JP2960423B2 - 試料移動装置及び半導体製造装置 - Google Patents

試料移動装置及び半導体製造装置

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JP2960423B2 JP63287683A JP28768388A JP2960423B2 JP 2960423 B2 JP2960423 B2 JP 2960423B2 JP 63287683 A JP63287683 A JP 63287683A JP 28768388 A JP28768388 A JP 28768388A JP 2960423 B2 JP2960423 B2 JP 2960423B2
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Description

４【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体製造に用いるウエハ等のように高精
度位置決めが要求される試料を移動するに好適な試料移
動装置、試料移動システムおよび半導体製造装置に関す
る。
〔従来の技術〕
LSIのチツプの量産工程においては、ウエハの移動、
位置決めを繰り返し、ウエハ上に回路パターンを１シヨ
ツトずつ順次露光して行く、いわゆるステツプアンドリ
ピート法による露光法が広く採用されている。この種の
露光装置においては、ウエハの高精度な移動，位置決め
を行なうための試料移動装置が必要である。
試料移動装置には、一般にXYステージが用いられる。
ウエハに転写されるパターンの配列精度および重ね合せ
精度を向上するためには、XYステージの位置決め精度や
運動精度を向上する必要があるが、XYステージの加工精
度や位置決め制御装置の性能的な限界のため、必ずしも
満足な精度が得られない場合がある。この場合、XYステ
ージの上に微動ステージを積み重ね、いわゆる粗微動積
み重ね方式としてXYステージの誤差を微動ステージによ
り補償するのが一般的である。
また、近年ウエハサイズの大型化にともない、XYステ
ージも大型化する傾向にあり、XYステージの精度を確保
するのがますます困難になりつつある。この問題を解決
する手段の一つとして、例えば特開昭62−252135号公報
に示されるように、シヨツトのサイズと同程度のウエハ
チヤツクと、ウエハ移動用機構とを備え、シヨツト毎に
ウエハチヤツクによりウエハをつかみかえながら露光を
行なう方法が提唱されている。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところで、上記従来技術においては、次のような問題
がある。
まず、従来の粗動積み重ね方式では、それぞれのステ
ージの移動量を計測して、その計測結果に基づいて位置
決め制御を行っているため、粗動XYステージの位置検出
誤差と微動ステージの位置決め誤差が重畳されてウエハ
の位置決め誤差となっている。
また、粗動ステージ上に微動ステージを載せているた
め、粗動ステージのストロークはウエハを露光する面積
より大きく設定する必要があった。
本発明の目的は、上記誤差を要因を排除して、試料の
位置決め精度を向上させると共に、装置の小型、軽量化
を図った試料移動装置、及び半導体製造装置を提供する
ことである。
〔課題を解決するための手段〕
本発明に係る第１の解決手段は、ベース上に設けた微
動アクチユエータと、この微動アクチユエータにより駆
動される微動ステージと、同じベース上に設置された粗
動駆動機構と、この粗動駆動機構により駆動される粗動
ステージと、微動ステージと粗動ステージの試料台載置
面に試料台を吸着保持する保持手段とを備えたことを特
徴とする。
また、本発明に係る第２の解決手段は、ベースと、こ
のベース上に設置された微動アクチユエータと、この微
動アクチユエータにより駆動される微動ステージと、ベ
ース上に設置された粗動駆動機構と、この粗動駆動機構
により駆動される粗動ステージと、微動ステージと粗動
ステージの物体載置面の相対的位置レベルを変位させる
レベル変位手段と、微動ステージの物体載置面部に形成
され移動すべき物体を保持する第１の保持手段と、粗動
ステージの物体載置面部に形成され移動すべき物体を保
持する第２の保持手段とを備えたことを特徴とする。
更に、本発明に係る第３の解決手段は、試料を保持す
る移動台と、この移動台を吸着する手段を有しxy平面方
向に移動可能な粗動ステージと、移動台を吸着する手段
を有し粗動ステージの移動とは独立に少なくともxy平面
方向に移動可能な微動ステージと、粗動ステージを駆動
する粗動駆動手段と、微動ステージを駆動する微動駆動
手段と、移動台のxy方向の位置を計測する計測手段と、
移動台の位置の目標値と計測手段の計測結果との偏差に
基づき駆動制御量を求め、これを微動駆動手段に供給し
て位置決め制御を行う位置制御手段とを備えている。
〔作用〕
上記第１の解決手段において、粗動移動時には粗動ス
テージ上に形成された保持手段が試料台を吸着保持し、
粗動駆動機構により粗動ステージを駆動する。このと
き、御動ステージ上に形成された保持手段は試料台の保
持はしない。このため、試料台は粗動ステージの移動に
従つて移動する。この粗動ステージでの移動が終了した
後、今度は粗動ステージ側の保持状態を解除し、微動ス
テージに形成された保持手段を付勢する。これにより試
料台は、微動ステージの動きに従うこととなる。この段
階で微動アクチユエータにより微動ステージを駆動し、
試料台を所定位置に位置決めする。
上記第２の解決手段において、移動位置決めすべき物
体は、まず粗動ステージ上の第２の保持手段によつて保
持される。このとき、微動ステージは、その物体移載面
がレベル変位手段により粗動ステージの物体移載面より
もベース側になるよう調節されている。この状態で、粗
動駆動機構により粗動ステージを駆動し、物体の粗動移
動を行う。この粗動終了後、レベル変位手段を作動さ
せ、微動ステージの物体載置面が粗動ステージの面より
高くなるように調節する。このとき、第１の保持手段を
付勢し、反対に第２の保持手段を消勢する。これによつ
て、物体は、微動ステージに保持され、微動ステージの
移動に係属するようになる。この段階で、微動アクチユ
エータを駆動し、物体の位置決めを行う。
上記第３の解決手段においては、微動ステージが移動
台を吸着して駆動されている状態において、移動台の位
置を計測手段で計測し、この計測結果を用いて移動台が
目標位置になるように位置制御を行う。
〔実施例〕
以下、本発明の実施例を図面により説明する。
第１図は、本発明の試料移動装置を半導体製造装置の
一種である露光装置に適用した一実施例を示した図であ
