している電子ビームEBを遮蔽板115上に偏向し、露光前に基板上に電子ビームEBが照射されるのを防ぐ。
基板偏向制御部207は、第7静電偏向器119及び第8静電偏向器120への印加電圧を制御することにより、基板の所定の位置上に電子ビームEBが偏向されるようにする。ウエハステージ制御部208は、駆動部125の駆動量を調節して基板12を水平方向に移動させ、基板12の所望の位置に電子ビームEBが照射されるようにする。上記の各部202〜208は、ワークステーション等の統合制御系201によって統合的に制御される。
図2は、露光装置において試料が載置されるステージ装置のブロック構成図を示している。ステージ装置は、気体供給部21、圧力調整部22、ウエハステージ23、レーザ干渉計24、駆動部25及びウエハステージ制御部208で基本構成される。
気体供給部21は、クリーンドライエア(CDA)を生成して送出する。
圧力調整部22は、気体供給部21とウエハステージ23のエアベアリングの供給口とを接続する気体流路の途中に設けられ、エアベアリングに供給する気体の圧力を調整する。気体圧力を調整して設定圧力で気体を吐出する電空レギュレータを含んで構成されている。
レーザ干渉計24は、ウエハステージ23の側面及びその側面に直交した側面にそれぞれ対向した位置に配置され、ウエハステージ23の位置及びウエハステージ23の姿勢(ピッチング、ローリング、ヨーイング)を直交する2方向から測定する。また、ウエハステージ23の上方に設けられ、ウエハステージ23の高さの測定に使用される。
ウエハステージ制御部208は、これら気体供給部21、圧力調整部22、レーザ干渉計24を制御して、ウエハステージ23の位置を高精度に検出する。
図3は、試料ステージ装置のうちエアベアリングを使用したステージの主要部の概略構成図である。
試料ステージは、真空チャンバ37内に配置された試料が載置されるスライダ35及び角軸(ベース部材)34で構成されている。スライダ35は角軸34の周囲を囲むように枠状に構成され、角軸34に沿って移動する。角軸34は、除振台31の上に配置された石定盤32の上に支持棒33を介して設置されている。
図4は、エアサーボステージを説明する図である。ターボ分子ポンプ42によって気体を排出された真空チャンバ37内には、角軸34とスライダ35が設置されている。
スライダ35は、気体供給部21から送られてくるエアを角軸34に放出するためのエアパッド36と、放出されたエアの圧力をスライダ35と角軸34との間隙部から外に流出しないように調整する差動排気部を有している。
エアパッド36は、例えばアルミセラミクスやジルコニアセラミクスで構成され、エアの分布状態を決定する開口が設けられている。
エアパッド36に供給されるエアの圧力は、例えば0.5[MPa]であり、このエアを角軸34に向かって放出することにより、スライダ35を浮上させている。
差動排気部は、排気口43,44,45を有しており、各排気口43,44,45からエアを排気することにより、エアの圧力を間隙部から外部に向かって徐々に下げていく。例えば、排気口43及び排気溝46によりエアの圧力を0.1[MPa]とし、排気口44及び排気溝47で400[Pa]とし、排気口45及び排気溝48で1[Pa]とする。このようにすると、外部におけるエアの流れは、0.0001[L/min]であり、ほとんどエアが流れていない状態となって真空チャンバ37内の真空状態を保つことができる。
スライダ35には、スライダ35を移動させるエアシリンダ機構を構成するために必要なエアを蓄積するシリンダ空間(空気室)41a〜41dが設けられている。また、角軸34からシリンダ空間41の方向に受圧板50が形成されている。
図5は、エアサーボの構造を説明する図である。図5(a)は、角軸及びスライダのエアサーボに関連する構造を示すスライダの移動方向に直角な方向の縦断面図であり、図5(b)はスライダの移動方向に平行な方向の横断面図である。
図5に示すように、受圧板50a、50bは角軸34に取り付けられており、スライダ35とは10〜20μmの隙間(クリアランス)で非接触となっている。角軸34とスライダ35とのクリアランスはスライダ35の浮上時で3〜4μmであり、エアベアリングの浮上・着座とは無関係に受圧板50とスライダ35とが接触することのないようになっている。
この受圧板50はシリンダ空間41を2つの空間に分割し、各シリンダ空間に供給されるエアの量による受圧板50における圧力の差によって、スライダ35を所望の方向に移動させる。また、圧力の差をゼロにすることによりスライダ35の移動を停止させるようになっている。
