JP3709896B2 - ステージ装置 - Google Patents
ステージ装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3709896B2 JP3709896B2 JP17285595A JP17285595A JP3709896B2 JP 3709896 B2 JP3709896 B2 JP 3709896B2 JP 17285595 A JP17285595 A JP 17285595A JP 17285595 A JP17285595 A JP 17285595A JP 3709896 B2 JP3709896 B2 JP 3709896B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum
- surface plate
- guide
- moving body
- moving
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G12—INSTRUMENT DETAILS
- G12B—CONSTRUCTIONAL DETAILS OF INSTRUMENTS, OR COMPARABLE DETAILS OF OTHER APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G12B9/00—Housing or supporting of instruments or other apparatus
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6838—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping with gripping and holding devices using a vacuum; Bernoulli devices
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T74/00—Machine element or mechanism
- Y10T74/20—Control lever and linkage systems
- Y10T74/20012—Multiple controlled elements
- Y10T74/20201—Control moves in two planes
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T74/00—Machine element or mechanism
- Y10T74/20—Control lever and linkage systems
- Y10T74/20207—Multiple controlling elements for single controlled element
- Y10T74/20341—Power elements as controlling elements
- Y10T74/20354—Planar surface with orthogonal movement only
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、ステージ装置に係り、例えば、露光装置等におけるＸＹステージ装置として好適なステージ装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
レチクル上のパターンを露光光で被露光基板（感光基板）に転写する露光装置において、被露光基板を所定の露光位置に移動させる手段として、Ｘ、Ｙ２次元方向に移動可能な基板ステージを備えたＸＹステージ装置が用いられる。このＸＹステージ装置としては、例えば、特開平１−１８８２４１号、特開平４−２２３８３０号公報に開示されるように、高速・高精度なステージの移動、位置決めを実現すべく、静圧空気案内式のステージ装置が用いられる。
【０００３】
図４には、従来のこの種のＸＹステージ装置の一例が示されている。図４において、鉄製の定盤１００に鉄製のＸ方向の案内手段であるＸガイド１０２とＸ方向の駆動手段であるリニアモーター１０４、１０６の固定子１０４Ａ、１０６Ａとが固定されている。リニアモータ１０４、１０６の可動子１０４Ｂ、１０６Ｂは第１、第２のＹガイド搬送体１１０、１１２にそれぞれ接続され、これらのＹガイド搬送体１１０、１１２相互間にはＹ方向の案内手段であるＹガイド１０８が架設されている。即ち、これらＹガイド搬送体１１０、１１２、及びＹガイド１０８によって、可動子１０４Ｂ、１０６ＢのＸ方向の移動によってＸ方向の駆動されるＸ方向の移動体が構成される。
【０００４】
第１のＹガイド搬送体１１０の定盤１００およびＸガイド１０２と対向する面並びに第２のＹガイド搬送体１１２の定盤１００と対向する面には、図示しない空気噴出部および永久磁石が設けられており、これら第１のＹガイド搬送体１１０及び第２のＹイド搬送体１１２は、定盤１００及びＸガイド１０２に対し反発力である空気圧と吸引力である磁力とが釣り合った状態で所定寸法の隙間を保ちつつ浮上している。
【０００５】
Ｙガイド１０８には、当該Ｙガイド１０８に沿ってＹ方向に移動可能なＹ移動体１１０が、Ｙガイド１０８を上下左右の四方から取り囲む状態で取り付けられている。このＹ移動体１１０の両側壁部にはＹガイド１０８をＸ方向の両側から挟む形で一対のＹ方向軸受体１１２（片側図示せず）が固定され、これらのＹ方向軸受体１１２には空気噴出部がそれぞれ設けられている。このため、一対のＹ方向軸受体１１２からＹガイド１０８に向けてそれぞれ吹き出される空気圧の釣合により、Ｙ方向軸受体１１２とＹガイド１０８との間には一定のギャップが設定されている。
【０００６】
Ｙ移動体１１０の定盤１００と対向する面には図示しない空気噴出部と永久磁石が設けられ、Ｙ移動体１１０は、空気圧と磁力が釣り合った状態で定盤１００に対し所定寸法の隙間を保ちつつ浮上している。
【０００７】
Ｙガイド１０８の上面には、リニアモーターの固定子１１４Ａが固定され、このリニアモータの可動子（図示省略）がＹ移動体１１０に取り付けられており、この可動子と一体的にＹ移動体１１０がＹ方向に駆動されるようになっている。
【０００８】
Ｙ移動体１１０の天板部は基板ステージ１１４とされ、この基板ステージ１１４上には座標計測手段であるレーザー干渉計の光を反射する移動鏡（図示省略）が搭載され、Ｚ方向およびＸ、Ｙ、Ｚ軸回りに制御可能なテーブル（図示省略）を介して被露光基板が載置される。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
ＸＹステージ装置では、基板ステージ１１４の位置及び速度の整定時間が短いことが重要であり、このため、装置全体の機械的共振周波数が高いことが望ましい。従って、静圧空気軸受の軸受隙間の空気の上下方向の剛性が高いことと共に、定盤が軽量でかつ基板ステージ１１４の移動（より具体的にはＸ移動体、Ｙ移動体の移動）により容易に撓んだりしないことが望ましい。
【００１０】
しかしながら、上述した従来のＸＹステージ装置にあっては、定盤１１０及びＸガイド１０２として比較的重量が重く、剛性が小さい鉄製のものが用いられていたことから、装置全体の機械的共振周波数が低く、基板ステージ１１４の移動により定盤１１０に撓みが生じることがあった。また、定盤１１０に傷がつき易く、傷がついた場合、傷部に錆が発生したり、窪みだけでなくカエリと呼ばれる盛上がりが発生するため、その盛上がり量が軸受隙間である５〜１０μｍを越えるときには、ステージの移動性能が損なわれるという不都合があった。
【００１１】
ところで、従来、鉄製の定盤が使用されていたのは、各移動部材を磁石予圧型空気軸受を介して定盤上に支持していたことと密接な関係がある。即ち、静圧空気軸受の場合、軸受隙間の空気の剛性が移動体のピッチングやローリング性能に影響を与えるため、軸受隙間の設定が重要であり、磁石予圧型空気軸受の軸受隙間は、空気噴出部からの空気圧と移動体に取り付けられた磁石が定盤等を吸引する吸引力との釣合で設定されるため、定盤等が磁性体であることが前提となるからである。
【００１２】
磁石予圧型空気軸受の軸受隙間は、空気噴出部の特性の微調整又は磁石の取り替えによる磁力の調整あるいは磁石の取付位置の変更等により調整可能である。しかしながら、かかる調整作業は部品単体では可能であるが、装置組立後には行なうことができず、このため、部品加工の誤差や組立誤差で生じる軸受隙間のばらつきを微調整することが困難であるという不都合があった。
【００１３】
これに加え、磁石予圧型空気軸受を使用する場合には、磁石と鉄が相対的に移動する際に電磁誘導効果により鉄の表面付近に渦電流が発生し、この渦電流と磁力の作用により移動体の移動を停止させる方向に力が発生するため、駆動リニアモータに大きな推力を発生させる必要があり、必然的にモータの大型化、消費電力の増大、発熱量の増大等の不都合を招くという不都合もあった。
【００１４】
また、上記従来のＸＹステージ装置では、単一のリニアモータにより基板ステージをＹ方向に駆動しているため、推力リップルの影響が大きく、また被露光基板が露光位置にある時に、Ｙ方向駆動用のリニアモータが図示しないＹ干渉計の光路下に光路に沿って位置するため、強制液冷を行ったとしても残留する発熱の影響による空気ゆらぎのため干渉計の計測値に誤差が生ずるという不都合もあった。
【００１５】
本発明は、かかる従来技術の有する不都合に鑑みてなされたもので、その第１の目的は、定盤に多少の傷がついても移動体の移動性能を損うことがないステージ装置を提供することにある。
【００１６】
本発明の第２の目的は、移動体の駆動手段の消費電力の低減及び発熱量の低減を図ることができると共に、組み立て後に軸受隙間を高精度に調整することができるステージ装置を提供することにある。
【００１７】
本発明の第３の目的は、リニアモータの推力リップルの影響が小さく、露光装置等に用いた場合に、レーザー干渉計の光路への熱の発散を抑制することができるステージ装置を提供することにある。
