JP2021081548A - ステージ装置 - Google Patents

Abstract

【課題】微動ステージの駆動精度を維持しながらタクトタイムを低減することができるステージ装置を提供する。【解決手段】本発明に係るステージ装置２０は、所定のストロークで移動可能であり、第１の磁性体６を含む第１のステージ７と、第１のステージ７上で、第１のステージ７のストロークより長いストロークで移動可能であり、第１の磁性体６との間に磁気吸引力を発生させる第２の磁性体１１を含む第２のステージ５と、第１のステージ７に対して第２のステージ５を浮上させるエアベアリング４と、第１の磁性体６と第２の磁性体１１との間の磁気吸引力を低減させる部材１０とを備えるステージ装置であって、部材１０は、磁気吸引力を低減させる第１の位置Ｓと、磁気吸引力に影響を与えない第２の位置Ｒとの間で移動可能であることを特徴とする。【選択図】 図２

Description

本発明は、ステージ装置に関する。

露光装置において基板を移動させるために用いられるステージ装置には、基板に形成されるパターンの微細化に伴って、高い位置決め精度での駆動が求められている。
特許文献１は、エアベアリング及び磁気発生手段による静圧軸受構造を用いることによって粗動ステージ及び微動ステージからなる二つのステージをそれぞれ移動体及びガイドとして高い位置決め精度で駆動することができるステージ装置を開示している。

特開２００２−３３３０１８号公報

特許文献１に開示されているようなステージ装置では、粗動ステージと微動ステージとの吸着保持が不十分なまま微動ステージを駆動させると、粗動ステージと微動ステージとの間に相対位置ずれが発生してしまう。そして、相対位置ずれによって生じる力の一部が微動ステージに伝達されることによって、微動ステージに弾性変形が発生し、微動ステージの駆動精度が低下してしまう。
そこで、微動ステージの駆動精度を維持するためには、粗動ステージの微動ステージに対する吸着保持が十分となるようにエアベアリングの圧力が低下するまで待機させた後、微動ステージの駆動を開始させることが考えられる。

しかしながら、ステージ装置において粗動ステージの微動ステージに対する吸着保持が十分となるようにエアベアリングの圧力が低下するまでの待機時間を設けると、タクトタイムが増加してしまう。
そこで本発明は、微動ステージの駆動精度を維持しながらタクトタイムを低減することができるステージ装置を提供することを目的とする。

本発明に係るステージ装置は、所定のストロークで移動可能であり、第１の磁性体を含む第１のステージと、第１のステージ上で、第１のステージのストロークより長いストロークで移動可能であり、第１の磁性体との間に磁気吸引力を発生させる第２の磁性体を含む第２のステージと、第１のステージに対して第２のステージを浮上させるエアベアリングと、第１の磁性体と第２の磁性体との間の磁気吸引力を低減させる部材とを備えるステージ装置であって、前記部材は、磁気吸引力を低減させる第１の位置と、磁気吸引力に影響を与えない第２の位置との間で移動可能であることを特徴とする。

本発明によれば、微動ステージの駆動精度を維持しながらタクトタイムを低減することができるステージ装置を提供することができる。

本実施形態に係るステージ装置の模式的上面図、模式的断面図及び一部拡大模式的断面図。 本実施形態に係るステージ装置の模式的正面図及び模式的側面図。 本実施形態に係るステージ装置を備えた露光装置における露光処理のフローチャート及びその際の圧力変化を示したグラフ。 本実施形態に係るステージ装置を備えた露光装置の模式図。

以下に、本実施形態に係るステージ装置を添付の図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下に示す図面は、本実施形態を容易に理解できるようにするために、実際とは異なる縮尺で描かれている。
なお、以下の説明では、ステージに垂直な方向をＺ軸としており、Ｚ軸に垂直な平面内において互いに直交する二方向をそれぞれＸ軸及びＹ軸としている。

半導体製造装置、加工装置や検査装置等に用いられるステージ装置には、基板に形成されるパターンの微細化や要求される加工精度の向上に伴って、高い位置決め精度での駆動が求められている。
また、生産装置において用いられるステージ装置には生産性の向上も常に求められており、すなわち、ステージ装置には高精度及び高スループットの両立が求められている。