エアサーボによるステージ駆動方式は、高い推力が得やすいという特徴がある。例えば、左右のシリンダ空間の差圧が0.2MPaで受圧板50の面積が28cm2(片側14cm2)の場合、約550N(56kgf)の推力が得られる。従って、50kgのスライダを1G以上で加速することも可能である。
図6は、従来のエアベアリングステージの構成を示す図である。図6に示すように、スライダ35のエアパッド36には、エア供給管61及びスライダ内部の配管を介してエアが供給されている。また、スライダ35のシリンダ空間41c、41dには、エア供給管62a及びエア供給管62b及びスライダ35の内部の配管を介してエアが供給されている。
このように真空チャンバ37内に存在するエア供給管61、62a、及び62bは、スライダ35の移動に伴って動くため、屈曲部分が存在する。この屈曲部分が疲労して破断する前にエア供給管(61,62a,62b)を交換することが必要となる。
本実施形態では、このような真空チャンバ内で屈曲などにより劣化するエア供給管を必要としないエア供給機構を設けている。以下に、図7及び図8を参照しながら、エアベアリングを使用したステージ装置におけるエア供給機構について説明する。
図7は、本実施形態のエアベアリングを使用したステージ装置を説明する図である。図7では、真空チャンバ70内に配置された角軸71とスライダ72の断面図を示している。角軸71は、支持棒33やベローズ75によって真空チャンバ70に固定されている。
スライダ72は角軸71と対向する側の面にエアパッド79及びエアの圧力差によってスライダを移動させるためのエアを蓄積するシリンダ空間78を有している。角軸71は、その内部にエアを流通させるための流通路76a〜76fを備えている。また角軸71はスライダ72のシリンダ空間78と対向する面に受圧板77が設けられている。
受圧板77によってスライダ72に設けられたシリンダ78のシリンダ空間を2つの領域に分けるようになっている。すなわち、スライダ72が浮上したとき、図7の上側のスライダ72のシリンダ空間78aとシリンダ空間78bとに受圧板77aで分割されている。
スライダ72のシリンダ空間78aとシリンダ空間78bに供給されるエアの量によって、受圧板77aにかかる圧力が異なる。この圧力差によってスライダ72が図7の左右方向に移動する。
このシリンダ空間78a及びシリンダ空間78b内のエアは、角軸71の内部に配管された流通路を通って供給される。
角軸71の内部に設けられた流通路76aは、内部で流通路76bと流通路76cに分岐し、シリンダ空間78aに対向する位置に流通路76bの流出口76gが設けられている。一方、角軸71の内部に設けられた流通路76dは、内部で流通路76eと流通路76fに分岐し、シリンダ空間78bに対向する位置に流通路76eの流出口76hが設けられている。
流出口76gは図7の受圧板77aの左側に設けられ、流出口76hは図7の受圧板77aの右側に設けられる。これらの流出口76g、76hは受圧板77aの直近に設ける。受圧板77aの直近に設けることにより、スライダ72が左右に移動してもスライダ72のシリンダ空間78a,78bへのエアの供給が止まることはなくなる。
受圧板77aの左右のシリンダ空間78a,78bにそれぞれエアを供給することで、各シリンダ空間内のエアの圧力を個別に制御している。
気体供給部21で発生させたエアを、配管73aを通して流通路76aに供給する。供給されるエアの量はサーボバルブ74aによって制御する。同様に、気体供給部21で発生させたエアを、配管73bを通して流通路76dに供給する。供給されるエアの量はサーボバルブ74bによって制御する。
図7の下側のスライダにも上記したようなシリンダと同様の構成とする。すなわち、角軸71は、下側のスライダ72と対向する面に受圧板77bを設け、スライダ72のシリンダはシリンダ空間78cとシリンダ空間78dとに受圧板77bで分割される。
スライダ72のシリンダ空間78cとシリンダ空間78dに供給されるエアの量によって受圧板77bにかかる圧力が異なる。この圧力差によってスライダ72が左右に移動する。
スライダ空間78cに供給されるエアの量はスライダ空間78aに供給されるエアの量と同一とする。また、スライダ空間78dに供給されるエアの量はスライダ空間78bに供給されるエアの量と同一とする。上下のシリンダ及び上下の受圧板の構成を同一にすることによって、上下のスライダにおける移動運動に差が生じることがないようにする。