る。メインテーブル101と、これに固定されたフレーム1
02により構成されるベース１上には、粗動ステージ２
と、微動ステージ３が搭載されており、粗動ステージ２
および微動ステージ３上には、移動台４が搭載されてい
る。粗動ステージ２および微動ステージ３には、移動台
４を吸着するためのチヤツクが設けられており、移動台
４上には、試料（この例ではウエハ）５が吸着されてい
る。ウエハ５をｘおよびｙ方向にステツプ移動させる際
には、移動台４は粗動ステージ２に吸着され、また、ウ
エハ５をx,y,z,α，β、およびθ方向に微動させる際に
は移動台４は微動ステージ３に吸着される。メインテー
ブル101は、間隙調整装置６を介して定盤７に取り付け
られており、また、移動台４の位置は、３台の測長器80
1,802、および803により測定されている。
第２図は、本発明の実施例に用いる粗動ステージ２の
具体例を示した図である。ベース１上には、Ｙテーブル
201がＹ案内機構202によりｙ方向に移動可能に搭載され
ており、Ｙテーブル201上にはＸテーブル203がＸ案内機
構204によりｘ方向に移動可能に搭載されている。Ｙテ
ーブル201は、ベース１上に搭載されたＹ駆動機構205に
より、Ｙロツド206を介して駆動される。また、Ｘテー
ブル203は、ベース１上に搭載されたＸ駆動機構207によ
り、ガイドバー208にｙ方向に摺動可能に設けられたブ
シユ209を組み込んだＸロツド201と、ガイドバー208を
保持したＸ駆動部材211を介して駆動される。本実施例
において、Ｙ駆動機構205およびＸ駆動機構207には、ボ
イスコイルモータや、回転形モータと送りねじ機構を組
み合わせた直動形アクチユエータを用いればよい。ま
た、Ｙ案内機構202およびＸ案内機構204には、直動形の
転がり案内、すべり案内、静圧案内等を用いればよい。
同様に、ガイドバー208とブシユ209についても、転がり
案内，すべり案内，静圧案内等を用いればよい。
第３図は、粗動ステージ２の他の具体例を示した図で
あり、第２図と同一部分は同一符号にて示す。ベース１
上には、Ｙテーブル201がＹ案内機構202によりｙ方向に
移動可能に搭載されおり、Ｙテーブル201上にはＸテー
ブル203がＸ案内機構204によりｘ方向に移動可能に搭載
されている。Ｙテーブル201上には、ロータリエンコー
ダ212を組み込んだＸモータ213と、これにより駆動され
るＸ送りねじ214が設けられており、Ｘ送りねじ214には
Ｘナツト215が螺合される。Ｘナツト215は、Ｙテーブル
201に設けられたＸナツト案内機構216によりｘ方向に案
内される。Ｘテーブル203は、Ｘナツト215により、Ｘロ
ツド210を介して駆動される。同様に、ロータリエンコ
ーダ212を組み込んだＹモータ217,Y送りねじ218,Yナツ
ト（図示せず）、Ｙナツト案内機構（図示せず）、およ
びＹロツド（図示せず）により、Ｙテーブル201が駆動
される。Ｘ送りねじ214およびＹ送りねじ218にはボール
ねじ、すべりねじ、静圧ねじ等を用いればよい。また、
Ｙ案内機構202およびＸ案内機構204には、直動形の転が
り案内，すべり案内，静圧案内等を用いればよい。
第２図および第３図においてはいずれもＸテーブル20
3がｘおよびｙ方向に移動し、粗動ステージ２として機
能するが、粗動ステージ２はこの２つに限定されるもの
ではない。要は移動台４をｘおよびｙ方向に移動するこ
とができる機能を有していればよい。この際、ｘおよご
ｙ方向の移動量は、例えば第３図に示したロータリエン
コーダ212を用いて求めることもできるし、第１図に示
したように、粗動ステージ２に移動台４が吸着されてい
る場合には測長器801,802、および803を用いてこれを求
めることもできる。なお、第２図および第３図に示した
Ｙロツド206,Xロツド210、およびＸ駆動部材211は、い
ずれも駆動機構の推力を伝達すると同時に、駆動機構の
運動の真直度の誤差がＹテーブル201およびＸテーブル2
03の運動の真直度に影響を与えないようにするためのも
のである。
第４図は、第１図における微動ステージ３を駆動する
ためのアクチユエータとセンサの配置の一例を示した図
である、第１図と同一部分は同一符号にて示す。微動ス
テージ３は、ベース１（図示せず、第１図参照）上に設
けられた微動駆動手段としての６個のアクチユエータ30
1,302,303,304,305,306により駆動される。ベース１上
に設けられた９個のセンサ307,308,309,310,311,312,31
3,314、および315により駆動時の変位が測定される。
微動ステージ３をｙ方向に駆動する場合には、アクチ
ユエータ301を用い、その変化はアクチユエータ301と同
軸上に設けられたセンサ307により測定する。微動ステ
ージ３をｘ方向に駆動する場合およびθ方向に回転させ
る場合には、アクチユエータ301と直交して配置された
アクチユエータ302および303を用い、その変位はアクチ
ユエータ302と同軸上に設けられたセンサ308およびアク
チユエータ303と同軸上に設けられたセンサ309により測
定する。微動ステージ３をｚ方向に駆動する場合、なら
びにα方向およびβ方向に回転させる場合には、アクチ
ユエータ301,302、および303と直交して配置されたアク
チユエータ304,305、および306を用い、その変位はアク
チユエータ304,305、および306と平行に配置されたセン
サ310,311,312,313,314、および315により測定する。ア
クチユエータ304,センサ310、および311は、その中心線
が同一平面内にあり、しかもセンサ310および311の中心
線の中間にアクチユエータ304の中心線が位置する。ア
クチユエータ305,306、センサ312,313,314、および315
についてもこれと同様な配置となつている。
以上の構成により、アクチユエータ301を駆動したと
きの変位はセンサ307,アクチユエータ302を駆動したと
きの変位はセンサ308,アクチユエータ303を駆動したと
きの変位はセンサ309,アクチユエータ304を駆動したと
きの変位はセンサ310とセンサ311の平均値、アクチユエ
ータ305を駆動したときの変位はセンサ312とセンサ313
の平均値、アクチユエータ306を駆動したときの変位は
センサ314とセンサ315の平均値よりそれぞれ求めること
ができる。なお、第１図に示したように、微動ステージ
３に移動台４が吸着されている場合には測長器801,80
2、および803を用いて微動ステージ３のｘおよびｙ方向
の変位とθ方向の回転量を求めることもできる。センサ
307,308,309,310,311,312,313,314、および315には、た
