JPH095463A - ステージ装置 - Google Patents

ステージ装置

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JPH095463A
JPH095463A JP7172855A JP17285595A JPH095463A JP H095463 A JPH095463 A JP H095463A JP 7172855 A JP7172855 A JP 7172855A JP 17285595 A JP17285595 A JP 17285595A JP H095463 A JPH095463 A JP H095463A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 定盤に多少の傷がついても移動体の移動性能
を損うことがないステージ装置を提供する。 【構成】 セラミックス製の定盤１２が使用されてい
る。このため、従来の鉄製の定盤に比べ、軽量化及び高
剛性化を図ることができ、第１、第２の移動体１６、３
６の移動により容易に撓むことがなく、結果的に装置全
体の機械的共振周波数が高くなる。例えば、定盤１２が
アルミナセラミックス製である場合には、重量は約半分
(鉄の比重7. 8、アルミナの比重3.8)で剛性は1.85倍(鉄
のヤング率：210GPa、アルミナのヤング率：390GPa)に
なる。また、定盤に傷がつき難く、仮に傷がついた場合
でもいわゆるカエリが生じないため、定盤上面に沿って
移動する第１、第２の移動体１６、１８の移動性能を損
なうことがなくなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ステージ装置に係り、
例えば、露光装置等におけるＸＹステージ装置として好
適なステージ装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】レチクル上のパターンを露光光で被露光
基板（感光基板）に転写する露光装置において、被露光
基板を所定の露光位置に移動させる手段として、Ｘ、Ｙ
２次元方向に移動可能な基板ステージを備えたＸＹステ
ージ装置が用いられる。このＸＹステージ装置として
は、例えば、特開平１−１８８２４１号、特開平４−２
２３８３０号公報に開示されるように、高速・高精度な
ステージの移動、位置決めを実現すべく、静圧空気案内
式のステージ装置が用いられる。
【０００３】図４には、従来のこの種のＸＹステージ装
置の一例が示されている。図４において、鉄製の定盤１
００に鉄製のＸ方向の案内手段であるＸガイド１０２と
Ｘ方向の駆動手段であるリニアモーター１０４、１０６
の固定子１０４Ａ、１０６Ａとが固定されている。リニ
アモータ１０４、１０６の可動子１０４Ｂ、１０６Ｂは
第１、第２のＹガイド搬送体１１０、１１２にそれぞれ
接続され、これらのＹガイド搬送体１１０、１１２相互
間にはＹ方向の案内手段であるＹガイド１０８が架設さ
れている。即ち、これらＹガイド搬送体１１０、１１
２、及びＹガイド１０８によって、可動子１０４Ｂ、１
０６ＢのＸ方向の移動によってＸ方向の駆動されるＸ方
向の移動体が構成される。
【０００４】第１のＹガイド搬送体１１０の定盤１００
およびＸガイド１０２と対向する面並びに第２のＹガイ
ド搬送体１１２の定盤１００と対向する面には、図示し
ない空気噴出部および永久磁石が設けられており、これ
ら第１のＹガイド搬送体１１０及び第２のＹイド搬送体
１１２は、定盤１００及びＸガイド１０２に対し反発力
である空気圧と吸引力である磁力とが釣り合った状態で
所定寸法の隙間を保ちつつ浮上している。
【０００５】Ｙガイド１０８には、当該Ｙガイド１０８
に沿ってＹ方向に移動可能なＹ移動体１１０が、Ｙガイ
ド１０８を上下左右の四方から取り囲む状態で取り付け
られている。このＹ移動体１１０の両側壁部にはＹガイ
ド１０８をＸ方向の両側から挟む形で一対のＹ方向軸受
体１１２（片側図示せず）が固定され、これらのＹ方向
軸受体１１２には空気噴出部がそれぞれ設けられてい
る。このため、一対のＹ方向軸受体１１２からＹガイド
１０８に向けてそれぞれ吹き出される空気圧の釣合によ
り、Ｙ方向軸受体１１２とＹガイド１０８との間には一
定のギャップが設定されている。
【０００６】Ｙ移動体１１０の定盤１００と対向する面
には図示しない空気噴出部と永久磁石が設けられ、Ｙ移
動体１１０は、空気圧と磁力が釣り合った状態で定盤１
００に対し所定寸法の隙間を保ちつつ浮上している。
【０００７】Ｙガイド１０８の上面には、リニアモータ
ーの固定子１１４Ａが固定され、このリニアモータの可
動子（図示省略）がＹ移動体１１０に取り付けられてお
り、この可動子と一体的にＹ移動体１１０がＹ方向に駆
動されるようになっている。
【０００８】Ｙ移動体１１０の天板部は基板ステージ１
１４とされ、この基板ステージ１１４上には座標計測手
段であるレーザー干渉計の光を反射する移動鏡（図示省
略）が搭載され、Ｚ方向およびＸ、Ｙ、Ｚ軸回りに制御
可能なテーブル（図示省略）を介して被露光基板が載置
される。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】ＸＹステージ装置で
は、基板ステージ１１４の位置及び速度の整定時間が短
いことが重要であり、このため、装置全体の機械的共振
周波数が高いことが望ましい。従って、静圧空気軸受の
軸受隙間の空気の上下方向の剛性が高いことと共に、定
盤が軽量でかつ基板ステージ１１４の移動（より具体的
にはＸ移動体、Ｙ移動体の移動）により容易に撓んだり
しないことが望ましい。
【００１０】しかしながら、上述した従来のＸＹステー
ジ装置にあっては、定盤１１０及びＸガイド１０２とし
て比較的重量が重く、剛性が小さい鉄製のものが用いら
れていたことから、装置全体の機械的共振周波数が低
く、基板ステージ１１４の移動により定盤１１０に撓み
が生じることがあった。また、定盤１１０に傷がつき易
く、傷がついた場合、傷部に錆が発生したり、窪みだけ
でなくカエリと呼ばれる盛上がりが発生するため、その
盛上がり量が軸受隙間である５〜１０μｍを越えるとき
には、ステージの移動性能が損なわれるという不都合が
あった。