上下にシリンダを配置することにより、次の効果を得ることができる。エアサーボの圧力によって角軸71からスライダ72が浮き上がろうとする力が発生するが、上下に対向させることにより、浮き上がろうとする力をキャンセルすることができ、角軸71とスライダ72との間隔を安定した位置にすることができる。
また、スライダ72の重心を駆動することができ、ピッチングモーションなどスライダ72の移動に伴う上下振動を抑制することができる。
このように、スライダ72に供給するエアの配管がすべて角軸71の内部にあることにより、従来存在していたエアを供給するための真空チャンバ70内の配管は排除され、スライダ72の移動に伴う従来の配管の屈曲による破断等を起こすことがなくなる。このように、エア供給のために可動する部分が全くないため、角軸71内の配管を金属やセラミックで制作することも可能となり、配管の寿命はほぼ無限大となる。
なお、スライダ72の移動の安定性が確保されるのであれば、上下のシリンダ空間のうちの一方のシリンダ空間にエアを供給してエアサーボを行うようにしてもよい。
次に、スライダ72のエアパッド79へのエアの供給について、図8を参照しながら説明する。図8は、真空チャンバ70内に配置された角軸71及びスライダ72の断面図を示している。この断面図は図7の断面図とは断面の位置が異なっている。
スライダ72には角軸71と対向する面にエアパッド79が設けられ、この面と同一の面にはエアパッド79にエアを供給するためのエア供給溝80が設けられている。エア供給溝80のエアはスライダ72の内部に形成された配管81を通して各エアパッド79に供給される。
角軸71の内部にはエア供給溝80に供給するエアを流通させるための流通路82を設けている。
エア供給溝80のスライダ移動方向の長さは、スライダ72が移動しても角軸71側のエア供給が途切れない長さとする。すなわち、流通路82の流出口83がスライダ72の移動によっても常にエア供給溝80に対向するようにしている。
上側のスライダ72だけにエア供給溝80を設けることによりエア供給溝80内部の圧力によるスライダ72の浮上力をそのままスライダ72の自重キャンセルに使うことも可能である。例えば、エア供給溝80の溝の幅を2mm、長さを300mmとすると、0.4MPaの場合24kgfの力を発生することができる。そのため、スライダ72の自重を30kgとすると、ほぼ自重をキャンセルしてスライダの上下のクリアランスを適正に保つことが可能となる。
自重キャンセルが必要ない場合には、エア供給溝80を上下のスライダ72に対象に設けるようにしてもよい。その場合には、エアの圧力をキャンセルすることができる。
なお、エア供給溝80はスライダ72側ではなく、角軸71側に設けるようにしてもよい。角軸71側にエア供給溝を儲ける場合には、図8のエア供給溝80と同一の大きさの溝を対向する角軸71の表面に形成し、スライダ72側には、角軸71の溝に供給されるエアを吸収するための吸収口を設け、スライダ72の内部の配管81に接続する。
以上説明したように、スライダ72のエア供給溝80に供給するエアの配管がすべて角軸71の内部であることにより、従来存在していたエアを供給するための真空チャンバ70内の配管は排除され、スライダ72の移動に伴う従来の配管の屈曲による破断等を起こすことがなくなる。このように、エア供給のために可動する部分が全くないため、角軸71内の配管を金属やセラミックで制作することも可能となり、配管の寿命はほぼ無限大となる。
(2)第2の実施形態
第2の実施形態では、第1の実施形態で説明した、角軸とスライダで構成されるエアベアリングステージのスライダ機構を組み合わせたXYステージについて説明する。
図9(a)は、H型XYステージの平面図を示し、図9(b)は、その断面図を示している。図9(a),(b)に示すように、XYステージは、X軸がスライダ機構91a、91bで構成され、Y軸がスライダ機構92で構成されている。スライダ機構91aは、真空チャンバ内に固定される固定側角軸91cとスライダ91dで構成されている。同様に、スライダ機構91bは、固定側角軸91eとスライダ91fで構成されている。スライダ91dとスライダ91fとは同時に同方向に移動する。
スライダ機構92は、角軸92aと、スライダ92bと、ウエハ載置部93で構成されている。角軸92aは、一端がスライダ機構91aのスライダ91dとエンドプレートを介して接続され、他端がスライダ機構91bのスライダ91fとエンドプレートを介して接続されている。この角軸92aを移動側角軸92aとも呼ぶ。