【００１８】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、定盤と、当該定盤上に固定された少なくとも１本のガイドバーと、前記定盤上面と前記ガイドバーに沿って所定の第１方向に移動可能な第１の移動体と、当該第１の移動体に案内されて前記定盤上を前記第１方向に直交する第２方向に移動可能な第２の移動体とを有するステージ装置において、少なくとも前記定盤をセラミックス製とし、前記第１の移動体の前記定盤対向面及び前記ガイドバー対向面に設けられ、空気噴出部と真空部とを有する複数の真空予圧型空気軸受と；前記複数の真空予圧型空気軸受の複数の真空部の圧力を独立に制御する制御手段とを備えたことを特徴とする。
【００１９】
ここで、定盤を形成するセラミックとしては、ファインセラミックス、代表的にはアルミナセラミックスが挙げられる。
【００２０】
請求項２に記載の発明は、前記ガイドバーがセラミックス製であることを特徴とする。
【００２１】
請求項３に記載の発明は、前記制御手段が真空調整弁を有していることを特徴とする。
【００２２】
請求項４に記載の発明は、移動面が形成された定盤と、前記移動面上を移動可能な移動体とを有するステージ装置において、前記定盤をセラミックス製とし；前記移動面に対向して前記移動体に設けられ、空気噴出部と真空部とを有する複数の真空予圧型空気軸受と；前記複数の真空予圧型空気軸受の複数の真空部の圧力を独立に制御する制御手段とを備えたことを特徴とする。
【００２３】
請求項５に記載の発明は、制御手段が真空調整弁を有していることを特徴とする。
【００２４】
請求項６に記載の発明は、前記移動体を移動するリニアモータを備えたことを特徴とする。
請求項７に記載の発明は、前記移動体の位置を検出するレーザ干渉計を備えたことを特徴とする。
【００２５】
【作用】
請求項１に記載の発明によれば、定盤がセラミックス製であることから、従来の鉄製の定盤に比べ、軽量化及び高剛性化を図ることができ、第１、第２の移動体の移動により容易に撓むことがなく、結果的に装置全体の機械的共振周波数が高くなる。例えば、定盤がアルミナセラミックス製である場合には、重量は約半分(鉄の比重7. 8、アルミナの比重3.8)で剛性は1.85倍(鉄のヤング率：210GPa、アルミナのヤング率：390GPa)になる。また、定盤に傷がつき難く、仮に傷がついた場合でもいわゆるカエリが生じない。
【００２６】
更に、請求項１に記載の発明によれば、第１の移動体の定盤対向面及びガイドバー対向面に真空部の圧力を独立して制御可能な制御手段が設けられていることから、組立後に複数の真空部の圧力（吸引力）を制御して真空予圧型空気軸受の隙間を最適な状態に設定することが可能になる。また、真空予圧型空気軸受の場合、磁石の吸引力を利用しないので、定盤が非磁性体であるセラミックであっても何等支障なく使用することができ、また、真空源を停止することにより吸引力をなくすることが可能なため、第１の移動体を容易に装置本体から取り外すことが可能になり保守性が向上した。同様に、真空予圧型空気軸受の場合、磁石の吸引力を利用しないので、渦電流が発生することがない。
【００２７】
請求項２に記載の発明は、ガイドバーもセラミックス製であるのでステージ装置を軽量化することができる。
【００２８】
請求項３に記載の発明は、真空調整弁を用いて複数の真空部の圧力と独立に制御することができる。
【００２９】
請求項４に記載の発明は、定盤をセラミックス製にしているので機械的共振周波数を高くするとともに、制御手段が複数の真空部の圧力を独立して制御しているので真空予圧型空気軸受の軸受隙間を独立に調整している。
【００３０】
請求項５に記載の発明は、真空調整弁を用いて複数の真空部の圧力を独立に制御することができる。
請求項６に記載の発明によれば、リニアモータにより移動体が移動される。
請求項７に記載の発明によれば、レーザ干渉計により移動体の位置が検出される。
【００３１】
【実施例】
以下、本発明の一実施例を図１ないし図３に基づいて説明する。
【００３２】
図１には、一実施例に係るステージ装置としてのＸＹステージ装置１０が概略的に示されている。このＸＹステージ装置１０は、定盤１２と、定盤１２上に固定されたガイドバーとしてのＸガイド１４と、定盤１２上面及びＸガイド１４に沿って図１におけるＸ方向（所定の第１方向）に移動可能な第１の移動体１６と、この第１の移動体１６を構成する移動ガイドとしてのＹガイド２２に沿ってＸ方向に直交するＹ方向（第２方向）に移動可能な第２の移動体３６とを備えている。
【００３３】
定盤１２としては、鉄に比べ軽量で傷のつき難いアルミナセラミックス製の長方形状のものが使用されている。この定盤１２の上面は基準面とされている。
【００３４】
Ｘガイド１４としては、同じくアルミナセラミックス製のものが使用されている。このＸガイド１４は、定盤１２上のＹ方向の一端面近傍にＸ方向に沿って配置されている。このＸガイド１４のＹ方向の他端側の面は基準面とされている。
【００３５】
前記第１の移動体１６は、定盤１２上にＸガイド１４に近接してＸ方向に沿って配置された断面Ｌ字状部材から成る第１の移動ガイド搬送体としての第１のＹガイド搬送体１８と、この第１のＹガイド搬送体１８から所定距離隔てて当該第１のＹガイド搬送体１８と平行に定盤１２上に配置された細長い板状部材から成る第２の移動ガイド搬送体としての第２のＹガイド搬送体２０と、これら第１、第２のＹガイド搬送体１８、２０相互間に架設されたＹ方向に延びる前記Ｙガイド２２とを有している。
【００３６】
定盤１２上のＸガイド１４のＹ方向の一側には、第１のＸリニアモータ２４の固定子２４Ａが、Ｘガイド１４に近接してＸ方向に延設されている。また、定盤１２上のＹ方向の他端部近傍で第２のＹガイド搬送体２０のＹ方向の他側には、第２のＸリニアモータ２６の固定子２６Ａが、Ｘ方向に延設されている。本実施例では、図１から明らかなように、第１、第２のＸリニアモータ２４、２６として、いわゆるムービングマグネット型のリニアモータが使用されている。
【００３７】
第１のＸリニアモータ２４の可動子２４Ｂは、連結部材２８を介してＹガイド２２の一端に連結されており、第２のＸリニアモータ２６の可動子２６Ｂは、連結部材３０を介してＹガイド２２の他端に連結されている。このため、第１、第２のＸリニアモータ２４、２６の可動子２４Ｂ、２６Ｂの移動によって第１の移動体がＸ方向に駆動されるようになっている。
【００３８】
Ｙガイド２２のＸ方向の一側と他側には、第１、第２のＹリニアモータ３２、３４の固定子３２Ａ、３４ＡがＹ方向に沿って配置され、第１、第２のＹガイド搬送体１８、２０間に懸架されている。但し、図１では、奥側の第２のＹリニアモータの可動子は図示を省略されている。第１、第２のＹリニアモータとしてもムービングマグネット型のリニアモータが使用されている。
【００３９】
前記第２の移動体３６は、Ｙガイド２２を上下から挟む状態で相互に平行にかつ定盤１２の上面（基準面）にほぼ平行に配置された天板３８及び底板４０と、これらの天板３８と底板４０とをＹガイド２２の両側で相互に連結する一対のＹ方向軸受体４２、４２とを有している。これらのＹ方向軸受体４２、４２はＹガイド２２との間に所定の間隙を形成した状態でＹガイド２２に平行に配置されている。これらのＹ方向軸受体４２、４２の外面には、第２の移動体３６の駆動手段を構成する前述した第１、第２のＹリニアモータ３２、３４の可動子３２Ｂ、３４Ｂ（但し、３４Ｂは図示せず）が取り付けられており、Ｙリニアモータ３２、３４の可動子３２Ｂ，３４Ｂの移動によって第２の移動体３６がＹ方向に駆動されるようになっている。また、Ｙ方向軸受体４２の内面には、図示しない空気吹き出し部が設けられている。更に、これらのＹ方向軸受体４２の高さ方向の寸法は、Ｙガイド２２のそれにより大きく設定されている。
【００４０】
前記天板部３８は、基板ステージを兼ねており、この天板部３８の上面には、定盤１２上に固定されたＸ座標計測用レーザ干渉計４４およびＹ座標計測用レーザ干渉計４６から放射されるレーザ光を反射するＸ移動鏡４８、Ｙ移動鏡５０及び被露光基板５２が搭載されている。なお、この被露光基板５２は、実際には、上下(Ｚ方向)の移動、およびＸ、Ｙ、Ｚ軸回りの回転が可能な不図示のＺレベリングステージを介して天板部３８上に搭載される。
【００４１】
更に、本実施例では、いろいろな所に空気噴出部と真空予圧部とを備えた真空予圧型静圧空気軸受が設けられている。以下、これについて図２を参照しつつ説明する。図２（Ａ）は第１の移動体１６及び第２の移動体３６部分を中心とした要部を図１の矢印Ａ方向から見た図であり、図２（Ｂ）は同図（Ａ）の底面図であり、図２（Ｃ）は同図（Ａ）のＣ−Ｃ線断面図である。
【００４２】
第１のＹガイド搬送体１８の定盤１２との対向面には、図２（Ｂ）に示されるように、空気噴出部５４（５４1 〜５４3 ）と真空予圧部５６（５６1 、５６2 ）とが交互に設けられている。図３に示されるように、各空気噴出部５４にはコンプレッサ６０からの圧搾空気が供給され、各真空予圧部５６には真空予圧部５６のみの圧力を手動により調整可能な真空調圧弁５８を介して真空源としての真空ポンプ６２が接続されており、これにより空気圧と真空吸引力の釣合で生じる軸受隙間（定盤１２上面とＹガイド搬送体１８との間に生じる隙間）の調節が可能になっている。
【００４３】
同様に、第２のＹガイド搬送体２０の定盤１２との対向面には、図２（Ｂ）に示されるように、空気噴出部６４（６４1 〜６４3 ）と真空予圧部６６（６６1 、６６2 ）とが交互に設けられている。図３に示されるように、各空気噴出部６４にはコンプレッサ６０からの圧搾空気が供給され、各真空予圧部６６には真空予圧部６６のみの圧力を手動により調整可能な真空調圧弁６８を介して真空ポンプ６２が接続されており、これにより空気圧と真空吸引力の釣合で生じる軸受隙間（定盤１２上面とＹガイド搬送体２０との間に生じる隙間）の調節が可能になっている。
【００４４】
また、同様に、第２の移動体３６の底板４０の定盤１２との対向面には、図２（Ｂ）に示されるように、空気噴出部７０（７０1 〜７０4 ）と真空予圧部７２（７２1 〜７２4 ）とが設けられている。図３に示されるように、各空気噴出部７０にはコンプレッサ６０からの圧搾空気が供給され、各真空予圧部７２には真空予圧部７２のみの圧力を手動により調整可能な真空調圧弁７４を介して真空ポンプ６２が接続されており、これにより空気圧と真空吸引力の釣合で生じる軸受隙間（定盤１２と底板４０との間の隙間）の調節が可能になっている。この場合、この隙間の調整により、Ｙガイド２２と天板３８及び底板４０との間には、所定のクリアランスが設定・維持できるようになる。
