KR970003281A - 스테이지 장치 및 그 스테이지 장치를 갖춘 노광 장치 - Google Patents

스테이지 장치 및 그 스테이지 장치를 갖춘 노광 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR970003281A
KR970003281A KR1019960008997A KR19960008997A KR970003281A KR 970003281 A KR970003281 A KR 970003281A KR 1019960008997 A KR1019960008997 A KR 1019960008997A KR 19960008997 A KR19960008997 A KR 19960008997A KR 970003281 A KR970003281 A KR 970003281A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
movable unit
guide bar
pedestal
vacuum
preloadable
Prior art date
Application number
KR1019960008997A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100436323B1 (ko
Inventor
히데아키 하라
Original Assignee
오노 시게오
니콘 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 오노 시게오, 니콘 가부시키가이샤 filed Critical 오노 시게오
Publication of KR970003281A publication Critical patent/KR970003281A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100436323B1 publication Critical patent/KR100436323B1/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G12—INSTRUMENT DETAILS
    • G12B—CONSTRUCTIONAL DETAILS OF INSTRUMENTS, OR COMPARABLE DETAILS OF OTHER APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G12B9/00—Housing or supporting of instruments or other apparatus
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6838—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping with gripping and holding devices using a vacuum; Bernoulli devices
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T74/00—Machine element or mechanism
    • Y10T74/20—Control lever and linkage systems
    • Y10T74/20012—Multiple controlled elements
    • Y10T74/20201—Control moves in two planes
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T74/00—Machine element or mechanism
    • Y10T74/20—Control lever and linkage systems
    • Y10T74/20207—Multiple controlling elements for single controlled element
    • Y10T74/20341—Power elements as controlling elements
    • Y10T74/20354—Planar surface with orthogonal movement only

Abstract

스테이지 장치는, 페디스털, 이 페디스털에 고정된 X축 가이드 바아, 이 페디스털과 가이드 바아의 상측 표면을 따라 가동될 수 있는 X 스테이지, 및 X 스테이지 위에 있으며 Y 축의 방향으로 이 페디스털을 따라 가동할 수 있는 Y 스테이지를 포함한다. 진공 포트의 압력이 독립적으로 제어가능한 진공-예압가능한 정압 공기 베어링이 페디스털의 맞은편 X 스테이지의 표면에 그리고 X 축 가이드 바아의 맞은편에 있는 X 스테이지의 다른 표면에 제공한다. 이 스테이지 장치를 이용하여, 가동 유니트를 위한 구동 수단의 전력소비가 감소되고, 열 발생의 양이 감소되며, 또한 이 베어링 갭이 조립 후에 정확하게 조정될 수 있다.

Description

스테이지 장치 및 그 스테이지 장치를 갖춘 노광 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 실시예에 따른 스테이지 장치의 배열을 나타내는 사시도, 제2A도는 제1도의 화살표 A의 방향으로 볼 때 제1가동유니트와 제2가동유니트를 필수적으로 포함하는 중요 부분을 나타내는 도면, 제2B도는 제2A도를 위한 바닥도, 제2C도는 제2A도에서 선 C-C선을 따라 취한 횡단면도.

Claims (18)

