JP5532175B1 - テーブル装置、及び搬送装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】位置決め精度の低下を抑制できるテーブル装置を提供する。
【解決手段】テーブル装置は、所定面と平行な第１基準面を有する第１基台と、所定面と平行な第２基準面を有し、第１基準面上において所定面内の第１軸と平行な方向に移動可能な第２基台と、第２基台に設けられ、第１基準面と対向する第１気体供給口を有し、第１気体供給口から供給される気体により第１基準面との間に気体軸受を形成する第１軸受部材と、第１軸と直交する所定面内の第２軸と平行な方向に関して第１軸受部材から離れて第２基台に設けられ、第１基準面と対向する第２気体供給口を有し、第２気体供給口から供給される気体により第１基準面との間に気体軸受を形成する第２軸受部材と、第２基準面上において第２軸と平行な方向に移動可能なテーブルと、を備え、第２軸と平行な方向に関して、第１軸受部材と第２軸受部材との距離は、テーブルの移動範囲の寸法よりも長い。
【選択図】図１

Description

本発明は、テーブル装置、及び搬送装置に関する。
搬送装置において、例えば特許文献１及び特許文献２に開示されているような、移動可能なテーブルを備えるテーブル装置が使用される。
特許第３８３２０８４号公報 特開２０００−１３６８２４号公報
テーブル装置において、テーブルの位置決め精度が低下し、テーブルが望みの位置に配置されないと、そのテーブル装置を備える搬送装置の性能が低下する可能性がある。例えば、水平面内においてテーブルを真っ直ぐに移動しようとしたにもかかわらず、そのテーブルがピッチングしてしまう場合、あるいは、テーブルの上面を水平面と平行にしようとしたにもかかわらず、テーブルの上面が水平面に対して傾斜してしまう場合、テーブルの位置決め精度が低下する可能性がある。その結果、そのテーブルに載っている物体が望みの位置に配置されない可能性がある。
本発明は、位置決め精度の低下を抑制できるテーブル装置及び搬送装置を提供することを目的とする。
上記の目的を達成するための本発明のテーブル装置は、所定面と平行な第１基準面を有する第１基台と、前記所定面と平行な第２基準面を有し、前記第１基準面上において前記所定面内の第１軸と平行な方向に移動可能な第２基台と、前記第２基台に設けられ、前記第１基準面と対向する第１気体供給口を有し、前記第１気体供給口から供給される気体により前記第１基準面との間に気体軸受を形成する第１軸受部材と、前記第１軸と直交する前記所定面内の第２軸と平行な方向に関して前記第１軸受部材から離れて前記第２基台に設けられ、前記第１基準面と対向する第２気体供給口を有し、前記第２気体供給口から供給される気体により前記第１基準面との間に気体軸受を形成する第２軸受部材と、前記第２基準面上において前記第２軸と平行な方向に移動可能なテーブルと、を備え、前記第２軸と平行な方向に関して、前記第１軸受部材と前記第２軸受部材との距離は、前記テーブルの移動範囲の寸法よりも長い。
従って、第１基台の第１基準面上において第２基台が第１軸と平行な方向に移動し、第２基台の第２基準面上においてテーブルが第２軸と平行な方向に移動するので、テーブルは、第１軸と平行な方向及び第２軸と平行な方向の両方に移動可能である。第１軸受部材及び第２軸受部材のそれぞれは、所定面に対して垂直方向の力（浮上力）を発生する気体軸受を形成する。すなわち、第１軸受部材及び第２軸受部材のそれぞれは、所謂、垂直方向気体軸受（上下方向気体軸受）を形成する。第２基準面上においてテーブルが第２軸と平行な方向に移動する場合、そのテーブルの移動方向（第２軸と平行な方向）に関して、第１軸受部材（第１の垂直方向気体軸受）と第２軸受部材（第２の垂直方向気体軸受）との距離が、テーブルの移動範囲（ストローク）の寸法よりも長いため、その移動範囲においてテーブルが移動しても、テーブルの荷重は、第１軸受部材によって形成される気体軸受及び第２軸受部材によって形成される気体軸受で支持される。これにより、テーブルの移動範囲においてテーブルがピッチングしたり、テーブルの上面が傾斜したりすることが抑制される。そのため、テーブルの位置決め精度の低下が抑制される。
本発明のテーブル装置では、前記第２軸と平行な方向に関して、前記テーブルの重心が前記第１軸受部材と前記第２軸受部材との間を移動するように、前記テーブルの移動範囲が定められる。
従って、テーブルの重心が第１軸受部材（第１の垂直方向気体軸受）と第２軸受部材（第２の垂直方向気体軸受）との間から外側に移動しないので、その移動範囲においてテーブルが移動しても、テーブルの荷重は、第１軸受部材によって形成される気体軸受及び第２軸受部材によって形成される気体軸受で支持される。これにより、テーブルがピッチングしたり、テーブルの上面が傾斜したりすることが抑制される。
本発明のテーブル装置では、前記第１基台に設けられ、前記第２基台を前記第１軸と平行な方向にガイドする第１ガイド部材を備える。
従って、第２基台は、第１ガイド部材にガイドされて、第１軸と平行な方向に関して目標軌道で移動される。これにより、その第２基台に支持されているテーブルも、第１軸と平行な方向に関して目標軌道で移動される。
本発明のテーブル装置では、前記第２基台に設けられ、前記第２軸と平行な第１方向を向く前記第１ガイド部材の第１側面と対向する第３気体供給口を有し、前記第３気体供給口から供給される気体により前記第１側面との間に気体軸受を形成する第３軸受部材を備え、前記第１軸受部材は、前記第１方向の反対方向を向く前記第１ガイド部材の第２側面と対向するように配置される第４気体供給口を有し、前記第４気体供給口から供給される気体により前記第２側面との間に気体軸受を形成する。
従って、第１軸受部材及び第３軸受部材が第１ガイド部材に非接触で支持されつつ、第１軸受部材及び第３軸受部材が第１軸と平行な方向に移動可能である。第１軸受部材及び第３軸受部材のそれぞれは、第２軸と平行な方向の力を発生する気体軸受を形成する。すなわち、第１軸受部材及び第３軸受部材のそれぞれは、所謂、水平方向気体軸受を形成する。これにより、第１軸受部材及び第３軸受部材は、第２軸と平行な方向への変位を抑制されつつ、第１軸と平行な方向に関して目標軌道で移動される。また、第２軸と平行な方向に関して、第１軸受部材によって形成される気体軸受と第３軸受部材によって形成される気体軸受との距離が短いので、例えば第２基台が熱変形しても、第１軸受部材と第１ガイド部材との間隙の寸法の変化量が大きくなること、及び第３軸受部材と第１ガイド部材との間隙の寸法の変化量が大きくなることが抑制される。そのため、第１軸受部材及び第３軸受部材に接続されている第２基台も、第１軸と平行な方向に関して目標軌道で移動される。
本発明のテーブル装置では、前記第２基台に設けられ、前記テーブルを前記第２軸と平行な方向にガイドする第２ガイド部材を備える。
従って、テーブルは、第２ガイド部材にガイドされて、第２軸と平行な方向に関して目標軌道で移動される。
本発明のテーブル装置では、前記テーブルに設けられ、前記第２基準面と対向する第５気体供給口と、前記第１軸と平行な第２方向を向く前記第２ガイド部材の第３側面と対向する第６気体供給口と、を有し、前記第５気体供給口から供給される気体により前記第２基準面との間に気体軸受を形成し、前記第６気体供給口から供給される気体により前記第３側面との間に気体軸受を形成する第４軸受部材と、前記テーブルに設けられ、前記第２方向の反対方向を向く前記第２ガイド部材の第４側面と対向する第７気体供給口を有し、前記第７供給口から供給される気体により前記第３側面との間に気体軸受を形成する第５軸受部材と、を備える。
従って、第４軸受部材が第２基準面及び第２ガイド部材のそれぞれに非接触で支持され、第５軸受部材が第２ガイド部材に非接触で支持されつつ、第４軸受部材及び第５軸受部材が第２軸と平行な方向に移動可能である。第４軸受部材は、所定面に対して垂直方向の力（浮上力）を発生する気体軸受を形成する。すなわち、第４軸受部材は、所謂、垂直方向気体軸受（上下方向気体軸受）を形成する。また、第４軸受部材及び第５軸受部材のそれぞれは、第１軸と平行な方向の力を発生する気体軸受を形成する。すなわち、第４軸受部材及び第５軸受部材のそれぞれは、所謂、水平方向気体軸受を形成する。これにより、第４軸受部材及び第５軸受部材は、第１軸と平行な方向への変位を抑制されつつ、第２軸と平行な方向に関して目標軌道で移動される。そのため、第４軸受部材及び第５軸受部材に接続されているテーブルも、第２軸と平行な方向に関して目標軌道で移動される。
本発明のテーブル装置では、前記第１軸と平行な方向に関して前記第４軸受部材から離れて前記テーブルに設けられ、前記第２基準面と対向する第８気体供給口を有し、前記第８気体供給口から供給される気体により前記第２基準面との間に気体軸受を形成する第６軸受部材を備える。
従って、第４軸受部材及び第６軸受部材のそれぞれが第２基準面に非接触で支持されつつ、第４軸受部材及び第６軸受部材は第２軸と平行な方向に移動可能である。第４軸受部材及び第６軸受部材のそれぞれは、所定面に対して垂直方向の力（浮上力）を発生する気体軸受を形成する。すなわち、第４軸受部材及び第６軸受部材のそれぞれは、所謂、垂直方向気体軸受（上下方向気体軸受）を形成する。また、第４軸受部材と第６軸受部材とは、第１軸と平行な方向に関して離れて配置されている。テーブルの荷重が、第４軸受部材によって形成される気体軸受及び第６軸受部材によって形成される気体軸受で支持されることにより、テーブルがローリングしたり、テーブルの上面が傾斜したりすることが抑制される。そのため、テーブルの位置決め精度の低下が抑制される。