【００４５】
また、同様に、第１のＹガイド搬送体１８のＸガイド１４との対向面には、図２（Ｃ）に示されるように、空気噴出部７６（７６1 〜７６3 ）と真空予圧部７８（７８1 、７８2 ）とが交互に設けられている。図３に示されるように、空気噴出部７６にはコンプレッサ６０からの圧搾空気が供給され、真空予圧部７８には真空予圧部７８のみの圧力を手動にて調整可能な真空調圧弁８０を介して真空ポンプ６２が接続されており、空気圧と真空吸引力の釣合で生じる軸受隙間（第１のＹガイド搬送体１８のＸガイド１４との間の隙間）の調節が可能になっている。
【００４６】
更に、Ｙ方向軸受体４２、４２のＹガイド２２との対向面にはそれぞれ空気噴出部８２1 、８２2 （図３参照）が設けられており、両者の空気圧の釣合により所定の軸受隙間が保たれるようになっている。
【００４７】
次に、上述のようにして構成された本実施例のＸＹステージ装置１０の作用を説明する。
【００４８】
それぞれの真空予圧型静圧空気軸受を構成する真空予圧部５６、６６、７２、７８の圧力が真空調圧弁５８、６８、７４、８０により各別に調整されると、各真空予圧型静圧空気軸受の軸受隙間が適切に設定される。この場合、真空調圧弁５８、６８、７４、８０は手動により操作されるが、所定の条件に基づいてコンピュータ制御により自動的に真空予圧部の圧力を自動調整できるものであってもよい。
【００４９】
各真空予圧型静圧空気軸受の軸受隙間が適切に設定された状態で、第１、第２のＸリニアモータ２４、２６、第１、第２のＹリニアモータ３２、３４が駆動されると、これに応じて被露光基板５２が搭載された第２の移動体３６がＸ、Ｙ２次元方向に移動し、その移動位置がレーザ干渉計４４、４６によって計測される。
【００５０】
以上説明したように、本実施例によると、定盤１２及びＸガイド１４をアルミナセラミックス製にすることにより、従来のステージ装置で使用された鉄製の定盤等に比べ、重量は約半分(鉄の比重7. 8、アルミナの比重3.8)で剛性は1.85倍(鉄のヤング率：210GPa、アルミナのヤング率：390GPa)にすることができるとともに、傷がつきにくく、また傷がついた場合でもカエリが生じないため、第１、第２の移動体１６、３６の移動性能を損なうことがない。また、第１の移動体１６の上下方向とＹ方向の支持および第２の移動体３６の上下方向の支持方法を真空部圧力を個々独立に調整可能な真空予圧型静圧空気軸受とすることにより、組立後に静圧空気軸受が最高の性能を発生する状態に、軸受隙間を高精度、例えば０．１μｍの精度で調整することが可能になっている。従って、装置全体の機械的共振周波数が高くなり、基板ステージ（第２の移動体３６）の位置決め時の位置及び速度の整定時間の短縮を図ることができる。
【００５１】
更に、静圧空気軸受として真空予圧型静圧空気軸受を使用したことから、磁石予圧型の静圧空気軸受を用いる場合のように、渦電流に起因する移動体を停止させる方向に働く力（抵抗力）の発生がなくなり、リニアモーターを小さくすることができ、消費電力が小さく、発熱が小さくなっている。
【００５２】
また、永久磁石では常に移動体と定盤およびガイドの間に吸引力が作用しているが、上記の真空予圧型静圧空気軸受を使用した場合には真空源を停止することにより吸引力を零にすることが可能なため、第１、第２の移動体１６、３６を容易に装置本体から取り外すことが可能になり、保守性が向上する。
【００５３】
第１、第２のＹリニアモータ３２、３４を干渉計４６のレーザ光の光路の真下に設置したＹガイド２２を挟む形で、当該Ｙガイド２２に平行にＹリニアモータ３２、３４の固定子３２Ａ、３４Ａを設置したことにより、推力リップルの影響が緩和できると同時に、露光時のレーザ干渉計光路への熱の発散が減少し座標計測精度が向上する。
【００５４】
また、第２の移動体３６を分解することなく、Ｘリニアモータ２４、２６は勿論、Ｙリニアモータ３２、３４の交換が行えるため、保守性が向上する。
【００５５】
なお、上記実施例ではムービングマグネット型リニアモータを使用する場合を例示したが、本発明がこれに限定されるものではなく、これに代えてムービングコイル型のリニアモータを使用しても良いことは勿論である。
【００５６】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１に記載の発明によれば、装置全体の機械的共振周波数が高くなることから、移動体の位置決め時の位置及び速度の整定時間の短縮を図ることができると共に仮に定盤に傷がついた場合にもカエリが生じないため、移動体の移動性能を損なうことがないという従来にない優れた効果がある。
【００５７】
また、請求項１に記載の発明によれば、組立後に複数の真空部の圧力（吸引力）を制御して真空予圧型空気軸受の隙間を最適な状態に設定することが可能になったことから、組立後に、真空予圧型空気軸受が最高の性能を発生する状態に軸受隙間を調整することができるという効果がある。
【００５８】
請求項２に記載の発明によれば、ガイドバーもセラミックス製であるのでステージ装置を軽量化することができる。
【００５９】
請求項３に記載の発明によれば、真空調整弁を用いて複数の真空部の圧力を独立に制御することができる。
【００６０】
請求項４に記載の発明によれば、定盤をセラミック製にしているので機械的共振周波数を高くことができ、制御手段が複数の真空部の圧力を独立して制御しているので真空予圧型空気軸受の軸受隙間を独立に調整することができる。
請求項５に記載の発明によれば、真空調整弁を用いて複数の真空部の圧力を独立に制御することができる。
請求項６に記載の発明によれば、リニアモータが渦電流の影響を受けることがないので、リニアモータを小さくすることができ、リニアモータの発熱を抑えることができる。
請求項７に記載の発明によれば、レーザ干渉計光路への熱の発散が減少することから、移動体の計測精度を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】一実施例に係るステージ装置の概略構成を示す斜視図である。
【図２】（Ａ）は第１の移動体及び第２の移動体部分を中心とした要部を図１の矢印Ａ方向から見た図であり、（Ｂ）は（Ａ）の底面図、（Ｃ）は（Ａ）のＣ−Ｃ線断面図である。
【図３】各真空予圧型静圧空気軸受を構成する真空予圧部及び空気噴出部の駆動系統図である。
【図４】従来例を示す概略斜視図である。
【符号の説明】
１０ ＸＹステージ装置（ステージ装置）
１２ 定盤
１４ Ｘガイド（ガイドバー）
１６ 第１の移動体
１８ 第１のＹガイド搬送体（第１の移動ガイド搬送体）
２０ 第２のＹガイド搬送体（第２の移動ガイド搬送体）
２２ Ｙガイド（移動ガイド）
３２、３４ リニアモータ
３２Ａ、３４Ａ リニアモータ固定子
３６ 第２の移動体
５６、６６、７２、７８ 真空予圧部（真空予圧型静圧空気軸受の一部）
５４、６４、７０、７６ 空気噴出部（真空予圧型静圧空気軸受の一部）
【産業上の利用分野】
本発明は、ステージ装置に係り、例えば、露光装置等におけるＸＹステージ装置として好適なステージ装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
レチクル上のパターンを露光光で被露光基板（感光基板）に転写する露光装置において、被露光基板を所定の露光位置に移動させる手段として、Ｘ、Ｙ２次元方向に移動可能な基板ステージを備えたＸＹステージ装置が用いられる。このＸＹステージ装置としては、例えば、特開平１−１８８２４１号、特開平４−２２３８３０号公報に開示されるように、高速・高精度なステージの移動、位置決めを実現すべく、静圧空気案内式のステージ装置が用いられる。
【０００３】
図４には、従来のこの種のＸＹステージ装置の一例が示されている。図４において、鉄製の定盤１００に鉄製のＸ方向の案内手段であるＸガイド１０２とＸ方向の駆動手段であるリニアモーター１０４、１０６の固定子１０４Ａ、１０６Ａとが固定されている。リニアモータ１０４、１０６の可動子１０４Ｂ、１０６Ｂは第１、第２のＹガイド搬送体１１０、１１２にそれぞれ接続され、これらのＹガイド搬送体１１０、１１２相互間にはＹ方向の案内手段であるＹガイド１０８が架設されている。即ち、これらＹガイド搬送体１１０、１１２、及びＹガイド１０８によって、可動子１０４Ｂ、１０６ＢのＸ方向の移動によってＸ方向の駆動されるＸ方向の移動体が構成される。
【０００４】
第１のＹガイド搬送体１１０の定盤１００およびＸガイド１０２と対向する面並びに第２のＹガイド搬送体１１２の定盤１００と対向する面には、図示しない空気噴出部および永久磁石が設けられており、これら第１のＹガイド搬送体１１０及び第２のＹイド搬送体１１２は、定盤１００及びＸガイド１０２に対し反発力である空気圧と吸引力である磁力とが釣り合った状態で所定寸法の隙間を保ちつつ浮上している。
【０００５】
Ｙガイド１０８には、当該Ｙガイド１０８に沿ってＹ方向に移動可能なＹ移動体１１０が、Ｙガイド１０８を上下左右の四方から取り囲む状態で取り付けられている。このＹ移動体１１０の両側壁部にはＹガイド１０８をＸ方向の両側から挟む形で一対のＹ方向軸受体１１２（片側図示せず）が固定され、これらのＹ方向軸受体１１２には空気噴出部がそれぞれ設けられている。このため、一対のＹ方向軸受体１１２からＹガイド１０８に向けてそれぞれ吹き出される空気圧の釣合により、Ｙ方向軸受体１１２とＹガイド１０８との間には一定のギャップが設定されている。
【０００６】
Ｙ移動体１１０の定盤１００と対向する面には図示しない空気噴出部と永久磁石が設けられ、Ｙ移動体１１０は、空気圧と磁力が釣り合った状態で定盤１００に対し所定寸法の隙間を保ちつつ浮上している。
【０００７】
Ｙガイド１０８の上面には、リニアモーターの固定子１１４Ａが固定され、このリニアモータの可動子（図示省略）がＹ移動体１１０に取り付けられており、この可動子と一体的にＹ移動体１１０がＹ方向に駆動されるようになっている。
【０００８】