  1. 스테이지 장치에 있어서, 페디스털; 상기 페디스털에 고정된 적어도 하나의 제1가이드 바아; 상기 페디스털과 제1가이드 바아의 상측 표면을 따라 제1방향으로 가동될 수 있는 제1가동 유니트; 상기 제1가동 유니트를 구동하기 위한 적어도 하나의 모터; 및 상기 페디스털의 맞은편에 있는 제1가동 유니트의 표면에 그리고 제1가이드 바아의 맞은편에 있는 제1가동 유니트의 다른 표면에 형성된 가스-방출 포트와 진공 포트를 포함하는 진공-예압가능한 정압 공기 베어링을 포함하는 스테이지 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 진공 포트의 압력이 독립적으로 제어가능한 것을 특징으로 하는 스테이지 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 모터가 제1가이드 바아와 병렬로 배열되는 고정자를 가지는 선형 모터인 것을 특징으로 하는 스테이지 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 제1방향에 대해 수직인 제2방향으로 안내하기 위해 제1가동 유니트에 위치되는 제2가이드 바아; 및 진공-예압가능한 정압 공기 베어링을 포함하는 제2가동 유니트, 상기 진공-예압가능한 정압 공기 베어링이 상기 페디스털을 맞은편 표면에 형성되고, 또한 상기 제2가동 유니트가 제2가이드 바아를 따라 이동할 수 있는 것들을 또한 포함하는 것을 특징으로 하는 스테이지 장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 제2가이드 바아에 병렬로 배열되는 한쌍의 고정자를 가지는 선형 모터를 포함하는 것을 특징으로 하는 스테이지 장치.
  6. 스테이지 장치에 있어서, 세라믹으로 된 페디스털; 상기 페디스털에 고정된 세라믹으로 된 적어도 하나의 제1가이드 바아; 상기 베디스털과 제1가이드 바아의 상측 표면을 따라 제1방향으로 이동할 수 있는 제1가동 유니트; 제1가동 유니트를 구동하기 위한 적어도 하나의 모터; 및 상기 페디스털의 맞은편에 있는 제1가동 유니트의 표면에 그리고 제1가이드 바아의 맞은편에 있는 제1가동 유니트의 다른 표면에 형성된 제1진공 포트와 제1가스-방출 포트를 포함하는 진공-예압가능한 정압 공기 베어링을 포함하는 것을 특징으로 하는 스테이지 장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 제1진공 포트의 압력이 독립적으로 제어가능한 것을 특징으로 하는 스테이지 장치.
  8. 제6항에 있어서, 상기 모터가 제1가이드 바아에 병렬로 배열된 고정자를 가지는 선형 모터인 것을 특징으로 하는 스테이지 장치.
  9. 제6항에 있어서, 제1방향에 대해 수직인 제2방향으로 안내를 하기 위한 제1가동 유니트에 위치하는 제2가이드 바아; 및 제2진공 포트와 제2가스-방출 포트를 포함하는 진공-예압가능한 정압 공기 베어링을 포함하는 제2가동 유니트, 상기 진공-예압가능한 정압 공기 베어링이 페디스털의 맞은편에 있는 표면에 형성되고, 상기 제2가동 유니트는 제3가스-방출 포드를 포함하며, 또한 상기 제3가스-방출 포트는 제2가이드 바아가 그들 사이에 삽입되도록 형성되는 것을 또한 포함하는 것을 특징으로 하는 스테이지 장치.
  10. 제9항에 있어서, 제2방향으로 제2가동 유니트를 안내하기 위해 제2가이드에 대해 병렬로 배열되는 한쌍의 고정자를 가지는 선형 모터를 포함하는 것을 특징으로 하는 스테이지 장치.
  11. 스테이지 장치에 있어서, 페디스털; 상기 페디스털에 고정된 적어도 하나의 제1가이드 바아; 상기 페디스털과 제1가이드 바아의 상측 표면을 따라 제1방향으로 가동될 수 있는 제1가동 유니트; 상기 제1가동 유니트를 구동하기 위한 적어도 하나의 모터; 및 상기 페디스털의 맞은편에 있는 제1가동 유니트의 표면에 그리고 제1가이드 바아의 맞은편에 있는 제1가동 유니트의 다른 표면에 형성된 다수의 가스-방출 포트와 다수의 진공 포트를 구비하는 진공-예압가능한 전압 공기 베어링을 포함하는 것을 특징으로 하는 스테이지 장치.
  12. 제11항에 있어서, 상기 진공 포트의 압력이 독립적으로 제어가능한 것을 특징으로 하는 스테이지 장치.
  13. 제11항에 있어서, 상기 제1방향에 대해 수직인 제2방향으로 안내를 하기 위한 제1가동 유니트에 위치하는 제2가이드 바아; 및 상기 다수의 제2진공 포트와 다수의 제2가스-방출 포트를 포함하는 진공-예압가능한 정압 공기 베어링을 포함하는 제2가동 유니트, 상기 진공-예압가능한 정압 공기 베어링이 페디스털의 맞은편에 있는 표면에 형성되고, 상기 제2가동 유니트는 다수의 제3가스-방출 포트를 포함하며, 또한 상기 다수의 제3가스-방출 포트는 제2가이드 바아가 그들 사이에 삽입되도록 형성되는 것을 또한 포함하는 것을 특징으로 하는 스테이지 장치.
  14. 마이크상의 패턴을 광전기판에 투사하기 위한 투사 노광 장치에 있어서, 세라믹으로 된 페디스틸; 상기 페디스털에 고정된 세라믹으로 된 적어도 하나의 제1가이드 바아; 상기 페디스틸과 제1가이드 바아의 상측 표면을 따라 제1방향으로 이동할 수 있는 제1가동 유니트; 제1가동 유니트를 구동하기 위한 적어도 하나의 모터; 및 상기 페디스털의 맞은편에 있는 제1가동 유니트의 표면에 그리고 제1가이드 바아의 맞은편에 있는 제1가동 유니트의 다른 표면에 형성된 진공 포트와 가스-방출 포트를 포함하는 진공-예압가능한 정압 공기 베어링을 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 상의 패턴을 광전 기판에 투사하기 위한 투사 노광 장치.
  15. 제14항에 있어서, 상기 진공 포트의 압력이 독립적으로 제어가능한 것을 특징으로 하는 마스크 상의 패턴을 광전 기판에 투사하기 위한 투사 노광 장치.
  16. 제14항에 있어서, 상기 모터가 제2방향으로 제2가동 유니트를 안내하기 위해 제2가이드에 대해 병렬로 배열되는 고정자를 가지는 선형 모터인 것을 특징으로 하는 마스크 상의 패턴을 광전 기판에 투사하기 위한 투사 노광 장치.
  17. 제14항에 있어서, 상기 제1방향에 대해 수직인 제2방향으로 안내를 하기 위한 제1가동 유니트에 위치하는 제2가이드 바아; 및 상기 제2가동 유니트가 진공-예압가능한 정압 공기 베어링을 포함하며, 이 진공-예압 가능한 정압 공기 베어링이 페디스털의 맞은편에 있는 표면에 형성되고, 상기 제2가동 유니트는 제2가이드 바아를 따라 가동할 수 있는 것을 특징으로 하는 마스크 상의 패턴을 광전 기판에 투사하기 위한 투사 노광 장치.
  18. 제14항에 있어서, 상기 제2방향으로 제2가동 유니트를 안내하기 위해 제2가이드에 대해 병렬로 배열되는 고정자를 가지는 선형 모터를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 상의 패턴을 광전 기판에 투사하기 위한 투사 노광 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960008997A 1995-06-15 1996-03-29 스테이지장치및그스테이지장치를갖춘노광장치 KR100436323B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17285595A JP3709896B2 (ja) 1995-06-15 1995-06-15 ステージ装置
JP95-172855 1995-06-15