【００１１】ところで、従来、鉄製の定盤が使用されて
いたのは、各移動部材を磁石予圧型空気軸受を介して定
盤上に支持していたことと密接な関係がある。即ち、静
圧空気軸受の場合、軸受隙間の空気の剛性が移動体のピ
ッチングやローリング性能に影響を与えるため、軸受隙
間の設定が重要であり、磁石予圧型空気軸受の軸受隙間
は、空気噴出部からの空気圧と移動体に取り付けられた
磁石が定盤等を吸引する吸引力との釣合で設定されるた
め、定盤等が磁性体であることが前提となるからであ
る。
【００１２】磁石予圧型空気軸受の軸受隙間は、空気噴
出部の特性の微調整又は磁石の取り替えによる磁力の調
整あるいは磁石の取付位置の変更等により調整可能であ
る。しかしながら、かかる調整作業は部品単体では可能
であるが、装置組立後には行なうことができず、このた
め、部品加工の誤差や組立誤差で生じる軸受隙間のばら
つきを微調整することが困難であるという不都合があっ
た。
【００１３】これに加え、磁石予圧型空気軸受を使用す
る場合には、磁石と鉄が相対的に移動する際に電磁誘導
効果により鉄の表面付近に渦電流が発生し、この渦電流
と磁力の作用により移動体の移動を停止させる方向に力
が発生するため、駆動リニアモータに大きな推力を発生
させる必要があり、必然的にモータの大型化、消費電力
の増大、発熱量の増大等の不都合を招くという不都合も
あった。
【００１４】また、上記従来のＸＹステージ装置では、
単一のリニアモータにより基板ステージをＹ方向に駆動
しているため、推力リップルの影響が大きく、また被露
光基板が露光位置にある時に、Ｙ方向駆動用のリニアモ
ータが図示しないＹ干渉計の光路下に光路に沿って位置
するため、強制液冷を行ったとしても残留する発熱の影
響による空気ゆらぎのため干渉計の計測値に誤差が生ず
るという不都合もあった。
【００１５】本発明は、かかる従来技術の有する不都合
に鑑みてなされたもので、その第１の目的は、定盤に多
少の傷がついても移動体の移動性能を損うことがないス
テージ装置を提供することにある。
【００１６】本発明の第２の目的は、移動体の駆動手段
の消費電力の低減及び発熱量の低減を図ることができる
と共に、組み立て後に軸受隙間を高精度に調整すること
ができるステージ装置を提供することにある。
【００１７】本発明の第３の目的は、リニアモータの推
力リップルの影響が小さく、露光装置等に用いた場合
に、レーザー干渉計の光路への熱の発散を抑制すること
ができるステージ装置を提供することにある。
【００１８】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、定盤と、当該定盤上に固定された少なくとも１本の
ガイドバーと、前記定盤上面と前記ガイドバーに沿って
所定の第１方向に移動可能な第１の移動体と、当該第１
の移動体に案内されて前記定盤上を前記第１方向に直交
する第２方向に移動可能な第２の移動体とを有するステ
ージ装置において、少なくとも前記定盤がセラミックス
製であることを特徴とする。
【００１９】ここで、定盤を形成するセラミックスとし
ては、ファインセラミックス、代表的にはアルミナセラ
ミックスが挙げられる。また、少なくとも前記定盤と
は、定盤及び他の部材、例えばガイドバーがセラミック
ス製である場合をも含む。
【００２０】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
のステージ装置において、前記第１の移動体の前記定盤
対向面及び前記ガイドバー対向面に真空部の圧力を独立
して制御可能な真空予圧型静圧空気軸受がそれぞれ設け
られていることを特徴とする。ここで、真空部の圧力の
制御は、真空調圧弁等を介して手動又はコンピュータ制
御により行なわれる。
【００２１】請求項３に記載の発明は、定盤と、当該定
盤上に固定された少なくとも１本のガイドバーと、前記
定盤上面と前記ガイドバーに沿って所定の第１方向に移
動可能な第１の移動体と、当該第１の移動体に案内され
て前記定盤上を前記第１方向に直交する第２方向に移動
可能な第２の移動体とを有するステージ装置において、
前記第１の移動体の前記定盤対向面及び前記ガイドバー
対向面に真空部の圧力を独立して制御可能な真空予圧型
静圧空気軸受がそれぞれ設けられていることを特徴とす
る。
【００２２】請求項４に記載の発明は、定盤と、当該定
盤上に固定された少なくとも１本のガイドバーと、前記
定盤上面と前記ガイドバーに沿って所定の第１方向に移
動可能な第１の移動体と、当該第１の移動体に案内され
て前記定盤上を前記第１方向に直交する第２方向に移動
可能な第２の移動体とを有するステージ装置において、
前記第２の移動体の駆動手段が、前記第２の移動体を前
記第２方向に案内する移動ガイドの両側に当該移動ガイ
ドに平行にそれぞれ配置された固定子を有する一対のリ
ニアモータにより構成されたことを特徴とする。
【００２３】請求項５に記載の発明は、請求項４に記載
のステージ装置において、前記第１の移動体が、前記ガ
イドバーと定盤に静圧空気軸受を介して支持され前記ガ
イドバーに沿って所定の第１方向に移動可能な第１の移
動ガイド搬送体と、定盤に静圧空気軸受で支持され前記
第１の移動ガイド搬送体と一体的に移動可能な第２の移
動ガイド搬送体と、これら第１、第２の移動ガイド搬送
体間に懸架された移動ガイドとを有し、前記第２の移動
体が、前記移動ガイドと定盤に静圧空気軸受で支持され
たことを特徴とする。
【００２４】請求項６に記載の発明は、請求項５に記載
のステージ装置において、前記第１の移動体の定盤対向
面及び前記ガイドバー対向面にそれぞれ設けられた静圧
空気軸受けが真空部の圧力を独立して制御可能な真空予
圧型静圧空気軸受であることを特徴とする。
【００２５】
【作用】請求項１に記載の発明によれば、定盤がセラミ
ックス製であることから、従来の鉄製の定盤に比べ、軽
量化及び高剛性化を図ることができ、第１、第２の移動
体の移動により容易に撓むことがなく、結果的に装置全
体の機械的共振周波数が高くなる。例えば、定盤がアル
ミナセラミックス製である場合には、重量は約半分(鉄
の比重7. 8、アルミナの比重3.8)で剛性は1.85倍(鉄の
ヤング率：210GPa、アルミナのヤング率：390GPa)にな