Ｙ移動体１１０の天板部は基板ステージ１１４とされ、この基板ステージ１１４上には座標計測手段であるレーザー干渉計の光を反射する移動鏡（図示省略）が搭載され、Ｚ方向およびＸ、Ｙ、Ｚ軸回りに制御可能なテーブル（図示省略）を介して被露光基板が載置される。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
ＸＹステージ装置では、基板ステージ１１４の位置及び速度の整定時間が短いことが重要であり、このため、装置全体の機械的共振周波数が高いことが望ましい。従って、静圧空気軸受の軸受隙間の空気の上下方向の剛性が高いことと共に、定盤が軽量でかつ基板ステージ１１４の移動（より具体的にはＸ移動体、Ｙ移動体の移動）により容易に撓んだりしないことが望ましい。
【００１０】
しかしながら、上述した従来のＸＹステージ装置にあっては、定盤１１０及びＸガイド１０２として比較的重量が重く、剛性が小さい鉄製のものが用いられていたことから、装置全体の機械的共振周波数が低く、基板ステージ１１４の移動により定盤１１０に撓みが生じることがあった。また、定盤１１０に傷がつき易く、傷がついた場合、傷部に錆が発生したり、窪みだけでなくカエリと呼ばれる盛上がりが発生するため、その盛上がり量が軸受隙間である５〜１０μｍを越えるときには、ステージの移動性能が損なわれるという不都合があった。
【００１１】
ところで、従来、鉄製の定盤が使用されていたのは、各移動部材を磁石予圧型空気軸受を介して定盤上に支持していたことと密接な関係がある。即ち、静圧空気軸受の場合、軸受隙間の空気の剛性が移動体のピッチングやローリング性能に影響を与えるため、軸受隙間の設定が重要であり、磁石予圧型空気軸受の軸受隙間は、空気噴出部からの空気圧と移動体に取り付けられた磁石が定盤等を吸引する吸引力との釣合で設定されるため、定盤等が磁性体であることが前提となるからである。
【００１２】
磁石予圧型空気軸受の軸受隙間は、空気噴出部の特性の微調整又は磁石の取り替えによる磁力の調整あるいは磁石の取付位置の変更等により調整可能である。しかしながら、かかる調整作業は部品単体では可能であるが、装置組立後には行なうことができず、このため、部品加工の誤差や組立誤差で生じる軸受隙間のばらつきを微調整することが困難であるという不都合があった。
【００１３】
これに加え、磁石予圧型空気軸受を使用する場合には、磁石と鉄が相対的に移動する際に電磁誘導効果により鉄の表面付近に渦電流が発生し、この渦電流と磁力の作用により移動体の移動を停止させる方向に力が発生するため、駆動リニアモータに大きな推力を発生させる必要があり、必然的にモータの大型化、消費電力の増大、発熱量の増大等の不都合を招くという不都合もあった。
【００１４】
また、上記従来のＸＹステージ装置では、単一のリニアモータにより基板ステージをＹ方向に駆動しているため、推力リップルの影響が大きく、また被露光基板が露光位置にある時に、Ｙ方向駆動用のリニアモータが図示しないＹ干渉計の光路下に光路に沿って位置するため、強制液冷を行ったとしても残留する発熱の影響による空気ゆらぎのため干渉計の計測値に誤差が生ずるという不都合もあった。
【００１５】
本発明は、かかる従来技術の有する不都合に鑑みてなされたもので、その第１の目的は、定盤に多少の傷がついても移動体の移動性能を損うことがないステージ装置を提供することにある。
【００１６】
本発明の第２の目的は、移動体の駆動手段の消費電力の低減及び発熱量の低減を図ることができると共に、組み立て後に軸受隙間を高精度に調整することができるステージ装置を提供することにある。
【００１７】
本発明の第３の目的は、リニアモータの推力リップルの影響が小さく、露光装置等に用いた場合に、レーザー干渉計の光路への熱の発散を抑制することができるステージ装置を提供することにある。
【００１８】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、定盤と、当該定盤上に固定された少なくとも１本のガイドバーと、前記定盤上面と前記ガイドバーに沿って所定の第１方向に移動可能な第１の移動体と、当該第１の移動体に案内されて前記定盤上を前記第１方向に直交する第２方向に移動可能な第２の移動体とを有するステージ装置において、少なくとも前記定盤をセラミックス製とし、前記第１の移動体の前記定盤対向面及び前記ガイドバー対向面に設けられ、空気噴出部と真空部とを有する複数の真空予圧型空気軸受と；前記複数の真空予圧型空気軸受の複数の真空部の圧力を独立に制御する制御手段とを備えたことを特徴とする。
【００１９】
ここで、定盤を形成するセラミックとしては、ファインセラミックス、代表的にはアルミナセラミックスが挙げられる。
【００２０】
請求項２に記載の発明は、前記ガイドバーがセラミックス製であることを特徴とする。
【００２１】
請求項３に記載の発明は、前記制御手段が真空調整弁を有していることを特徴とする。
【００２２】
請求項４に記載の発明は、移動面が形成された定盤と、前記移動面上を移動可能な移動体とを有するステージ装置において、前記定盤をセラミックス製とし；前記移動面に対向して前記移動体に設けられ、空気噴出部と真空部とを有する複数の真空予圧型空気軸受と；前記複数の真空予圧型空気軸受の複数の真空部の圧力を独立に制御する制御手段とを備えたことを特徴とする。
【００２３】
請求項５に記載の発明は、制御手段が真空調整弁を有していることを特徴とする。
【００２４】
請求項６に記載の発明は、前記移動体を移動するリニアモータを備えたことを特徴とする。
請求項７に記載の発明は、前記移動体の位置を検出するレーザ干渉計を備えたことを特徴とする。
【００２５】
【作用】
請求項１に記載の発明によれば、定盤がセラミックス製であることから、従来の鉄製の定盤に比べ、軽量化及び高剛性化を図ることができ、第１、第２の移動体の移動により容易に撓むことがなく、結果的に装置全体の機械的共振周波数が高くなる。例えば、定盤がアルミナセラミックス製である場合には、重量は約半分(鉄の比重7. 8、アルミナの比重3.8)で剛性は1.85倍(鉄のヤング率：210GPa、アルミナのヤング率：390GPa)になる。また、定盤に傷がつき難く、仮に傷がついた場合でもいわゆるカエリが生じない。
【００２６】
更に、請求項１に記載の発明によれば、第１の移動体の定盤対向面及びガイドバー対向面に真空部の圧力を独立して制御可能な制御手段が設けられていることから、組立後に複数の真空部の圧力（吸引力）を制御して真空予圧型空気軸受の隙間を最適な状態に設定することが可能になる。また、真空予圧型空気軸受の場合、磁石の吸引力を利用しないので、定盤が非磁性体であるセラミックであっても何等支障なく使用することができ、また、真空源を停止することにより吸引力をなくすることが可能なため、第１の移動体を容易に装置本体から取り外すことが可能になり保守性が向上した。同様に、真空予圧型空気軸受の場合、磁石の吸引力を利用しないので、渦電流が発生することがない。
【００２７】
請求項２に記載の発明は、ガイドバーもセラミックス製であるのでステージ装置を軽量化することができる。
【００２８】
請求項３に記載の発明は、真空調整弁を用いて複数の真空部の圧力と独立に制御することができる。
【００２９】
請求項４に記載の発明は、定盤をセラミックス製にしているので機械的共振周波数を高くするとともに、制御手段が複数の真空部の圧力を独立して制御しているので真空予圧型空気軸受の軸受隙間を独立に調整している。
【００３０】
請求項５に記載の発明は、真空調整弁を用いて複数の真空部の圧力を独立に制御することができる。
請求項６に記載の発明によれば、リニアモータにより移動体が移動される。
請求項７に記載の発明によれば、レーザ干渉計により移動体の位置が検出される。
【００３１】
【実施例】
以下、本発明の一実施例を図１ないし図３に基づいて説明する。
【００３２】
図１には、一実施例に係るステージ装置としてのＸＹステージ装置１０が概略的に示されている。このＸＹステージ装置１０は、定盤１２と、定盤１２上に固定されたガイドバーとしてのＸガイド１４と、定盤１２上面及びＸガイド１４に沿って図１におけるＸ方向（所定の第１方向）に移動可能な第１の移動体１６と、この第１の移動体１６を構成する移動ガイドとしてのＹガイド２２に沿ってＸ方向に直交するＹ方向（第２方向）に移動可能な第２の移動体３６とを備えている。
【００３３】
定盤１２としては、鉄に比べ軽量で傷のつき難いアルミナセラミックス製の長方形状のものが使用されている。この定盤１２の上面は基準面とされている。
【００３４】
Ｘガイド１４としては、同じくアルミナセラミックス製のものが使用されている。このＸガイド１４は、定盤１２上のＹ方向の一端面近傍にＸ方向に沿って配置されている。このＸガイド１４のＹ方向の他端側の面は基準面とされている。
【００３５】
前記第１の移動体１６は、定盤１２上にＸガイド１４に近接してＸ方向に沿って配置された断面Ｌ字状部材から成る第１の移動ガイド搬送体としての第１のＹガイド搬送体１８と、この第１のＹガイド搬送体１８から所定距離隔てて当該第１のＹガイド搬送体１８と平行に定盤１２上に配置された細長い板状部材から成る第２の移動ガイド搬送体としての第２のＹガイド搬送体２０と、これら第１、第２のＹガイド搬送体１８、２０相互間に架設されたＹ方向に延びる前記Ｙガイド２２とを有している。
【００３６】
定盤１２上のＸガイド１４のＹ方向の一側には、第１のＸリニアモータ２４の固定子２４Ａが、Ｘガイド１４に近接してＸ方向に延設されている。また、定盤１２上のＹ方向の他端部近傍で第２のＹガイド搬送体２０のＹ方向の他側には、第２のＸリニアモータ２６の固定子２６Ａが、Ｘ方向に延設されている。本実施例では、図１から明らかなように、第１、第２のＸリニアモータ２４、２６として、いわゆるムービングマグネット型のリニアモータが使用されている。
【００３７】
第１のＸリニアモータ２４の可動子２４Ｂは、連結部材２８を介してＹガイド２２の一端に連結されており、第２のＸリニアモータ２６の可動子２６Ｂは、連結部材３０を介してＹガイド２２の他端に連結されている。このため、第１、第２のＸリニアモータ２４、２６の可動子２４Ｂ、２６Ｂの移動によって第１の移動体がＸ方向に駆動されるようになっている。
【００３８】