本発明のテーブル装置では、前記第１基台と前記第２基台との間に配置され、前記第２基台を前記第１基台に引き寄せる力を発生する吸引力発生装置を備える。
従って、第１軸受部材及び第２軸受部材のそれぞれによって形成される気体軸受による第２基台に対する浮上力と、吸引力発生装置による第２基台に対する吸引力とのバランスにより、第１軸受部材と第１基台との間隙の寸法、及び第２軸受部材と第１基台との間隙の寸法のそれぞれが最適に維持される。そのため、第２基台は、目標軌道で移動可能である。
本発明のテーブル装置では、前記吸引力発生装置は、前記第１基台に接続される第１部材と、前記第２基台に接続され、前記第１部材との間に前記引き寄せる力を発生可能な第２部材と、を含み、前記第２部材は、前記第１部材と対向する第１下面を含む第１部分と、前記第１部分の上方に配置され、少なくとも一部が前記第１部分よりも外側に張り出す第２下面を含む第２部分と、を有し、前記第２部分は、前記第２下面と前記第２部材の上面とを結ぶ孔を有し、前記孔に、前記第２部材と前記第２基台とを固定するための固定部材が配置される。
従って、例えば第２基台上にテーブルが配置された状態で、吸引力発生装置の調整作業が円滑に行われる。吸引力発生装置の吸引力の調整（変更）は、例えば、第１部材と第２部材との間隙の寸法の調整、第２部材の交換、及び第１部材と対向する位置に配置される第２部材の数の調整の少なくとも一つを含む。本発明によれば、第２部材が第１部分と第２部分とを含み、固定部材が配置されるための孔が第２部分に設けられるため、吸引力発生装置の調整作業が円滑に行われる。これにより、第１軸受部材及び第２軸受部材のそれぞれによって形成される気体軸受による第２基台に対する浮上力と、吸引力発生装置による第２基台に対する吸引力とのバランスが最適に調整される。そのため、第１軸受部材と第１基台との間隙の寸法、第２軸受部材と第１基台との間隙の寸法、第１軸受部材によって形成される気体軸受の剛性、及び第２軸受部材によって形成される気体軸受の剛性の少なくとも一つが最適に調整される。したがって、第２基台は、目標軌道で移動可能であり、例えば第２基台の傾斜が抑制される。そのため、その第２基台に支持されるテーブルの位置決め精度の低下が抑制される。
上記の目的を達成するための本発明のテーブル装置は、所定面と平行な基準面を有する基台と、前記基準面上において移動可能な可動部材と、前記可動部材に設けられ、前記基準面と対向する気体供給口を有し、前記気体供給口から供給される気体により前記基準面との間に気体軸受を形成する軸受部材と、前記基台に接続される第１部材と、前記可動部材に接続される第２部材と、を含み、前記第１部材と前記第２部材との間に、前記可動部材を前記基台に引き寄せる力を発生する吸引力発生装置と、を備え、前記第２部材は、前記第１部材と対向する第１下面を含む第１部分と、前記第１部分の上方に配置され、少なくとも一部が前記第１部分よりも外側に張り出す第２下面を含む第２部分と、を有し、前記第２部分は、前記第２下面と前記第２部材の上面とを結ぶ孔を有し、前記孔に、前記第２部材と前記可動部材とを固定するための固定部材が配置される。
従って、例えば基台上に可動部材が配置された状態で、吸引力発生装置の調整作業が円滑に行われる。吸引力発生装置の吸引力の調整（変更）は、例えば、第１部材と第２部材との間隙の寸法の調整、第２部材の交換、及び第１部材と対向する位置に配置される第２部材の数の調整の少なくとも一つを含む。本発明によれば、第２部材が第１部分と第２部分とを含み、固定部材が配置されるための孔が第２部分に設けられるため、吸引力発生装置の調整作業が円滑に行われる。これにより、軸受部材によって形成される気体軸受による可動部材に対する浮上力と、吸引力発生装置による可動部材に対する吸引力とのバランスが最適に調整される。そのため、軸受部材と基台との間隙の寸法、及び軸受部材によって形成される気体軸受の剛性の少なくとも一方が最適に調整される。したがって、可動部材は、目標軌道で移動可能であり、例えば可動部材の傾斜が抑制される。そのため、可動部材の位置決め精度の低下が抑制される。
上記の目的を達成するための本発明の搬送装置は、上記のテーブル装置を備える。
従って、搬送装置は、テーブルに支持されている物体を目標位置に搬送することができる。
上記の目的を達成するための本発明の半導体製造装置は、上記のテーブル装置を備える。
従って、半導体製造装置は、目標位置に配置された物体を処理できるので、その物体から不良な製品が製造されてしまうことが抑制される。なお、半導体製造装置は、例えば露光装置を含み、半導体デバイスの製造工程の少なくとも一部において使用される。
上記の目的を達成するための本発明のフラットパネルディスプレイ製造装置は、上記のテーブル装置を備える。
従って、フラットパネルディスプレイ製造装置は、目標位置に配置された物体を処理できるので、その物体から不良な製品が製造されてしまうことが抑制される。なお、フラットパネルディスプレイ製造装置は、例えば露光装置を含み、フラットパネルディスプレイの製造工程の少なくとも一部において使用される。フラットパネルディスプレイは、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、及び有機ＥＬディスプレイの少なくとも一つを含む。
本発明のテーブル装置及び搬送装置によれば、位置決め精度の低下が抑制される。
図１は、本実施形態に係るテーブル装置の一例を示す側面図である。 図２は、本実施形態に係るテーブル装置の一例を示す側面図である。 図３は、本実施形態に係るテーブル装置の一例を示す平面図である。 図４は、本実施形態に係るテーブル装置の動作の一例を示す図である。 図５は、比較例に係るテーブル装置を示す図である。 図６は、本実施形態に係る吸引力発生装置の一例を示す図である。 図７は、本実施形態に係る搬送装置及び半導体製造装置の一例を示す図である。 図８は、本実施形態に係る搬送装置及び検査装置の一例を示す図である。
以下、本発明に係る実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。以下で説明する各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。また、一部の構成要素を用いない場合もある。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。水平面内の一方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。Ｘ軸は、ＹＺ平面と直交する。Ｙ軸は、ＸＺ平面と直交する。Ｚ軸は、ＸＹ平面と直交する。ＸＹ平面は、Ｘ軸及びＹ軸を含む。ＸＺ平面は、Ｘ軸及びＺ軸を含む。ＹＺ平面は、Ｙ軸及びＺ軸を含む。ＸＹ平面は、水平面と平行である。
＜第１実施形態＞
第１実施形態について説明する。図１及び図２は、本実施形態に係るテーブル装置ＴＡの一例を示す側面図である。図３は、本実施形態に係るテーブル装置ＴＡの一例を示す平面図である。図１は、テーブル装置ＴＡを−Ｙ側から見た図である。図２は、テーブル装置ＴＡを＋Ｘ側から見た図である。
テーブル装置ＴＡは、第１基台１と、第１基台１上において移動可能な第２基台２と、第２基台２上において移動可能なテーブル３と、第１基台１上において第２基台２を移動させるための駆動装置４と、第２基台２上においてテーブル３を移動させるための駆動装置５と、を備えている。
また、テーブル装置ＴＡは、第１基台１に設けられ、第２基台２をガイドするガイド部材６と、第２基台２に設けられ、第１基台１との間に気体軸受７Ｚを形成可能であり、ガイド部材６との間に気体軸受７Ｘを形成可能な軸受部材７と、第２基台２に設けられ、ガイド部材６との間に気体軸受８Ｘを形成可能な軸受部材８と、第２基台２に設けられ、第１基台１との間に気体軸受９Ｚを形成可能な軸受部材９と、を備えている。
また、テーブル装置ＴＡは、第２基台２に設けられ、テーブル３をガイドするガイド部材１０と、テーブル３に設けられ、第２基台２との間に気体軸受１１Ｚを形成可能であり、ガイド部材１０との間に気体軸受１１Ｙを形成可能な軸受部材１１と、テーブル３に設けられ、ガイド部材１０との間に気体軸受１２Ｙを形成可能な軸受部材１２と、テーブル３に設けられ、第２基台２との間に気体軸受１３Ｚを形成可能な軸受部材１３と、を備えている。
また、テーブル装置ＴＡは、第１基台１と第２基台２との間に配置され、第２基台２を第１基台１に引き寄せる力をそれぞれ発生する吸引力発生装置１４及び吸引力発生装置１５と、第２基台２とテーブル３との間に配置され、テーブル３を第２基台２に引き寄せる力をそれぞれ発生する吸引力発生装置１６及び吸引力発生装置１７と、を備えている。