る。また、定盤に傷がつき難く、仮に傷がついた場合で
もいわゆるカエリが生じない。
【００２６】請求項２に記載の発明によれば、第１の移
動体の定盤対向面及びガイドバー対向面に真空部の圧力
を独立して制御可能な真空予圧型静圧空気軸受がそれぞ
れ設けられていることから、組立後にそれぞれの静圧空
気軸受の真空部の圧力（吸引力）を制御して各軸受隙間
を最適な状態に設定することが可能になる。また、真空
予圧型静圧空気軸受の場合、磁石の吸引力を利用しない
ので、定盤が非磁性体であるセラミックスであっても何
等支障なく使用することができ、また、真空源を停止す
ることにより吸引力をなくすることが可能なため、第１
の移動体を容易に装置本体から取り外すことが可能にな
り保守性が向上した。
【００２７】請求項３記載の発明によれば、第１の移動
体の定盤対向面及びガイドバー対向面に真空部の圧力を
独立して制御可能な真空予圧型静圧空気軸受がそれぞれ
設けられていることから、請求項に２記載の発明と同様
に、組立後にそれぞれの静圧空気軸受の真空部の圧力
（吸引力）を制御して各軸受隙間を最適な状態に設定す
ることが可能となる。これに加え、鉄製の定盤及びガイ
ドバーを使用する場合に従来問題となっていた渦電流に
起因する移動体を停止させる方向に働く力がなくなり、
移動体の駆動力を小さくすることが可能になる。
【００２８】請求項４に記載の発明によれば、第２の移
動体の駆動手段が、第２の移動体を第２方向に案内する
移動ガイドの両側に当該移動ガイドに平行にそれぞれ配
置された固定子を有する一対のリニアモータにより構成
されたことから、推力リップルの影響が緩和される。こ
れに加え、レーザ干渉計により第２の移動体の移動位置
を検出する場合に、第１の移動体が所定範囲内にあると
き、レーザー干渉計光路への熱の発散が減少する。
【００２９】請求項５記載の発明によれば、請求項４に
記載の発明と同様に、推力リップルの影響が緩和される
他、第１の移動体が、ガイドバーと定盤上に静圧空気軸
受を介して支持されガイドバーに沿って所定の第１方向
に移動可能な第１の移動ガイド搬送体と、定盤に静圧空
気軸受で支持され第１の搬送体と一体的に移動可能な第
２の移動ガイド搬送体と、これら第１、第２の移動ガイ
ド搬送体間に懸架された移動ガイドとを有し、第２の移
動体が、移動ガイドと定盤に静圧空気軸受で支持されて
いることから、第１の移動体のピッチングのみが静圧空
気軸受を介して第２の移動体に伝わるが、第１の移動体
のその他の方向の振動が第２の移動体に伝わることがな
く、第２の移動体の位置決め精度が向上する。
【００３０】請求項６記載の発明によれば、請求項５記
載の発明と同様の作用の他、組立後にそれぞれの静圧空
気軸受の真空部の圧力（吸引力）を制御して各軸受隙間
を最適な状態に設定することが可能となり、移動体の駆
動手段を構成するリニアモータ等を小さくすることがで
きる。
【００３１】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図１ないし図３に
基づいて説明する。
【００３２】図１には、一実施例に係るステージ装置と
してのＸＹステージ装置１０が概略的に示されている。
このＸＹステージ装置１０は、定盤１２と、定盤１２上
に固定されたガイドバーとしてのＸガイド１４と、定盤
１２上面及びＸガイド１４に沿って図１におけるＸ方向
（所定の第１方向）に移動可能な第１の移動体１６と、
この第１の移動体１６を構成する移動ガイドとしてのＹ
ガイド２２に沿ってＸ方向に直交するＹ方向（第２方
向）に移動可能な第２の移動体３６とを備えている。
【００３３】定盤１２としては、鉄に比べ軽量で傷のつ
き難いアルミナセラミックス製の長方形状のものが使用
されている。この定盤１２の上面は基準面とされてい
る。
【００３４】Ｘガイド１４としては、同じくアルミナセ
ラミックス製のものが使用されている。このＸガイド１
４は、定盤１２上のＹ方向の一端面近傍にＸ方向に沿っ
て配置されている。このＸガイド１４のＹ方向の他端側
の面は基準面とされている。
【００３５】前記第１の移動体１６は、定盤１２上にＸ
ガイド１４に近接してＸ方向に沿って配置された断面Ｌ
字状部材から成る第１の移動ガイド搬送体としての第１
のＹガイド搬送体１８と、この第１のＹガイド搬送体１
８から所定距離隔てて当該第１のＹガイド搬送体１８と
平行に定盤１２上に配置された細長い板状部材から成る
第２の移動ガイド搬送体としての第２のＹガイド搬送体
２０と、これら第１、第２のＹガイド搬送体１８、２０
相互間に架設されたＹ方向に延びる前記Ｙガイド２２と
を有している。
【００３６】定盤１２上のＸガイド１４のＹ方向の一側
には、第１のＸリニアモータ２４の固定子２４Ａが、Ｘ
ガイド１４に近接してＸ方向に延設されている。また、
定盤１２上のＹ方向の他端部近傍で第２のＹガイド搬送
体２０のＹ方向の他側には、第２のＸリニアモータ２６
の固定子２６Ａが、Ｘ方向に延設されている。本実施例
では、図１から明らかなように、第１、第２のＸリニア
モータ２４、２６として、いわゆるムービングマグネッ
ト型のリニアモータが使用されている。
【００３７】第１のＸリニアモータ２４の可動子２４Ｂ
は、連結部材２８を介してＹガイド２２の一端に連結さ
れており、第２のＸリニアモータ２６の可動子２６Ｂ
は、連結部材３０を介してＹガイド２２の他端に連結さ
れている。このため、第１、第２のＸリニアモータ２
４、２６の可動子２４Ｂ、２６Ｂの移動によって第１の
移動体がＸ方向に駆動されるようになっている。
【００３８】Ｙガイド２２のＸ方向の一側と他側には、
第１、第２のＹリニアモータ３２、３４の固定子３２
Ａ、３４ＡがＹ方向に沿って配置され、第１、第２のＹ
ガイド搬送体１８、２０間に懸架されている。但し、図
１では、奥側の第２のＹリニアモータの可動子は図示を
省略されている。第１、第２のＹリニアモータとしても
ムービングマグネット型のリニアモータが使用されてい
る。
【００３９】前記第２の移動体３６は、Ｙガイド２２を
上下から挟む状態で相互に平行にかつ定盤１２の上面
（基準面）にほぼ平行に配置された天板３８及び底板４
０と、これらの天板３８と底板４０とをＹガイド２２の
両側で相互に連結する一対のＹ方向軸受体４２、４２と