Ｙガイド２２のＸ方向の一側と他側には、第１、第２のＹリニアモータ３２、３４の固定子３２Ａ、３４ＡがＹ方向に沿って配置され、第１、第２のＹガイド搬送体１８、２０間に懸架されている。但し、図１では、奥側の第２のＹリニアモータの可動子は図示を省略されている。第１、第２のＹリニアモータとしてもムービングマグネット型のリニアモータが使用されている。
【００３９】
前記第２の移動体３６は、Ｙガイド２２を上下から挟む状態で相互に平行にかつ定盤１２の上面（基準面）にほぼ平行に配置された天板３８及び底板４０と、これらの天板３８と底板４０とをＹガイド２２の両側で相互に連結する一対のＹ方向軸受体４２、４２とを有している。これらのＹ方向軸受体４２、４２はＹガイド２２との間に所定の間隙を形成した状態でＹガイド２２に平行に配置されている。これらのＹ方向軸受体４２、４２の外面には、第２の移動体３６の駆動手段を構成する前述した第１、第２のＹリニアモータ３２、３４の可動子３２Ｂ、３４Ｂ（但し、３４Ｂは図示せず）が取り付けられており、Ｙリニアモータ３２、３４の可動子３２Ｂ，３４Ｂの移動によって第２の移動体３６がＹ方向に駆動されるようになっている。また、Ｙ方向軸受体４２の内面には、図示しない空気吹き出し部が設けられている。更に、これらのＹ方向軸受体４２の高さ方向の寸法は、Ｙガイド２２のそれにより大きく設定されている。
【００４０】
前記天板部３８は、基板ステージを兼ねており、この天板部３８の上面には、定盤１２上に固定されたＸ座標計測用レーザ干渉計４４およびＹ座標計測用レーザ干渉計４６から放射されるレーザ光を反射するＸ移動鏡４８、Ｙ移動鏡５０及び被露光基板５２が搭載されている。なお、この被露光基板５２は、実際には、上下(Ｚ方向)の移動、およびＸ、Ｙ、Ｚ軸回りの回転が可能な不図示のＺレベリングステージを介して天板部３８上に搭載される。
【００４１】
更に、本実施例では、いろいろな所に空気噴出部と真空予圧部とを備えた真空予圧型静圧空気軸受が設けられている。以下、これについて図２を参照しつつ説明する。図２（Ａ）は第１の移動体１６及び第２の移動体３６部分を中心とした要部を図１の矢印Ａ方向から見た図であり、図２（Ｂ）は同図（Ａ）の底面図であり、図２（Ｃ）は同図（Ａ）のＣ−Ｃ線断面図である。
【００４２】
第１のＹガイド搬送体１８の定盤１２との対向面には、図２（Ｂ）に示されるように、空気噴出部５４（５４1 〜５４3 ）と真空予圧部５６（５６1 、５６2 ）とが交互に設けられている。図３に示されるように、各空気噴出部５４にはコンプレッサ６０からの圧搾空気が供給され、各真空予圧部５６には真空予圧部５６のみの圧力を手動により調整可能な真空調圧弁５８を介して真空源としての真空ポンプ６２が接続されており、これにより空気圧と真空吸引力の釣合で生じる軸受隙間（定盤１２上面とＹガイド搬送体１８との間に生じる隙間）の調節が可能になっている。
【００４３】
同様に、第２のＹガイド搬送体２０の定盤１２との対向面には、図２（Ｂ）に示されるように、空気噴出部６４（６４1 〜６４3 ）と真空予圧部６６（６６1 、６６2 ）とが交互に設けられている。図３に示されるように、各空気噴出部６４にはコンプレッサ６０からの圧搾空気が供給され、各真空予圧部６６には真空予圧部６６のみの圧力を手動により調整可能な真空調圧弁６８を介して真空ポンプ６２が接続されており、これにより空気圧と真空吸引力の釣合で生じる軸受隙間（定盤１２上面とＹガイド搬送体２０との間に生じる隙間）の調節が可能になっている。
【００４４】
また、同様に、第２の移動体３６の底板４０の定盤１２との対向面には、図２（Ｂ）に示されるように、空気噴出部７０（７０1 〜７０4 ）と真空予圧部７２（７２1 〜７２4 ）とが設けられている。図３に示されるように、各空気噴出部７０にはコンプレッサ６０からの圧搾空気が供給され、各真空予圧部７２には真空予圧部７２のみの圧力を手動により調整可能な真空調圧弁７４を介して真空ポンプ６２が接続されており、これにより空気圧と真空吸引力の釣合で生じる軸受隙間（定盤１２と底板４０との間の隙間）の調節が可能になっている。この場合、この隙間の調整により、Ｙガイド２２と天板３８及び底板４０との間には、所定のクリアランスが設定・維持できるようになる。
【００４５】
また、同様に、第１のＹガイド搬送体１８のＸガイド１４との対向面には、図２（Ｃ）に示されるように、空気噴出部７６（７６1 〜７６3 ）と真空予圧部７８（７８1 、７８2 ）とが交互に設けられている。図３に示されるように、空気噴出部７６にはコンプレッサ６０からの圧搾空気が供給され、真空予圧部７８には真空予圧部７８のみの圧力を手動にて調整可能な真空調圧弁８０を介して真空ポンプ６２が接続されており、空気圧と真空吸引力の釣合で生じる軸受隙間（第１のＹガイド搬送体１８のＸガイド１４との間の隙間）の調節が可能になっている。
【００４６】
更に、Ｙ方向軸受体４２、４２のＹガイド２２との対向面にはそれぞれ空気噴出部８２1 、８２2 （図３参照）が設けられており、両者の空気圧の釣合により所定の軸受隙間が保たれるようになっている。
【００４７】
次に、上述のようにして構成された本実施例のＸＹステージ装置１０の作用を説明する。
【００４８】
それぞれの真空予圧型静圧空気軸受を構成する真空予圧部５６、６６、７２、７８の圧力が真空調圧弁５８、６８、７４、８０により各別に調整されると、各真空予圧型静圧空気軸受の軸受隙間が適切に設定される。この場合、真空調圧弁５８、６８、７４、８０は手動により操作されるが、所定の条件に基づいてコンピュータ制御により自動的に真空予圧部の圧力を自動調整できるものであってもよい。
【００４９】
各真空予圧型静圧空気軸受の軸受隙間が適切に設定された状態で、第１、第２のＸリニアモータ２４、２６、第１、第２のＹリニアモータ３２、３４が駆動されると、これに応じて被露光基板５２が搭載された第２の移動体３６がＸ、Ｙ２次元方向に移動し、その移動位置がレーザ干渉計４４、４６によって計測される。
【００５０】
以上説明したように、本実施例によると、定盤１２及びＸガイド１４をアルミナセラミックス製にすることにより、従来のステージ装置で使用された鉄製の定盤等に比べ、重量は約半分(鉄の比重7. 8、アルミナの比重3.8)で剛性は1.85倍(鉄のヤング率：210GPa、アルミナのヤング率：390GPa)にすることができるとともに、傷がつきにくく、また傷がついた場合でもカエリが生じないため、第１、第２の移動体１６、３６の移動性能を損なうことがない。また、第１の移動体１６の上下方向とＹ方向の支持および第２の移動体３６の上下方向の支持方法を真空部圧力を個々独立に調整可能な真空予圧型静圧空気軸受とすることにより、組立後に静圧空気軸受が最高の性能を発生する状態に、軸受隙間を高精度、例えば０．１μｍの精度で調整することが可能になっている。従って、装置全体の機械的共振周波数が高くなり、基板ステージ（第２の移動体３６）の位置決め時の位置及び速度の整定時間の短縮を図ることができる。
【００５１】
更に、静圧空気軸受として真空予圧型静圧空気軸受を使用したことから、磁石予圧型の静圧空気軸受を用いる場合のように、渦電流に起因する移動体を停止させる方向に働く力（抵抗力）の発生がなくなり、リニアモーターを小さくすることができ、消費電力が小さく、発熱が小さくなっている。
【００５２】
また、永久磁石では常に移動体と定盤およびガイドの間に吸引力が作用しているが、上記の真空予圧型静圧空気軸受を使用した場合には真空源を停止することにより吸引力を零にすることが可能なため、第１、第２の移動体１６、３６を容易に装置本体から取り外すことが可能になり、保守性が向上する。
【００５３】
第１、第２のＹリニアモータ３２、３４を干渉計４６のレーザ光の光路の真下に設置したＹガイド２２を挟む形で、当該Ｙガイド２２に平行にＹリニアモータ３２、３４の固定子３２Ａ、３４Ａを設置したことにより、推力リップルの影響が緩和できると同時に、露光時のレーザ干渉計光路への熱の発散が減少し座標計測精度が向上する。
【００５４】
また、第２の移動体３６を分解することなく、Ｘリニアモータ２４、２６は勿論、Ｙリニアモータ３２、３４の交換が行えるため、保守性が向上する。
【００５５】
なお、上記実施例ではムービングマグネット型リニアモータを使用する場合を例示したが、本発明がこれに限定されるものではなく、これに代えてムービングコイル型のリニアモータを使用しても良いことは勿論である。
【００５６】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１に記載の発明によれば、装置全体の機械的共振周波数が高くなることから、移動体の位置決め時の位置及び速度の整定時間の短縮を図ることができると共に仮に定盤に傷がついた場合にもカエリが生じないため、移動体の移動性能を損なうことがないという従来にない優れた効果がある。
【００５７】
また、請求項１に記載の発明によれば、組立後に複数の真空部の圧力（吸引力）を制御して真空予圧型空気軸受の隙間を最適な状態に設定することが可能になったことから、組立後に、真空予圧型空気軸受が最高の性能を発生する状態に軸受隙間を調整することができるという効果がある。
【００５８】
請求項２に記載の発明によれば、ガイドバーもセラミックス製であるのでステージ装置を軽量化することができる。
【００５９】
請求項３に記載の発明によれば、真空調整弁を用いて複数の真空部の圧力を独立に制御することができる。
【００６０】
請求項４に記載の発明によれば、定盤をセラミック製にしているので機械的共振周波数を高くことができ、制御手段が複数の真空部の圧力を独立して制御しているので真空予圧型空気軸受の軸受隙間を独立に調整することができる。
請求項５に記載の発明によれば、真空調整弁を用いて複数の真空部の圧力を独立に制御することができる。
請求項６に記載の発明によれば、リニアモータが渦電流の影響を受けることがないので、リニアモータを小さくすることができ、リニアモータの発熱を抑えることができる。
請求項７に記載の発明によれば、レーザ干渉計光路への熱の発散が減少することから、移動体の計測精度を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】一実施例に係るステージ装置の概略構成を示す斜視図である。
【図２】（Ａ）は第１の移動体及び第２の移動体部分を中心とした要部を図１の矢印Ａ方向から見た図であり、（Ｂ）は（Ａ）の底面図、（Ｃ）は（Ａ）のＣ−Ｃ線断面図である。