第１基台１は、ＸＹ平面と平行な基準面（上面、ガイド面）１Ｇを有する。第１基台１は、例えばテーブル装置ＴＡが設置される施設（例えば工場）の床面などに配置される。第１基台１は、セラミックスを含んでもよい。第１基台１は、例えば、アルミナ（Ａｌ2Ｏ3）セラミックスを含んでもよいし、ムライト（３Ａｌ2Ｏ3・２ＳｉＯ2）セラミックスを含んでもよいし、窒化珪素（Ｓｉ3Ｎ4）セラミックスを含んでもよい。第１基台１は、石を含んでもよい。
第２基台２は、第１基台１の基準面１Ｇ上において移動可能な可動部材である。第１基台１は、第２基台２を移動可能に支持する。本実施形態において、第２基台２は、第１基台１の基準面１Ｇ上においてＹ軸方向に移動する。第２基台２は、ＸＹ平面と平行な基準面（上面、ガイド面）２Ｇを有する。
テーブル３は、物体Ｓを支持可能である。テーブル３は、物体Ｓを支持する支持面（上面）３Ｓを有する。テーブル３は、第２基台２の基準面２Ｇ上において移動可能な可動部材である。第２基台２は、テーブル３を移動可能に支持する。本実施形態において、テーブル３は、第２基台２の基準面２Ｇ上においてＸ軸方向に移動する。
本実施形態においては、第２基台２がＹ軸方向に移動することにより、その第２基台２に支持されているテーブル３も、第２基台２と一緒にＹ軸方向に移動する。すなわち、本実施形態において、テーブル３は、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の２つの方向に移動可能である。テーブル３は、所謂、ＸＹテーブル（２軸テーブル、２次元テーブル）である。
ガイド部材６は、第１基台１の基準面１Ｇ上に配置される。ガイド部材６は、第２基台２をＹ軸方向にガイドする。ガイド部材６は、Ｙ軸方向に長いレールを含む。ガイド部材６は、＋Ｚ方向を向く上面６０と、−Ｘ方向を向く側面６１と、＋Ｘ方向を向く側面６２と、を有する。側面６２は、側面６１の反対方向を向く。上面６０は、ＸＹ平面と平行である。側面６１及び側面６２はそれぞれ、ＹＺ平面と平行である。上面６０、側面６１、及び側面６２はそれぞれ、平面である。ガイド部材６の熱膨張係数（線膨張係数）は、第１基台１の熱膨張係数（線膨張係数）とほぼ等しい。ガイド部材６は、セラミックスを含んでもよいし、石を含んでもよい。ガイド部材６と第１基台１とが同じ材料で形成されてもよい。
駆動装置４は、アクチュエータを含む。駆動装置４は、第２基台２をＹ軸方向に移動する。本実施形態において、駆動装置４は、リニアモータを含む。駆動装置４は、第１基台１に接続された固定子４１と、第２基台２に接続された可動子４２とを含む。固定子４１がコイルを含み、可動子４２が磁石を含んでもよい。固定子４１が磁石を含み、可動子４２がコイルを含んでもよい。
軸受部材７は、第２基台２に支持される。本実施形態において、第２基台２の下面２Ｕに支持部材１８が固定される。軸受部材７は、支持部材１８に固定される。本実施形態において、軸受部材７は、支持部材１８を介して、第２基台２に支持（固定）される。なお、支持部材１８を介さずに、軸受部材７が第２基台２に直接固定されてもよい。
軸受部材７は、第１基台１の基準面１Ｇと対向する下面７０と、ガイド部材６の側面６１と対向する側面７１とを有する。下面７０は、基準面１Ｇ（ＸＹ平面）と平行である。側面７１は、側面６１（ＹＺ平面）と平行である。
軸受部材７は、第１基台１の基準面１Ｇと対向するように配置され、気体を供給可能な供給口７２と、ガイド部材６の側面６１と対向するように配置され、気体を供給可能な供給口７３とを有する。供給口７２は、下面７０の少なくとも一部に配置される。供給口７２から供給される気体により、基準面１Ｇと下面７０との間に気体軸受７Ｚが形成される。供給口７３は、側面７１の少なくとも一部に配置される。供給口７３から供給される気体により、側面６１と側面７１との間に気体軸受７Ｘが形成される。
軸受部材８は、第２基台２に支持される。本実施形態において、軸受部材８は、支持部材１８に固定される。本実施形態において、軸受部材８は、支持部材１８を介して、第２基台２に支持（固定）される。なお、支持部材１８を介さずに、軸受部材８が第２基台２に直接固定されてもよい。
軸受部材８は、ガイド部材６の側面６２と対向する側面８１を有する。側面８１は、側面６２（ＹＺ平面）と平行である。
軸受部材８は、ガイド部材６の側面６２と対向するように配置され、気体を供給可能な供給口８２を有する。供給口８２は、側面８１の少なくとも一部に配置される。供給口８２から供給される気体により、側面６２と側面８１との間に気体軸受８Ｘが形成される。
軸受部材９は、第２基台２に支持される。本実施形態において、第２基台２の下面２Ｕに支持部材１９が固定される。軸受部材９は、支持部材１９に固定される。本実施形態において、軸受部材９は、支持部材１９を介して、第２基台２に支持（固定）される。なお、支持部材１９を介さずに、軸受部材９が第２基台２に直接固定されてもよい。
軸受部材９は、第１基台１の基準面１Ｇと対向する下面９０を有する。下面９０は、基準面１Ｇ（ＸＹ平面）と平行である。
軸受部材９は、第１基台１の基準面１Ｇと対向するように配置され、気体を供給可能な供給口９１を有する。供給口９１は、下面９０の少なくとも一部に配置される。供給口９１から供給される気体により、基準面１Ｇと下面９０との間に気体軸受９Ｚが形成される。
軸受部材７と軸受部材９とは、Ｘ軸方向に関して離れている。Ｘ軸方向に関して、軸受部材７は、第２基台２の一端部（−Ｘ側の端部）に接続され、軸受部材９は、第２基台２の他端部（＋Ｘ側の端部）に接続される。Ｘ軸方向に関して、軸受部材８及び駆動装置４は、軸受部材７と軸受部材９との間に配置される。Ｘ軸方向に関して、駆動装置４（可動子４２）は、第２基台２のほぼ中央部に配置される。Ｘ軸方向に関して、軸受部材８は、軸受部材７及びガイド部材６と駆動装置４（可動子４２）との間に配置される。Ｘ軸方向に関して、ガイド部材６は、軸受部材７と軸受部材８との間に配置される。Ｘ軸方向に関して、ガイド部材６の一側（−Ｘ側）に軸受部材７が配置され、ガイド部材６の他側（＋Ｘ側）に軸受部材８が配置される。気体軸受７Ｚ（供給口７２）は、気体軸受７Ｘ（供給口７３）及び気体軸受８Ｘ（供給口８２）よりも−Ｘ側に配置される。気体軸受９Ｚ（供給口９１）は、気体軸受７Ｘ（供給口７３）及び気体軸受８Ｘ（供給口８２）よりも＋Ｘ側に配置される。
第１基台１と第２基台２との間の空間の中心に対して、軸受部材７は、軸受部材８よりも外側（−Ｘ側）に配置される。第１基台１と第２基台２との間の空間の中心に対して、気体軸受７Ｘ（供給口７３）は、気体軸受８Ｘ（供給口８２）よりも外側（−Ｘ側）に配置される。第１基台１と第２基台２との間の空間の中心に対して、気体軸受７Ｚ（供給口７２）は、気体軸受７Ｘ（供給口７３）よりも外側（−Ｘ側）に配置される。
本実施形態において、軸受部材７は、Ｙ軸方向に関して複数配置される。複数の軸受部材７はそれぞれ離れている。本実施形態において、軸受部材７は、Ｙ軸方向に関して２つ配置される。２つの軸受部材７は離れている。軸受部材７と同様、軸受部材８がＹ軸方向に関して複数(２つ)配置されてもよいし、軸受部材９がＹ軸方向に関して複数(２つ)配置されてもよい。
気体軸受７Ｚ及び気体軸受９Ｚは、Ｚ軸方向の力（浮上力）を発生する。Ｚ軸方向に関する第２基台２の荷重は、気体軸受７Ｚ及び気体軸受９Ｚによって支持される。すなわち、気体軸受７Ｚ及び気体軸受９Ｚは、所謂、垂直方向気体軸受（上下方向気体軸受）である。
気体軸受７Ｘ及び気体軸受８Ｘは、Ｘ軸方向の力を発生する。Ｘ軸方向に関する第２基台２の荷重は、気体軸受７Ｘ及び気体軸受８Ｘによって支持される。すなわち、気体軸受７Ｘ及び気体軸受８Ｘは、所謂、水平方向気体軸受である。
気体軸受７Ｚにより、基準面１Ｇと下面７０との間に間隙が形成される。気体軸受７Ｘにより、側面６１と側面７１との間に間隙が形成される。気体軸受８Ｘにより、側面６２と側面８１との間に間隙が形成される。気体軸受９Ｚにより、基準面１Ｇと下面９０との間に間隙が形成される。また、気体軸受７Ｚ及び気体軸受９Ｚにより、支持部材１８（第２基台２）とガイド部材６の上面６０との間に間隙が形成される。これにより、第２基台２は、第１基台１及びガイド部材６に非接触で支持される。第２基台２が第１基台１及びガイド部材６に非接触支持された状態で駆動装置４が作動することにより、第２基台２は、Ｙ軸方向に移動する。
吸引力発生装置１４及び吸引力発生装置１５はそれぞれ、第２基台２を第１基台１に引き寄せる力を発生する。吸引力発生装置１４は、軸受部材７の隣に配置される。第１基台１と第２基台２との間の空間の中心に対して、吸引力発生装置１４は、軸受部材７よりも外側（−Ｘ側）に配置される。吸引力発生装置１５は、軸受部材９の隣に配置される。第１基台１と第２基台２との間の空間の中心に対して、吸引力発生装置１５は、軸受部材９よりも外側（＋Ｘ側）に配置される。
吸引力発生装置１４は、第１基台１に接続される第１部材１４１と、第２基台２に接続され、第１部材１４１との間に、第２基台２を第１基台１に引き寄せる力を発生する第２部材１４２とを有する。本実施形態においては、第２部材１４２は、磁石を含み、第１部材１４１は、金属のような磁性体を含む。第１部材１４１と第２部材１４２との間に発生する磁力によって、第２基台２が第１基台１に引き寄せられる。吸引力発生装置１４と同様、吸引力発生装置１５は、第１基台１に接続される第１部材１５１と、第２基台２に接続され、第１部材１５１との間に、第２基台２を第１基台１に引き寄せる力を発生する第２部材１５２とを有する。Ｘ軸方向に関して、第１部材１４１は、第１基台１の一端部（−Ｘ側の端部）に接続され、第１部材１５１は、第１基台１の他端部（＋Ｘ側の端部）に接続される。Ｘ軸方向に関して、第２部材１４２は、第２基台２の一端部（−Ｘ側の端部）に接続され、第２部材１５２は、第２基台２の他端部（＋Ｘ側の端部）に接続される。