スライダ機構92のスライダ92bの角軸92aと反対側の面には、ウエハ載置部93が設けられ、ウエハ載置部93の静電チャックESCによってウエハWが固定される。スライダ機構(91a、91b)及びスライダ機構92を駆動させて、所望のXY座標の位置にウエハWを移動させる。
図9(b)に示すように、X軸のスライダ(91d、91f)及びY軸のスライダ92bを同一平面に構成するようにしている。このため、駆動重心が一致し、ピッチングやローリングが発生せず、高い運動性能を得ることができる。
固定側角軸(91c,91e)内部には、大気解放用の流通路94a、低真空用の流通路94b、中真空用の流通路94cが設けられている。また、移動側角軸92aにの内部にも大気解放用の流通路、低真空用の流通路、中真空用の流通路が設けられ、固定側角軸の対応する流通路と接続される。
図10(a)は、XYステージにおけるエア配管の従来の問題点を説明する図であり、図10(b)は、本実施形態によるXYステージの概略を説明する構成図である。
図10(a)では、第1の実施形態で説明したようなエア配管を有する移動側角軸92aを使用した場合の例を示している。図10(a)に示すように、移動側角軸92aに供給するためのエアの配管(96a,96b)も、移動側角軸92aの移動に伴い動いてしまう。すなわち、配管(96a,96b)に屈曲部が発生し、屈曲の回数によって配管の破断などが発生してステージ装置の寿命が決定されてしまう。
これに対し、本実施形態のXYステージ装置では、図10(b)に示すように、X軸に対応する固定側角軸(91c,91e)の内部にもエアを流通させるための流通路を設け、移動側角軸92aに供給するエアのチャンバ内の配管(96a,96b)をなくすようにしている。
移動側角軸92aと固定側角軸(91c,91e)とのエアの流通路の接続構造について、図11を用いて説明する。
図11は、XYステージのX軸とY軸の一部の断面図を示した図である。X軸は、固定側角軸91cとその周囲を枠状に囲むように形成した固定軸側スライダ91dで構成されている。また、固定軸側スライダ91dのY軸側、すなわち移動側角軸92aの側の一面には、スライダ92bのストッパーの働きをするエンドプレート95aが設けられている。
固定側角軸91cには、スライダ91dの移動する方向に第1の固定側角軸流通路96aを設け、所定の位置、例えば固定側角軸91cの中央で固定側角軸流通路96aと直角の方向に第2の固定側角軸流通路96bを設けている。第2の固定側角軸流通路96bは固定側角軸91cを貫通するように設けられる。
スライダ91dの第2の固定側角軸流通路96bと対向する面のうち、一方の面(移動側角軸92aの側の面)にはその流出口と対向する位置に第1のエア供給溝97aが設けられ、他方の面には流出口と対向する位置に、第1のエア供給溝97aと対称に第2のエア供給溝97cが設けられている。このように、第1のエア供給溝97aと第2のエア供給溝97cとを対称に設けることにより、第1のエア供給溝97aが発生するスライダ91dを図11の右方向に浮上させる力と、第2のエア供給溝97cが発生するスライダ91dを図11の左方向に浮上させる力とをキャンセルさせて、スライダ91dの偏りをなくすようにしている。スライダ92bを移動させるために供給されるエアの圧力は、スライダ92bの移動に伴い急激に変化するが、第1のエア供給溝97aと第2のエア供給溝97cとを対称に設けることにより圧力によって生じる力をキャンセルすることができる。
第1のエア供給溝97aは、移動側角軸92aが移動する範囲の長さの溝が設けられる。また、第1のエア供給溝97aの一部から第1のエア供給溝97aの反対側にエアを流出させるための流通穴97bを設けている。この流通穴97bと一致した位置に、エンドプレート95aを貫通する流通穴98を設けている。この流通穴98と移動側角軸92aの内部の流通路76とを接続する。
スライダ機構91b及びエンドプレート95bのエアの流通路も、上記したスライダ機構91a及びエンドプレート95aのエアの流通路と同様に形成し、移動側角軸92aの内部の流通路と接続する。
上記したようなスライダ機構91a及びスライダ機構91bの固定側角軸(91c,91e)、スライダ(91d、91f)、エンドプレート(95a、95b)に形成された流通路及び流通穴を通して、気体供給部21で発生させたエアを移動側角軸92aの内部の流通路76に供給する。
移動側角軸92aのエアパッド用の流通路にエアを供給する場合にも、上記のスライダ92bを移動させるために必要なエアの供給経路と同様に構成する。ただし、固定側角軸91cの内部のエアパッド用エアの流通路や、スライダ91dに形成するエア供給溝等の位置はスライダを移動させるためのエアの供給経路とは異なる位置(図11において高さを変えた位置)に形成する。なお、エアパッド用のエアの供給は、スライダ機構91a又はスライダ機構91bのいずれか一方を介して行うようにしてもよい。
以上説明したように、移動する角軸の中に埋め込む配管をエンドプレートから固定側の角軸のスライダへ貫通させ、固定側の角軸内部の配管へ接続している。このように、すべての配管経路が角軸とスライダの内部に構成されているので、スライダの移動に伴うエアサーボ配管の可動部はすべて排除され、真空チャンバ内の配管は存在しなくなる。これにより、スライダの移動に伴う従来の配管の屈曲による破断等を起こすことがなくなり、エア供給のために可動する部分が全くないため、角軸内の配管を金属やセラミックで制作することも可能となり、配管の寿命はほぼ無限大となる。
なお、本発明は、国等の委託研究の成果に係る特許出願(平成21年度独立行政法人新エネルギー・産業技術総合開発機構「マスク設計・描画・検査総合最適化技術開発」委託研究、産業技術力強化法第19条の適用を受ける特許出願)である。

Claims (12)

  1. 真空内で使用されるステージ装置であって、
    気体を発生させる気体供給部と、
    上下左右の4面を有するベース部材と、
    前記ベース部材の各面と対向する面を有して前記ベース部材を囲んで移動可能に配置される枠上に形成されたスライダと、
    前記スライダの前記ベース部材と対向する面に形成され、前記スライダを前記ベース部材から浮上させるためのエアを蓄える空気室と、
    前記ベース部材の内部に形成され、前記気体供給部で発生された気体を流入させる流入口と、前記スライダの空気室に前記気体を供給する流出口とをつなぐエア流通路と、
    前記スライダの移動方向と直角な方向に延びる第1の固定部材と、
    前記第1の固定部材の周囲に枠状に形成され、前記ベース部材と接続された第1のスライダと、
    前記第1の固定部材の内部に形成され、前記ベース部材又は前記スライダに供給される気体が通る第1の固定部材内部の流通路と、
    前記第1のスライダ内部に形成され、前記ベース部材の流入口と接続された第1のスライダ内部の流通路と、
    前記第1のスライダの前記第1の固定部材に対向する面に形成され、前記第1のスライダの移動方向に伸びるとともに、前記第1のスライダ内部の流通路に繋がった第1のエア供給溝と、
    前記第1のスライダの前記第1のエア供給溝が形成された面と反対側の面に形成され、前記第1の固定部材に関して前記第1のエア供給溝と対称に形成された第3のエア供給溝と、を備え、
    前記第1の固定部材内部の流通路は前記第1の固定部材の内部の所定位置で分岐して前記第1の固定部材を貫通して前記第1のエア供給溝及び前記第3のエア供給溝とに繋がっている
    ことを特徴とするステージ装置。
  2. 前記ベース部材は、前記スライダの前記空気室を第1の空気室と第2の空気室に分割する受圧板を備え、
    前記スライダ移動用エア流通路は第1のスライダ移動用エア流通路と第2のスライダ移動用エア流通路とを備え、前記第1のスライダ移動用エア流通路の流出口から前記第1の空気室にエアを供給し、前記第2のスライダ移動用エア流通路の流出口から前記第2の空気室にエアを供給することを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。
  3. 前記スライダは、前記ベース部材と対向する面であって、当該スライダの上下又は左右の対向する両面に前記空気室を有し、前記ベース部材の内部に形成された前記スライダ移動用エア流通路の流出口は前記両面の空気室にそれぞれエアを供給することを特徴とする請求項2に記載のステージ装置。
  4. 前記スライダは、当該スライダを前記ベース部材から浮上させるためのエアを放出するエアパッドと、
    前記エアパッドにエアを供給するエア供給溝と、
    を有し、
    前記ベース部材は、前記気体供給部で発生された空気を供給する供給口と、前記エア供給溝にエアを流入させるためのエア流出口とを結ぶエアパッド用エア流通路が設けられていることを特徴とする請求項3に記載のステージ装置。