【図３】各真空予圧型静圧空気軸受を構成する真空予圧部及び空気噴出部の駆動系統図である。
【図４】従来例を示す概略斜視図である。
【符号の説明】
１０ ＸＹステージ装置（ステージ装置）
１２ 定盤
１４ Ｘガイド（ガイドバー）
１６ 第１の移動体
１８ 第１のＹガイド搬送体（第１の移動ガイド搬送体）
２０ 第２のＹガイド搬送体（第２の移動ガイド搬送体）
２２ Ｙガイド（移動ガイド）
３２、３４ リニアモータ
３２Ａ、３４Ａ リニアモータ固定子
３６ 第２の移動体
５６、６６、７２、７８ 真空予圧部（真空予圧型静圧空気軸受の一部）
５４、６４、７０、７６ 空気噴出部（真空予圧型静圧空気軸受の一部）
Claims (7)
- 定盤と、当該定盤上に固定された少なくとも１本のガイドバーと、前記定盤上面と前記ガイドバーに沿って所定の第１方向に移動可能な第１の移動体と、当該第１の移動体に案内されて前記定盤上を前記第１方向に直交する第２方向に移動可能な第２の移動体とを有するステージ装置において、
少なくとも前記定盤をセラミックス製とし、
前記第１の移動体の前記定盤対向面及び前記ガイドバー対向面に設けられ、空気噴出部と真空部とを有する複数の真空予圧型空気軸受と；
前記複数の真空予圧型空気軸受の複数の真空部の圧力を独立に制御する制御手段とを備えたことを特徴とするステージ装置。 - 前記ガイドバーがセラミックス製であることを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
- 前記制御手段は真空調整弁を有していることを特徴とする請求項１または２に記載のステージ装置。
- 移動面が形成された定盤と、前記移動面上を移動可能な移動体とを有するステージ装置において、
前記定盤をセラミックス製とし、
前記移動面に対向して前記移動体に設けられ、空気噴出部と真空部とを有する複数の真空予圧型空気軸受と；
前記複数の真空予圧型空気軸受の複数の真空部の圧力を独立に制御する制御手段とを備えたことを特徴とするステージ装置。 - 前記制御手段は真空調整弁を有していることを特徴とする請求項４に記載のステージ装置。
- 前記移動体を移動するリニアモータを備えたことを特徴とする請求項４または５に記載のステージ装置。
- 前記移動体の位置を検出するレーザ干渉計を備えたことを特徴とする請求項４から６のいずれか一項に記載のステージ装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17285595A JP3709896B2 (ja) | 1995-06-15 | 1995-06-15 | ステージ装置 |
| US08/623,008 US5839324A (en) | 1995-06-15 | 1996-03-28 | Stage apparatus and exposure apparatus provided with the stage apparatus |
| KR1019960008997A KR100436323B1 (ko) | 1995-06-15 | 1996-03-29 | 스테이지장치및그스테이지장치를갖춘노광장치 |
| US09/166,192 US6158298A (en) | 1995-06-15 | 1998-10-05 | Stage apparatus and exposure apparatus provided with the stage apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17285595A JP3709896B2 (ja) | 1995-06-15 | 1995-06-15 | ステージ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH095463A JPH095463A (ja) | 1997-01-10 |
| JP3709896B2 true JP3709896B2 (ja) | 2005-10-26 |
Family
ID=15949550
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17285595A Expired - Fee Related JP3709896B2 (ja) | 1995-06-15 | 1995-06-15 | ステージ装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5839324A (ja) |
| JP (1) | JP3709896B2 (ja) |
| KR (1) | KR100436323B1 (ja) |
Families Citing this family (55)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6008500A (en) * | 1995-04-04 | 1999-12-28 | Nikon Corporation | Exposure apparatus having dynamically isolated reaction frame |
| US5959732A (en) * | 1996-04-10 | 1999-09-28 | Nikon Corporation | Stage apparatus and a stage control method |
| US6128069A (en) * | 1997-03-13 | 2000-10-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Stage mechanism for exposure apparatus |
| JP3483452B2 (ja) | 1998-02-04 | 2004-01-06 | キヤノン株式会社 | ステージ装置および露光装置、ならびにデバイス製造方法 |
| JP3810039B2 (ja) * | 1998-05-06 | 2006-08-16 | キヤノン株式会社 | ステージ装置 |
| WO1999066221A1 (fr) * | 1998-06-17 | 1999-12-23 | Nikon Corporation | Palier a gaz sous pression statique, etage mettant en oeuvre ce palier, et dispositif optique dote de cet etage |
| JP2000240651A (ja) * | 1999-02-19 | 2000-09-05 | Toto Ltd | 静圧気体軸受 |
| US6499880B2 (en) | 1999-02-19 | 2002-12-31 | Nikon Corporation | Static pressure air bearing |
| NL1015738C2 (nl) | 1999-07-28 | 2002-10-15 | Kyocera Corp | Schuifapparaat en bijbehorend platformmechanisme voor gebruik in vacu³m. |
| US6324933B1 (en) * | 1999-10-06 | 2001-12-04 | Agere Systems Guardian Corp. | Planar movable stage mechanism |
| US6265839B1 (en) * | 1999-11-10 | 2001-07-24 | Howard Layton | Hoist transfer drive system having X and Y-linear motors |
| US6467960B1 (en) | 2000-08-18 | 2002-10-22 | Nikon Corporation | Air bearing linear guide for use in a vacuum |
| US20030230729A1 (en) * | 2000-12-08 | 2003-12-18 | Novak W. Thomas | Positioning stage with stationary and movable magnet tracks |
| US6753534B2 (en) | 2000-12-08 | 2004-06-22 | Nikon Corporation | Positioning stage with stationary and movable magnet tracks |
| JP2002252166A (ja) * | 2001-02-27 | 2002-09-06 | Canon Inc | ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法ならびに移動案内方法 |
| US6844694B2 (en) | 2001-08-10 | 2005-01-18 | Nikon Corporation | Stage assembly and exposure apparatus including the same |
| NZ545441A (en) * | 2003-11-12 | 2010-05-28 | Shikoku Kakoh Co Ltd | Multi-layer blown film molding machine and method of molding multi-layer blown film |
| JP4418699B2 (ja) * | 2004-03-24 | 2010-02-17 | キヤノン株式会社 | 露光装置 |
| KR101227290B1 (ko) | 2004-06-09 | 2013-01-29 | 가부시키가이샤 니콘 | 기판 유지 장치 및 그것을 구비하는 노광 장치, 노광 방법,디바이스 제조 방법, 그리고 발액 플레이트 |
| KR100534140B1 (ko) * | 2004-06-23 | 2005-12-08 | 삼성전자주식회사 | 스테이지장치 |