気体軸受７Ｚは、第１基台１に対して軸受部材７（第２基台２）を＋Ｚ方向に移動させる力（浮上力）を発生し、気体軸受９Ｚは、第１基台１に対して軸受部材９（第２基台２）を＋Ｚ方向に移動させる力（浮上力）を発生する。吸引力発生装置１４は、第１基台１に対して第２基台２を−Ｚ方向に移動させる力（吸引力）を発生し、吸引力発生装置１５は、第１基台１に対して第２基台２を−Ｚ方向に移動させる力（吸引力）を発生する。気体軸受７Ｚ及び気体軸受９Ｚの浮上力と、吸引力発生装置１４及び吸引力発生装置１５の吸引力とのバランスにより、基準面１Ｇと下面７０との間隙、及び基準面１Ｇと下面９０との間隙のそれぞれが維持され、Ｚ軸方向に関する第２基台２の変位が抑制される。
気体軸受７Ｘは、ガイド部材６に対して軸受部材７（第２基台２）を−Ｘ方向に移動させる力（反発力）を発生する。気体軸受８Ｘは、ガイド部材６に対して軸受部材８（第２基台２）を＋Ｘ方向に移動させる力（反発力）を発生する。気体軸受７Ｘの反発力と気体軸受８Ｘの反発力とのバランスにより、側面６１と側面７１との間隙、及び側面６２と側面８１との間隙のそれぞれが維持され、Ｘ軸方向に関する第１基台１と第２基台２との相対的な変位が抑制される。
ガイド部材１０は、第２基台２の基準面２Ｇ上に配置される。ガイド部材１０は、テーブル３をＸ軸方向にガイドする。ガイド部材１０は、Ｘ軸方向に長いレールを含む。ガイド部材１０は、＋Ｚ方向を向く上面１００と、−Ｙ方向を向く側面１０１と、＋Ｙ方向を向く側面１０２と、を有する。側面１０２は、側面１０１の反対方向を向く。上面１００は、ＸＹ平面と平行である。側面１０１及び側面１０２はそれぞれ、ＸＺ平面と平行である。上面１００、側面１０１、及び側面１０２はそれぞれ、平面である。ガイド部材１０の熱膨張係数（線膨張係数）は、第２基台２の熱膨張係数（線膨張係数）とほぼ等しい。ガイド部材１０と第２基台２とが同じ材料で形成されてもよい。
駆動装置５は、アクチュエータを含む。駆動装置５は、テーブル３をＸ軸方向に移動する。本実施形態において、駆動装置５は、リニアモータを含む。駆動装置５は、第２基台２に接続された固定子５１と、テーブル３に接続された可動子５２とを含む。固定子５１がコイルを含み、可動子５２が磁石を含んでもよい。固定子５１が磁石を含み、可動子５２がコイルを含んでもよい。
軸受部材１１は、テーブル３に支持される。軸受部材１１は、テーブル３の下面３Ｕに固定される。
軸受部材１１は、第２基台２の基準面２Ｇと対向する下面１１０と、ガイド部材１０の側面１０１と対向する側面１１１とを有する。下面１１０は、基準面２Ｇ（ＸＹ平面）と平行である。側面１１１は、側面１０１（ＸＺ平面）と平行である。
軸受部材１１は、第２基台２の基準面２Ｇと対向するように配置され、気体を供給可能な供給口１１２と、ガイド部材１０の側面１０１と対向するように配置され、気体を供給可能な供給口１１３とを有する。供給口１１２は、下面１１０の少なくとも一部に配置される。供給口１１２から供給される気体により、基準面２Ｇと下面１１０との間に気体軸受１１Ｚが形成される。供給口１１３は、側面１１１の少なくとも一部に配置される。供給口１１３から供給される気体により、側面１０１と側面１１１との間に気体軸受１１Ｙが形成される。
軸受部材１２は、テーブル３に支持される。本実施形態において、軸受部材１２は、テーブル３の下面３Ｕに固定される。
軸受部材１２は、ガイド部材１０の側面１０２と対向する側面１２１を有する。側面１２１は、側面１０２（ＸＺ平面）と平行である。
軸受部材１２は、ガイド部材１０の側面１０２と対向するように配置され、気体を供給可能な供給口１２２を有する。供給口１２２は、側面１２１の少なくとも一部に配置される。供給口１２２から供給される気体により、側面１０２と側面１２１との間に気体軸受１２Ｙが形成される。
軸受部材１３は、テーブル３に支持される。本実施形態において、軸受部材１３は、テーブル３の下面３Ｕに固定される。
軸受部材１３は、第２基台２の基準面２Ｇと対向する下面１３０を有する。下面１３０は、基準面２Ｇ（ＸＹ平面）と平行である。
軸受部材１３は、第２基台２の基準面２Ｇと対向するように配置され、気体を供給可能な供給口１３１を有する。供給口１３１は、下面１３０の少なくとも一部に配置される。供給口１３１から供給される気体により、基準面２Ｇと下面１３０との間に気体軸受１３Ｚが形成される。
軸受部材１１と軸受部材１３とは、Ｙ軸方向に関して離れている。Ｙ軸方向に関して、軸受部材１１は、テーブル３の一端部（−Ｙ側の端部）に接続され、軸受部材１３は、テーブル３の他端部（＋Ｙ側の端部）に接続される。Ｙ軸方向に関して、軸受部材１２及び駆動装置５は、軸受部材１１と軸受部材１３との間に配置される。Ｙ軸方向に関して、駆動装置５（可動子５２）は、テーブル３のほぼ中央部に配置される。Ｙ軸方向に関して、軸受部材１２は、軸受部材１１及びガイド部材１０と駆動装置５（可動子５２）との間に配置される。Ｙ軸方向に関して、ガイド部材１０は、軸受部材１１と軸受部材１２との間に配置される。Ｙ軸方向に関して、ガイド部材１０の一側（−Ｙ側）に軸受部材１１が配置され、ガイド部材１０の他側（＋Ｙ側）に軸受部材１２が配置される。気体軸受１１Ｚ（供給口１１２）は、気体軸受１１Ｙ（供給口１１３）及び気体軸受１２Ｙ（供給口１２２）よりも−Ｙ側に配置される。気体軸受１３Ｚ（供給口１３１）は、気体軸受１１Ｙ（供給口１１３）及び気体軸受１２Ｙ（供給口１２２）よりも＋Ｙ側に配置される。
第２基台２とテーブル３との間の空間の中心に対して、軸受部材１１は、軸受部材１２よりも外側（−Ｙ側）に配置される。第２基台２とテーブル３との間の空間の中心に対して、気体軸受１１Ｙ（供給口１１３）は、気体軸受１２Ｙ（供給口１２２）よりも外側（−Ｙ側）に配置される。第２基台２とテーブル３との間の空間の中心に対して、気体軸受１１Ｚ（供給口１１２）は、気体軸受１１Ｙ（供給口１１３）よりも外側（−Ｙ側）に配置される。
本実施形態において、軸受部材１１は、Ｘ軸方向に関して複数配置される。複数の軸受部材１１はそれぞれ離れている。本実施形態において、軸受部材１１は、Ｘ軸方向に関して２つ配置される。２つの軸受部材１１は離れている。軸受部材１１と同様、軸受部材１２がＸ軸方向に関して複数(２つ)配置されてもよいし、軸受部材１３がＸ軸方向に関して複数(２つ)配置されてもよい。
気体軸受１１Ｚ及び気体軸受１３Ｚは、Ｚ軸方向の力（浮上力）を発生する。Ｚ軸方向に関するテーブル３の荷重は、気体軸受１１Ｚ及び気体軸受１３Ｚによって支持される。すなわち、気体軸受１１Ｚ及び気体軸受１３Ｚは、所謂、垂直方向気体軸受（上下方向気体軸受）である。
気体軸受１１Ｙ及び気体軸受１２Ｙは、Ｙ軸方向の力を発生する。Ｙ軸方向に関するテーブル３の荷重は、気体軸受１１Ｙ及び気体軸受１２Ｙによって支持される。すなわち、気体軸受１１Ｙ及び気体軸受１２Ｙは、所謂、水平方向気体軸受である。
気体軸受１１Ｚにより、基準面２Ｇと下面１１０との間に間隙が形成される。気体軸受１１Ｙにより、側面１０１と側面１１１との間に間隙が形成される。気体軸受１２Ｙにより、側面１０２と側面１２１との間に間隙が形成される。気体軸受１３Ｚにより、基準面２Ｇと下面１３０との間に間隙が形成される。また、気体軸受１１Ｚ及び気体軸受１３Ｚにより、テーブル３とガイド部材１０の上面１００との間に間隙が形成される。これにより、テーブル３は、第２基台２及びガイド部材１０に非接触で支持される。テーブル３が第２基台２及びガイド部材１０に非接触支持された状態で駆動装置５が作動することにより、テーブル３は、Ｘ軸方向に移動する。
吸引力発生装置１６及び吸引力発生装置１７はそれぞれ、テーブル３を第２基台２に引き寄せる力を発生する。吸引力発生装置１６は、軸受部材１１の隣に配置される。第２基台２とテーブル３との間の空間の中心に対して、吸引力発生装置１６は、軸受部材１１よりも外側（−Ｙ側）に配置される。吸引力発生装置１７は、軸受部材１３の隣に配置される。第２基台２とテーブル３との間の空間の中心に対して、吸引力発生装置１７は、軸受部材１３よりも外側（＋Ｙ側）に配置される。
吸引力発生装置１６は、第２基台２に接続される第１部材１６１と、テーブル３に接続され、第１部材１６１との間に、テーブル３を第２基台２に引き寄せる力を発生する第２部材１６２とを有する。本実施形態においては、第２部材１６２は、磁石を含み、第１部材１６１は、金属のような磁性体を含む。第１部材１６１と第２部材１６２との間に発生する磁力によって、テーブル３が第２基台２に引き寄せられる。吸引力発生装置１６と同様、吸引力発生装置１７は、第２基台２に接続される第１部材１７１と、テーブル３に接続され、第１部材１６１との間に、テーブル３を第２基台２に引き寄せる力を発生する第２部材１７２とを有する。Ｙ軸方向に関して、第１部材１６１は、第２基台２の一端部（−Ｙ側の端部）に接続され、第１部材１７１は、第２基台２の他端部（＋Ｙ側の端部）に接続される。Ｙ軸方向に関して、第２部材１６２は、テーブル３の一端部（−Ｙ側の端部）に接続され、第２部材１７２は、テーブル３の他端部（＋Ｙ側の端部）に接続される。