とえば静電容量センサ、渦電流形センサ、差動トランス
等を用いればよく、また測長器801,802、および803には
たとえばレーザ測長器を用いればよい。
第５図は、第１図の実施例に用いる微動ステージ３を
駆動するためのアクチユエータ301,302,303,304,305、
および306の具体例を示した図である。ボルト316の両端
に螺合された取付部317により、中央が穿孔された圧電
素子318が保持されており、取付部317がベース１および
微動ステージ３に取付けられる。圧電素子318に電圧を
印加することにより、圧電素子318が同図上下方向に伸
び、ボルト316が弾性変形するために取付部317が同図上
下方向に変位する。
なお、微動ステージ３の駆動方法およびこれに用いる
アクチユエータは、第４図および第５図において述べた
ものに限定されるものではなく、要は微動ステージ３を
少なくともｘおよびｙ方向に移動できる構造のものであ
ればよい。
第６図は第１図の実施例における間隙調整装置６の具
体例を示した図であり、第１図と同一部分は同一符号に
より示す。ベース１と定盤７の間には、勾配が設けられ
たスライダ601が挿入されており、また両端に弾性ヒン
ジ機構を設けられたリンク602によりベース１と定盤７
が結合されている。スライダ601はＺモータ603と送りね
じ機構により構成されるスライダ駆動機構604によりｘ
方向に駆動される。以上の構成により、ベース１はｚ方
向に平行移動が可能となる。Ｚモータ603には、例えば
ロータリエンコーダを内蔵した直流モータやステツピン
グモータ等を用いれば良い。なお、間隙調整装置６の構
造はこれに限定されるものではなく、要はベース１をｚ
方向に平行移動させることが可能であればどんな構造で
もよい。
第７図は本発明の試料移動台において移動台４を粗動
ステージ２（または微動ステージ３）に保持するための
保持手段の一例を示した図であり、第１図と同一部分は
同一符号により示す。粗動ステージ２に加工された溝部
にコイル219が設けられており、コイル219に通電するこ
とにより移動台４が粗動ステージ２に電磁吸着される。
同様な構成により、移動台４を微動ステージ３（図示せ
ず、第１図参照）に電磁吸着することも可能である。な
お、移動台４を粗動ステージ２、または微動ステージ３
に吸着するための機構はこれに限定されるものではな
く、たとえば真空吸着、静電吸着等を応用してもよい。
また、保持手段としては、吸着保持するものに限らな
い。
第８図は移動台４を粗動ステージ２または微動ステー
ジ３に電磁吸着する際の、コイル219の固定方法の具体
例を示した図であり、第７図と同一部分は同一符号によ
り示す。コイルボビン220に巻き付けられたコイル219
が、粗動ステージ２に加工された溝部に設けられてお
り、コイル219に通電することにより移動台４を粗動ス
テージ２に電磁吸着することができる。同様な構成によ
り移動台４を微動ステージ３（図示せず、第１図参照）
に電磁吸着することも可能である。
第９図は移動台４を粗動ステージ２または微動ステー
ジ３に電磁吸着する際の、コイル219の固定方法の第２
の具体例を示した図であり、第７図と同一部分は同一符
号により示す。粗動ステージ２に加工された溝部にコイ
ル219が設けられており、コイル219に通電することによ
り移動台４を粗動ステージ２に電磁吸着することができ
る。溝部とコイル219の間は充填材221により充填される
とともに、粗動ステージ２の表面は薄い被覆材222によ
り覆われている。本実施例によれば粗動ステージ２の表
面を清掃しやすいという効果がある。充填材221として
は例えばエポキシ樹脂等の高分子材料、被覆材222とし
ては例えば無電解ニツケルメツキ層を用いればよいが、
両者ともこれに限定されるものではないのはもちろんの
ことである。同様な構成により移動台４を微動ステージ
３（図示せず、第１図参照）に電磁吸着することも可能
である。
第10図は第１図の実施例において、移動台４を粗動ス
テージ２または微動ステージ３に電磁吸着する際の、コ
イル219への通電方法を説明するために示したものであ
る。同図は、コイル219に流れる電流ｉと、それにより
発生する磁束の密度Ｂの関係を示している。粗動ステー
ジ2,微動ステージ３、および移動台４の材料（鉄などの
磁性材料を適当に選定し磁気ヒステリシス特性を有する
ものとした場合、一度、電流ｉを予め設定された最大値
（ａ点）まで増した後、電流ｉを減少させても（ｂ領
域）、磁束密度Ｂの減少はそれほど大きくはなく、移動
台４を粗動ステージ２または微動ステージ３に効果的に
吸着することが可能である。さらに、電流ｉを遮断して
も（ｃ点）、残留する磁束により、移動台４を粗動ステ
ージ２または微動ステージ３に吸着することが可能であ
る。吸着を断つ場合には、逆向きの電流を加えればよい
（ｄ点）。本例によれば、小さな電流で移動台４を粗動
ステージ２または微動ステージ３に吸着することが可能
であり、省エネルギ化に適している。また、吸着機構の
発熱を防止することができ発熱による熱変形等の位置決
め誤差も低減できる。また、停電時の移動台４の脱落を
防止することが可能である。
第11図は上記したコイルへの通電方法、すなわち移動
台４を粗動ステージ２または微動ステージ３に電磁吸着
する際の、コイル219への通電を行うための回路装置の
一例を示したものであり、第７図と同一部分は同一符号
により示す。切り替えスイツチ901が接点902に位置し、
切り替えスイツチ903が接点904に位置するとき、電源10
01から抵抗1101を介して、コイル209に予め設定された
最大電流が流れる。次に、切り替えスイツチ901が接点9
02に位置し、切り替えスイツチ903が接点905に位置する
とき、電源1001から抵抗1101および1102を介して、コイ
ル219に電流が流れるため、電流値は減少する。さら
に、切り替えスイツチ901が接点906に位置するとき、電
源1002から抵抗1101および1103を介して、コイル219に
逆向きの電流が流れる。このような構成により、第10図
に示したような、コイル219への通電方法を実現するこ
とができる。なお、コイル219への通電方法はこれに限
定されるものではなく、例えば一定の電流をコイル219
に通電してもかまわない。
第12図は第１図の実施例に示される移動台４の具体例
を示した図であり、第１図と同一部分は同一符号により
示す。母材401の表面は、鍍金層402により覆われてお
り、鍍金層402の一部には超精密加工によりミラー面403
が加工されている。ミラー面403は、測長器801,802、お
よび803（図示せず、第１図参照）により移動台４の位