| SG188899A1 (en) | 2004-09-17 | 2013-04-30 | Nikon Corp | Substrate holding device, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US20060124864A1 (en) * | 2004-12-14 | 2006-06-15 | Nikon Corporation | Air bearing compatible with operation in a vacuum |
| JP2006247474A (ja) * | 2005-03-08 | 2006-09-21 | Dainippon Printing Co Ltd | 位置制御ステージ装置及び基板処理装置 |
| US7290931B2 (en) * | 2005-07-15 | 2007-11-06 | Asml Holding N.V. | Vacuum pre-loaded pneumatic bearing with onboard vacuum generator |
| CN100449406C (zh) * | 2006-06-07 | 2009-01-07 | 友达光电股份有限公司 | 电阻测量系统及应用其的测量方法 |
| US8740205B2 (en) * | 2007-04-16 | 2014-06-03 | Ulvac, Inc. | Conveyor and deposition apparatus, and maintenance method thereof |
| US8035805B2 (en) | 2007-10-17 | 2011-10-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Driving apparatus and exposure apparatus, and device fabrication method |
| JP5132491B2 (ja) * | 2007-10-17 | 2013-01-30 | キヤノン株式会社 | 駆動装置及び露光装置、デバイスの製造方法 |
| DE102008046636B4 (de) * | 2008-09-09 | 2014-04-03 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Aerostatische Lageranordnung mit zugeordneter elektrostatischer Vorspanneinheit, insbesondere für die Vakuumanwendung |
| US7636170B1 (en) * | 2008-09-12 | 2009-12-22 | National Formosa University | Static/dynamic multi-function measuring device for linear unit |
| US7959141B2 (en) * | 2008-12-23 | 2011-06-14 | Sumitomo Heavy Industries, Ltd. | Stage apparatus |
| US8084896B2 (en) * | 2008-12-31 | 2011-12-27 | Electro Scientific Industries, Inc. | Monolithic stage positioning system and method |
| TWI549386B (zh) | 2010-04-13 | 2016-09-11 | 康寧吉伯特公司 | 具有防止進入及改良接地之同軸連接器 |
| US8888526B2 (en) | 2010-08-10 | 2014-11-18 | Corning Gilbert, Inc. | Coaxial cable connector with radio frequency interference and grounding shield |
| JP5785722B2 (ja) | 2011-02-02 | 2015-09-30 | 住友重機械工業株式会社 | ステージ装置 |
| US9190744B2 (en) | 2011-09-14 | 2015-11-17 | Corning Optical Communications Rf Llc | Coaxial cable connector with radio frequency interference and grounding shield |
| US20130072057A1 (en) | 2011-09-15 | 2013-03-21 | Donald Andrew Burris | Coaxial cable connector with integral radio frequency interference and grounding shield |
| JP5736284B2 (ja) * | 2011-09-20 | 2015-06-17 | 株式会社ミツトヨ | 精密移動装置 |
| US8794610B2 (en) | 2011-09-20 | 2014-08-05 | Mitutoyo Corporation | Two-dimension precision transfer equipment, three-dimension precision transfer equipment, and coordinate measuring machine |
| US9136654B2 (en) | 2012-01-05 | 2015-09-15 | Corning Gilbert, Inc. | Quick mount connector for a coaxial cable |
| US9287659B2 (en) | 2012-10-16 | 2016-03-15 | Corning Optical Communications Rf Llc | Coaxial cable connector with integral RFI protection |
| US9052469B2 (en) | 2013-04-26 | 2015-06-09 | Corning Cable Systems Llc | Preterminated fiber optic connector sub-assemblies, and related fiber optic connectors, cable assemblies, and methods |
| US10290958B2 (en) | 2013-04-29 | 2019-05-14 | Corning Optical Communications Rf Llc | Coaxial cable connector with integral RFI protection and biasing ring |
| CA2913134C (en) | 2013-05-20 | 2024-02-06 | Corning Optical Communications Rf Llc | Coaxial cable connector with integral rfi protection |
| US9548572B2 (en) | 2014-11-03 | 2017-01-17 | Corning Optical Communications LLC | Coaxial cable connector having a coupler and a post with a contacting portion and a shoulder |
| US10033122B2 (en) | 2015-02-20 | 2018-07-24 | Corning Optical Communications Rf Llc | Cable or conduit connector with jacket retention feature |
| CN104889951A (zh) * | 2015-06-08 | 2015-09-09 | 广东工业大学 | 动态特性可调宏微一体化复合平台 |
| US10211547B2 (en) | 2015-09-03 | 2019-02-19 | Corning Optical Communications Rf Llc | Coaxial cable connector |
| CN105068386B (zh) * | 2015-09-07 | 2017-04-12 | 哈尔滨工业大学 | 一种双工件台系统安全保护方法 |
| US9525220B1 (en) | 2015-11-25 | 2016-12-20 | Corning Optical Communications LLC | Coaxial cable connector |
| CN106020246A (zh) * | 2016-06-30 | 2016-10-12 | 广东工业大学 | 一种运动平台 |
| CN109576145B (zh) * | 2018-12-05 | 2020-07-24 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种精密两维运动平台及基因测序仪 |
| CN110415761B (zh) * | 2019-08-15 | 2021-05-18 | 山东大学深圳研究院 | 一种紧凑型二维微纳伺服平台 |
| CN112509632B (zh) * | 2020-12-04 | 2022-02-22 | 中国石油大学(华东) | 用于高压釜内的多级微米位移垂向调整装置 |
| CN112946909B (zh) * | 2021-03-12 | 2022-10-21 | 南京航空航天大学 | 一种精密二维稳像平台 |
Family Cites Families (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3969004A (en) * | 1974-08-02 | 1976-07-13 | The Computervision Corporation | Air bearing piston assembly for semiconductor mask-to-wafer aligner |