気体軸受１１Ｚは、第２基台２に対して軸受部材１１（テーブル３）を＋Ｚ方向に移動させる力（浮上力）を発生し、気体軸受１３Ｚは、第２基台２に対して軸受部材１３（テーブル３）を＋Ｚ方向に移動させる力（浮上力）を発生する。吸引力発生装置１６は、第２基台２に対してテーブル３を−Ｚ方向に移動させる力（吸引力）を発生し、吸引力発生装置１７は、第２基台２に対してテーブル３を−Ｚ方向に移動させる力（吸引力）を発生する。気体軸受１１Ｚ及び気体軸受１３Ｚの浮上力と、吸引力発生装置１６及び吸引力発生装置１７の吸引力とのバランスにより、基準面２Ｇと下面１１０との間隙、及び基準面２Ｇと下面１３０との間隙のそれぞれが維持され、Ｚ軸方向に関するテーブル３の変位が抑制される。
気体軸受１１Ｙは、ガイド部材１０に対して軸受部材１１（テーブル３）を−Ｙ方向に移動させる力（反発力）を発生する。気体軸受１２Ｙは、ガイド部材１０に対して軸受部材１２（テーブル３）を＋Ｙ方向に移動させる力（反発力）を発生する。気体軸受１１Ｙの反発力と気体軸受１２Ｙの反発力とのバランスにより、側面１０１と側面１１１との間隙、及び側面１０２と側面１２１との間隙のそれぞれが維持され、Ｙ軸方向に関する第２基台２とテーブル３との相対的な変位が抑制される。
本実施形態において、例えば軸受部材７が、多孔体（多孔質部材）を含み、供給口７２がその多孔体の孔を含んでもよい。すなわち、気体軸受７Ｚを形成するための軸受部材７の絞り方式が、所謂、多孔質絞り方式でもよい。多孔体は、例えば特許第５０９３０５６号公報、及び特開２００７−１２０５２７号公報などに開示されているようなグラファイト（カーボングラファイト）製でもよい。なお、多孔体がセラミックス製でもよい。なお、気体軸受７Ｚを形成するための軸受部材７の絞り方式は、多孔体を用いない自成絞り方式でもよいし、オリフィス絞り方式でもよいし、軸受面に設けられた溝を介して気体を供給する表面絞り方式でもよい。例えばオリフィス絞り方式の軸受部材７の場合、気体を供給する供給口７２は、オリフィスの開口を含む。気体軸受７Ｘ、気体軸受８Ｘ、気体軸受９Ｚ、気体軸受１１Ｚ、気体軸受１１Ｙ、気体軸受１２Ｙ、及び気体軸受１３Ｙのそれぞれを形成するための絞り方式も、多孔質絞り方式でもよいし、自絞り方式でもよいし、オリフィス絞り方式でもよいし、表面絞り方式でもよい。
次に、上述のテーブル装置ＴＡの動作の一例について説明する。第２基台２が第１基台１及びガイド部材６に非接触支持され、テーブル３が第２基台２及びガイド部材１０に非接触支持された状態で、駆動装置４及び駆動装置５の少なくとも一方が作動する。駆動装置４の作動により、第２基台２が移動する。第２基台２は、可動子４２、軸受部材７、軸受部材８、軸受部材９、第２部材１４２、及び第２部材１５２と一緒に移動する。駆動装置５の作動により、テーブル３が移動する。テーブル３は、可動子５２、軸受部材１１、軸受部材１２、軸受部材１３、第２部材１６２、及び第２部材１７２と一緒に移動する。
なお、少なくとも一部がガイド部材６と対向し、そのガイド部材６に対して移動する軸受部材７及び軸受部材８のそれぞれを、スライド部材と称してもよい。なお、少なくとも一部がガイド部材１０と対向し、そのガイド部材１０に対して移動する軸受部材１１及び軸受部材１２のそれぞれを、スライド部材と称してもよい。
例えば駆動装置４の作動により、第１基台１に対して第２基台２がＹ軸方向に移動する。Ｙ軸方向に関する第２基台２の移動により、その第２基台２に支持されているテーブル３も、第２基台２と一緒にＹ軸方向に移動する。また、駆動装置５の作動により、第２基台２に対してテーブル３がＸ軸方向に移動する。
本実施形態においては、第１基台１にガイド部材６が固定され、気体軸受７Ｘ及び気体軸受８Ｘが形成されるため、Ｘ軸方向に関する第１基台１と第２基台２との相対的な変位が抑制されつつ、第２基台２は、Ｙ軸方向に移動可能である。また、本実施形態においては、第２基台２にガイド部材１０が固定され、気体軸受１１Ｙ及び気体軸受１２Ｙが形成されるため、Ｙ軸方向に関する第２基台２とテーブル３との相対的な変位が抑制されつつ、テーブル３は、Ｘ軸方向に移動可能である。
図４は、Ｘ軸方向にテーブル３が移動する状態の一例を示す。本実施形態においては、Ｘ軸方向に関する軸受部材７と軸受部材９との距離Ｌｂは、Ｘ軸方向に関するテーブル３の移動範囲の寸法Ｌｔよりも長い。
距離Ｌｂは、Ｘ軸方向に関する下面７０の中心と下面９０の中心との距離を含む。距離Ｌｂは、Ｘ軸方向に関する気体軸受７Ｚの中心と気体軸受９Ｚの中心との距離を含む。
寸法Ｌｔは、Ｘ軸方向に関するテーブル３の移動可能範囲（ストローク）の寸法を含む。寸法Ｌｔは、移動範囲においてテーブル３が最も−Ｘ側に移動したときのテーブル３の重心とテーブル３が最も＋Ｘ側に移動したときのテーブル３の重心とのＸ軸方向に関する距離を含む。
本実施形態においては、Ｘ軸方向に関して、テーブル３の重心が軸受部材７（気体軸受７Ｚ）と軸受部材９（気体軸受９Ｚ）との間を移動するように、テーブル３の移動範囲が定められる。換言すれば、テーブル３の移動において、テーブル３の重心が軸受部材７よりも−Ｘ側に配置されず、軸受部材９よりも＋Ｘ側に配置されないように、Ｘ軸方向に関するテーブル３の移動範囲が定められる。なお、Ｘ軸方向に関して、軸受部材７と軸受部材９との間の中心とテーブル３の移動範囲の中心とが一致してもよい。
これにより、Ｘ軸方向に関するテーブル３の移動範囲において、そのテーブル３がピッチングしたり、テーブル３の上面３Ｓが傾斜したりすることが抑制される。なお、テーブル３のピッチングとは、Ｘ軸方向に進行するテーブル３が、その進行方向（Ｘ軸方向）に対して垂直に交わるＹ軸まわりの方向（すなわち、θＹ方向）に回転（傾斜）する現象をいう。
図５は、比較例の一例を模式的に示す図である。図５において、Ｘ軸方向に関して、軸受部材７Ｊと軸受部材９Ｊとの距離Ｌｂは、テーブル３Ｊの移動範囲の寸法よりも短い。テーブル３Ｊの移動範囲の少なくとも一部において、テーブル３Ｊの重心が軸受部材７Ｊよりも−Ｘ側に移動し、軸受部材９Ｊよりも＋Ｘ側に移動する。この場合、テーブル３Ｊがピッチングする可能性が高くなる。
本実施形態においては、Ｘ軸方向に関する軸受部材７と軸受部材９との距離Ｌｂは、Ｘ軸方向に関するテーブル３の移動範囲の寸法Ｌｔよりも長い。したがって、テーブル３がピッチングすることが抑制される。
以上説明したように、第１基台１の基準面１Ｇ上において第２基台２がＹ軸方向に移動し、第２基台２の基準面２Ｇ上においてテーブル３がＸ軸方向に移動するテーブル装置ＴＡにおいて、Ｘ軸方向に関する軸受部材７と軸受部材９との距離Ｌｂが、Ｘ軸方向に関するテーブル３の移動範囲の寸法Ｌｔよりも長いので、そのテーブル３の移動範囲においてテーブル３が移動しても、テーブル３の荷重は、軸受部材７によって形成される気体軸受７Ｚ及び軸受部材９によって形成される気体軸受９Ｚで支持される。これにより、テーブル３の移動範囲においてテーブル３がピッチングしたり、テーブル３の上面３ＳがＸＹ平面に対して傾斜したりすることが抑制される。そのため、テーブル３の位置決め精度の低下が抑制される。
また、本実施形態においては、Ｘ軸方向に関して、テーブル３の重心が軸受部材７と軸受部材９との間を移動するように、テーブル３の移動範囲が定められる。すなわち、テーブル３の重心が軸受部材７（気体軸受７Ｚ）と軸受部材９（気体軸受９Ｚ）との間から外側に移動しないので、その移動範囲においてテーブル３が移動しても、テーブル３の荷重は、気体軸受７Ｚ及び気体軸受９Ｚで支持される。これにより、テーブル３がピッチングしたり、テーブル３の上面３ＳがＸＹ平面に対して傾斜したりすることが抑制される。
また、本実施形態においては、ガイド部材６が設けられ、Ｘ軸方向に関してガイド部材６の両側に、気体軸受７Ｘ及び気体軸受８Ｘが形成される。気体軸受７Ｘは、ガイド部材６に対して第２基台２を−Ｘ方向に移動させる反発力を発生し、気体軸受８Ｘは、ガイド部材６に対して第２基台２を＋Ｘ方向に移動させる反発力を発生する。気体軸受７Ｘの反発力と気体軸受８Ｘの反発力とのバランスにより、側面６１と側面７１との間隙、及び側面６２と側面８１との間隙のそれぞれが維持され、Ｘ軸方向に関する第１基台１と第２基台２との相対的な変位が抑制される。そのため、第２基台２は、ガイド部材６にガイドされて、Ｙ軸方向に関して目標軌道で移動される。例えば、第２基台２は、Ｙ軸方向に真っ直ぐに移動可能である。これにより、その第２基台２に支持されているテーブル３も、Ｙ軸方向に関して目標軌道で移動される。
また、本実施形態においては、気体軸受７Ｘと気体軸受８Ｘとは、Ｘ軸方向に関してガイド部材６の両側に配置され、Ｘ軸方向に関して気体軸受７Ｘと気体軸受８Ｘとの距離は短い。そのため、例えば第２基台２が熱変形しても、軸受部材７と軸受部材８との相対的な距離の変化量が大きくなることが抑制される。したがって、第２基台２が熱変形しても、軸受部材７の側面７１とガイド部材６の側面６１との間隙の寸法が大きく変化したり、軸受部材８の側面８１とガイド部材６の側面６２との間隙の寸法が大きく変化したりすることが抑制される。そのため、気体軸受７Ｘの性能の低下及び気体軸受８Ｘの性能の低下が抑制され、軸受部材７及び軸受部材８に接続されている第２基台２は、Ｙ軸方向に関して目標軌道で移動される。