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR970003281A true KR970003281A (ko) 1997-01-28
KR100436323B1 KR100436323B1 (ko) 2004-09-01

Family

ID=15949550

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019960008997A KR100436323B1 (ko) 1995-06-15 1996-03-29 스테이지장치및그스테이지장치를갖춘노광장치

Country Status (3)

Country Link
US (2) US5839324A (ko)
JP (1) JP3709896B2 (ko)
KR (1) KR100436323B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100488400B1 (ko) * 2001-02-27 2005-05-11 캐논 가부시끼가이샤 스테이지장치, 노광장치 및 디바이스제조방법과이동안내방법

Families Citing this family (54)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6008500A (en) * 1995-04-04 1999-12-28 Nikon Corporation Exposure apparatus having dynamically isolated reaction frame
US5959732A (en) * 1996-04-10 1999-09-28 Nikon Corporation Stage apparatus and a stage control method
US6128069A (en) * 1997-03-13 2000-10-03 Canon Kabushiki Kaisha Stage mechanism for exposure apparatus
JP3483452B2 (ja) 1998-02-04 2004-01-06 キヤノン株式会社 ステージ装置および露光装置、ならびにデバイス製造方法
JP3810039B2 (ja) * 1998-05-06 2006-08-16 キヤノン株式会社 ステージ装置
WO1999066221A1 (fr) * 1998-06-17 1999-12-23 Nikon Corporation Palier a gaz sous pression statique, etage mettant en oeuvre ce palier, et dispositif optique dote de cet etage
JP2000240651A (ja) * 1999-02-19 2000-09-05 Toto Ltd 静圧気体軸受
US6499880B2 (en) 1999-02-19 2002-12-31 Nikon Corporation Static pressure air bearing
NL1015738C2 (nl) 1999-07-28 2002-10-15 Kyocera Corp Schuifapparaat en bijbehorend platformmechanisme voor gebruik in vacu³m.
US6324933B1 (en) * 1999-10-06 2001-12-04 Agere Systems Guardian Corp. Planar movable stage mechanism
US6265839B1 (en) * 1999-11-10 2001-07-24 Howard Layton Hoist transfer drive system having X and Y-linear motors
US6467960B1 (en) 2000-08-18 2002-10-22 Nikon Corporation Air bearing linear guide for use in a vacuum
US6753534B2 (en) 2000-12-08 2004-06-22 Nikon Corporation Positioning stage with stationary and movable magnet tracks
US20030230729A1 (en) * 2000-12-08 2003-12-18 Novak W. Thomas Positioning stage with stationary and movable magnet tracks
US6844694B2 (en) 2001-08-10 2005-01-18 Nikon Corporation Stage assembly and exposure apparatus including the same
TWI261023B (en) * 2003-11-12 2006-09-01 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Apparatus and method for forming blown multi-layer film
JP4418699B2 (ja) * 2004-03-24 2010-02-17 キヤノン株式会社 露光装置
CN1965389B (zh) 2004-06-09 2011-08-10 尼康股份有限公司 基板保持装置、具备其之曝光装置及方法、元件制造方法
KR100534140B1 (ko) * 2004-06-23 2005-12-08 삼성전자주식회사 스테이지장치
EP1801850B1 (en) 2004-09-17 2014-11-26 Nikon Corporation Substrate holding apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method
US20060124864A1 (en) * 2004-12-14 2006-06-15 Nikon Corporation Air bearing compatible with operation in a vacuum
JP2006247474A (ja) * 2005-03-08 2006-09-21 Dainippon Printing Co Ltd 位置制御ステージ装置及び基板処理装置
US7290931B2 (en) * 2005-07-15 2007-11-06 Asml Holding N.V. Vacuum pre-loaded pneumatic bearing with onboard vacuum generator
CN100449406C (zh) * 2006-06-07 2009-01-07 友达光电股份有限公司 电阻测量系统及应用其的测量方法
US8740205B2 (en) * 2007-04-16 2014-06-03 Ulvac, Inc. Conveyor and deposition apparatus, and maintenance method thereof