を有している。これらのＹ方向軸受体４２、４２はＹガ
イド２２との間に所定の間隙を形成した状態でＹガイド
２２に平行に配置されている。これらのＹ方向軸受体４
２、４２の外面には、第２の移動体３６の駆動手段を構
成する前述した第１、第２のＹリニアモータ３２、３４
の可動子３２Ｂ、３４Ｂ（但し、３４Ｂは図示せず）が
取り付けられており、Ｙリニアモータ３２、３４の可動
子３２Ｂ，３４Ｂの移動によって第２の移動体３６がＹ
方向に駆動されるようになっている。また、Ｙ方向軸受
体４２の内面には、図示しない空気吹き出し部が設けら
れている。更に、これらのＹ方向軸受体４２の高さ方向
の寸法は、Ｙガイド２２のそれにより大きく設定されて
いる。
【００４０】前記天板部３８は、基板ステージを兼ねて
おり、この天板部３８の上面には、定盤１２上に固定さ
れたＸ座標計測用レーザ干渉計４４およびＹ座標計測用
レーザ干渉計４６から放射されるレーザ光を反射するＸ
移動鏡４８、Ｙ移動鏡５０及び被露光基板５２が搭載さ
れている。なお、この被露光基板５２は、実際には、上
下(Ｚ方向)の移動、およびＸ、Ｙ、Ｚ軸回りの回転が可
能な不図示のＺレベリングステージを介して天板部３８
上に搭載される。
【００４１】更に、本実施例では、いろいろな所に空気
噴出部と真空予圧部とを備えた真空予圧型静圧空気軸受
が設けられている。以下、これについて図２を参照しつ
つ説明する。図２（Ａ）は第１の移動体１６及び第２の
移動体３６部分を中心とした要部を図１の矢印Ａ方向か
ら見た図であり、図２（Ｂ）は同図（Ａ）の底面図であ
り、図２（Ｃ）は同図（Ａ）のＣ−Ｃ線断面図である。
【００４２】第１のＹガイド搬送体１８の定盤１２との
対向面には、図２（Ｂ）に示されるように、空気噴出部
５４（５４1 〜５４3 ）と真空予圧部５６（５６1 、５
６2）とが交互に設けられている。図３に示されるよう
に、各空気噴出部５４にはコンプレッサ６０からの圧搾
空気が供給され、各真空予圧部５６には真空予圧部５６
のみの圧力を手動により調整可能な真空調圧弁５８を介
して真空源としての真空ポンプ６２が接続されており、
これにより空気圧と真空吸引力の釣合で生じる軸受隙間
（定盤１２上面とＹガイド搬送体１８との間に生じる隙
間）の調節が可能になっている。
【００４３】同様に、第２のＹガイド搬送体２０の定盤
１２との対向面には、図２（Ｂ）に示されるように、空
気噴出部６４（６４1 〜６４3 ）と真空予圧部６６（６
６1、６６2 ）とが交互に設けられている。図３に示さ
れるように、各空気噴出部６４にはコンプレッサ６０か
らの圧搾空気が供給され、各真空予圧部６６には真空予
圧部６６のみの圧力を手動により調整可能な真空調圧弁
６８を介して真空ポンプ６２が接続されており、これに
より空気圧と真空吸引力の釣合で生じる軸受隙間（定盤
１２上面とＹガイド搬送体２０との間に生じる隙間）の
調節が可能になっている。
【００４４】また、同様に、第２の移動体３６の底板４
０の定盤１２との対向面には、図２（Ｂ）に示されるよ
うに、空気噴出部７０（７０1 〜７０4 ）と真空予圧部
７２（７２1 〜７２4 ）とが設けられている。図３に示
されるように、各空気噴出部７０にはコンプレッサ６０
からの圧搾空気が供給され、各真空予圧部７２には真空
予圧部７２のみの圧力を手動により調整可能な真空調圧
弁７４を介して真空ポンプ６２が接続されており、これ
により空気圧と真空吸引力の釣合で生じる軸受隙間（定
盤１２と底板４０との間の隙間）の調節が可能になって
いる。この場合、この隙間の調整により、Ｙガイド２２
と天板３８及び底板４０との間には、所定のクリアラン
スが設定・維持できるようになる。
【００４５】また、同様に、第１のＹガイド搬送体１８
のＸガイド１４との対向面には、図２（Ｃ）に示される
ように、空気噴出部７６（７６1 〜７６3 ）と真空予圧
部７８（７８1 、７８2 ）とが交互に設けられている。
図３に示されるように、空気噴出部７６にはコンプレッ
サ６０からの圧搾空気が供給され、真空予圧部７８には
真空予圧部７８のみの圧力を手動にて調整可能な真空調
圧弁８０を介して真空ポンプ６２が接続されており、空
気圧と真空吸引力の釣合で生じる軸受隙間（第１のＹガ
イド搬送体１８のＸガイド１４との間の隙間）の調節が
可能になっている。
【００４６】更に、Ｙ方向軸受体４２、４２のＹガイド
２２との対向面にはそれぞれ空気噴出部８２1 、８２2
（図３参照）が設けられており、両者の空気圧の釣合に
より所定の軸受隙間が保たれるようになっている。
【００４７】次に、上述のようにして構成された本実施
例のＸＹステージ装置１０の作用を説明する。
【００４８】それぞれの真空予圧型静圧空気軸受を構成
する真空予圧部５６、６６、７２、７８の圧力が真空調
圧弁５８、６８、７４、８０により各別に調整される
と、各真空予圧型静圧空気軸受の軸受隙間が適切に設定
される。この場合、真空調圧弁５８、６８、７４、８０
は手動により操作されるが、所定の条件に基づいてコン
ピュータ制御により自動的に真空予圧部の圧力を自動調
整できるものであってもよい。
【００４９】各真空予圧型静圧空気軸受の軸受隙間が適
切に設定された状態で、第１、第２のＸリニアモータ２
４、２６、第１、第２のＹリニアモータ３２、３４が駆
動されると、これに応じて被露光基板５２が搭載された
第２の移動体３６がＸ、Ｙ２次元方向に移動し、その移
動位置がレーザ干渉計４４、４６によって計測される。
【００５０】以上説明したように、本実施例によると、
定盤１２及びＸガイド１４をアルミナセラミックス製に
することにより、従来のステージ装置で使用された鉄製
の定盤等に比べ、重量は約半分(鉄の比重7. 8、アルミ
ナの比重3.8)で剛性は1.85倍(鉄のヤング率：210GPa、
アルミナのヤング率：390GPa)にすることができるとと
もに、傷がつきにくく、また傷がついた場合でもカエリ
が生じないため、第１、第２の移動体１６、３６の移動
性能を損なうことがない。また、第１の移動体１６の上
下方向とＹ方向の支持および第２の移動体３６の上下方
向の支持方法を真空部圧力を個々独立に調整可能な真空
予圧型静圧空気軸受とすることにより、組立後に静圧空
気軸受が最高の性能を発生する状態に、軸受隙間を高精