置を測定する際に用いる。また、移動台４にはウエハ５
が吸着保持されているが、この吸着には真空吸着，静電
吸着等を利用すればよい。この保持は、吸着以外の把持
によるものであつてもよく、要はウエハが移動台上で移
動しないようにするものであればよい。なお、母材401
にはたとえば熱処理をした鉄等の磁性材料を、また鍍金
層には無電解ニツケル鍍金層等を用いればよいが、これ
に限定されるものではないことはもちろんである。さら
に、たとえば真空吸着により移動台４を粗動ステージ２
または微動ステージ３に吸着する場合には、母材401に
アルミニウム等の軟質金属を用い、この表面を直接超精
密加工することにより、ミラー面403を加工してもよ
い。
第13図は移動台４の第２の具体例を示した図であり、
第１図と同一部分は同一符号により示す。移動台４に
は、チヤツク案内機構404により案内される回転チヤツ
ク405が、回転可能に設けられている。ウエハ５を吸着
した回転チヤツク405は、移動台４に設けられたステー
タ406と、回転チヤツク405に設けられたロータ407によ
り構成されるモータにより駆動される。なお、回転チヤ
ツク405の駆動方法は、これに限定されるものではな
く、例えば減速装置を介してモータにより駆動してもよ
いし、圧電素子を利用した超音波モータにより駆動して
もよい。本例によれば、移動台４上でウエハ５を回転さ
せることが可能であるため、移動台４にウエハ５を載置
するのが容易になる。
次に、以上述べてきたような第１図の実施例の構成の
動作原理と特徴を、次に示す。
まず、第14図は、従来の一般的な粗微動積み重ね方式
の試料移動装置を示した模式図であり、第１図と同一部
分は同一符号にて示す。ベース１上には、粗動ステージ
駆動用アクチユエータ223により駆動される粗動ステー
ジ２が搭載されており、その位置は測長器８により測定
されている。粗動ステージ２上には、微動ステージ駆動
用アクチユエータ319により駆動される微動ステージ３
が搭載されており、その位置はセンサ320により測定さ
れている。微動ステージ３上に、ウエハ５を吸着した移
動台４が搭載されている。このような装置構成において
は、粗動ステージ２の位置検出誤差と微動ステージ３の
位置決め誤差が重畳されてウエハの位置決め誤差とな
る。また、粗動ステージ２には、ウエハ５の直径にほぼ
等しい大きさのストロークが必要となる。
これに対し、第15図は、本発明の試料移動装置の模式
図であり、第１図および第14図と同一部分は同一符号に
て示す。粗動ステージ駆動用アクチユエータ223により
駆動される粗動ステージ２と、微動ステージ駆動用アク
チユエータ319により駆動される微動ステージ３は、夫
々独立に駆動可能にともにベース１上に搭載されてい
る。ウエハ５を吸着した移動台４の位置は測長器８によ
り直接測定されている。移動台４を大きく移動させる場
合は、微動ステージと微動ステージとの間で吸着と解除
とを交互にくり返して行う。また、ステツプ移動時には
粗動ステージ２に吸着されて移動し、位置決めのための
微動時には微動ステージ３に吸着されて移動する。この
ような装置構成においては、粗動ステージと微動ステー
ジの移動が互いの干渉なく独立して行える。またウエハ
は試料台に固定され、この試料台位置を直接検出してい
るので、ウエハの位置決め誤差は、粗動ステージ３の位
置決め制御で生じる誤差の影響しか受けない。つまり、
粗動ステージ２の位置決め誤差はウエハの位置決め誤差
に影響を与えない。これにより試料の高精度な位置決め
が可能となる。さらに、試料の大幅な移動は、粗微動ス
テージのつかみかえにより行うので、粗動ステージ２に
は、ウエハ５を露光する面積とほぼ等しい大きさのXY方
向ストロークがあれば十分である。このため、装置の大
幅な小形，軽量化が可能となる。
第16図は、試料移動装置をシンクロトロン放射光を露
光光源とするSORアライナに組み込んだ本発明の一実施
例を示した図であり、第１図と同一部分は同一符号にて
示す。試料移動装置の定盤７は、４本のコラム12により
本体13に取付けられており、ウエハ５を吸着した移動台
４の位置は、本体13に取付けられた３台の測長器801,80
2、および803により測定されている。本体13にはまたマ
スク微動台14に取付けられたマスク15が設けられてお
り、SOR光によりマスク15に描かれたパターンがウエハ
５に転写される。なお、本体13は、床面からの振動の伝
達を防止するため、除振台16上に設けられている。
第17図は、本発明の試料移動装置をSORアライナに組
み込んだときの、SORリングに対する試料移動台の姿勢
の一実施例を示した図であり、第16図と同一部分は同一
符号にて示す。SORアライナにおいては、ビームが平面
あるいはごくわずかな曲率を持つた曲面状の振動ミラー
1501によつて拡幅された後にマスク15及びウエハ５に照
射される場合が多い。このため、SORリング1502の設置
される平面と、移動台４の走査面（第１図または第16図
においてｘ軸とｙ軸を含む平面）が、86度以上89度以下
の角度をなすように試料移動台を設置すると、精度の高
い露光が可能となる。なお、SORリング1502の設置され
る平面と移動台４の走査面とのなす角度を86度未満に設
定すると、振動ミラー1501に対するビームの入射角を小
さくする必要があるため、振動ミラー1501の反射率が低
下する。また、SORリング1502の設置される平面と移動
台４の走査面とのなす角度が89度を越えるように設定す
ると、振動ミラー1501の全長が非常に大きなものとなる
ため、いずれも好ましくない。
第18図は、本発明の試料移動台をSORアライナに組み
込んだときの、SORリングに対する試料移動台は姿勢の
他の例を示した図であり、第17図と同一部分は同一符号
にて示す。本実施例においても、SORリング1502の設置
される平面と移動台４の走査面のなす角は86度以上89度
以下となるように設定されているが、第17図においては
振動ミラー1501の反射面が上側にあつたため、ウエハ５
の露光面が若干下を向いていたが、第18図においては振
動ミラー1501の反射面が下側にあるため、ウエハ５の露
光面が若干上を向く。このため、停電等の場合にもウエ
ハ５や移動台４の落下によるマスク15の損傷が起きにく
いという効果がある。
第19図は、第16図に示したSORアライナに組み込まれ
た、本発明の試料移動装置の制御方法の一実施例を示し
た図である。本図は、いずれも横軸がスケールの等しい
時間軸であり、また縦軸は、上からそれぞれ粗動ステ
ージ２のｘ方向変位、間隙調整装置６のｚ方向変位、
微動ステージ３のｘ方向変位、微動ステージ３のｚ
方向変位、粗動ステージ２に設けられた電磁吸着用の