また、本実施形態においては、ガイド部材１０が設けられ、Ｙ軸方向に関してガイド部材１０の両側に、気体軸受１１Ｙ及び気体軸受１２Ｙが形成される。気体軸受１１Ｙは、ガイド部材１０に対してテーブル３を−Ｙ方向に移動させる反発力を発生し、気体軸受１２Ｙは、ガイド部材１０に対してテーブル３を＋Ｙ方向に移動させる反発力を発生する。気体軸受１１Ｙの反発力と気体軸受１２Ｙの反発力とのバランスにより、側面１０１と側面１１１との間隙、及び側面１０２と側面１２１との間隙のそれぞれが維持され、Ｙ軸方向に関する第２基台２とテーブル３との相対的な変位が抑制される。そのため、テーブル３は、ガイド部材１０にガイドされて、Ｘ軸方向に関して目標軌道で移動される。例えば、テーブル３は、Ｘ軸方向に真っ直ぐに移動可能である。
また、本実施形態においては、気体軸受１１Ｙと気体軸受１２Ｙとは、Ｙ軸方向に関してガイド部材１０の両側に配置され、Ｙ軸方向に関して気体軸受１１Ｙと気体軸受１２Ｙとの距離は短い。そのため、例えばテーブル３が熱変形しても、軸受部材１１と軸受部材１２との相対的な距離の変化量が大きくなることが抑制される。したがって、テーブル３が熱変形しても、軸受部材１１の側面１１１とガイド部材１０の側面１０１との間隙の寸法が大きく変化したり、軸受部材１２の側面１２１とガイド部材１０の側面１０２との間隙の寸法が大きく変化したりすることが抑制される。そのため、気体軸受１１Ｙの性能の低下及び気体軸受１２Ｙの性能の低下が抑制され、軸受部材１１及び軸受部材１２に接続されているテーブル３は、Ｘ軸方向に関して目標軌道で移動される。
また、本実施形態においては、気体軸受１１Ｚと気体軸受１３Ｚとが、Ｙ軸方向に関して離れて配置されている。テーブル３の荷重は、気体軸受１１Ｚ及び気体軸受１３Ｚで支持されるため、テーブル３がローリングしたり、テーブル３の上面３ＳがＸＹ平面に対して傾斜したりすることが抑制される。そのため、テーブル３の位置決め精度の低下が抑制される。なお、テーブル３のローリングとは、Ｘ軸方向に進行するテーブル３が、その進行方向と平行なＸ軸まわりの方向（すなわち、θＸ方向）に回転（傾斜）する現象をいう。
また、本実施形態においては、気体軸受７Ｚ及び気体軸受９Ｚの浮上力と、吸引力発生装置１４及び吸引力発生装置１５の吸引力とのバランスにより、基準面１Ｇと下面７０との間隙、及び基準面１Ｇと下面９０との間隙のそれぞれが維持され、Ｚ軸方向に関する第１基台１と第２基台２と相対的な変位が抑制される。そのため、第２基台２は、目標軌道で移動される。例えば、第２基台２は、Ｙ軸方向に真っ直ぐに移動可能である。これにより、その第２基台２に支持されているテーブル３も、目標軌道で移動される。
また、本実施形態においては、気体軸受１１Ｚ及び気体軸受１３Ｚの浮上力と、吸引力発生装置１６及び吸引力発生装置１７の吸引力とのバランスにより、基準面２Ｇと下面１１０との間隙、及び基準面２Ｇと下面１３０との間隙のそれぞれが維持され、Ｚ軸方向に関する第２基台２とテーブル３と相対的な変位が抑制される。そのため、テーブル３は、目標軌道で移動される。例えば、テーブル３は、Ｘ軸方向に真っ直ぐに移動可能である。
また、本実施形態においては、吸引力発生装置１４は、軸受部材７の隣（近傍）に配置されるため、気体軸受７Ｚによる浮上力と吸引力発生装置１４による吸引力とによって第２基台２に作用するせん断力が大きくなることが抑制される。同様に、吸引力発生装置１５は、軸受部材９の隣（近傍）に配置されるため、気体軸受９Ｚによる浮上力と吸引力発生装置１５による吸引力とによって第２基台２に作用するせん断力が大きくなることが抑制される。吸引力発生装置１６は、軸受部材１１の隣（近傍）に配置されるため、気体軸受１１Ｚによる浮上力と吸引力発生装置１６による吸引力とによってテーブル３に作用するせん断力が大きくなることが抑制される。吸引力発生装置１７は、軸受部材１３の隣（近傍）に配置されるため、気体軸受１３Ｚによる浮上力と吸引力発生装置１７による吸引力とによってテーブル３に作用するせん断力が大きくなることが抑制される。
＜第２実施形態＞
第２実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略又は省略する。
図６は、吸引力発生装置１５の一例を示す図である。なお、吸引力発生装置１４と吸引力発生装置１５と吸引力発生装置１６と吸引力発生装置１７とは同等の構造である。以下、吸引力発生装置１５について主に説明し、吸引力発生装置１４、吸引力発生装置１６、及び吸引力発生装置１７についての説明は簡略又は省略する。
吸引力発生装置１５は、第１基台１に接続される第１部材１５１と、第２基台２に接続され、第１部材１５１との間に、第２基台２を第１基台１に引き寄せる力を発生する第２部材１５２とを有する。第１部材１５１は、磁性体（強磁性体）のレールを含む。第１部材１５１は、Ｙ軸方向に長い。第１部材１５１は、ボルトのような固定部材２０により第１基台１に固定される。
第２部材１５２は、第１部材１５１の上方に配置される。第１部材１５１と第２部材１５２とは、間隙を介して対向する。第１部材１５１と第２部材１５２とは、非接触状態で、第２基台２を第１基台１に引き寄せる力（吸引力）を発生する。第２部材１５２は、Ｙ軸方向に複数配置されてもよい。複数の第２部材１５２はそれぞれ離れていてもよい。
本実施形態において、第２部材１５２は、第１部材１５１と対向する下面１５２Ｍｂを含む部分１５２Ｍと、部分１５２Ｍの上方に配置され、少なくとも一部が部分１５２Ｍよりも外側に張り出す下面１５２Ｓｂを含む部分１５２Ｓとを含む。部分１５２Ｓは、部分１５２Ｍと第２基台２（支持部材１９）との間に配置される。部分１５２Ｓが第２基台２（支持部材１９）と接続される。
本実施形態において、第２部材１５２は、磁石（永久磁石）と、その磁石を支持するスペーサー部材とを含む。本実施形態において、部分１５２Ｍが磁石を含み、部分１５２Ｓがスペーサー部材を含む。以下の説明においては、部分１５２Ｍを適宜、磁石１５２Ｍと称し、部分１５２Ｓを適宜、スペーサー部材１５２Ｓと称する。
本実施形態において、磁石１５２Ｍとスペーサー部材１５２Ｓとは、ボルトのような固定部材２１で固定される。磁石１５２Ｍは、スペーサー部材１５２Ｓを介して、第２基台２（支持部材１９）に接続される。スペーサー部材１５２Ｓにより、Ｚ軸方向に関する磁石１５２Ｍの位置（高さ）が調整される。スペーサー部材１５２Ｓにより、第１部材１５１の上面１５１ａと、その第１部材１５１の上面１５１ａと対向する磁石１５２Ｍの下面１５２Ｍｂとの間隙の寸法が調整される。
スペーサー部材１５２Ｓは、下面１５２Ｓｂと、第２基台２（支持部材１９）と対向可能な上面１５２Ｓａとを有する。本実施形態において、スペーサー部材１５２Ｓは、下面１５２Ｓｂと上面１５２Ｓａとを結ぶ孔１５２Ｈを有する。孔１５２Ｈは、上面１５２Ｓａと下面１５２Ｓｂとを結ぶ貫通孔である。孔１５２Ｈに、第２部材１５２（スペーサー部材１５２Ｓ）と第２基台２（支持部材１９）とを固定するための固定部材２２が配置される。固定部材２２は、例えばボルトを含む。固定部材２２の少なくとも一部は、孔１５２Ｈに配置可能である。また、第２基台２（支持部材１９）の少なくとも一部に、固定部材（ボルト）２２の先端部が配置可能な孔２Ｈが形成される。孔２Ｈの内面にねじ溝が形成される。なお、孔１５２Ｈの内面にもねじ溝が形成されてもよい。
ＸＹ平面において、下面１５２Ｓｂは、下面１５２Ｍｂよりも大きく、下面１５２Ｍｂよりも外側に張り出している。下面１５２Ｓｂの少なくとも一部は、第１基台１と第２基台２との間の空間の中心に対して、下面１５２Ｍｂよりも外側に張り出す。また、下面１５２Ｓｂは、磁石１５２Ｍの側面１５２Ｍｓよりも外側に張り出している。下面１５２Ｓｂの少なくとも一部は、第１基台１と第２基台２との間の空間の中心に対して、側面１５２Ｍｓよりも外側に張り出す。下面１５２Ｓｂの下方には空間ＭＳが形成される。空間ＭＳは、第１基台１と第２基台２との間の空間の中心に対して、磁石１５２Ｍよりも外側に配置される。
本実施形態においては、第２部材１５２を第２基台２（支持部材１９）に固定する場合、第２部材１５２（スペーサー部材１５２Ｓ）の上面１５２Ｓａと第２基台２（支持部材１９）の下面とが対向された状態で、スペーサー部材１５２Ｓの下面１５２Ｓｂ側から、固定部材２２が孔１５２Ｈに挿入される。すなわち、第２部材１５２（スペーサー部材１５２Ｓ）の上面１５２Ｓａと第２基台２（支持部材１９）の下面とが接触された状態で、空間ＭＳに固定部材２２が配置され、その空間ＭＳに配置された固定部材２２が、下面１５２Ｓｂ側から孔１５２Ｈに挿入される。孔１５２Ｈに挿入された固定部材（ボルト）２２の少なくとも一部が、孔２Ｈのねじ溝にねじ込まれることによって、第２部材１５２と第２基台２（支持部材１９）とが固定される。
第２部材１５２を第２基台２（支持部材１９）から解放する場合、固定部材２２と孔２Ｈのねじ溝との結合が解除されるように、固定部材２２が回転される。孔２Ｈのねじ溝との結合が解除された固定部材２２の少なくとも一部は、下面１５２Ｓｂよりも−Ｚ側に移動し、空間ＭＳに配置される。