そこでステージ装置においては、粗動ステージ及び微動ステージを組み合わせて用いることによって駆動精度の向上が図られていると共に、ステージの加速度の増加や各駆動処理間の待機時間の低減等によってスループットの向上が図られている。

粗動ステージ及び微動ステージの二つのステージから構成されるステージ装置を用いて載置される基板をアライメントする際に、エアパッドから正圧を印加することで粗動ステージを浮上させる。また、適切な剛性となるように磁石を用いて与圧を付与している。
そして、ステージ装置を駆動させる際には、エアパッドから負圧を印加することで粗動ステージが微動ステージに吸着保持され、微動ステージに対する粗動ステージの相対位置がずれることを抑制している。

上記のようなステージ装置を駆動させる場合には、微動ステージと粗動ステージとの間の相対位置においてずれが発生しないことが前提となっており、ずれが発生した場合には駆動精度が要求仕様を満たせなくなる。

図１（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）はそれぞれ、本実施形態に係るステージ装置２０の模式的上面図、模式的断面図及び一部拡大模式的断面図を示している。

図１（ａ）及び（ｂ）に示されているように、本実施形態に係るステージ装置２０には、所定の方向に所定のストロークで移動可能な微動ステージ７（第１のステージ）が設けられている。
また、本実施形態に係るステージ装置２０には、所定の方向に微動ステージ７より長いストロークで移動可能な粗動ステージ５（第２のステージ）が設けられている。

そして図１（ｂ）及び（ｃ）に示されているように、微動ステージ７の上面上、且つ粗動ステージ５に対向して配置されているエアパッド４（気体供給／吸引手段）を含む静圧軸受パッド１３が複数設けられている。
また静圧軸受パッド１３は、エアパッド４を挟んでＸ軸方向に互いに離間して配置されている二つの磁石６（第２の磁性体）を含んでいる。
また静圧軸受パッド１３は、粗動ステージ５の下面に設けられているエアパッド受け１２及びエアパッド受け１２を挟んでＸ軸方向に互いに離間して配置されている二つのターゲット磁性体１１（第１の磁性体）も含んでいる。

従って、本実施形態に係るステージ装置２０では、粗動ステージ５に対向するように微動ステージ７に載置されると共に、その載置側とは反対側のパッド面（供給／吸引面）から気体を供給／吸引するエアパッド４が設けられている。そして、エアパッド４とエアパッド受け１２とで粗動ステージ５を吸着保持するエアベアリングが構成される。
また、ターゲット磁性体１１とターゲット磁性体１１の下方に配置されている磁石６との間において磁気吸引力が発生する。

なお、本実施形態に係るステージ装置２０では、例えば２４個の静圧軸受パッド１３を４×６、若しくは３６個の静圧軸受パッド１３を６×６の配置で、ＸＹ面内において互いに離間して設けることができる。
また、微動ステージ７に設けられた磁石６と粗動ステージ５に設けられたターゲット磁性体１１とは、互いに配置を入れ替えても構わない。
また、磁石６及びターゲット磁性体１１としては、発熱を抑制するために、電磁石より永久磁石を用いることが好ましい。

本実施形態に係るステージ装置２０では、粗動ステージ５は、Ｚ軸に平行な並進方向及びＺ軸回りの回転方向に駆動することができる。すなわち粗動ステージ５は、上記の二軸に関する被搭載物の位置を設定することができる。
一方、微動ステージ７は、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸それぞれに平行な並進方向及びＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸それぞれの回りの回転方向の六つの方向に駆動することができる。すなわち微動ステージ７は、上記の六軸に関する被搭載物の位置を設定することができる。

また図１（ａ）に示されているように、微動ステージ７上にはレーザー干渉計１Ｘ及び１Ｙそれぞれのターゲットとなるミラー２及び３が固定されている。
そして、レーザー干渉計１Ｘ及び１Ｙそれぞれから出射したレーザー光がミラー２及び３によって反射され、その反射光から微動ステージ７のＸ軸、Ｙ軸、及びＸ軸乃至Ｚ軸それぞれの回りの回転方向の位置を計測している。