度、例えば０．１μｍの精度で調整することが可能にな
っている。従って、装置全体の機械的共振周波数が高く
なり、基板ステージ（第２の移動体３６）の位置決め時
の位置及び速度の整定時間の短縮を図ることができる。
【００５１】更に、静圧空気軸受として真空予圧型静圧
空気軸受を使用したことから、磁石予圧型の静圧空気軸
受を用いる場合のように、渦電流に起因する移動体を停
止させる方向に働く力（抵抗力）の発生がなくなり、リ
ニアモーターを小さくすることができ、消費電力が小さ
く、発熱が小さくなっている。
【００５２】また、永久磁石では常に移動体と定盤およ
びガイドの間に吸引力が作用しているが、上記の真空予
圧型静圧空気軸受を使用した場合には真空源を停止する
ことにより吸引力を零にすることが可能なため、第１、
第２の移動体１６、３６を容易に装置本体から取り外す
ことが可能になり、保守性が向上する。
【００５３】第１、第２のＹリニアモータ３２、３４を
干渉計４６のレーザ光の光路の真下に設置したＹガイド
２２を挟む形で、当該Ｙガイド２２に平行にＹリニアモ
ータ３２、３４の固定子３２Ａ、３４Ａを設置したこと
により、推力リップルの影響が緩和できると同時に、露
光時のレーザ干渉計光路への熱の発散が減少し座標計測
精度が向上する。
【００５４】また、第２の移動体３６を分解することな
く、Ｘリニアモータ２４、２６は勿論、Ｙリニアモータ
３２、３４の交換が行えるため、保守性が向上する。
【００５５】なお、上記実施例ではムービングマグネッ
ト型リニアモータを使用する場合を例示したが、本発明
がこれに限定されるものではなく、これに代えてムービ
ングコイル型のリニアモータを使用しても良いことは勿
論である。
【００５６】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１に記載の
発明によれば、装置全体の機械的共振周波数が高くなる
ことから、移動体の位置決め時の位置及び速度の整定時
間の短縮を図ることができると共に仮に定盤に傷がつい
た場合にもカエリが生じないため、移動体の移動性能を
損なうことがないという従来にない優れた効果がある。
【００５７】また、請求項２に記載の発明によれば、請
求項１記載の発明の効果に加え、組立後にそれぞれの静
圧空気軸受の真空部の圧力（吸引力）を制御して各軸受
隙間を最適な状態に設定することが可能になったことか
ら、組み立て後に、各静圧空気軸受が最高の性能を発生
する状態に軸受け隙間を調整することができるという効
果がある。
【００５８】請求項３に記載の発明によれば、請求項２
記載の発明と同様に、組立後にそれぞれの静圧空気軸受
の真空部の圧力（吸引力）を制御して各軸受隙間を最適
な状態に設定することが可能になると共に、渦電流に起
因する移動体を停止させる方向に働く力がなくなるの
で、その分移動体の駆動力を小さくすることが可能とな
り、移動体の駆動手段を構成するリニアモータ等を小さ
くすることができ、消費電力の低減、発熱量の低減を図
ることができる。
【００５９】請求項４及び請求項５に記載の発明によれ
ば、推力リップルの影響が緩和されると共に、レーザ干
渉計により第２の移動体の移動位置を検出する場合に
は、レーザ干渉計光路への熱の発散が減少することから
座標計測精度を向上させることができる。
【００６０】請求項６記載の発明によれば、請求項４及
び５記載の発明の効果に加え、組立後にそれぞれの静圧
空気軸受の真空部の圧力（吸引力）を制御して各軸受隙
間を最適な状態に設定することが可能となるという効果
がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】一実施例に係るステージ装置の概略構成を示す
斜視図である。
【図２】（Ａ）は第１の移動体及び第２の移動体部分を
中心とした要部を図１の矢印Ａ方向から見た図であり、
（Ｂ）は（Ａ）の底面図、（Ｃ）は（Ａ）のＣ−Ｃ線断
面図である。
【図３】各真空予圧型静圧空気軸受を構成する真空予圧
部及び空気噴出部の駆動系統図である。
【図４】従来例を示す概略斜視図である。
【符号の説明】
１０ ＸＹステージ装置（ステージ装置） １２ 定盤 １４ Ｘガイド（ガイドバー） １６ 第１の移動体 １８ 第１のＹガイド搬送体（第１の移動ガイド搬送
体） ２０ 第２のＹガイド搬送体（第２の移動ガイド搬送
体） ２２ Ｙガイド（移動ガイド） ３２、３４ リニアモータ ３２Ａ、３４Ａ リニアモータ固定子 ３６ 第２の移動体 ５６、６６、７２、７８ 真空予圧部（真空予圧型静圧
空気軸受の一部） ５４、６４、７０、７６ 空気噴出部（真空予圧型静圧
空気軸受の一部）

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 定盤と、当該定盤上に固定された少なく
    とも１本のガイドバーと、前記定盤上面と前記ガイドバ
    ーに沿って所定の第１方向に移動可能な第１の移動体
    と、当該第１の移動体に案内されて前記定盤上を前記第
    １方向に直交する第２方向に移動可能な第２の移動体と
    を有するステージ装置において、 少なくとも前記定盤がセラミックス製であることを特徴
    とするステージ装置。
  2. 【請求項２】 前記第１の移動体の前記定盤対向面及び
    前記ガイドバー対向面に真空部の圧力を独立して制御可
    能な真空予圧型静圧空気軸受がそれぞれ設けられている
    ことを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
  3. 【請求項３】 定盤と、当該定盤上に固定された少なく
    とも１本のガイドバーと、前記定盤上面と前記ガイドバ
    ーに沿って所定の第１方向に移動可能な第１の移動体
    と、当該第１の移動体に案内されて前記定盤上を前記第
    １方向に直交する第２方向に移動可能な第２の移動体と
    を有するステージ装置において、 前記第１の移動体の前記定盤対向面及び前記ガイドバー
    対向面に真空部の圧力を独立して制御可能な真空予圧型
    静圧空気軸受がそれぞれ設けられていることを特徴とす
    るステージ装置。
  4. 【請求項４】 定盤と、当該定盤上に固定された少なく