このように、本実施形態においては、孔１５２Ｈの下側から孔１５２Ｈ及び孔２Ｈに固定部材２２が挿入可能であり、孔１５２Ｈの下側から孔１５２Ｈに配置されている固定部材２２が取り出し可能である。これにより、例えば第２基台２上にテーブル３が配置された状態で、吸引力発生装置１５の調整作業が円滑に行われる。吸引力発生装置１５の吸引力の調整（変更）は、例えば、第１部材１５１と第２部材１５２（磁石１５２Ｍ）との間隙の寸法の調整、第２部材１５２の交換、及び第１部材１５１と対向する位置に配置される第２部材１５２（磁石１５２Ｍ）の数の調整の少なくとも一つを含む。
第１部材１５１と磁石１５２Ｍとの間隙の寸法は、スペーサー部材１５２Ｓによって調整される。吸引力発生装置１５の吸引力の調整のために、第２基台２に固定されている第２部材１５２を第２基台２から取り外し、例えばスペーサー部材１５２Ｓを交換したり、スペーサー部材１５２Ｓを増減したりして、第１部材１５１と磁石１５２Ｍとの間隙の寸法を調整する作業が必要となる可能性がある。また、吸引力発生装置１５の吸引力の調整のために、第２基台２に固定されている磁石１５２Ｍを、吸引力（磁力）が強い磁石１５２Ｍに交換したり、吸引力（磁力）が弱い磁石１５２Ｍに交換したりする作業が必要となる可能性がある。また、吸引力発生装置１５の吸引力の調整のために、第２基台２に固定されている複数の第２部材１５２のうち一部の第２部材１５２を第２基台２から取り外したり、第２部材１５２を付加したりして、第２部材１５２（磁石１５２Ｍ）の数を調整する作業が必要となる可能性がある。
本実施形態によれば、第２部材１５２が部分１５２Ｍと部分１５２Ｓとを含み、固定部材２２が配置されるための孔１５２Ｈが部分１５２Ｓに設けられるため、吸引力発生装置１５の調整作業が円滑に行われる。例えば、上述の調整作業を、テーブル装置ＡＴから第２基台２を取り外すことなく、円滑に行うことができる。すなわち、第２基台２が第１基台１上に配置された状態で、上述の調整作業を円滑に行うことができる。
例えば、気体軸受９Ｚの軸受剛性を高めるために、供給口９１からの気体供給量（給気圧）を高めるとともに、吸引力発生装置１５による吸引力を大きくして、下面９０と基準面１Ｇとの間隙の寸法（すなわち浮上量）を小さくすることが考えられる。また、気体軸受９Ｚの軸受剛性を低くする場合においても、吸引力発生装置１５の吸引力の調整が必要となる可能性がある。本実施形態においては、吸引力発生装置１５の吸引力の調整作業を円滑に行うことができ、気体軸受９Ｚの軸受剛性の調整を円滑に行うことができる。
上述の調整作業が円滑に行われることにより、第２基台２は、目標軌道で移動可能であり、例えば第２基台２（基準面２Ｇ）がＸＹ平面に対して傾斜することが抑制される。そのため、その第２基台２に支持されるテーブル３の位置決め精度の低下が抑制される。
吸引力発生装置１４の調整作業、及び気体軸受７Ｚの軸受剛性の調整作業についても同様である。吸引力発生装置１４の第２部材１４２は、第１部材１４１と対向する第１部分と、その第１部分の上方に配置され、少なくとも一部が第１基台１と第２基台２との間の空間の中心に対して第１部分よりも外側に張り出す第２部分とを有し、その第２部分にボルトのような固定部材が配置される孔が形成される。
また、吸引力発生装置１６の調整作業を行う場合においても、テーブル装置ＡＴからテーブル３を取り外すことなく、あるいはテーブル３に載っている物体Ｓをテーブル３から取り除くことなく、その調整作業を円滑に行うことができる。すなわち、吸引力発生装置１６の第２部材１６２は、第１部材１６１と対向する第１部分と、その第１部分の上方に配置され、少なくとも一部が第２基台２とテーブル３との間の空間の中心に対して第１部分よりも外側に張り出す第２部分とを有し、その第２部分にボルトのような固定部材が配置される孔が形成される。そのため、テーブル３が第２基台２上に配置された状態で、あるいはテーブル３に物体Ｓが支持された状態で、上述の調整作業を円滑に行うことができる。また、吸引力発生装置１６の調整作業を円滑に行うことができるので、気体軸受１１Ｚの軸受剛性の調整作業も円滑に行うことができる。
上述の調整作業が円滑に行われることにより、テーブル３は、目標軌道で移動可能であり、例えばテーブル３（上面３Ｓ）がＸＹ平面に対して傾斜することが抑制される。そのため、テーブル３の位置決め精度の低下が抑制される。
吸引力発生装置１７の調整作業、及び気体軸受１３Ｚの軸受剛性の調整作業についても同様である。吸引力発生装置１７の第２部材１７２は、第１部材１７１と対向する第１部分と、その第１部分の上方に配置され、少なくとも一部が第２基台２とテーブル３との間の空間の中心に対して第１部分よりも外側に張り出す第２部分とを有し、その第２部分にボルトのような固定部材が配置される孔が形成される。
なお、本実施形態においては、部分１５２Ｍが磁石（永久磁石）を含み、部分１５２Ｓがスペーサー部材を含むこととした。部分１５２Ｍと部分１５２Ｓとは一体でもよい。なお、本実施形態においては、吸引力発生装置１５の第２部材１５２（部分１５２Ｍ）が永久磁石を含むこととした。第２部材１５２（部分１５２Ｍ）が、例えば電磁石を含んでもよい。なお、本実施形態においては、吸引力発生装置１５が磁力に基づく吸引力（第２基台２を第１基台１に引き寄せる力）を発生することとした。吸引力発生装置１５が、例えば真空力に基づく吸引力を発生してもよい。例えば、気体を吸引可能な吸引口が第２部材１５２に設けられ、第１部材１５１と第２部材１５２とが間隙を介して対向されている状態で、第２部材１５２に設けられた吸引口から気体が吸引されてもよい。
＜第３実施形態＞
第３実施形態について説明する。図７は、本実施形態に係るテーブル装置ＴＡを備える半導体製造装置２００の一例を示す図である。半導体製造装置２００は、半導体デバイスを製造可能な半導体デバイス製造装置を含む。半導体製造装置２００は、半導体デバイスの製造工程の少なくとも一部において使用される。半導体製造装置２００は、半導体デバイスを製造するための物体Ｓを搬送可能な搬送装置３００を含む。搬送装置３００は、本実施形態に係るテーブル装置ＴＡを含む。なお、図７においては、テーブル装置ＴＡを簡略して図示する。
本実施形態において、物体Ｓは、半導体デバイスを製造するための基板である。物体Ｓから半導体デバイスが製造される。物体Ｓは、半導体ウエハを含んでもよいし、ガラス板を含んでもよい。物体Ｓにデバイスパターン（配線パターン）が形成されることによって、半導体デバイスが製造される。
半導体製造装置２００は、処理位置ＰＪ１に配置された物体Ｓに対して、デバイスパターンを形成するための処理を行う。テーブル装置ＴＡは、テーブル３に支持された物体Ｓを処理位置ＰＪ１に配置する。搬送装置３００は、テーブル装置ＴＡのテーブル３に物体Ｓを搬送（搬入）可能な搬入装置３０１と、テーブル１０から物体Ｓを搬送（搬出）可能な搬出装置３０２とを含む。搬入装置３０１によって、処理前の物体Ｓがテーブル３に搬送（搬入）される。テーブル装置ＴＡによって、テーブル３に支持された物体Ｓが処理位置ＰＪ１まで搬送される。搬出装置３０２によって、処理後の物体Ｓがテーブル３から搬送（搬出）される。
テーブル装置ＴＡは、テーブル３を移動して、テーブル３に支持された物体Ｓを処理位置ＰＪ１に移動する。テーブル装置ＴＡは、テーブル３を目標軌道で移動可能であり、テーブル３に支持された物体Ｓを処理位置（目標位置）ＰＪ１に配置可能である。
例えば、半導体製造装置２００が、投影光学系２０１を介してデバイスパターンの像を物体Ｓに投影する露光装置を含む場合、処理位置ＰＪ１は、投影光学系２０１の像面の位置（露光位置）を含む。処理位置ＰＪ１に物体Ｓが配置されることにより、半導体製造装置２００は、投影光学系２０１を介して、デバイスパターンの像を物体Ｓに投影可能である。
処理位置ＰＪ１において物体Ｓが処理された後、その処理後の物体Ｓが搬出装置３０２によってテーブル３から搬送される。搬出装置３０２によって搬送（搬出）された物体Ｓは、後工程を行う処理装置に搬送される。
本実施形態においては、テーブル装置ＴＡは、物体Ｓを処理位置（目標位置）ＰＪ１に配置可能であるため、不良な製品が製造されてしまうことが抑制される。すなわち、テーブル装置ＴＡによって、半導体製造装置２００における物体Ｓの位置決め精度の低下が抑制されるため、不良な製品の発生が抑制される。
なお、半導体製造装置２００が、光学系を介して物体Ｓのデバイスパターンを計測する計測装置を含む場合、処理位置ＰＪ１は、光学系の焦点の位置（計測位置）を含む。処理位置ＰＪ１に物体Ｓが配置されることにより、半導体製造装置２００は、光学系を介して、物体Ｓに形成されたデバイスパターンの画像を取得可能である。半導体製造装置２００が、物体Ｓに膜を形成する成膜装置を含む場合、処理位置ＰＪ１は、膜を形成するための材料が供給可能な位置である。処理位置ＰＪ１に物体Ｓが配置されることにより、デバイスパターンを形成するための膜が物体Ｓに形成される。
なお、フラットパネルディスプレイ製造装置が、本実施形態に係るテーブル装置ＴＡを備えてもよいし、テーブル装置ＴＡを含む搬送装置３００を備えてもよい。フラットパネルディスプレイ製造装置は、例えば露光装置を含み、フラットパネルディスプレイの製造工程の少なくとも一部において使用される。フラットパネルディスプレイ製造装置が露光装置を含む場合、フラットパネルディスプレイを製造するためのパターンの像が投影光学系を介してガラス板を含む物体Ｓに投影される。フラットパネルディスプレイ製造装置は、目標位置に配置された物体Ｓを処理できるので、その物体Ｓから不良な製品が製造されてしまうことが抑制される。フラットパネルディスプレイは、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、及び有機ＥＬディスプレイの少なくとも一つを含む。