US8035805B2 (en) 2007-10-17 2011-10-11 Canon Kabushiki Kaisha Driving apparatus and exposure apparatus, and device fabrication method
JP5132491B2 (ja) * 2007-10-17 2013-01-30 キヤノン株式会社 駆動装置及び露光装置、デバイスの製造方法
DE102008046636B4 (de) * 2008-09-09 2014-04-03 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Aerostatische Lageranordnung mit zugeordneter elektrostatischer Vorspanneinheit, insbesondere für die Vakuumanwendung
US7636170B1 (en) * 2008-09-12 2009-12-22 National Formosa University Static/dynamic multi-function measuring device for linear unit
US7959141B2 (en) * 2008-12-23 2011-06-14 Sumitomo Heavy Industries, Ltd. Stage apparatus
US8084896B2 (en) * 2008-12-31 2011-12-27 Electro Scientific Industries, Inc. Monolithic stage positioning system and method
TWI549386B (zh) 2010-04-13 2016-09-11 康寧吉伯特公司 具有防止進入及改良接地之同軸連接器
US8888526B2 (en) 2010-08-10 2014-11-18 Corning Gilbert, Inc. Coaxial cable connector with radio frequency interference and grounding shield
JP5785722B2 (ja) 2011-02-02 2015-09-30 住友重機械工業株式会社 ステージ装置
US9190744B2 (en) 2011-09-14 2015-11-17 Corning Optical Communications Rf Llc Coaxial cable connector with radio frequency interference and grounding shield
US20130072057A1 (en) 2011-09-15 2013-03-21 Donald Andrew Burris Coaxial cable connector with integral radio frequency interference and grounding shield
US8794610B2 (en) * 2011-09-20 2014-08-05 Mitutoyo Corporation Two-dimension precision transfer equipment, three-dimension precision transfer equipment, and coordinate measuring machine
JP5736284B2 (ja) * 2011-09-20 2015-06-17 株式会社ミツトヨ 精密移動装置
US9136654B2 (en) 2012-01-05 2015-09-15 Corning Gilbert, Inc. Quick mount connector for a coaxial cable
US9287659B2 (en) 2012-10-16 2016-03-15 Corning Optical Communications Rf Llc Coaxial cable connector with integral RFI protection
US9052469B2 (en) 2013-04-26 2015-06-09 Corning Cable Systems Llc Preterminated fiber optic connector sub-assemblies, and related fiber optic connectors, cable assemblies, and methods
US10290958B2 (en) 2013-04-29 2019-05-14 Corning Optical Communications Rf Llc Coaxial cable connector with integral RFI protection and biasing ring
DK3000154T3 (da) 2013-05-20 2019-07-22 Corning Optical Comm Rf Llc Koaksialkabelstik med integral rfi- beskyttelse
US9548572B2 (en) 2014-11-03 2017-01-17 Corning Optical Communications LLC Coaxial cable connector having a coupler and a post with a contacting portion and a shoulder
US10033122B2 (en) 2015-02-20 2018-07-24 Corning Optical Communications Rf Llc Cable or conduit connector with jacket retention feature
CN104889951A (zh) * 2015-06-08 2015-09-09 广东工业大学 动态特性可调宏微一体化复合平台
US10211547B2 (en) 2015-09-03 2019-02-19 Corning Optical Communications Rf Llc Coaxial cable connector
CN105068386B (zh) * 2015-09-07 2017-04-12 哈尔滨工业大学 一种双工件台系统安全保护方法
US9525220B1 (en) 2015-11-25 2016-12-20 Corning Optical Communications LLC Coaxial cable connector
CN106020246A (zh) * 2016-06-30 2016-10-12 广东工业大学 一种运动平台
CN109576145B (zh) * 2018-12-05 2020-07-24 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种精密两维运动平台及基因测序仪
CN110415761B (zh) * 2019-08-15 2021-05-18 山东大学深圳研究院 一种紧凑型二维微纳伺服平台
CN112509632B (zh) * 2020-12-04 2022-02-22 中国石油大学(华东) 用于高压釜内的多级微米位移垂向调整装置
CN112946909B (zh) * 2021-03-12 2022-10-21 南京航空航天大学 一种精密二维稳像平台