コイル219（第７図参照）に流れる電流、微動ステー
ジ３に設けられたコイル219に流れる電流、移動台４
のｘ方向変位、である。ステツプ移動時（t0〜t1期間）
には、移動台４は粗動ステージ２に電磁吸着されてｘ方
向にステツプ移動する（参照）が、このとき微動ステ
ージ３は負のｚ方向に退避し（参照）、移動台４と微
動ステージ３は接触しないように制御する。また、この
とき間隙調整装置６も負のｚ方向に退避し（参照）、
ウエハ５とマスク15の間隙が大きくなるため、ウエハ５
とマスク15の接触によるマスク15の損傷が防止される。
次に、粗動ステージ２のｘ方向ステツプ移動が完了し
た時点t1で、移動台４の位置偏差の量に応じて微動ステ
ージ３がｘ方向に予備的に移動を開始する（参照）。
同時に、微動ステージ３はｚ方向にも移動し（参
照）、t2時点では粗動ステージ２と微動ステージ３の双
方が移動台４に接触するようになる。t1〜t2期間中、間
隙調整装置６もｚ方向に移動し（参照）、ウエハ５と
マクス15の間隙を小さくする。
次に、微動ステージ３のコイル219に、移動台４を電
磁吸着するための電流を印加し（参照）、粗動ステー
ジ２のコイル219に、移動台４の電磁吸着を断つための
電流を印加する（参照）。これにより、移動台４は粗
動ステージ２の保持から開放され微動ステージ３の移動
に係属するようになる（つかみかえ）。
次に、t3〜t4期間において、微動ステージ３をｘおよ
びｚ方向に駆動してウエハ５のアライメントを行なう
（，参照）。t4〜t5期間において、露光が行なわれ
る。ウエハ５の露光中に、粗動ステージ２がもとの位置
に復帰し（参照）、次のステツプ移動に備える。な
お、この際には、微動ステージのｚ方向が高位置にあつ
て（参照）移動台４を保持しているので、粗動ステー
ジ２と移動台４は接触していない。
ウエハ５の露光が完了した時点t5で、微動ステージ３
がｚ方向に駆動され（参照）、粗動ステージ２と微動
ステージ３の双方が移動台４に接触するようになるとと
もに、間隙調整装置６もｚ方向に移動し（参照）、ウ
エハ５とマスク15の間隙を大きくする。ここで、粗動ス
テージ２のコイル219に、移動台４を電磁吸着するため
の電流を印加し（参照）、微動ステージ３のコイル21
9に、移動台４の電磁吸着を断つための電流を印加し
（参照）し、t7時点で移動台４を微動ステージ３から
粗動ステージ２へのつかみかえが終了する。
以上の手順により、移動台４は、ステツプ移動，アラ
イメント，露光、の一連の動作をし、１シヨツトの露光
が完了する。なお、このときの粗動ステージ２のｙ方向
変位、微動ステージ３のｙ方向の変位とθ方向の回転
量、微動ステージ３のαとβ方向の回転量については、
上述の動作と類似のものであるので、ここでは記述を省
略する。
第20図は、第19図に示した本発明の試料移動装置の制
御方法を実現するシステムの一実施例を示した図であ
る。なお、この図において、第２図及び第４図と同一部
分は同一符号にて示す。Ｙ駆動機構205は、粗動Ｙコン
トローラ1701により駆動される。その際の移動台装置
（第１図参照）のＹ移動量は測長器801により測定さ
れ、その情報は粗動Ｙコントローラ1701に入力される。
同様に、Ｘ駆動機構207は、粗動Ｘコントローラ1702に
より駆動され、その際の移動台４の移動量は測長器802
により測定され、その情報は粗動Ｘコントローラ1702に
入力される。
アクチユエータ301は、微動Ｙコントローラ1703によ
り駆動され、その際の移動台４の移動量は測長器801に
より測定され、その情報は微動Ｙコントローラ1703に入
力される。アクチユエータ302及び303は、微動Ｘθコン
トローラ1704により駆動され、その際の移動台４の移動
量は測長器802及び803により測定され、その情報は微動
Ｘθコントローラ1704に入力される。この際、測長器80
2および803により、移動台４のｘ方向の変位およびθ方
向の回転量が検出出来る。
アクチユエータ304は、微動Z1コントローラ1705によ
り駆動される。その際の微動ステージ３（第１図参照）
の移動量は、センサ310及び311により測定され、その平
均値が平均値演算装置1706により演算され、微動Z1コン
トローラ1705に入力される。アクチユエータ305は、微
動Z2コントローラ1707により駆動される。その際の微動
ステージ３の移動量は、センサ312及び313により測定さ
れ、その平均値が平均値演算装置1706により演算され、
微動Z2コントローラ1707に入力される。アクチユエータ
306は、微動Z3コントローラ1708により駆動される。そ
の際の微動ステージ３の移動量は、センサ314及び315に
より測定され、その平均値が平均値演算装置1706により
演算され、微動Z3コントローラ1708に入力される。
Ｚモータ603は、粗動Ｚコントローラ1709により駆動
される。また、粗動ステージ２（第１図参照）に設けら
れた電磁吸着用のコイル219（第７図参照）には、吸着
コイルコントローラA1710を介して給電が行なわれ、微
動ステージ３（第１図参照）に設けられた電磁吸着用の
コイル219（第７図参照）には、吸着コイルコントロー
ラB1711を介して給電が行なわれる。
粗動Ｙコントローラ1701,粗動Ｘコントローラ1702,微
動Ｙコントローラ1703,微動Ｘθコントローラ1704,微動
Z1コントローラ1705,微動Z2コントローラ1707,微動Z3コ
ントローラ1708,粗動Ｚコントローラ1709,吸着コイルコ
ントローラA1710、及び吸着コイルコントローラB1711
は、それぞれ移動台コントローラ17により制御され、ま
た移動台コントローラ17はシステムコントローラ1712に
より制御される。
第21図，第22図、及び第23図は、第20図に示した移動
コントローラ1712の制御方法を示したフロー図である。
第22図は第21図の続き、第23図は第22図の続きである。
第20図に示したシステムコントローラ1712より、移動コ
ントローラ17に動作開始の命令が送られると、移動コン
トローラ17は第21図以降に示した一連の作業の実行を開
始する。
まず、F10の工程が実行される。すなわち、移動コン
トローラ17が、粗動Ｙコントローラ1701及び粗動Ｘコン
トローラ1702に目標値を出力すると、粗動Ｙコントロー
ラ1701及び粗動Ｘコントローラ1702が動作し、移動コン
トローラ17に偏差量が返される。移動コントローラ17
は、これらの偏差量が設定値以下であることを確認す
る。なお、これらの偏差量をある設定回数確認しても設
定値以下にならない場合には、異常事態と判断してエラ
ー処理ルーチンへ進む。
このようにして、粗動Ｙコントローラ1701及び粗動Ｘ