    とも１本のガイドバーと、前記定盤上面と前記ガイドバ
    ーに沿って所定の第１方向に移動可能な第１の移動体
    と、当該第１の移動体に案内されて前記定盤上を前記第
    １方向に直交する第２方向に移動可能な第２の移動体と
    を有するステージ装置において、 前記第２の移動体の駆動手段が、前記第２の移動体を前
    記第２方向に案内する移動ガイドの両側に当該移動ガイ
    ドに平行にそれぞれ配置された固定子を有する一対のリ
    ニアモータにより構成されたことを特徴とするステージ
    装置。
  5. 【請求項５】 前記第１の移動体が、前記ガイドバーと
    定盤に静圧空気軸受を介して支持され前記ガイドバーに
    沿って所定の第１方向に移動可能な第１の移動ガイド搬
    送体と、定盤に静圧空気軸受で支持され前記第１の移動
    ガイド搬送体と一体的に移動可能な第２の移動ガイド搬
    送体と、これら第１、第２の移動ガイド搬送体間に懸架
    された移動ガイドとを有し、 前記第２の移動体が、前記移動ガイドと定盤に静圧空気
    軸受で支持されたことを特徴とする請求項４に記載のス
    テージ装置。
  6. 【請求項６】 前記第１の移動体の定盤対向面及び前記
    ガイドバー対向面にそれぞれ設けられた静圧空気軸受け
    が真空部の圧力を独立して制御可能な真空予圧型静圧空
    気軸受であることを特徴とする請求項５に記載のステー
    ジ装置。
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KR1019960008997A KR100436323B1 (ko) 1995-06-15 1996-03-29 스테이지장치및그스테이지장치를갖춘노광장치
US09/166,192 US6158298A (en) 1995-06-15 1998-10-05 Stage apparatus and exposure apparatus provided with the stage apparatus

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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5959732A (en) * 1996-04-10 1999-09-28 Nikon Corporation Stage apparatus and a stage control method
US6320649B1 (en) 1998-02-04 2001-11-20 Canon Kabushiki Kaisha Stage system for exposure apparatus
JP2006247474A (ja) * 2005-03-08 2006-09-21 Dainippon Printing Co Ltd 位置制御ステージ装置及び基板処理装置
JP2009117803A (ja) * 2007-10-17 2009-05-28 Canon Inc 駆動装置及び露光装置、デバイスの製造方法
EP2325866A1 (en) 2004-09-17 2011-05-25 Nikon Corporation Substrate holding device, exposure apparatus and device manufacturing method
US8035805B2 (en) 2007-10-17 2011-10-11 Canon Kabushiki Kaisha Driving apparatus and exposure apparatus, and device fabrication method
JP2012514336A (ja) * 2008-12-31 2012-06-21 エレクトロ サイエンティフィック インダストリーズ インコーポレーテッド 一体式ステージ位置決めシステム及び方法
EP2637061A1 (en) 2004-06-09 2013-09-11 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method and method for producing a device
CN112946909A (zh) * 2021-03-12 2021-06-11 南京航空航天大学 一种精密二维稳像平台

Families Citing this family (46)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6008500A (en) * 1995-04-04 1999-12-28 Nikon Corporation Exposure apparatus having dynamically isolated reaction frame
US6128069A (en) * 1997-03-13 2000-10-03 Canon Kabushiki Kaisha Stage mechanism for exposure apparatus
JP3810039B2 (ja) * 1998-05-06 2006-08-16 キヤノン株式会社 ステージ装置
AU4061199A (en) * 1998-06-17 2000-01-05 Nikon Corporation Static pressure gas bearing, stage device using it, and optical device using it
JP2000240651A (ja) * 1999-02-19 2000-09-05 Toto Ltd 静圧気体軸受
US6499880B2 (en) 1999-02-19 2002-12-31 Nikon Corporation Static pressure air bearing
NL1015738C2 (nl) * 1999-07-28 2002-10-15 Kyocera Corp Schuifapparaat en bijbehorend platformmechanisme voor gebruik in vacu³m.