図８は、本実施形態に係るテーブル装置ＴＡを備える検査装置４００の一例を示す図である。検査装置４００は、半導体製造装置２００によって製造された物体（半導体デバイス）Ｓ２を検査する。検査装置４００は、物体Ｓ２を搬送可能な搬送装置３００Ｂを含む。搬送装置３００Ｂは、本実施形態に係るテーブル装置ＴＡを含む。なお、図８においては、テーブル装置ＴＡを簡略して図示する。
検査装置４００は、検査位置ＰＪ２に配置された物体Ｓ２の検査を行う。テーブル装置ＴＡは、テーブル３に支持された物体Ｓ２を検査位置ＰＪ２に配置する。搬送装置３００Ｂは、テーブル装置ＴＡのテーブル３に物体Ｓ２を搬送（搬入）可能な搬入装置３０１Ｂと、テーブル３から物体Ｓ２を搬送（搬出）可能な搬出装置３０２Ｂとを含む。搬入装置３０１Ｂによって、検査前の物体Ｓ２がテーブル３に搬送（搬入）される。テーブル装置ＴＡによって、テーブル３に支持された物体Ｓ２が検査位置ＰＪ２まで搬送される。搬出装置３０２Ｂによって、検査後の物体Ｓ２がテーブル３から搬送（搬出）される。
テーブル装置ＴＡは、テーブル３を移動して、テーブル３に支持された物体Ｓ２を検査位置ＰＪ２に移動する。テーブル装置ＴＡは、テーブル３を目標軌道で移動可能であり、テーブル３に支持された物体Ｓ２を検査位置（目標位置）ＰＪ２に配置可能である。
本実施形態において、検査装置４００は、検出光を用いて物体Ｓ２の検査を光学的に行う。検査装置４００は、検出光を射出可能な照射装置４０１と、照射装置４０１から射出され、物体Ｓ２で反射した検出光の少なくとも一部を受光可能な受光装置４０２とを含む。本実施形態において、検査位置ＰＪ２は、検出光の照射位置を含む。検査位置ＰＪ２に物体Ｓ２が配置されることにより、物体Ｓ２の状態が光学的に検査される。
検査位置ＰＪ２において物体Ｓ２の検査が行われた後、その検査後の物体Ｓ２が搬出装置３０２Ｂによってテーブル１０から搬送される。
本実施形態においては、テーブル装置ＴＡは、物体Ｓ２を検査位置（目標位置）ＰＪ２に配置可能であるため、検査不良の発生を抑制できる。すなわち、検査装置４００は、物体Ｓ２が不良であるか否かを良好に判断することができる。これにより、例えば不良な物体Ｓ２が後工程に搬送されたり、出荷されたりすることが抑制される。
なお、本実施形態においては、テーブル３がＸＹ平面内（水平面内）に移動することとした。本実施形態において、テーブル３がＸＹ平面に対して傾斜する方向に移動されてもよい。第２基台２がＸＹ平面に対して傾斜する方向に移動されてもよい。換言すれば、第２基台２及びテーブル３の一方又は両方が、水平面に対して傾斜する所定面内において移動されてもよい。
１ 第１基台
１Ｇ 基準面
２ 第２基台
２Ｇ 基準面
３ 第３テーブル
３Ｓ 上面
４ 駆動装置
５ 駆動装置
６ ガイド部材
７ 軸受部材
７Ｘ 気体軸受
７Ｚ 気体軸受
８ 軸受部材
８Ｘ 気体軸受
９ 軸受部材
９Ｚ 気体軸受
１０ ガイド部材
１１ 軸受部材
１１Ｙ 気体軸受
１１Ｚ 気体軸受
１２ 軸受部材
１２Ｙ 気体軸受
１３ 軸受部材
１３Ｚ 気体軸受
１４ 吸引力発生装置
１５ 吸引力発生装置
１６ 吸引力発生装置
１７ 吸引力発生装置
２２ 固定部材
６０ 上面
６１ 側面
６２ 側面
７０ 下面
７１ 側面
７２ 供給口
７３ 供給口
８１ 側面
８２ 供給口
９０ 下面
９１ 供給口
１００ 上面
１０１ 側面
１０２ 側面
１１０ 下面
１１１ 側面
１１２ 供給口
１１３ 供給口
１２１ 側面
１２２ 供給口
１３０ 下面
１３１ 供給口
１４１ 第１部材
１４２ 第２部材
１５１ 第１部材
１５２ 第２部材
１５２Ｈ 孔
１５２Ｍ 部分（磁石）
１５２Ｍｂ 下面
１５２Ｓ 部分（スペーサー部材）
１５２Ｓｂ 下面
１６１ 第１部材
１６２ 第２部材
１７１ 第１部材
１７２ 第２部材
２００ 半導体製造装置
３００ 搬送装置
４００ 検査装置
ＴＡ テーブル装置

Claims (9)

  1. 所定面と平行な第１基準面を有する第１基台と、
    前記所定面と平行な第２基準面を有し、前記第１基準面上において前記所定面内の第１軸と平行な方向に移動可能な第２基台と、
    前記第２基台に設けられ、前記第１基準面と対向する第１気体供給口を有し、前記第１気体供給口から供給される気体により前記第１基準面との間に気体軸受を形成する第１軸受部材と、
    前記第１軸と直交する前記所定面内の第２軸と平行な方向に関して前記第１軸受部材から離れて前記第２基台に設けられ、前記第１基準面と対向する第２気体供給口を有し、前記第２気体供給口から供給される気体により前記第１基準面との間に気体軸受を形成する第２軸受部材と、
    前記第２基準面上において前記第２軸と平行な方向に移動可能なテーブルと、
    前記第２基台に設けられ、前記テーブルを前記第２軸と平行な方向にガイドする第２ガイド部材と、
    前記テーブルに設けられ、前記第２基準面と対向する第５気体供給口と、前記第１軸と平行な第２方向を向く前記第２ガイド部材の第３側面と対向する第６気体供給口と、を有し、前記第５気体供給口から供給される気体により前記第２基準面との間に気体軸受を形成し、前記第６気体供給口から供給される気体により前記第３側面との間に気体軸受を形成する第４軸受部材と、
    前記テーブルに設けられ、前記第２方向の反対方向を向く前記第２ガイド部材の第４側面と対向する第７気体供給口を有し、前記第７供給口から供給される気体により前記第３側面との間に気体軸受を形成する第５軸受部材と、を備え、
    前記第２軸と平行な方向に関して、前記第１軸受部材と前記第２軸受部材との距離は、前記テーブルの移動範囲の寸法よりも長いテーブル装置。
  2. 前記第２軸と平行な方向に関して、前記テーブルの重心が前記第１軸受部材と前記第２軸受部材との間を移動するように、前記テーブルの移動範囲が定められる請求項１に記載のテーブル装置。
  3. 前記第１基台に設けられ、前記第２基台を前記第１軸と平行な方向にガイドする第１ガイド部材を備える請求項１又は請求項２に記載のテーブル装置。
  4. 前記第２基台に設けられ、前記第２軸と平行な第１方向を向く前記第１ガイド部材の第１側面と対向する第３気体供給口を有し、前記第３気体供給口から供給される気体により前記第１側面との間に気体軸受を形成する第３軸受部材を備え、
    前記第１軸受部材は、前記第１方向の反対方向を向く前記第１ガイド部材の第２側面と対向するように配置される第４気体供給口を有し、前記第４気体供給口から供給される気体により前記第２側面との間に気体軸受を形成する請求項３に記載のテーブル装置。
  5. 前記第１軸と平行な方向に関して前記第４軸受部材から離れて前記テーブルに設けられ、前記第２基準面と対向する第８気体供給口を有し、前記第８気体供給口から供給される気体により前記第２基準面との間に気体軸受を形成する第６軸受部材を備える請求項１から請求項４のいずれか一項に記載のテーブル装置。
  6. 前記第１基台と前記第２基台との間に配置され、前記第２基台を前記第１基台に引き寄せる力を発生する吸引力発生装置を備える請求項１から請求項５のいずれか一項に記載のテーブル装置。
  7. 前記吸引力発生装置は、前記第１基台に接続される第１部材と、前記第２基台に接続され、前記第１部材との間に前記引き寄せる力を発生可能な第２部材と、を含み、
    前記第２部材は、前記第１部材と対向する第１下面を含む第１部分と、前記第１部分の上方に配置され、少なくとも一部が前記第１部分よりも外側に張り出す第２下面を含む第２部分と、を有し、
    前記第２部分は、前記第２下面と前記第２部材の上面とを結ぶ孔を有し、
    前記孔に、前記第２部材と前記第２基台とを固定するための固定部材が配置される請求項６に記載のテーブル装置。
  8. 所定面と平行な基準面を有する基台と、
    前記基準面上において移動可能な可動部材と、
    前記可動部材に設けられ、前記基準面と対向する気体供給口を有し、前記気体供給口から供給される気体により前記基準面との間に気体軸受を形成する軸受部材と、
    前記基台に接続される第１部材と、前記可動部材に接続される第２部材と、を含み、前記第１部材と前記第２部材との間に、前記可動部材を前記基台に引き寄せる力を発生する吸引力発生装置と、を備え、
    前記第２部材は、前記第１部材と対向する第１下面を含む第１部分と、前記第１部分の上方に配置され、少なくとも一部が前記第１部分よりも外側に張り出す第２下面を含む第２部分と、を有し、
    前記第２部分は、前記第２下面と前記第２部材の上面とを結ぶ孔を有し、
    前記孔に、前記第２部材と前記可動部材とを固定するための固定部材が配置されるテーブル装置。
  9. 請求項１から請求項８のいずれか一項に記載のテーブル装置を備える搬送装置。
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