コントローラ1702の動作が完了すると、次工程F20へ進
む。
F20において、移動コントローラ17は、粗動Ｚコント
ローラ1709に目標値を出力した後、微動Ｙコントローラ
1703及び微動Ｘθコントローラ1704より偏差量を受取
る。これらの偏差量の分だけ予め微動ステージ３（第１
図参照）を移動させるために、移動コントローラ17は微
動Ｙコントローラ1703及び微動Ｘθコントローラ1704に
対する目標値を演算し、これらをそれぞれ出力する。さ
らに、粗動ステージ２及び微動ステージ３（第１図参
照）の表面を同一平面内に収めるために、微動Z1コント
ローラ1705,微動Z2コントローラ1707、及び微動Z3コン
トローラ1708に対して目標値を出力した後、吸着コイル
コントローラB1711に、目標値（予め設定された最大電
流、第10図参照）を出力する。ここで移動コントローラ
17は、微動Z1コントローラ1705、微動Z2コントローラ17
07、及び微動Z3コントローラ1708より偏差量を受取り、
これらが設定値以下であることを確認する。なお、これ
らの偏差量をある設定回数確認しても設定値以下になら
ない場合には、異常事態と判断してエラー処理ルーチン
へ進む。
このようにして微動Z1コントローラ1705,微動Z2コン
トローラ1707、及び微動Z3コントローラ1708の動作が完
了すると、次工程F30に進む。
F30において、移動コントローラ17は吸着コイルコン
トローラA1710に目標値（予め設定された逆向きの電
流、第10図参照）、吸着コイルコントローラB1711に目
標値（予め設定された一定電流、第10図参照）、吸着コ
イルコントローラA1710に目標値（電流遮断）を順次出
力する。ここで、移動コントローラ17は粗動Ｚコントロ
ーラ1709より偏差量を受取り、これらが設定値以下であ
ることを確認する。なお、これらの偏差量をある設定回
転数確認しても設定値以下にならない場合には、異常事
態と判断してエラー処理ルーチンへ進む。
このようにして、粗動Ｚコントローラ1709の動作完了
を確認した後、次工程F40に進む。
F40において、移動コントローラ17は微動Ｙコントロ
ーラ1703,微動Ｘθコントローラ1704,微動Z1コントロー
ラ1705,微動Z2コントローラ1707、及び微動Z3コントロ
ーラ1708に目標値を出力する。ここで移動コントローラ
17は、微動Ｙコントローラ1703、微動Ｘθコントローラ
1704,微動Z1コントローラ1705,微動Z2コントローラ170
7、及び微動Z3コントローラ1708より偏差量を受取り、
これらが設定値以下であることを確認する。なお、これ
らの偏差量をある設定回転数確認しても設定値以下にな
らない場合には、異常事態と判断してエラー処理ルーチ
ンへ進む。この処理が、F40の処理である。
これら一連の作業が終了した時点で、F50に進む。移
動コントローラ17はシステムコントローラ1712に移動台
の位置決めが完了したことを知らせ、次に粗動Ｙコント
ローラ1701及び粗動Ｘコントローラ1702に目標値を出力
する。これらの目標値は、次のステツプ移動に備えて粗
動ステージ２（第１図参照）を予め移動させるためのも
のである。なおこのとき、除振台16上に設けられた本体
（第16図参照）の残留振動を相殺するように粗動ステー
ジ２を駆動すれば、装置の精度が向上する効果も得られ
る。
移動コントローラ17は、システムコントローラ1712か
ら露光が終了したことを知らせる信号が入力される時点
で粗動Ｙコントローラ1701及び粗動Ｘコントローラ1702
から偏差信号を受取り、これらが設定値以下であること
を確認して粗動ステージ２の移動終了と判断し、次工程
F60に進む。なお、これらの偏差量をある設定回数確認
しても設定値以下にならない場合には、異常事態と判断
してエラー処理ルーチンへ進む。
F60において、移動コントローラ17は、ウエハ５とマ
スク15（第16図参照）の間隙を大きくするために粗動Ｚ
コントローラ1709に目標値を出力する。さらに、粗動ス
テージ２及び微動ステージ３（第１図参照）の表面を同
一平面内に収めるために、微動Z1コントローラ1705,微
動Z2コントローラ1707、及び微動Z3コントローラ1708に
対して目標値を出力した後、吸着コイルコントローラA1
710に、目標値（予め設定された最大電流、第10図参
照）を出力する。（以下第23図参照）ここで移動コント
ローラ17は、微動Z1コントローラ1705,微動Z2コントロ
ーラ1707、及び微動Z3コントローラ1708より偏差量を受
取り、これらが設定値以下であることを確認する。な
お、これらの偏差量をある設定回数確認しても設定値以
下にならない場合には、異常事態と判断してエラー処理
ルーチンへ進む。
このようにして、微動Z1コントローラ1705、微動Z2コ
ントローラ1707、及び微動Z3コントローラ1708の動作が
完了すると、次工程F70に進む。
次に、工程F70において、移動コントローラ17は吸着
コイルコントローラB1711に目標値（予め設定された逆
向きの電流、第10図参照）、吸着コイルコントローラA1
710に目標値（予め設定された一定電流、第10図参
照）、吸着コイルコントローラB1711に目標値（電流遮
断）を順次出力する。ここで、移動台コントローラ17は
粗動Ｚコントローラ1709より偏差量を受取り、これらが
設定値以下であることを確認し、全ての作業を終える。
なお、これらの偏差量をある設定回数確認しても設定値
以下にならない場合には、異常事態と判断してエラー処
理ルーチンへ進む。
以上説明したように、第20図に示した制御装置を、第
21図，第22図、及び第23図に示した手順で動作させるこ
とにより、第19図に示したような試料移動装置の制御方
法を実現することができる。なお、本発明の試料移動装
置の動作方法が本実施例に限定されるものではないこと
はもちろんであり、さらに本発明の試料移動装置を他の
露光装置、例えば水銀ランプ，エキシマレーザ，点Ｘ線
源等を光源とする露光装置に適用しても効果があるのは
明らかである。
なお、第21図，第22図、及び第23図において、作業が
エラー処理ルーチンに進んだ場合には、移動コントロー
ラ17はシステムコントローラ1712に異常事態の発生を知
らせるとともに一連の作業を中止し、移動台を所定の位
置にもどす等の処理をする。
第24図は、試料移動装置に用いる、移動台４の初期設
定機構の一例を示した図であり、第１図および第16図と
同一部分は同一符号にて示す。３個の位置決めピン18
が、ベース１、または定盤７、または本体13（図示せ
ず、第１図および第16図参照）に設けられており、これ