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3969004A (en) * 1974-08-02 1976-07-13 The Computervision Corporation Air bearing piston assembly for semiconductor mask-to-wafer aligner
US4118042A (en) * 1977-09-27 1978-10-03 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Air bearing vacuum seal assembly
JPS55134414A (en) * 1979-04-06 1980-10-20 Hitachi Ltd Precise moving unit
JPS59129633A (ja) * 1983-01-08 1984-07-26 Canon Inc ステージ装置
JPS6130345A (ja) * 1984-07-20 1986-02-12 Omron Tateisi Electronics Co 静圧空気浮上ステ−ジ
NL8601547A (nl) * 1986-06-16 1988-01-18 Philips Nv Optisch litografische inrichting met verplaatsbaar lenzenstelsel en werkwijze voor het regelen van de afbeeldingseigenschappen van een lenzenstelsel in een dergelijke inrichting.
US4719705A (en) * 1986-06-24 1988-01-19 The Perkin-Elmer Corporation Reticle transporter
US5040431A (en) * 1988-01-22 1991-08-20 Canon Kabushiki Kaisha Movement guiding mechanism
JPH01188241A (ja) * 1988-01-22 1989-07-27 Canon Inc 移動案内装置
JPH03131442A (ja) * 1989-10-12 1991-06-05 Nippon Tungsten Co Ltd Ｘ―ｙステージ
US5160883A (en) * 1989-11-03 1992-11-03 John H. Blanz Company, Inc. Test station having vibrationally stabilized X, Y and Z movable integrated circuit receiving support
US5098204A (en) * 1989-11-03 1992-03-24 John H. Blanz Company, Inc. Load balanced planar bearing assembly especially for a cryogenic probe station
JP3031940B2 (ja) * 1990-02-21 2000-04-10 キヤノン株式会社 移動案内装置
US5228358A (en) * 1990-02-21 1993-07-20 Canon Kabushiki Kaisha Motion guiding device
JPH04223830A (ja) * 1990-12-21 1992-08-13 Canon Inc 移動案内装置
JP3246922B2 (ja) * 1991-07-17 2002-01-15 株式会社アマダ パンチプレスのラム駆動装置
JPH06183561A (ja) * 1992-12-18 1994-07-05 Canon Inc 移動ステージ装置
JPH07115053A (ja) * 1993-10-15 1995-05-02 Canon Inc 移動ステージ装置
JPH07325176A (ja) * 1994-06-01 1995-12-12 Nikon Corp ステージ装置
JP3167090B2 (ja) * 1995-03-10 2001-05-14 キヤノン株式会社 基板受け渡し装置及び半導体製造装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100488400B1 (ko) * 2001-02-27 2005-05-11 캐논 가부시끼가이샤 스테이지장치, 노광장치 및 디바이스제조방법과이동안내방법