US6324933B1 (en) * 1999-10-06 2001-12-04 Agere Systems Guardian Corp. Planar movable stage mechanism
US6265839B1 (en) * 1999-11-10 2001-07-24 Howard Layton Hoist transfer drive system having X and Y-linear motors
US6467960B1 (en) 2000-08-18 2002-10-22 Nikon Corporation Air bearing linear guide for use in a vacuum
US20030230729A1 (en) * 2000-12-08 2003-12-18 Novak W. Thomas Positioning stage with stationary and movable magnet tracks
US6753534B2 (en) 2000-12-08 2004-06-22 Nikon Corporation Positioning stage with stationary and movable magnet tracks
JP2002252166A (ja) * 2001-02-27 2002-09-06 Canon Inc ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法ならびに移動案内方法
US6844694B2 (en) 2001-08-10 2005-01-18 Nikon Corporation Stage assembly and exposure apparatus including the same
US20070187856A1 (en) * 2003-11-12 2007-08-16 Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. Multi-layered blown film forming apparatus and multi-layered blown film forming method
JP4418699B2 (ja) * 2004-03-24 2010-02-17 キヤノン株式会社 露光装置
KR100534140B1 (ko) * 2004-06-23 2005-12-08 삼성전자주식회사 스테이지장치
US20060124864A1 (en) * 2004-12-14 2006-06-15 Nikon Corporation Air bearing compatible with operation in a vacuum
US7290931B2 (en) * 2005-07-15 2007-11-06 Asml Holding N.V. Vacuum pre-loaded pneumatic bearing with onboard vacuum generator
CN100449406C (zh) * 2006-06-07 2009-01-07 友达光电股份有限公司 电阻测量系统及应用其的测量方法
JP4839405B2 (ja) * 2007-04-16 2011-12-21 株式会社アルバック コンベアおよび成膜装置とそのメンテナンス方法
DE102008046636B4 (de) * 2008-09-09 2014-04-03 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Aerostatische Lageranordnung mit zugeordneter elektrostatischer Vorspanneinheit, insbesondere für die Vakuumanwendung
US7636170B1 (en) * 2008-09-12 2009-12-22 National Formosa University Static/dynamic multi-function measuring device for linear unit
US7959141B2 (en) * 2008-12-23 2011-06-14 Sumitomo Heavy Industries, Ltd. Stage apparatus
TWI549386B (zh) 2010-04-13 2016-09-11 康寧吉伯特公司 具有防止進入及改良接地之同軸連接器
US8888526B2 (en) 2010-08-10 2014-11-18 Corning Gilbert, Inc. Coaxial cable connector with radio frequency interference and grounding shield
JP5785722B2 (ja) 2011-02-02 2015-09-30 住友重機械工業株式会社 ステージ装置
US9190744B2 (en) 2011-09-14 2015-11-17 Corning Optical Communications Rf Llc Coaxial cable connector with radio frequency interference and grounding shield
US20130072057A1 (en) 2011-09-15 2013-03-21 Donald Andrew Burris Coaxial cable connector with integral radio frequency interference and grounding shield
US8794610B2 (en) 2011-09-20 2014-08-05 Mitutoyo Corporation Two-dimension precision transfer equipment, three-dimension precision transfer equipment, and coordinate measuring machine
JP5736284B2 (ja) * 2011-09-20 2015-06-17 株式会社ミツトヨ 精密移動装置
US9136654B2 (en) 2012-01-05 2015-09-15 Corning Gilbert, Inc. Quick mount connector for a coaxial cable
US9287659B2 (en) 2012-10-16 2016-03-15 Corning Optical Communications Rf Llc Coaxial cable connector with integral RFI protection
US9052469B2 (en) 2013-04-26 2015-06-09 Corning Cable Systems Llc Preterminated fiber optic connector sub-assemblies, and related fiber optic connectors, cable assemblies, and methods
US10290958B2 (en) 2013-04-29 2019-05-14 Corning Optical Communications Rf Llc Coaxial cable connector with integral RFI protection and biasing ring
CA2913134C (en) 2013-05-20 2024-02-06 Corning Optical Communications Rf Llc Coaxial cable connector with integral rfi protection
WO2016073309A1 (en) 2014-11-03 2016-05-12 Corning Optical Communications Rf Llc Coaxial cable connector with integral rfi protection
US10033122B2 (en) 2015-02-20 2018-07-24 Corning Optical Communications Rf Llc Cable or conduit connector with jacket retention feature
CN104889951A (zh) * 2015-06-08 2015-09-09 广东工业大学 动态特性可调宏微一体化复合平台
US10211547B2 (en) 2015-09-03 2019-02-19 Corning Optical Communications Rf Llc Coaxial cable connector
CN105068386B (zh) * 2015-09-07 2017-04-12 哈尔滨工业大学 一种双工件台系统安全保护方法
US9525220B1 (en) 2015-11-25 2016-12-20 Corning Optical Communications LLC Coaxial cable connector
CN106020246A (zh) * 2016-06-30 2016-10-12 广东工业大学 一种运动平台
CN109576145B (zh) * 2018-12-05 2020-07-24 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种精密两维运动平台及基因测序仪
CN110415761B (zh) * 2019-08-15 2021-05-18 山东大学深圳研究院 一种紧凑型二维微纳伺服平台
CN112509632B (zh) * 2020-12-04 2022-02-22 中国石油大学(华东) 用于高压釜内的多级微米位移垂向调整装置

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3969004A (en) * 1974-08-02 1976-07-13 The Computervision Corporation Air bearing piston assembly for semiconductor mask-to-wafer aligner
US4118042A (en) * 1977-09-27 1978-10-03 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Air bearing vacuum seal assembly
JPS55134414A (en) * 1979-04-06 1980-10-20 Hitachi Ltd Precise moving unit
JPS59129633A (ja) * 1983-01-08 1984-07-26 Canon Inc ステージ装置
JPS6130345A (ja) * 1984-07-20 1986-02-12 Omron Tateisi Electronics Co 静圧空気浮上ステ−ジ
NL8601547A (nl) * 1986-06-16 1988-01-18 Philips Nv Optisch litografische inrichting met verplaatsbaar lenzenstelsel en werkwijze voor het regelen van de afbeeldingseigenschappen van een lenzenstelsel in een dergelijke inrichting.
US4719705A (en) * 1986-06-24 1988-01-19 The Perkin-Elmer Corporation Reticle transporter
US5040431A (en) * 1988-01-22 1991-08-20 Canon Kabushiki Kaisha Movement guiding mechanism
JPH01188241A (ja) * 1988-01-22 1989-07-27 Canon Inc 移動案内装置
JPH03131442A (ja) * 1989-10-12 1991-06-05 Nippon Tungsten Co Ltd Ｘ―ｙステージ
US5160883A (en) * 1989-11-03 1992-11-03 John H. Blanz Company, Inc. Test station having vibrationally stabilized X, Y and Z movable integrated circuit receiving support
US5098204A (en) * 1989-11-03 1992-03-24 John H. Blanz Company, Inc. Load balanced planar bearing assembly especially for a cryogenic probe station
US5228358A (en) * 1990-02-21 1993-07-20 Canon Kabushiki Kaisha Motion guiding device
JP3031940B2 (ja) * 1990-02-21 2000-04-10 キヤノン株式会社 移動案内装置
JPH04223830A (ja) * 1990-12-21 1992-08-13 Canon Inc 移動案内装置
JP3246922B2 (ja) * 1991-07-17 2002-01-15 株式会社アマダ パンチプレスのラム駆動装置
JPH06183561A (ja) * 1992-12-18 1994-07-05 Canon Inc 移動ステージ装置
JPH07115053A (ja) * 1993-10-15 1995-05-02 Canon Inc 移動ステージ装置
JPH07325176A (ja) * 1994-06-01 1995-12-12 Nikon Corp ステージ装置
JP3167090B2 (ja) * 1995-03-10 2001-05-14 キヤノン株式会社 基板受け渡し装置及び半導体製造装置

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6407799B2 (en) 1996-04-10 2002-06-18 Nikon Corporation Stage control method using a temperature
US5959732A (en) * 1996-04-10 1999-09-28 Nikon Corporation Stage apparatus and a stage control method
US6320649B1 (en) 1998-02-04 2001-11-20 Canon Kabushiki Kaisha Stage system for exposure apparatus
EP2637061A1 (en) 2004-06-09 2013-09-11 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method and method for producing a device
EP3318928A1 (en) 2004-06-09 2018-05-09 Nikon Corporation Exposure apparatus and method for producing a device
US8705008B2 (en) 2004-06-09 2014-04-22 Nikon Corporation Substrate holding unit, exposure apparatus having same, exposure method, method for producing device, and liquid repellant plate
EP2325866A1 (en) 2004-09-17 2011-05-25 Nikon Corporation Substrate holding device, exposure apparatus and device manufacturing method
US9341959B2 (en) 2004-09-17 2016-05-17 Nikon Corporation Substrate holding device, exposure apparatus, and device manufacturing method
US8102512B2 (en) 2004-09-17 2012-01-24 Nikon Corporation Substrate holding device, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP2006247474A (ja) * 2005-03-08 2006-09-21 Dainippon Printing Co Ltd 位置制御ステージ装置及び基板処理装置
US8035805B2 (en) 2007-10-17 2011-10-11 Canon Kabushiki Kaisha Driving apparatus and exposure apparatus, and device fabrication method
JP2009117803A (ja) * 2007-10-17 2009-05-28 Canon Inc 駆動装置及び露光装置、デバイスの製造方法
JP2012514336A (ja) * 2008-12-31 2012-06-21 エレクトロ サイエンティフィック インダストリーズ インコーポレーテッド 一体式ステージ位置決めシステム及び方法
CN112946909A (zh) * 2021-03-12 2021-06-11 南京航空航天大学 一种精密二维稳像平台

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