らの位置決めピン18に移動台４を突き当てた状態で、測
長器801,802、および803（図示せず、第１図および第16
図参照）をリセツトすることにより、移動台４の初期設
定を行なう。
第25図は、移動台４の初期設定機構の他の例を示した
図であり、第１図および第16図と同一部分は同一符号に
て示す。３個の原点センサ1801が、ベース１、または定
盤７、または本体13（図示せず、第１図および第16図参
照）に設けられており、これらの原点センサ1801の出力
が、予め設定された値になるように移動台４を移動した
状態で、測長器801,802、および803（図示せず、第１図
および第16図参照）をリセツトすることにより、移動台
４の初期設定を行なう。この際、移動台４の移動には粗
動ステージ２および微動ステージ３を利用すればよい。
なお、移動台４の初期設定の精度がそれほど高くなく
てもよい場合には、これらの初期設定機構を省略してよ
いのはもちろんである。
第26図は、本発明の試料移動装置を露光装置に適用し
たときに用いる、補助ステージの一例を示した図であ
り、第１図および第16図と同一部分は同一符号にて示
す。本体13には、定盤７の部分をコラム12により支持さ
れた、第１図に示した如き試料移動装置が設けられると
ともに、同様にコラム12により補助ステージ19が設けら
れている。補助ステージ19は、同図矢印方向に移動可能
であり、つかみ部1901により移動台４を吸着することが
できる。つかみ部1901により移動台４を吸着し、粗動ス
テージ２および微動ステージ３（図示せず、第１図参
照）と、移動台４の吸着を断てば、補助ステージ19によ
り移動台４を長距離移動することができる。これによ
り、ウエハ５の移動台４への載置、マスク15のマスク微
動台14（図示せず、第16図参照）への載置等が容易に行
なえるようになる。なお、補助ステージ19の移動方向は
本実施例に限定されるものではなく、補助ステージ19を
他の方向へ移動させても同様な効果があるのは明らかで
ある。
第27図は、本発明の試料移動装置をSORアライナに組
み込んだときに用いる、自動補償機構の一例を示した図
であり、第１図および第16図と同一部分は同一符号にて
示す。移動台４の下部には、支持棒20上を転動するロー
ラ21が設けられている。支持棒20は、本体13（図示せ
ず、第16図参照）に設けられた昇降棒案内機構21により
案内される昇降棒22により、同図矢印方向に移動可能で
あり、昇降棒22の下端には金属ベルト（例えばスチール
ベルト）23が取付けられている。スチールベルト23は、
本体13（図示せず、第15図参照）に設けられたプーリ24
に掛けられ、バランスウエイト25が吊り下げられてい
る。このような構成により、移動台４の自重をバランス
ウエイト25により釣合わせることができるため、自重に
より移動台４の位置決め精度が劣化するのを防止するこ
とができる。なお、本例以外の構造の自重補償機構を用
いても、同様な効果が得られるのは明らかである。自重
補償機構が必要ない場合にはこれを省略してもかまわな
い。また、補助ステージ19（第24図参照）を自重補償機
構として兼用してもよい。
第28図は、本発明の試料移動装置の第２の実施例を示
した図であり、第１図および第２図と同一部分は同一符
号にて示す。ベース１上には、微動ステージ３が搭載さ
れており、微動ステージ３上には、ｙ方向に案内される
Ｙテーブル201と、ｘ方向に案内されるＸテーブル203が
搭載されている。Ｙテーブル201は、Ｙ駆動機構205によ
りＹロツド206を介して駆動され、またＸテーブル203
は、Ｘ駆動機構207によりＸロツド210を介して駆動され
ている。移動台４（図示せず、第１図参照）を、ｘ方向
にステツプ移動させる際には、移動台４はＸテーブル20
3に吸着され、Ｘテーブルと共に移動する。移動台４を
ｙ方向にステツプ移動させる際には移動台４はＹテーブ
ル201に吸着され、Ｙテーブルと共に移動する。また、
移動台４をx,y,z,α，β、およびθ方向に微動させる際
には移動台４は微動ステージ３に吸着される。そして、
微動ステージと共にアクチユエータの駆動によつて移動
する。また、本実施例においては、Ｙテーブル201,Xテ
ーブル203、および微動ステージ３に自成絞り26が設け
られており、それぞれが移動台４を吸着していないと
き、この絞りから空気を噴出することにより移動台４と
の間を静圧空気潤滑することが可能である。例えば、移
動台４がＸテーブル203に吸着されてｘ方向にステツプ
移動する際には、Ｙテーブル201および微動ステージ３
に設けられた自成絞り26により、Ｙテーブル201および
微動ステージ３と、移動台４との間を静圧空気潤滑する
ことができる。なお、自成絞り26を省略し、Ｙテーブル
201,Xテーブル203、および微動ステージ３と、移動台４
とを摺動させてもよいのはもちろんである。また、Ｙテ
ーブル201およびＸテーブル203の案内方法、Ｙ駆動機構
205,X駆動機構207,微動ステージ３、および移動台４の
吸着方法については、第２図，第４図、および第７図に
おいて説明したものと同様なものを用いればよいので、
ここでは説明を省略する。
〔発明の効果〕
本発明によれば、粗動ステージの位置決め誤差や位置
検出誤差が試料の位置決め精度に全く影響を与えない。
またウエハを吸着した移動台の位置を直接測長器により
測定しているため、試料の高精度な位置決めが可能とな
る。このため、本発明を、例えば露光装置に適用する
と、試料に転写されるパターンの配列精度および重ね合
せ精度が飛躍的に向上するという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の試料移動装置の一実施例を示す斜視
図、第２図は粗動ステージ２の一具体例を示す斜視図、
第３図は粗動ステージ２の他の具体例を示す斜視図、第
４図は微動ステージを駆動するアクチユエータの配置例
を示す斜視図、第５図は微動ステージ駆動用アクチユエ
ータの一具体例を示す断面図、第６図は間隙調整装置６
の一具体例を示す部分断面図、第７図はステージ表面部
に形成される電磁チヤツクの一具体例を示す斜視図、第
８図は電磁チヤツクの一具体例を示す断面図、第９図は
電磁チヤツクの他の具体例を示す断面図、第10図は電磁
チヤツクのコイルへの給電方法の一例を示す説明図、第
11図は第10図に示したコイルへの給電方法を実現するた
めの給電回路図、第12図は移動台４の一例を示す斜視
図、第13図は移動台４の他の例を示す斜視図、第14図は
従来の粗微動積み重ね方式の試料移動台の動作原理を示
す原理図、第15図は本発明の試料移動装置の動作原理を
示す原理図、第16図は本発明の試料移動装置を半導体製