| US4118042A (en) * | 1977-09-27 | 1978-10-03 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Air bearing vacuum seal assembly |
| JPS55134414A (en) * | 1979-04-06 | 1980-10-20 | Hitachi Ltd | Precise moving unit |
| JPS59129633A (ja) * | 1983-01-08 | 1984-07-26 | Canon Inc | ステージ装置 |
| JPS6130345A (ja) * | 1984-07-20 | 1986-02-12 | Omron Tateisi Electronics Co | 静圧空気浮上ステ−ジ |
| NL8601547A (nl) * | 1986-06-16 | 1988-01-18 | Philips Nv | Optisch litografische inrichting met verplaatsbaar lenzenstelsel en werkwijze voor het regelen van de afbeeldingseigenschappen van een lenzenstelsel in een dergelijke inrichting. |
| US4719705A (en) * | 1986-06-24 | 1988-01-19 | The Perkin-Elmer Corporation | Reticle transporter |
| JPH01188241A (ja) * | 1988-01-22 | 1989-07-27 | Canon Inc | 移動案内装置 |
| US5040431A (en) * | 1988-01-22 | 1991-08-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Movement guiding mechanism |
| JPH03131442A (ja) * | 1989-10-12 | 1991-06-05 | Nippon Tungsten Co Ltd | Ｘ―ｙステージ |
| US5098204A (en) * | 1989-11-03 | 1992-03-24 | John H. Blanz Company, Inc. | Load balanced planar bearing assembly especially for a cryogenic probe station |
| US5160883A (en) * | 1989-11-03 | 1992-11-03 | John H. Blanz Company, Inc. | Test station having vibrationally stabilized X, Y and Z movable integrated circuit receiving support |
| US5228358A (en) * | 1990-02-21 | 1993-07-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Motion guiding device |
| JP3031940B2 (ja) * | 1990-02-21 | 2000-04-10 | キヤノン株式会社 | 移動案内装置 |
| JPH04223830A (ja) * | 1990-12-21 | 1992-08-13 | Canon Inc | 移動案内装置 |
| JP3246922B2 (ja) * | 1991-07-17 | 2002-01-15 | 株式会社アマダ | パンチプレスのラム駆動装置 |
| JPH06183561A (ja) * | 1992-12-18 | 1994-07-05 | Canon Inc | 移動ステージ装置 |
| JPH07115053A (ja) * | 1993-10-15 | 1995-05-02 | Canon Inc | 移動ステージ装置 |
| JPH07325176A (ja) * | 1994-06-01 | 1995-12-12 | Nikon Corp | ステージ装置 |
| JP3167090B2 (ja) * | 1995-03-10 | 2001-05-14 | キヤノン株式会社 | 基板受け渡し装置及び半導体製造装置 |
-
1995
- 1995-06-15 JP JP17285595A patent/JP3709896B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-03-28 US US08/623,008 patent/US5839324A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-03-29 KR KR1019960008997A patent/KR100436323B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1998
- 1998-10-05 US US09/166,192 patent/US6158298A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5839324A (en) | 1998-11-24 |
| KR100436323B1 (ko) | 2004-09-01 |
| US6158298A (en) | 2000-12-12 |
| KR970003281A (ko) | 1997-01-28 |
| JPH095463A (ja) | 1997-01-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3709896B2 (ja) | ステージ装置 | |
| US5939852A (en) | Stage feeding device | |
| US6363809B1 (en) | Precision scanning apparatus and method with fixed and movable guide members | |
| JP2960423B2 (ja) | 試料移動装置及び半導体製造装置 | |
| JP2019049694A (ja) | 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法及びフラットパネルディスプレイの製造方法 | |
| WO2016159176A1 (ja) | 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び露光方法 | |
| JP3031940B2 (ja) | 移動案内装置 | |
| US11417496B2 (en) | Stage device, charged particle beam apparatus, and vacuum apparatus | |
| JP2001238485A (ja) | ステージ装置 | |
| US7129702B2 (en) | XY stage, head carriage and tester of magnetic head or magnetic disk | |
| US8970821B2 (en) | Positioning apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method | |
| JP3540239B2 (ja) | ステージ装置 | |
| JP2865369B2 (ja) | 磁気吸引ガス浮上型パッド | |
| US7135861B2 (en) | Movable stage, XY stage, head carriage and tester of magnetic head or magnetic disk | |
| EP2051141B1 (en) | Driving apparatus, exposure apparatus, and device fabrication method | |
| JP3732763B2 (ja) | ステージ装置 | |
| JP5505584B2 (ja) | 露光装置 | |
| JP2010258107A (ja) | 駆動装置、露光装置およびデバイス製造方法 | |
| JPH1123752A (ja) | 移動案内装置 | |
| JP2002217082A (ja) | ステージ装置及び露光装置 | |
| JP5839656B2 (ja) | 振動浮上装置及び振動浮上搬送装置 | |
| JP5532175B1 (ja) | テーブル装置、及び搬送装置 | |
| JP4231436B2 (ja) | 移動ステージ、ｘｙステージ、ヘッドキャリッジおよび、磁気ヘッドあるいは磁気ディスクのテスタ | |
| JP2023181841A (ja) | 搬送システム | |
| JP2005150616A (ja) | 微動ステージ |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041201 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050127 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050221 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050323 |
|
| A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20050516 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050720 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050802 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |