JP6810911B2 - 物体搬送装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、物体搬送装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法に関する。

従来、液晶表示素子、半導体素子（集積回路等）等の電子デバイス（マイクロデバイス）を製造するリソグラフィ工程では、マスク（フォトマスク）又はレチクル（以下、「マスク」と総称する）と、ガラスプレート又はウエハ（以下、「基板」と総称する）とを所定の走査方向（スキャン方向）に沿って同期移動させつつ、マスクに形成されたパターンをエネルギビームを用いて基板上に転写するステップ・アンド・スキャン方式の露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ（スキャナとも呼ばれる））などが用いられている。

この種の露光装置としては、マスクの端部を保持する枠状の部材（マスクホルダなどと称される）を駆動することによってマスクの位置制御を行うマスクステージ装置を備えたものが知られている（例えば、特許文献１参照）。

ここで、マスクパターンを基板に対して高精度で転写するためには、高精度で基板とマスクとを同期駆動する必要があり、マスクステージ装置の位置制御性の向上が望まれていた。

米国特許出願公開第２００８／００３０７０２号明細書

本発明の第１の態様によれば、所定パターンが形成された物体の所定方向に関する一端部を保持する第１移動体と、前記第１移動体を非接触支持する第１ガイド部と、前記物体の前記所定方向に関する他端部を保持する第２移動体と、前記第２移動体を非接触支持する第２ガイド部と、前記所定方向に関して、前記第１移動体と前記第２移動体とが互いに離れる方向へ相対移動させる駆動部と、前記所定方向に関して前記第１移動体と前記第２移動体との間に位置し、前記第１及び第２移動体の相対移動により前記第１及び第２移動体による前記物体の保持が解除された前記物体を支持する搬送部と、を備え、前記駆動部は、前記第１ガイド部に対して前記第１移動体を前記所定方向へ相対移動させ、前記第２ガイド部に対して前記第２移動体を前記所定方向へ相対移動させる物体搬送装置が、提供される。

本発明の第２の態様によれば、第１の態様に係る物体搬送装置と、露光対象物体を保持し、前記露光対象物体に前記所定パターンが露光されるよう、前記露光対象物体を移動させる移動体と、を備える露光装置が、提供される。

本発明の第３の態様によれば、第２の態様に係る露光装置を用いて前記露光対象物体を露光することと、露光された前記露光対象物体を現像することと、を含むフラットパネルディスプレイの製造方法が、提供される。

本発明の第４態様によれば、第２の態様に係る露光装置を用いて前記露光対象物体を露光することと、露光された前記露光対象物体を現像することと、を含むデバイス製造方法が、提供される。

第１の実施形態に係る液晶露光装置の構成を概略的に示す図である。 図２（Ａ）は、図１の液晶露光装置が有するマスクステージ装置の平面図、図２（Ｂ）は、マスクステージ装置の正面図である。 図１の液晶露光装置が有するマスクストッカ、マスクローダ、及びマスクステージ装置を示す図である。 マスクストッカ、マスクローダ、及びマスクステージ装置の平面図である。 図５（Ａ）は、マスクローダが有する支持アームの平面図、図５（Ｂ）は、支持アームの側面図、図５（Ｃ）は、マスクステージ装置、及びマスクローダの正面図である。 図６（Ａ）及び図６（Ｂ）は、マスクの交換動作を説明するため図（その１）であって、マスクステージ装置、及びマスクローダの平面図及び側面図である。 図７（Ａ）及び図７（Ｂ）は、マスクの交換動作を説明するため図（その２）であって、マスクステージ装置、及びマスクローダの平面図及び側面図である。 図８（Ａ）及び図８（Ｂ）は、マスクの交換動作を説明するため図（その３）であって、マスクステージ装置、及びマスクローダの平面図及び側面図である。 マスクの交換動作を説明するため図（その４）であって、マスクステージ装置、及びマスクローダの平面図である。 図１０（Ａ）及び図１０（Ｂ）は、マスクの交換動作を説明するため図（その５）であって、マスクステージ装置、及びマスクローダの平面図及び側面図である。 図１１（Ａ）及び図１１（Ｂ）は、マスクの交換動作を説明するため図（その６）であって、マスクステージ装置、及びマスクローダの平面図及び側面図である。 図１２（Ａ）及び図１２（Ｂ）は、マスクの交換動作を説明するため図（その７）であって、マスクステージ装置、及びマスクローダの平面図及び側面図である。 マスクの交換動作を説明するため図（その８）であって、マスクステージ装置、マスクローダ、及びマスクストッカの平面図である。 第１の変形例に係るマスクローダの平面図である。 第２の変形例に係るマスクステージ装置の正面図である。 図１６（Ａ）及び図１６（Ｂ）は、第２の変形例に係るマスクステージ装置の動作を説明するための図（平面図及び正面図）である。 図１７（Ａ）及び図１７（Ｂ）は、第３の変形例に係るマスクステージ装置を示す平面図及び正面図である。 第４の変形例に係るマスクステージ装置の平面図である。 図１９（Ａ）及び図１９（Ｂ）は、第２の実施形態に係るマスクローダの平面図及び側面図である。 第３の実施形態に係るマスクステージ装置の平面図である。 第４の実施形態に係るマスクステージ装置の平面図である。

《第１の実施形態》
以下、第１の実施形態について、図１〜図１３を用いて説明する。

図１には、第１の実施形態に係る液晶露光装置１０の構成が概略的に示されている。液晶露光装置１０は、例えば液晶表示装置（フラットパネルディスプレイ）などに用いられる矩形（角型）のガラス基板Ｐ（以下、単に基板Ｐと称する）を露光対象物とするステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置、いわゆるスキャナである。

液晶露光装置１０は、照明系１２、光透過型のマスクＭを保持するマスクステージ装置１４、投影光学系１６、装置本体１８、表面（図１で＋Ｚ側を向いた面）にレジスト（感応剤）が塗布された基板Ｐを保持する基板ステージ装置２０、マスクローダ９０（図１では不図示。図３参照）、マスクストッカ１００（図１では不図示。図３参照）、及びこれらの制御系等を有している。以下、露光時にマスクＭと基板Ｐとが投影光学系１６に対してそれぞれ相対走査される方向をＸ軸方向とし、水平面内でＸ軸に直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸及びＹ軸に直交する方向をＺ軸方向とし、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸回りの回転方向をそれぞれθｘ、θｙ、及びθｚ方向として説明を行う。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸方向に関する位置をそれぞれＸ位置、Ｙ位置、及びＺ位置として説明を行う。

照明系１２は、例えば米国特許第５，７２９，３３１号明細書などに開示される照明系と同様に構成されている。照明系１２は、図示しない光源（例えば、水銀ランプ）から射出された光を、それぞれ図示しない反射鏡、ダイクロイックミラー、シャッター、波長選択フィルタ、各種レンズなどを介して、露光用照明光（照明光）ＩＬとしてマスクＭに照射する。照明光ＩＬとしては、例えばｉ線（波長３６５ｎｍ）、ｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）などの光（あるいは、上記ｉ線、ｇ線、ｈ線の合成光）が用いられる。

照明系１２（上記各種レンズなどを含む照明系ユニット）は、クリーンルームの床１１上に設置された照明系フレーム３０に支持されている。照明系フレーム３０は、複数の脚部３２（図１では紙面奥行き方向に重なっている）、及び該複数の脚部３２に支持された照明系支持部３４を有している。

マスクステージ装置１４は、マスクＭを照明系１２（照明光ＩＬ）に対してＸ軸方向（スキャン方向）に所定の長ストロークで駆動するとともに、Ｙ軸方向、及びθｚ方向に微少駆動するための要素である。マスクＭは、例えば石英ガラスにより形成された平面視矩形の板状部材から成り、図１における−Ｚ側を向いた面（下面部）に所定の回路パターン（マスクパターン）が形成されている。マスクＭの下面部には、図２（Ｂ）に示されるように、マスクパターンを保護するためにペリクルＰｅと称される防塵フィルムが取り付けられている。ここで、マスクＭの下面の幅方向（図２（Ｂ）ではＹ軸方向）両端部には、マスクパターンが形成されていない領域（以下、余白領域と称する）が設けられている。このため、ペリクルＰｅの幅方向寸法は、マスクＭの幅方向寸法よりも短く設定されている。マスクステージ装置１４の詳細な構成については、後述する。

図１に戻り、投影光学系１６は、マスクステージ装置１４の下方に配置されている。投影光学系１６は、例えば米国特許第６，５５２，７７５号明細書などに開示される投影光学系と同様な構成の、いわゆるマルチレンズ投影光学系であり、例えば両側テレセントリックな等倍系で正立正像を形成する複数の投影光学系を備えている。

液晶露光装置１０では、照明系１２からの照明光ＩＬによってマスクＭ上の照明領域が照明されると、マスクＭを通過した照明光により、投影光学系１６を介してその照明領域内のマスクＭの回路パターンの投影像（部分正立像）が、基板Ｐ上の照明領域に共役な照明光の照射領域（露光領域）に形成される。そして、照明領域（照明光ＩＬ）に対してマスクＭが走査方向に相対移動するとともに、露光領域（照明光ＩＬ）に対して基板Ｐが走査方向に相対移動することで、基板Ｐ上の１つのショット領域の走査露光が行われ、そのショット領域にマスクＭに形成されたパターンが転写される。

装置本体１８は、複数の防振装置１９を介して床１１上に設置されている。装置本体１８は、例えば米国特許出願公開第２００８／００３０７０２号明細書に開示される装置本体と同様に構成されており、上架台部１８ａ、下架台部１８ｂ、及び一対の中架台部１８ｃを有している。上記投影光学系１６は、上架台部１８ａに支持されている。装置本体１８は、上記照明系フレーム３０とは、振動的に分離して配置されている。したがって、投影光学系１６と照明系１２とが振動的に分離される。

基板ステージ装置２０は、ベース２２、ＸＹ粗動ステージ２４、及び微動ステージ２６を含む。ベース２２は、平面視（＋Ｚ側から見て）矩形の板状の部材から成り、下架台部１８ｂ上に一体的に載置されている。ＸＹ粗動ステージ２４は、例えばＸ軸方向に所定の長ストロークで移動可能なＸ粗動ステージと、Ｙ軸方向に所定の長ストロークで移動可能なＹ粗動ステージとを組み合わせた、いわゆるガントリタイプの２軸ステージ装置（Ｘ、Ｙ粗動ステージは図示省略）である。

微動ステージ２６は、平面視矩形の板状（あるいは箱形）の部材から成り、基板Ｐの下面を吸着保持する基板ホルダを含む。微動ステージ２６は、例えば米国特許出願公開第２０１０／００１８９５０号明細書に開示されるような重量キャンセル装置（図１では不図示）を介してベース２２上に載置されている。微動ステージ２６は、上記ＸＹ粗動ステージ２４に案内（誘導）されることにより、投影光学系１６（照明光ＩＬ）に対してＸ軸方向、及び／又はＹ軸方向に所定の長ストロークで移動する。

微動ステージ２６のＸＹ平面内の位置情報は、微動ステージ２６に固定されたバーミラー２７（実際にはＸバーミラーとＹバーミラーとを含む）を用いて装置本体１８に固定されたレーザ干渉計２８（実際にはＸレーザ干渉計とＹレーザ干渉計とを含む）により求められ、該レーザ干渉計２８の出力に基づいて基板ＰのＸＹ平面内の位置制御が行われる。なお、上記マスクステージ装置１４に保持されたマスクＭに同期するように基板Ｐを少なくともＸ軸（走査）方向に所定の長ストロークで駆動することができれば、基板ステージ装置２０の構成は、特に限定されない。

次にマスクステージ装置１４の構成について説明する。マスクステージ装置１４は、一対のステージユニット４０を有している。一対のステージユニット４０は、一方が照明系から照射される照明光ＩＬの光路（すなわちマスクＭ）の＋Ｙ側に、他方が照明光ＩＬの光路（すなわちマスクＭ）の−Ｙ側にそれぞれ配置されている。一対のステージユニット４０は、マスクＭを挟んで紙面左右対称に配置されている点を除き、実質的に同じ構成を有している。以下、一方（＋Ｙ側）のステージユニット４０についてのみ説明し、他方（−Ｙ側）のステージユニット４０の構成の説明は、省略する。

図２（Ａ）に示されるように、ステージユニット４０は、ベース４２、ガイド４４、粗動ステージ４６、微動ステージ４８、及び複数のボイスコイルモータ（Ｘボイスコイルモータ５０ｘ、一対のＹボイスコイルモータ５０ｙ）を含む。

ベース４２は、Ｘ軸方向に延びるＸＹ平面に平行な板状の部材から成り、図１に示されるように、照明系フレーム３０が有する複数の脚部３２に固定されたマスクステージ支持部材３６に支持されており、装置本体１８、及び基板ステージ装置２０に対して相互に振動的に分離されている。なお、本実施形態において、ベース４２は、照明系フレーム３０に支持されているが、装置本体１８、及び基板ステージ装置２０に対して相互に振動的に分離した状態で床１１上に設置された別の架台上に搭載されていても良い。

図２（Ａ）に戻り、ベース４２の上面には、一対のＸリニアガイド５２ａがＹ軸方向に関して互いに離間して固定されている。Ｘリニアガイド５２ａは、Ｘ軸方向に延びる部材から成り、その長さは、ベース４２と同程度に設定されている。また、ベース４２の上面であって、一対のＸリニアガイド５２ａ間の領域には、Ｘ軸方向に所定間隔で配列された複数の永久磁石を含む磁石ユニット５４ａが固定されている。

ガイド４４は、Ｘ軸方向に延びるＹＺ断面矩形（図２（Ｂ）参照）の部材から成り、図１に示されるように、装置本体１８の上架台部１８ａの上面であって、ベース４２と投影光学系１６との間の領域に、ベース４２、及び投影光学系１６に対して相互に離間した状態で配置されている。図２（Ａ）に戻り、ベース４２、及びガイド４４の長手方向寸法は、ほぼ同じであり、本実施形態において、その長さは、例えばマスクＭの長手方向の寸法の３倍程度に設定されている。ガイド４４の上面は、平面度が非常に高く仕上げられている。

粗動ステージ４６は、図２（Ｂ）に示されるように、ＹＺ断面Ｌ字状の部材から成り、ベース４２上に載置されている。粗動ステージ４６の下面には、複数（１本のＸリニアガイド５２ａにつき、例えば２つ）のＸスライド部材５２ｂが固定されている。Ｘスライド部材５２ｂは、対応するＸリニアガイド５２ａとともに、例えば米国特許第６，７６１，４８２号明細書に開示されるような機械的なＸリニアガイド装置５２を構成しており、粗動ステージ４６は、該Ｘリニアガイド装置５２により、ベース４２上でＸ軸方向に直進案内される。

また、粗動ステージ４６の下面中央部には、上記磁石ユニット５４ａに対向してコイルユニット５４ｂが固定されている。コイルユニット５４ｂは、磁石ユニット５４ａとともに、例えば米国特許第８，０３０，８０４号明細書に開示されるようなＸリニアモータ５４を構成しており、粗動ステージ４６は、該Ｘリニアモータ５４により、ベース４２上でＸ軸方向に直進駆動される。コイルユニットに供給される電流の向き、及び大きさは、不図示の主制御装置により制御される。粗動ステージ４６のＸ位置情報は、不図示のリニアエンコーダシステム（あるいは光干渉計システム）により求められる。なお、粗動ステージ４６をＸ軸方向に駆動するためのアクチュエータの種類は、特に限定されず、例えば送りネジ装置、ロープ（あるいはベルト）駆動装置などであっても良い。また、リニアモータは、ムービングマグネットタイプであっても良い。

微動ステージ４８は、粗動ステージ４６の−Ｙ側（マスクＭ側）であって、上記ガイド４４上の上方に配置されている。微動ステージ４８は、図２（Ａ）に示されるように、本体部４８ａと、マスクＭを吸着保持する部分である複数の吸着保持部４８ｂとを備えている。本体部４８ａは、Ｘ軸方向に延びるＸＹ平面に平行な板状の部材から成り、その長さは、粗動ステージ４６（及びマスクＭ）と同程度に設定されている。本体部４８ａは、軸受け面がガイド４４の上面に対向して配置された不図示のエアベアリングを有している。本体部４８ａは、上記エアベアリングからガイド４４の上面に対して噴出される加圧気体の静圧により、図２（Ｂ）に示されるように、ガイド４４に対して微少なクリアランスを介して浮上している。

吸着保持部４８ｂは、ＸＹ平面に平行な板状に形成され、本体部４８ａの−Ｙ側（マスク側）の面部の上端部近傍から−Ｙ方向に付き出している。本実施形態において、微動ステージ４８は、図２（Ａ）に示されるように、Ｘ軸方向に所定間隔（平面視で櫛歯状に配置された状態）で、例えば４つの吸着保持部４８ｂを有しており、該４つの吸着保持部４８ｂを用いてマスクＭの＋Ｙ側の余白領域を下方から支持する。吸着保持部４８ｂには、マスクステージ装置１４の外部に配置された不図示の真空吸引装置が接続されている。吸着保持部４８ｂは、上面に孔部が形成されており、上記真空吸引装置から供給される真空吸引力によりマスクＭの下面を吸着保持可能となっている。なお、本実施形態では、本体部４８ａと吸着保持部４８ｂとは一体に形成されているが、これに限られず、別部材であっても良い。

Ｘボイスコイルモータ５０ｘは、粗動ステージ４６から微動ステージ４８に対してＸ軸方向の推力（ローレンツ力）を作用させ、Ｙボイスコイルモータ５０ｙは、粗動ステージ４６から微動ステージ４８に対してＹ軸方向の推力（ローレンツ力）を作用させる。一方のＹボイスコイルモータ５０ｙは、Ｘボイスコイルモータ５０ｘの＋Ｘ側に、他方のＹボイスコイルモータ５０ｙは、Ｘボイスコイルモータ５０ｘの−Ｘ側にそれぞれ配置されている。

＋Ｘ側のＹボイスコイルモータ５０ｙは、図２（Ｂ）に示されるように、粗動ステージ４６に固定された固定子５０ａと、微動ステージ４８に固定された可動子５０ｂとにより構成される。可動子５０ｂは、ＹＺ断面Ｕ字状に形成され、一対の対向面間に固定子５０ａが所定のクリアランスを介して挿入されている。可動子５０ｂは、一対の対向面に不図示の永久磁石を含む磁石ユニットを有している。また、固定子５０ａは、不図示のコイルユニットを有している。コイルユニットに供給される電流の向き、及び大きさは、不図示の主制御装置により制御される。−Ｘ側のＹボイスコイルモータ５０ｙ（図２（Ａ）参照）の構成は、＋Ｘ側のＹボイスコイルモータ５０ｙと同じであるが、＋Ｘ側のＹボイスコイルモータ５０ｙとは、独立に制御される。また、Ｘボイスコイルモータ５０ｘ（図２（Ａ）参照）の構成は、永久磁石の大きさ、及び磁極の配置（磁界の向き）、並びにコイルの大きさ、及び電流の向きが異なる点を除き、上記Ｙボイスコイルモータ５０ｙと概ね同じ（粗動ステージ４６に固定された固定子と、微動ステージ４８に固定された可動子とを含む）であるので、説明を省略する。なお、Ｘボイスコイルモータ５０ｘ、及びＹボイスコイルモータ５０ｙは、ムービングコイルタイプであっても良い。

ここで、Ｙボイスコイルモータ５０ｙ（不図示であるがＸボイスコイルモータ５０ｘも同様）において、固定子５０ａと、可動子５０ｂとの間には、Ｙ軸方向に関して、余白領域の幅方向寸法よりも長いクリアランスが形成されている。これにより、Ｙボイスコイルモータ５０ｙは、微動ステージ４８をＹ軸方向に、上記余白領域の幅方向寸法よりも長いストロークで駆動することが可能となっており、吸着保持部４８ｂを、余白領域に対向する位置と、マスクＭの下方から退避した（マスクＭと上下方向に重ならない）位置との間で駆動することができる。

主制御装置は、Ｘリニアモータ５４を用いて粗動ステージ４６をＸ軸方向に駆動する際に、これと同期して微動ステージ４８が粗動ステージ４６と一体的にＸ軸方向に移動するように、Ｘボイスコイルモータ５０ｘが発生する推力の大きさ及び向きを制御する。このように、マスクステージ装置１４では、微動ステージ４８が粗動ステージ４６に誘導されることにより、Ｘ軸方向に所定の長ストロークで移動する。また、主制御装置は、微動ステージ４８がＸ軸方向に所定の長ストロークで移動する際に、一対のＹボイスコイルモータ５０ｙを用いて粗動ステージ４６に対して微動ステージ４８をＹ軸方向に微少駆動すること、及び一対のＹボイスコイルモータ５０ｙの推力を異ならせることにより、粗動ステージ４６に対して微動ステージ４８をθｚ方向に微少駆動することができる。

微動ステージ４８のＸＹ平面内の位置情報は、ガイド４４の上面（ただし微動ステージ４８が有するエアベアリングの軸受面と対向しない位置）に固定された２次元グレーティング５６と、微動ステージ４８に固定された不図示のエンコーダヘッドとを含む２次元エンコーダシステムにより求められる。なお、微動ステージ４８の位置情報を求めるための計測系の構成は、これに限られず、例えば光干渉計システム、あるいは光干渉計システムとリニアエンコーダシステムとを組み合わせた計測系を用いても良い。

以上説明した＋Ｙ側のステージユニット４０と同様に、−Ｙ側のステージユニット４０も、ベース４２、ガイド４４、粗動ステージ４６、微動ステージ４８、複数のボイスコイルモータ（５０ｘ、５０ｙ）を有している。−Ｙ側のステージユニット４０の粗動ステージ４６、及び微動ステージ４８を駆動するための駆動系、および位置情報を求めるための計測系の構成は、上記＋Ｙ側のステージユニット４０のものと同様である（ただし独立に制御される）。マスクステージ装置１４では、＋Ｙ側のステージユニット４０の微動ステージ４８によりマスクＭの＋Ｙ側の端部が吸着保持されるとともに、−Ｙ側のステージユニット４０の微動ステージ４８によりマスクＭの−Ｙ側の端部が吸着保持される。すなわち、一対の微動ステージ４８が協働してマスクホルダとして機能する。そして、主制御装置は、一対のステージユニット４０それぞれの粗動ステージ４６（及び微動ステージ４８）をＸ軸方向に長ストロークで同期駆動することにより、マスクＭを照明光ＩＬ（図１参照）に対して駆動する。

次に、図３に示されるマスクローダ９０、及びマスクストッカ１００の構成について説明する。マスクローダ９０は、マスクストッカ１００とマスクステージ装置１４との間におけるマスクＭの搬送に用いられる。マスクローダ９０、及びマスクストッカ１００それぞれは、装置本体１８、基板ステージ装置２０（図３では不図示。図１参照）と共に不図示のチャンバ内に収容され、クリーンルームの床１１上であって、装置本体１８よりも−Ｘ側の領域（図１及び図３において、装置本体１８よりも紙面奥側の領域）に設置されている。なお、説明の簡略化のため、図３及び図４では、マスクステージ装置１４は、模式的に示されている。

マスクストッカ１００は、マスクライブラリなどとも称され、直方体状（箱形）の部材から成る本体部１０２を有している。本体部１０２は、架台１０４を介して床１１に対して所定の高さ位置に設置されている。本体部１０２の＋Ｙ側の面部には、開口部１０６が形成されている。本体部１０２の内部には、複数のマスクＭを上下方向に所定間隔で保持可能なように、一対の支持部材１０８（図３では一方のみ図示。図４参照）がＺ軸方向に所定間隔で複数配置されている。一対の支持部材１０８は、図４に示されるように、マスクＭの余白領域を下方から支持可能となっている。なお、図３では不図示であるが、マスクストッカ１００に保管されている複数のマスクＭそれぞれの下面には、予めペリクルＰｅ（図２（Ａ）参照）が取り付けられている。

マスクローダ９０は、Ｙアクチュエータ９２Ｙ、Ｚアクチュエータ９２Ｚ、回転駆動装置９４、支持アーム９６、複数の支持駒９８を有している。Ｙアクチュエータ９２Ｙは、床１１上に設置されており、Ｚアクチュエータ９２ＺをＹ軸方向に所定の長ストロークで駆動する。Ｚアクチュエータ９２Ｚは、回転駆動装置９４をＺ軸方向に所定の長ストロークで駆動する。Ｙアクチュエータ９２Ｙ、及びＺアクチュエータ９２Ｚそれぞれの種類は、特に限定されず、リニアモータ、エアシリンダなどを用いることができる。回転駆動装置９４は、高さの低い箱形の部材から成り、Ｚアクチュエータ９２Ｚの先端部（＋Ｚ側の端部）に取り付けられている。回転駆動装置９４は、不図示の回転モータを有しており、Ｚアクチュエータ９２Ｚに対してθｚ方向に、少なくとも１８０°回転できるようになっている。

支持アーム９６は、図４に示されるように、ＸＹ平面内の１軸方向（図４ではＹ軸方向）に延びる一対の棒状部材９６ａを備える。一対の棒状部材９６ａは、その長手方向に直交する方向（図４ではＸ軸方向）に関して互いに離間して配置されている。棒状部材９６ａの長手方向寸法は、特に限定されないが、少なくともマスクＭの長手方向寸法の２倍以上であり、本実施形態では、例えばマスクＭの長手方向寸法の２．５倍程度に設定されている。棒状部材９６ａは、長手方向の中央部が、回転駆動装置９４に接続されており、回転駆動装置９４から見て、ＸＹ平面内の１軸方向（図４ではＹ軸方向）の一側、及び他側それぞれに、ほぼ同じ長さ延びている。

一対の棒状部材９６ａ間の間隔は、図５（Ｃ）に示されるように、マスクステージ装置１４の一対のガイド４４間の間隔よりも狭く設定されている。これにより、支持アーム９６が一対のガイド４４間に所定のクリアランスを介して挿入可能となっている。また、一対の棒状部材９６ａ間の間隔は、マスクＭの幅方向寸法よりも幾分短く（狭く）設定されている。さらに、棒状部材９６ａの幅方向寸法（太さ）は、マスクＭの余白領域の幅方向寸法よりも狭く設定されている。これにより、支持アーム９６は、ペリクルＰｅに接触することなく、マスクＭを下方から支持することができる。

マスクローダ９０は、図３及び図４から分かるように、支持アーム９６がＹアクチュエータ９２Ｙ、Ｚアクチュエータ９２Ｚ、及び回転駆動装置９４を含む３自由度（Ｙ軸、Ｚ軸、θｚ）駆動装置に取り付けられていることから、マスクＭを下方から支持した支持アーム９６を、上記３自由度に任意に駆動することができる。すなわち、マスクローダ９０は、支持アーム９６の一側の端部近傍をマスクストッカ１００の本体部１０２内に挿入してマスクＭをマスクストッカ１００から受け取る（あるいは受け渡す）こと、該マスクＭを本体部１０２内から抜き出すこと（あるいはマスクＭをマスクストッカ１００に戻すこと）、該マスクＭをθｚ方向に９０°回転させて図５（Ａ）に示されるように、マスクステージ装置１４の一対のガイド４４間に挿入することが可能となっている。上記マスクストッカ１００が有する一対の支持部材１０８（図４参照）の構成は、支持アーム９６との干渉を避けるため、例えば上記微動ステージ４８（図２（Ａ）参照）と同様な櫛歯状（Ｘ軸方向に移動可能）であっても良いし、上記吸着保持部４８ｂ（図２（Ａ）参照）よりも狭幅な部材により形成（Ｘ軸方向に移動しなくても良い）しても良い。

棒状部材９６ａの一端部近傍、及び他端部近傍それぞれの上面には、図５（Ｂ）に示されるように、複数（本実施形態では、例えば３つ）の支持駒９８が該棒状部材９６ａの長手方向（図５（Ｂ）ではＸ軸方向）に沿って所定間隔で固定されている。例えば３つの支持駒９８の間隔は、図５（Ａ）に示されるように、マスクステージ装置１４の微動ステージ４８が有する複数（本実施形態では、例えば４つ）の吸着保持部４８ｂ間に挿入できるように設定されている。複数の支持駒９８それぞれには、マスクローダ９０の外部に設置された不図示の真空吸引装置が接続されている。支持駒９８は、上面に複数の孔部が形成されており、上記真空吸引装置から供給される真空吸引力によりマスクＭの下面を吸着保持可能となっている。

支持駒９８の高さ方向寸法は、図５（Ｃ）に示されるように、吸着保持部４８ｂの厚さ方向寸法よりも大きく設定されている。これにより、マスクＭが複数の吸着保持部４８ｂに下方から支持された状態で、支持駒９８を互いに隣接する一対の吸着保持部４８ｂ間に挿入させることにより、支持駒９８と吸着保持部４８ｂとを接触させることなく、マスクＭをマスクステージ装置１４からマスクローダ９０へと受け渡すことができる。

上述のようにして構成された液晶露光装置１０（図１参照）では、不図示の主制御装置の管理の下、マスクローダ９０によって、マスクステージ装置１４上へのマスクＭのロードが行われるとともに、不図示の基板ローダ装置によって、基板ステージ装置上への基板Ｐのロードが行なわれる。その後、主制御装置により、不図示のアライメント検出系を用いてアライメント計測が実行され、そのアライメント計測の終了後、基板Ｐ上に設定された複数のショット領域に逐次ステップ・アンド・スキャン方式の露光動作が行なわれる。なお、この露光動作は従来から行われているステップ・アンド・スキャン方式の露光動作と同様であるので、その詳細な説明は省略するものとする。

ここで、液晶露光装置１０では、基板Ｐに形成するマスクパターンに応じて、マスクＭの交換が適宜行われる。以下、マスクステージ装置１４に保持されるマスクＭの交換動作を含み、マスクローダ９０、及びマスクステージ装置１４の動作について図６（Ａ）〜図１３を用いて説明する。なお、図面の簡略化のため、図６（Ａ）〜図１３では、マスクローダ９０、及びマスクステージ装置１４の要素の一部が省略されている。

図６（Ａ）及び図６（Ｂ）には、マスクステージ装置１４が、一対の微動ステージ４８に保持されたマスクＭ_１を、所定のマスク交換位置へ移動させている状態が示されている。マスク交換位置は、マスクＭを照明系１２（図１参照）の下方から退避させた位置であって、具体的には、一対の微動ステージ４８のＸ軸方向に関する−Ｘ側のストロークエンド近傍に位置させたときのマスク位置である。

また、図６（Ａ）に示されるように、マスクＭ_１に換えてマスクステージ装置１４（一対の微動ステージ４８）に保持される予定のマスクＭ_２がマスクローダ９０の支持アーム９６の一側の端部近傍に支持されている。また、なにも支持していない（空の状態の）支持アーム９６の他側の端部近傍が、一対のガイド４４間に挿入されている。この際、図６（Ｂ）に示されるように、複数の支持駒９８の上端部が、ガイド４４の上面よりも上方に突き出さないように、Ｚアクチュエータ９２Ｚが制御される。

図７（Ａ）及び図７（Ｂ）には、マスクＭ_１がマスク交換位置に位置決めされた状態が示されている。マスク交換位置では、吸着保持部４８ｂのＸ位置と、支持駒９８のＸ位置とが重複しないように、微動ステージ４８のＸ位置が制御される。マスクＭ_１がマスク交換位置に位置決めされると、マスクステージ装置１４では、吸着保持部４８ｂによるマスクＭ_１の吸着保持が解除される。

次いで、図８（Ａ）及び図８（Ｂ）に示されるように、Ｚアクチュエータ９２Ｚにより支持アーム９６が上昇駆動され、これにより複数の支持駒９８が互いに隣接する一対の吸着保持部４８ｂ間を通過してマスクＭ_１の下面に当接し、マスクＭ_１と吸着保持部４８ｂとを離間させる。この状態で、図８（Ａ）に示されるように、一対の微動ステージ４８それぞれがＹボイスコイルモータ５０ｙ（図８（Ａ）では不図示。図２（Ａ）参照）により互いに離間する方向に駆動され、これにより吸着保持部４８ｂがマスクＭ_１の下方から退避する。マスクローダ９０は、複数の支持駒９８を用いてマスクＭ_１を吸着保持する。

マスクＭ_１がマスクローダ９０に受け渡されると、マスクステージ装置１４では、図９に示されるように、一対の微動ステージ４８それぞれが＋Ｘ方向に駆動される。また、マスクローダ９０では、支持アーム９６がガイド４４と接触しない位置まで上昇駆動された後、回転駆動装置９４により平面視で時計回り方向（反時計回り方向でも良い）に、例えば１８０°回転駆動される。この際、一対の微動ステージ４８それぞれは、支持アーム９６に接触しない位置に退避している。

図１０（Ａ）及び図１０（Ｂ）は、支持アーム９６が、例えば１８０°回転した後の状態が示されている。マスクローダ９０は、Ｚアクチュエータ９２Ｚを用いて支持アーム９６を下降駆動させる。この際、棒状部材９６ａの上面が吸着保持部４８ｂの下面よりも下方、且つマスクＭ_２の下面が吸着保持部４８ｂの上面よりも上方にそれぞれ位置するように、支持アーム９６のＺ位置が位置決めされる。また、マスクステージ装置１４では、一対の微動ステージ４８が−Ｘ方向に駆動され、吸着保持部４８ｂのＸ位置が複数の支持駒９８のＸ位置と重複しない位置に位置決めされる。そして、一対の微動ステージ４８それぞれがＹボイスコイルモータ５０ｙ（図１０（Ａ）では不図示。図２（Ａ）参照）により互いに接近する方向に駆動され、該複数の吸着保持部４８ｂがマスクＭ_２の下方に挿入される。以下、不図示であるが、マスクＭ_２の吸着保持を解除した支持アーム９６が下降駆動され、マスクＭ_２がマスクローダ９０からマスクステージ装置１４に受け渡される。

次いで、マスクステージ装置１４では、図１１（Ａ）及び図１１（Ｂ）に示されるように、マスクＭ_２を用いた露光動作のために、マスクＭ_２を吸着保持した一対の微動ステージ４８が＋Ｘ方向に駆動される。この際、複数の支持駒９８の上端部が吸着保持部４８ｂと接触しないように、支持アーム９６のＺ位置が制御される。

マスクＭ_２をマスクステージ装置１４に受け渡したマスクローダ９０では、図１２（Ａ）及び図１２（Ｂ）に示されるように、支持アーム９６が、ガイド４４を接触しない位置まで上昇駆動された後、平面視反時計回りに、例えば９０°回転駆動される。なお、図１２（Ａ）及び図１２（Ｂ）において、マスクステージ装置１４では、マスクＭ_２を用いた露光動作が行われているが、その説明は省略する。

この後、図１３に示されるように、支持アーム９６がＹアクチュエータ９２Ｙにより−Ｙ方向に駆動され、支持アーム９６の他側（マスクＭ_１を支持した側）の端部近傍がマスクストッカ１００内に挿入される。この際、マスクＭ_１をマスクストッカ１００内の所望の位置に収容できるように、支持アーム９６のＺ位置が制御される。

以上説明したように、本第１の実施形態のマスクステージ装置１４によれば、マスクＭの一側、及び他側の端部をそれぞれ保持する一対の微動ステージ４８が、互いに物理的に独立（分離）して構成されているので、例えば枠状の部材であるマスクホルダにマスクを保持させ、該マスクホルダを駆動する従来のマスクステージ装置に比べ、微動ステージ４８を上記枠状のマスクホルダよりも軽量化することができる。また、微動ステージ４８の剛性の確保が容易となる。従って、マスクＭの位置制御性が向上する。また、上記枠状のマスクホルダに相当する部材である一対の微動ステージ４８それぞれを小型化できるので、該微動ステージ４８をセラミックスなどの高剛性材料で一体成形をすることが可能となり、コストが下がる。

また、一対の微動ステージ４８が互いに分離されているので、該一対の微動ステージ４８を独立にＹ軸方向に駆動して、互いに離間、及び接近させることができる。これにより、マスクローダ９０は、支持アーム９６を一対の微動ステージ４８間に通過させることができ、持ち替え動作なしでマスクストッカ１００とマスクステージ装置１４との間で直接マスクＭの搬送が可能となる。したがって、マスクローダ９０のコストが下がり、マスク交換時間も短縮できる。

なお、上記第１の実施形態の液晶露光装置１０の構成は、適宜変更可能である。例えば、図１４に示されるマスクローダ９０Ａ（第１の変形例）のように、支持アーム１９６は、一枚のマスクＭのみを支持可能な構成であっても良い。この場合、マスクＭの交換動作に要する時間は、上記第１の実施形態よりも長くなるが、マスクローダ９０Ａを上記第１の実施形態に比べて安価、且つコンパクトにすることができる。なお、マスクＭをマスクステージ装置１４からマスクストッカ１００に戻す際のマスクＭの搬送経路（マスクステージ装置１４の近傍が好ましい）上に、該マスクＭを一時的に受け渡す（仮置きする）ことが可能な架台などを複数設置しても良い。該複数の架台は、複数のマスクＭを上下方向に仮置きできるようにするため、上下方向に配置することが好ましい。

また、図１５に示されるマスクステージ装置１４Ａ（第２の変形例）のように、他方（−Ｙ側）のステージユニット４０Ａにおいて、粗動ステージ４６が、ベース４２に対してＹ軸方向に所定のストロークで移動可能となっていても良い。具体的に説明すると、ステージユニット４０Ａは、Ｘテーブル５８を有している。Ｘテーブル５８は、ベース４２に対してＸリニアガイド装置５２を介してＸ軸方向に直進案内され、Ｘリニアモータ５４によりＸ軸方向に所定の長ストロークで駆動される。粗動ステージ４６は、Ｙリニアガイド装置５５（Ｘテーブル５８上面に固定されたＹリニアガイド５５ａと、粗動ステージ４６下面に固定された複数のＹスライド部材５５ｂとを含む）により、Ｘテーブル５８に対してＹ軸方向に直進案内されれる。また、不図示であるが、粗動ステージ４６は、Ｙリニアモータ（Ｘテーブル５８上面に固定されたＹ固定子と、粗動ステージ４６下面に固定されたＹ可動子とを含む）によりＹ軸方向に所定のストロークで駆動される。また、ステージユニット４０Ａにおいて、ガイド４４Ａは、他方のステージユニット４０のガイド４４に比べて幾分広幅に形成されている。

以下、マスクステージ装置１４Ａの動作を説明する。上記第１の実施形態では、図８（Ａ）及び図８（Ｂ）に示されるように、マスクステージ装置１４からマスクローダ９０にマスクＭ_１を受け渡すために、一対の微動ステージ４８それぞれが互いに離間する方向に駆動されたのに対し、図１６（Ａ）及び図１６（Ｂ）に示されるように、マスクステージ装置１４Ａでは、一方のステージユニット４０Ａ側の粗動ステージ４６（及びＹボイスコイルモータ５０ｙを介して微動ステージ４８）がマスクＭ_１から離間する方向（−Ｙ方向）に駆動される。また、これと併せて支持アーム９６も−Ｙ方向に（ただし粗動ステージ４６の半分の移動量で）駆動される。これにより、一対の微動ステージ４８の吸着保持部４８ｂのＹ位置と支持アーム９６のＹ位置とが重複しなくなり、支持アーム９６を上昇駆動してマスクＭ_１をマスクステージ装置１４Ａから搬出することができるようになる。マスクステージ装置１４Ａによれば、マスクＭ_１の搬出時において粗動ステージ４６に対して微動ステージ４８を相対移動させないので、複数のボイスコイルモータ（５０ｘ、５０ｙ）それぞれの固定子、及び可動子間の隙間を小さくすることができ、ボイスコイルモータを小型化することができる。

また、図１７（Ａ）に示されるマスクステージ装置１４Ｂ（第３の変形例）のように、一方（＋Ｙ側）のステージユニット４０Ｂに一対のクランプ装置６０を設けても良い。ここで、ステージユニット４０Ｂは、図２（Ａ）に示される上記第１の実施形態に係るマスクステージ装置１４と異なり、一対のＹボイスコイルモータ５０ｙを有していない。なお、図１７（Ａ）に示されるように、一方のステージユニット４０Ａは、上記第２の変形例に係るマスクステージ装置１４Ａ（図１５参照）と同じ構成であり、一対のＹボイスコイルモータ５０ｙを有しているので、マスクＭをＹ軸方向、及びθｚ方向に微少駆動することが可能である。

一対のクランプ装置６０は、一方がＸボイスコイルモータ５０ｘの＋Ｘ側、他方がＸボイスコイルモータ５０ｘの−Ｘ側に配置されているが、その構成は同じである。クランプ装置６０は、図１７（Ｂ）に示されるように、支持部材６０ａを介して粗動ステージ４６に固定されたＺアクチュエータ６０ｂ（例えばエアシリンダ）と、該Ｚアクチュエータ６０ｂによりＺ軸方向に所定のストロークで駆動されるボール６０ｃとを備えている。また、微動ステージ４８の上面であって、ボール６０ｃに対応する位置には、凹部６０ｄが形成されている。ステージユニット４０Ｂでは、一対のクランプ装置６０それぞれのボール６０ｃが対応する凹部６０ｄに挿入されることにより、粗動ステージ４６と微動ステージ４８とのＸＹ平面に沿った相対移動が制限される。凹部６０ｄは、円錐面（テーパ面）により規定されており、ボール６０ｃと凹部６０ｄとの位置が幾分ずれていても、容易にボール６０ｃを凹部６０ｄに挿入することができる。

マスクステージ装置１４Ｂによれば、Ｘボイスコイルモータ５０ｘを用いなくても、一対のクランプ装置６０を用いて粗動ステージ４６と微動ステージ４８とのＸＹ平面に沿った相対移動を制限した状態にすることで、粗動ステージ４６の推力のみを用いてマスクＭをＸ軸方向に駆動することができる。クランプ装置６０は、主にマスクＭを加速、及び減速する際に用い、例えば露光動作時などに微動ステージ４８を等速駆動する際には、クランプ装置６０をオフにし、Ｘボイスコイルモータ５０ｘを用いて高精度の位置制御をすることが望ましい。これにより、複数のボイスコイルモータ（５０ｘ、５０ｙ）の出力を抑制し、該ボイスコイルモータを小型軽量化して低コスト化を図ること、及び発熱量を抑制することができる。

また、上記一対のクランプ装置６０は、図１８に示されるマスクステージ装置１４Ｃ（第４の変形例）のように、他方（−Ｙ側）のステージユニット４０Ｃに設けられていても良い。また、ステージユニット４０Ｃの粗動ステージ４６は、図１５に示される上記第２の変形例に係るマスクステージ装置１４Ａのように、ベース４２に対してＹ軸方向に所定のストロークで移動可能となっている。ステージユニット４０Ｃでは、マスクＭをＸ軸方向に加速、及び減速する際のみならず、マスク交換時に微動ステージ４８をＹ軸方向に駆動する際にも上記一対のクランプ装置６０が用いられる。また、ステージユニット４０Ｃでは、Ｙボイスコイルモータ５０ｙがひとつのみ設けられ、一対のＸボイスコイルモータ５０ｘが、上記Ｙボイスコイルモータ５０ｙの両側に設けられている。微動ステージ４８がθｚ方向に回転しないようにするため、Ｙボイスコイルモータ５０ｙは、微動ステージ４８の重心位置を通るＹ軸に平行な軸線に沿って微動ステージ４８に推力を作用させること（重心駆動すること）ができるように配置することが好ましい。なお、Ｙボイスコイルモータ５０ｙは、一方のステージユニット４０Ｂ側に設けられても良い。

《第２の実施形態》
次に、第２の実施形態について、図１９（Ａ）及び図１９（Ｂ）を用いて説明する。本第２の実施形態に係るマスクローダ１９０は、上記第１の実施形態と比べ、複数の支持駒９８の配置が異なる。以下、相違点についてのみ説明し、上記第１の実施形態と同じ構成及び機能を有する要素については、上記第１の実施形態と同じ符号を付してその説明を省略する。

上記第１の実施形態において、図５（Ｃ）に示されるように、マスクローダ９０の複数の支持駒９８は、マスクＭの幅方向両端部（図５（Ｃ）では＋Ｙ側、及び−Ｙ側）に形成された余白領域を下方から支持したのに対し、本第２の実施形態では、図１９（Ａ）及び図１９（Ｂ）に示されるように、マスクＭの長手方向両端部（図１９（Ａ）及び図１９（Ｂ）では＋Ｘ側、及び−Ｘ側）に形成された余白領域が、複数の支持駒９８に下方から支持される。すなわち、支持アーム１９６を構成する一対の棒状部材１９６ａの一側、及び他側の端部近傍それぞれには、一対の支持駒９８がＸ軸方向に所定間隔で固定されている。一対の支持駒９８のＸ軸方向に関する間隔は、マスクＭの長手方向両端部に形成された余白領域を下方から支持できるように、マスクＭの長手方向の寸法よりも短く、且つペリクル（図１９（Ａ）及び図１９（Ｂ）では不図示。図２（Ａ）参照）の長手方向の寸法よりも長く設定されている。支持駒９８の高さは、ペリクルＰｅの厚みよりも高く設定される。マスクローダ１９０を用いたマスクＭの交換動作については、上記第１の実施形態と同じであるので説明を省略する。

本第２の実施形態によれば、上記第１の実施形態と同様の効果に加え、微動ステージ１４８に支持駒９８を挿入するための切り欠きを形成する必要がない（微動ステージ１４８を櫛歯状に形成する必要がない。ただし、櫛歯状でも良い）。また、粗動ステージ４６（図１９では不図示。図２（Ａ）参照）に対して微動ステージ１４８をＹ軸方向に長ストロークで相対移動させないので、マスク交換時間を短縮できるとともに、複数のボイスコイルモータ（図１９（Ａ）及び図１９（Ｂ）では不図示）それぞれの固定子、及び可動子間のＹ軸方向に関する隙間を小さくすることができる。従って、ボイスコイルモータを小型化、低コスト化することができる。また、本第２の実施形態では、マスクローダ１９０の支持アーム１９６を構成する棒状部材１９６ａは、必ずしも２本である必要はなく、例えば１本でも良いし、３本以上でも良い。また、棒状部材１９６ａの太さは、余白領域の幅を考慮する必要がないので、上記第１実施形態よりも太くすることができる。

《第３の実施形態》
次に、第３の実施形態について、図２０を用いて説明する。本第３の実施形態に係るマスクステージ装置２１４は、上記第１の実施形態と比べ、複数の押圧部材６２を有している点が異なる。以下、相違点についてのみ説明し、上記第１の実施形態と同じ構成及び機能を有する要素については、上記第１の実施形態と同じ符号を付してその説明を省略する。

押圧部材６２は、一方、及び他方のステージユニット２４０それぞれに一対設けられている。また、ステージユニット２４０において、粗動ステージ２４６のＸ軸方向の寸法は、微動ステージ４８のＸ軸方向の寸法よりも幾分長く設定されている。一対の押圧部材６２は、一方が粗動ステージ２４６の＋Ｘ側の端部に固定され、他方が粗動ステージ２４６の−Ｘ側の端部に固定されている。押圧部材６２は、一端部が粗動ステージ２４６に固定されるとともに、他端部がガイド４４の上方に延びており、微動ステージ４８は、一対の押圧部材６２間に挿入されている。一対の押圧部材６２それぞれと微動ステージ４８との間には、所定のクリアランスが形成されている。粗動ステージ２４６と微動ステージ４８との間隔は、不図示のセンサ（位置センサ、あるいは力センサなど）により常時計測され、通常の露光動作時などにおいて、微動ステージ４８と押圧部材６２とが当接しないように位置制御が行われる。

押圧部材６２は、微動ステージ４８を重心駆動することができるようにＹ位置が設定されている。マスクステージ装置２１４では、図１７（Ａ）に示される複数のクランプ装置６０を備えたマスクステージ装置１４Ｂ（第３の変形例）と同様に、マスクＭの加減速時に押圧部材６２を介して粗動ステージ２４６が微動ステージ４８を押圧することができるので、Ｘボイスコイルモータ５０ｘを用いなくても良く、効率が良い。

また、微動ステージ４８の粗動ステージ２４６に対するＸ軸方向の相対移動可能範囲が一対の押圧部材６２により規定されることから、一対の押圧部材６２は、ストッパ装置としても機能し、なんらかのトラブルで微動ステージ４８のＸ位置を制御することができなくなった場合であっても、マスクＭの暴走を抑制することができる。

《第４の実施形態》
次に、第４の実施形態について、図２１を用いて説明する。本第４の実施形態に係るマスクステージ装置３１４は、上記第３の実施形態（図２０参照）と比べ、マスキングブレード装置７０を有している点が異なる。以下、相違点についてのみ説明し、上記第３の実施形態と同じ構成及び機能を有する要素については、上記第３の実施形態と同じ符号を付してその説明を省略する。

マスキングブレード装置７０は、一対のブレード７２（ブラインドなどとも称される）、及び一対のブレード駆動装置７４を含む。一対のブレード駆動装置７４の一方は、一方の粗動ステージ２４６上に載置され、他方のブレード駆動装置７４は、他方の粗動ステージ２４６上に載置されている。一対のブレード７２は、一対のブレード駆動装置７４間に架設されている。ブレード７２は、Ｙ軸方向に延びる部材から成り、マスクＭ、複数のボイスコイルモータ（５０ｘ、５０ｙ）よりも上方の空間に配置されている。一対のブレード７２それぞれは、一対のブレード駆動装置７４により独立にＸ軸方向に駆動される。マスクステージ装置３１４では、一対のブレード７２のＸ位置が適宜制御されることにより、露光用照明光ＩＬ（図１参照）がマスクＭ上の所望しない領域に照射されることを防止する。また、マスク交換動作時には、一対のブレード７２をマスクＭよりも＋Ｘ側に退避させておくことができるように、一対のブレード駆動装置７４の長さが設定されている。マスキングブレード装置７０は、一対の粗動ステージ２４６上に載置されているので、一対の微動ステージ４８（すなわちマスクＭ）の位置制御性を損なうことがない。なお、マスキングブレード装置７０は、上記第１（第１〜第４の変形例を含む。）、第２の実施形態に係るマスクステージ装置に適用することも可能である。

なお、以上説明した第１〜第４の実施形態（第１〜第４の変形例を含む。以下同じ）の構成は、適宜変更可能である。例えば一対の粗動ステージ４６（あるいは２４６）は、走査方向に直交する方向（Ｙ軸方向）にＸ軸方向への移動可能ストロークに比べて短いストロークで移動可能に構成されていても良い。この場合、例えば米国特許第８，１５９，６４９号明細書に開示されるような、２種類のマスクパターンが形成されたマスクを適宜Ｙ軸方向にステップ移動させることにより、マスク交換を行うことなく上記２種類のマスクパターンを選択的に基板に転写することが可能な露光装置にも、上記第１〜第４の実施形態に係るマスクステージ装置を適用することができる。

また、Ｘボイスコイルモータ５０ｘとＹボイスコイルモータ５０ｙとが個別に配置されたが、これに限られずひとつの固定子とひとつの可動子とでＸ軸方向、及び／又はＹ軸方向に任意に推力を発生することができる、いわゆる２ＤＯＦボイスコイルモータを用いても良い。

また、微動ステージ４８（あるいは１４８）におけるガイド４４との対向面にエアベアリング（不図示）用の孔部とは別の孔部を形成するとともに、該別の孔部を用いて微動ステージ４８とガイド４４との間の気体を真空吸引させ、微動ステージ４８に−Ｚ方向の弱い負荷を作用させても良い。これにより、微動ステージ４８の姿勢を安定させることができる。なお、ガイド４４を磁性材料により形成するとともに、微動ステージ４８に磁石を取り付けることによって同様に微動ステージ４８に−Ｚ方向の弱い負荷を作用させても良い。

また、マスクローダ９０は、支持アーム９６（あるいは１９６）をＸ軸方向に駆動できるようになっていても良い。この場合、マスクＭがマスク交換位置に位置した状態で、支持アーム９６をマスクの下方にＸ軸方向から侵入させることができる。また、マスクストッカ１００からマスクステージ装置１４へのマスク搬送経路の途中には、マスクＭ上に付着したダストを検査したり、マスクＭに付着したダストをふるい落としたりするなどの処理装置を介在させても良いし、マスクＭを仮置きする置き台などを設けても良い。

また、照明光は、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）、ＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）などの紫外光や、Ｆ₂レーザ光（波長１５７ｎｍ）などの真空紫外光であっても良い。また、照明光としては、例えばＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（又はエルビウムとイッテルビウムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いても良い。また、固体レーザ（波長：３５５ｎｍ、２６６ｎｍ）などを使用しても良い。

また、投影光学系１６が複数本の光学系を備えたマルチレンズ方式の投影光学系である場合について説明したが、投影光学系の本数はこれに限らず、１本以上あれば良い。また、マルチレンズ方式の投影光学系に限らず、オフナー型の大型ミラーを用いた投影光学系などであっても良い。また、投影光学系１６としては、拡大系、又は縮小系であっても良い。

また、露光装置の用途としては角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを転写する液晶用の露光装置に限定されることなく、例えば有機ＥＬ（Electro-Luminescence）パネル製造用の露光装置、半導体製造用の露光装置、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン及びＤＮＡチップなどを製造するための露光装置にも広く適用できる。また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるマスク又はレチクルを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも適用できる。

また、露光対象となる物体はガラスプレートに限られず、例えばウエハ、セラミック基板、フィルム部材、あるいはマスクブランクスなど、他の物体でも良い。また、露光対象物がフラットパネルディスプレイ用の基板である場合、その基板の厚さは特に限定されず、例えばフィルム状（可撓性を有するシート状の部材）のものも含まれる。なお、本実施形態の露光装置は、一辺の長さ、又は対角長が５００ｍｍ以上の基板が露光対象物である場合に特に有効である。

液晶表示素子（あるいは半導体素子）などの電子デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたマスク（あるいはレチクル）を製作するステップ、ガラス基板（あるいはウエハ）を製作するステップ、上述した各実施形態の露光装置、及びその露光方法によりマスク（レチクル）のパターンをガラス基板に転写するリソグラフィステップ、露光されたガラス基板を現像する現像ステップ、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去るエッチングステップ、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除くレジスト除去ステップ、デバイス組み立てステップ、検査ステップ等を経て製造される。この場合、リソグラフィステップで、上記実施形態の露光装置を用いて前述の露光方法が実行され、ガラス基板上にデバイスパターンが形成されるので、高集積度のデバイスを生産性良く製造することができる。

以上説明したように、本発明の物体搬送装置は、所定のパターンが形成された物体の搬送に適している。また、本発明の露光装置は、露光対象物体に所定のパターンを形成するのに適している。また、本発明のフラットパネルディスプレイの製造方法は、フラットパネルディスプレイの生産に適している。また、本発明のデバイス製造方法は、マイクロデバイスの生産に適している。

１０…液晶露光装置、１４…マスクステージ装置、２０…基板ステージ装置、４０…ステージユニット、４６…粗動ステージ、４８…微動ステージ、９０…マスクローダ、１００…マスクストッカ、Ｍ…マスク、Ｐ…基板。

Claims (11)

1. 所定パターンが形成された物体の所定方向に関する一端部を保持する第１移動体と、
   前記第１移動体を非接触支持する第１ガイド部と、
   前記物体の前記所定方向に関する他端部を保持する第２移動体と、
   前記第２移動体を非接触支持する第２ガイド部と、
   前記所定方向に関して、前記第１移動体と前記第２移動体とが互いに離れる方向へ相対移動させる駆動部と、
   前記所定方向に関して前記第１移動体と前記第２移動体との間に位置し、前記第１及び第２移動体の相対移動により前記第１及び第２移動体による前記物体の保持が解除された前記物体を支持する搬送部と、を備え、
   前記駆動部は、前記第１ガイド部に対して前記第１移動体を前記所定方向へ相対移動させ、前記第２ガイド部に対して前記第２移動体を前記所定方向へ相対移動させる物体搬送装置。
2. 前記搬送部は、前記物体とは異なる別の物体を支持する状態で前記第１移動体と前記第２移動体との間に位置し、
   前記駆動部は、前記搬送部から前記別の物体を受け取るように、前記所定方向に関して、前記第１移動体と前記第２移動体とが互いに接近方向へ相対移動させる請求項１に記載の物体搬送装置。
3. 前記搬送部は、前記物体と前記別の物体を下方から支持する請求項２に記載の物体搬送装置。
4. 前記搬送部は、前記物体を保持する第１保持部と、前記別の物体を保持する第２保持部とを有し、
   前記第１移動体と前記第２移動体とから受け取った前記物体を保持する前記第１保持部の位置に、前記別の物体を保持する前記第２保持部が位置するように、前記第１保持部と前記第２保持部とを移動させる駆動装置を備える請求項２又は３に記載の物体搬送装置。
5. 前記駆動部は、前記搬送部の両側に前記第１移動体と前記第２移動体とが位置するように、前記第１ガイド部に対して前記第１移動体を前記所定方向と交差する交差方向へ相対移動させ、前記第２ガイド部に対して前記第２移動体を前記交差方向へ相対移動させる請求項１〜４のいずれか一項に記載の物体搬送装置。
6. 前記第１移動体と前記第２移動体とは、前記所定方向と前記交差方向とへ、それぞれ独立して移動可能である請求項５に記載の物体搬送装置。
7. 請求項１〜６のいずれか一項に記載の物体搬送装置と、
   露光対象物体を保持し、前記露光対象物体に前記所定パターンが露光されるよう、前記露光対象物体を移動させる移動体と、を備える露光装置。
8. 前記露光対象物体は、フラットパネルディスプレイに用いられる基板である請求項７に記載の露光装置。
9. 前記基板は、少なくとも一辺の長さ又は対角長が５００ｍｍ以上である請求項８に記載の露光装置。
10. 請求項７又は８に記載の露光装置を用いて前記露光対象物体を露光することと、
    露光された前記露光対象物体を現像することと、を含むフラットパネルディスプレイの製造方法。
11. 請求項７〜９のいずれか一項に記載の露光装置を用いて前記露光対象物体を露光することと、
    露光された前記露光対象物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。

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