造装置の一種であるSORアライナに適用した一実施例を
示す斜視図、第17図は試料移動装置とSORリングを姿勢
関係の一具体例を示した断面図、第18図は試料移動装置
とSORリングの姿勢関係の第２の具体例を示した断面
図、第19図は本発明の試料移動装置の制御方法の一実施
例を示す説明図、第20図は本発明の試料移動システムの
一実施例を示したブロツク線図、第21図〜第23図は第20
図に示す実施例の動作方法の一実施例を示したフロー
図、第24図は移動台の初期設定装置の一例を示す斜視
図、第25図は移動台の初期設定装置の他の例を示す斜視
図、第26図は補助ステージ19の具体例を示す斜視図、第
27図は自重補償機構の一例を示す斜視図、第28図は本発
明の試料移動装置の他の実施例を示す斜視図、である。 １……ベース、２……粗動ステージ、３……微動ステー
ジ、４……移動台、５……ウエハ、６……間隙調整装
置、７……定盤、８……測長器、12……コラム、13……
本体、14……マスク微動台、15……マスク、16……除振
台、17……移動台コントローラ、18……位置決めピン、
19……補助ステージ、20……支持棒、21……ローラ、22
……昇降棒、23……スチールベルト、24……プーリ、25
……バランスウエイト、26……自成絞り、101……メイ
ンテーブル、102……フレーム、201……Ｙテーブル、20
2……Ｙ案内機構、203……Ｘテーブル、204……Ｘ案内
機構、205……Ｙ駆動機構、206……Ｙロツド、207……
Ｘ駆動機構、208……ガイドバー、209……ブシユ、210
……Ｘロツド、211……駆動部材、212……ロータリエン
コーダ、213……Ｘモータ、214……Ｘ送りねじ、215…
…Ｘナツト、216……Ｘナツト案内機構、217……Ｙモー
タ、218……Ｙ送りねじ、219……コイル、220……コイ
ルボビン、221……充填材、222……被覆材、223……粗
動ステージ駆動用アクチユエータ、301……アクチユエ
ータ、302……アクチユエータ、303……アクチユエー
タ、304……アクチユエータ、305……アクチユエータ、
306……アクチユエータ、307……センサ、308……セン
サ、309……センサ、310……センサ、311……センサ、3
12……センサ、313……センサ、314……センサ、315…
…センサ、316……ボルト、317……取付部、318……圧
電素子、319……微動ステージ駆動用アクチユエータ、3
20……センサ、401……母材、402……メツキ層、403…
…ミラー面、404……チヤツク案内機構、405……回転チ
ヤツク、406……ステータ、407……ロータ、601……ス
ライダ、602……リンク、603……Ｚモータ、604……ス
ライダ駆動機構、801……測長器、802……測長器、803
……測長器、901……切り替えスイツチ、902……接点、
903……切り替えスイツチ、904……接点、905……接
点、906……接点、1001……電源、1002……電源、1101
……抵抗、1102……抵抗、1103……抵抗、1501……振動
ミラー、1502……SORリング、1701……粗動Ｙコントロ
ーラ、1702……粗動Ｘコントローラ、1703……微動Ｙコ
ントローラ、1704……微動Ｘθコントローラ、1705……
微動Z1コントローラ、1706……演算装置、1707……微動
Z2コントローラ、1708……微動Z3コントローラ、1709…
…粗動Ｚコントローラ、1710……吸着コイルコントロー
ラＡ、1711……吸着コイルコントローラＢ、1712……シ
ステムコントローラ、1801……原点センサ、1901……つ
かみ部。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 平井 洋武 茨城県土浦市神立町502番地 株式会社 日立製作所機械研究所内 (56)参考文献 特開 昭63−162137（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B23Q 1/34 B23Q 5/22 B23Q 5/34 H01L 21/30 H01L 21/68 G05D 3/00

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】ベース上に設けた微動アクチュエータと、 前記ベース上に設けられ、前記微動アクチュエータによ
    り駆動される微動ステージと、 前記ベース上に設けた粗動駆動機構と、 前記ベース上に設けられ、前記粗動駆動機構により駆動
    される粗動ステージと 前記微動ステージ又は粗動ステージに吸着して移動する
    試料台と、前記試料台を前記粗動ステージで移動すると
    きには、前記試料台を粗動ステージに吸着保持し、前記
    試料台を微動ステージで移動するときは、前記粗動ステ
    ージとの吸着を解除し、前記試料台を微動ステージに吸
    着保持する保持手段を備えたことを特徴とする試料移動
    装置。
  2. 【請求項２】請求項１において、 前記試料台の位置を計測する計測手段を前記ベース側に
    固定して設けたことを特徴とする試料移動装置。
  3. 【請求項３】請求項１において、前記保持手段は、真空
    又は磁気、又は静電吸着により前記試料台を保持するも
    のであることを特徴とする試料移動装置。
  4. 【請求項４】請求項１において、前記保持手段は、磁気
    吸着により前記試料台を保持するものであることを特徴
    とする試料移動装置。
  5. 【請求項５】シンクロトロン方射光を発生するSORリン
    グを備え、前記方射光をマスクを介して試料台上のウエ
    ハに照射してウエハ上にパターンを形成する半導体製造
    装置において、 ベース上に設けた微動アクチュエータと、前記ベース上
    に設けられ、前記微動アクチュエータにより駆動される
    微動ステージと、前記ベース上に設けた粗動駆動機構
    と、前記ベース上に設けられ、前記粗動駆動機構により
    駆動される粗動ステージと前記微動ステージ又は粗動ス
    テージに吸着して移動する前記試料台と、前記試料台を
    前記粗動ステージで移動するときには、前記試料台を粗
    動ステージに吸着保持し、前記試料台を微動ステージで
    移動するときは、前記粗動ステージとの吸着を解除し、
    前記試料台を微動ステージに吸着保持する保持手段を備
    え、前記ベースに前記試料台の位置を直接計測する測長
    器を設けたことを特徴とする半導体製造装置。
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