  5. 前記流入されたエアは、前記スライダの前記エアパッドに前記スライダ内部の流通路を通して供給されることを特徴とする請求項4に記載のステージ装置。
  6. さらに、前記スライダの移動方向と直角な方向に同時に移動する第1のスライダと第2のスライダとを有し、
    前記ベース部材の一方の端部が前記第1のスライダに接続されるとともに他方の端部が前記第2のスライダに接続され、
    前記ベース部材の内部の前記スライダ移動用エア流通路又は前記エアパッド用エア流通路に供給するエアは、前記第1のスライダ及び前記第2のスライダを介して供給されることを特徴とする請求項5に記載のステージ装置。
  7. 前記第1のスライダは、第1の固定部材の周囲に枠状に形成され、前記第2のスライダは、第2の固定部材の周囲に枠状に形成され、
    前記第1のスライダの内部の流通路と前記第1の固定部材の内部に形成された流通路とが前記第1のスライダの前記第1の固定部材に対向する面に形成された第1のエア供給溝を介して接続され、
    前記第2のスライダの内部の流通路と前記第2の固定部材の内部に形成された流通路とが前記第2のスライダの前記第2の固定部材に対向する面に形成された第2のエア供給溝を介して接続されることを特徴とする請求項6に記載のステージ装置。
  8. 前記第1の固定部材の内部に形成された流通路は前記第1のスライダの移動する方向に形成され、所定の位置で当該流通路と直角方向に分岐して当該第1の固定部材を貫通し、
    前記第2の固定部材の内部に形成された流通路は前記第2のスライダの移動する方向に形成され、所定の位置で当該流通路と直角方向に分岐して当該第2の固定部材を貫通し、
    前記第1のスライダには、前記第1のエア供給溝と前記第1の固定部材に対して対称に第3のエア供給溝が形成され、
    前記第2のスライダには、前記第2のエア供給溝と前記第2の固定部材に対して対称に第4のエア供給溝が形成されていることを特徴とする請求項7に記載のステージ装置。
  9. さらに、前記ベース部材と前記第1のスライダとの間の第1のエンドプレートと、
    前記ベース部材と前記第2のスライダとの間の第2のエンドプレートと、
    を備え、
    前記ベース部材の内部に形成したスライダ移動用エア流通路は第1のスライダ移動用エア流通路と第2のスライダ移動用エア流通路とを備え、
    前記第1の固定部材の内部に形成された流通路と前記第1のスライダの内部に形成された流通穴と前記第1のエンドプレートに形成された流通穴とを介して前記第1のスライダ移動用エア流通路にエアが供給され、
    前記第2の固定部材の内部に形成された流通路と前記第2のスライダの内部に形成された流通穴と前記第2のエンドプレートに形成された流通穴とを介して前記第2のスライダ移動用エア流通路にエアが供給されることを特徴とする請求項8に記載のステージ装置。
  10. 前記第1のスライダの内部に形成されたエアパッド用エア流通路と前記第1の固定部材の内部に形成されたエアパッド用エア流通路とが前記第1のスライダの前記第1の固定部材に対向する面に形成されたエア供給溝を介して接続されることを特徴とする請求項7に記載のステージ装置。
  11. 前記第1の固定部材の内部に形成されたエアパッド用エア流通路は前記第1のスライダの移動する方向に形成され、所定の位置で当該エアパッド用エア流通路と直角方向に分岐して当該第1の固定部材を貫通し、
    前記第1のスライダには、前記エア供給溝と前記第1の固定部材に対して対称にエア供給溝が形成されていることを特徴とする請求項10に記載のステージ装置。
  12. さらに、前記ベース部材と前記第1のスライダとの間のエンドプレートを備え、
    前記ベース部材のエアパッド用エア流通路には、前記第1の固定部材の内部に形成されたエアパッド用エア流通路と前記第1のスライダの内部に形成された流通穴と前記第1のエンドプレートに形成された流通穴とを介してエアが供給されることを特徴とする請求項11に記載のステージ装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20220090331A (ko) * 2020-12-22 2022-06-29 (주)코셈 이온 밀링 전처리 시스템의 스테이지 가스관 접속 구조

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5532175B1 (ja) * 2013-07-02 2014-06-25 日本精工株式会社 テーブル装置、及び搬送装置