Also Published As

Publication number Publication date
US6158298A (en) 2000-12-12
US5839324A (en) 1998-11-24
JP3709896B2 (ja) 2005-10-26
KR100436323B1 (ko) 2004-09-01
JPH095463A (ja) 1997-01-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR970003281A (ko) 스테이지 장치 및 그 스테이지 장치를 갖춘 노광 장치
JP3635600B2 (ja) 送り装置
KR0167850B1 (ko) 스테이지장치 및 이를 사용한 노광장치
US9007561B2 (en) Immersion lithography apparatus with hydrophilic region encircling hydrophobic region which encircles substrate support
US5996437A (en) Precision motion stage with single guide beam and follower stage
US20100271613A1 (en) Bearing device, stage device, and exposure apparatus
EP0990931A3 (de) Anordnung zur Justage optischer Komponenten
KR20040032762A (ko) 베어링 어셈블리, 이를 이용한 스테이지 장치 및 이를이용한 노광장치
JP5027108B2 (ja) ステージ装置
JP3679509B2 (ja) 移動ステージ装置およびこれを用いた露光装置
US6025658A (en) Linear motor, and stage apparatus and exposure apparatus using the same
KR960034050A (ko) 엘레베이터 모터의 댐퍼와인딩
JPH08323567A (ja) Ｘｙテーブル
JP3639681B2 (ja) ステージ装置およびこれを用いた露光装置
KR20080104172A (ko) 지지 장치
JPH11190336A (ja) 静圧軸受支持のガイドローラ
JP6069014B2 (ja) スリットノズルおよび基板処理装置
JPH10256111A (ja) 静圧ステージ
JP6810911B2 (ja) 物体搬送装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法
JPS6234745A (ja) テ−ブル装置
JPH1055953A (ja) 走査ステージ装置およびこれを用いた露光装置
JP6519960B2 (ja) 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法
JP4474206B2 (ja) 基板保持装置
JPH06241230A (ja) 静圧軸受装置およびこれを用いた位置決めステージ
KR19980079098A (ko) 반도체 스퍼터링 장비의 웨이퍼 고정용 클램프 가이드 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20080522

Year of fee payment: 5

LAPS Lapse due to unpaid annual fee