US9218935B2 (en) 2013-07-08 2015-12-22 Carl Zeiss Microscopy, Llc Charged particle beam system and method of operating a charged particle beam system
JP6893170B2 (ja) * 2015-03-31 2021-06-23 住友重機械工業株式会社 アクチュエータ
JP2016207926A (ja) * 2015-04-27 2016-12-08 株式会社アドバンテスト 露光装置および露光方法
US11442369B2 (en) 2017-11-14 2022-09-13 Asml Netherlands B.V. Object stage bearing for lithographic apparatus
JP7407771B2 (ja) * 2021-06-21 2024-01-04 日本電子株式会社 電子ビーム検査装置
WO2024190524A1 (ja) * 2023-03-13 2024-09-19 住友重機械工業株式会社 気体圧駆動装置、位置決め装置、処理装置、デバイス製造方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002170765A (ja) * 2000-12-04 2002-06-14 Nikon Corp ステージ装置及び露光装置
JP2002252166A (ja) * 2001-02-27 2002-09-06 Canon Inc ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法ならびに移動案内方法
JP2005005394A (ja) * 2003-06-10 2005-01-06 Canon Inc ステージ装置、露光装置、およびデバイス製造方法
JP2007146995A (ja) * 2005-11-29 2007-06-14 Kyocera Corp 静圧スライダ

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6499880B2 (en) * 1999-02-19 2002-12-31 Nikon Corporation Static pressure air bearing
JP2002359170A (ja) * 2001-05-30 2002-12-13 Nikon Corp ステージ装置及び露光装置
US7288859B2 (en) * 2004-01-30 2007-10-30 Nikon Corporation Wafer stage operable in a vacuum environment
JP2006066589A (ja) 2004-08-26 2006-03-09 Nikon Corp ステージ装置及び露光装置、デバイス製造方法、並びにステージ装置の駆動方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002170765A (ja) * 2000-12-04 2002-06-14 Nikon Corp ステージ装置及び露光装置
JP2002252166A (ja) * 2001-02-27 2002-09-06 Canon Inc ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法ならびに移動案内方法
JP2005005394A (ja) * 2003-06-10 2005-01-06 Canon Inc ステージ装置、露光装置、およびデバイス製造方法
JP2007146995A (ja) * 2005-11-29 2007-06-14 Kyocera Corp 静圧スライダ

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20220090331A (ko) * 2020-12-22 2022-06-29 (주)코셈 이온 밀링 전처리 시스템의 스테이지 가스관 접속 구조
KR102465469B1 (ko) * 2020-12-22 2022-11-09 (주)코셈 이온 밀링 전처리 시스템의 스테이지 가스관 접속 구조

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