また図１（ｂ）に示されているように、本実施形態に係るステージ装置２０では、Ｚ変位センサ８が設けられており、これにより微動ステージ７のＺ軸の位置が計測される。
本実施形態に係るステージ装置２０では、制御部１５によって、上記のように得られる六軸の計測値に基づいて駆動が制御される。

本実施形態に係るステージ装置２０において粗動ステージ５を駆動する際には、エアパッド４から圧力を印加する、すなわち気体を供給することによって、粗動ステージ５を浮上させる。
一方、微動ステージ７に接続されたアクチュエータ９によって微動ステージ７を駆動する際には、原則としてエアパッド４の圧力を負圧にする、すなわち気体を吸引することによって粗動ステージ５を吸着保持する。
本実施形態に係るステージ装置２０では、制御部１５によって、上記に示した粗動ステージ５の浮上及び吸着保持も制御される。

ここで、本実施形態に係るステージ装置２０では、エアパッド４と共に磁石６を設けることによって、粗動ステージ５と微動ステージ７との間に粗動ステージ５の自重と同程度の吸着力を印加している。
これにより、粗動ステージ５を浮上させた際に発生し得る発振を抑制することができる。

本実施形態に係るステージ装置２０は、上記のように移動体の軸受面とこれを支持する案内面とを相互に引き合わせる磁気手段を用いて予圧を付与することによって、軸受の高剛性化及び高精度化を図った静圧軸受として機能する。

従来のステージ装置では、粗動ステージ５を吸着保持するためにエアパッド４の圧力を負圧にする際のエアパッド４の圧力が十分小さくなるまで、すなわち駆動閾値未満になるまでの待機時間がタクトタイムを増加させている。
もしエアパッド４の圧力が十分小さくなる前、すなわち駆動閾値以上の状態で微動ステージ７の駆動を開始させてタクトタイムを低減させようとすると、粗動ステージ５の吸着保持が不十分となる。そのため、粗動ステージ５と微動ステージ７との間に相対位置ずれが発生する。
ここで、駆動閾値としては、粗動ステージ５を十分に吸着保持しながら微動ステージ７が駆動を開始することができる際のエアパッド４の設定圧力値と定義する。

上記に示したようなステージ装置では、微動ステージ７がアクチュエータ９によって加減速された際にエアパッド４の静止摩擦力によって粗動ステージ５が吸着保持されていることで、粗動ステージ５と微動ステージ７とが互いに一体で駆動することができる。
しかしながら、粗動ステージ５を吸着保持するためにエアパッド４の減圧を開始した後、駆動閾値以上の状態で微動ステージ７を駆動させると、粗動ステージ５の吸着保持が不十分となる。
その場合、エアパッド４の静止摩擦力では粗動ステージ５を十分に保持できなくなるため、粗動ステージ５と微動ステージ７との間に相対位置ずれが発生する。

そして、粗動ステージ５と微動ステージ７との間に相対位置ずれが起きると、その際に生じる力の一部がエアベアリングを介して微動ステージ７へ伝達され、微動ステージ７に弾性変形が生じる。
この力は微動ステージ７が加減速する際に発生するため、微動ステージ７の加減速が終了する際に粗動ステージ５が浮上していれば微動ステージ７に生じた弾性変形は解放される。
しかしながら実際には、微動ステージ７に弾性変形が発生している状態でエアベアリングによる吸着保持力は大きくなり粗動ステージ５が完全に吸着保持されるため、微動ステージ７の加減速が終了する際において微動ステージ７に弾性変形が残存してしまう。

そして、微動ステージ７上にはミラー２及び３が固定されているため、微動ステージ７に弾性変形が発生するとミラー２及び３にも同様に変形が発生する。
そのため、ミラー２及び３の変形によってレーザー干渉計１Ｘ及び１Ｙによる計測値から決定される微動ステージ７の位置に誤差が生じ、微動ステージ７の駆動精度が低下する。

上記に示したように、粗動ステージ５の吸着保持が不十分なまま微動ステージ７を駆動させると、微動ステージ７の駆動精度が低下してしまう問題が発生する。
そのため、ステージ装置では微動ステージ７の駆動精度を低下させないように、粗動ステージ５の吸着保持が十分となるようにエアパッド４の圧力が低下するまで待機させた後、微動ステージ７の駆動を開始させている。

しかしながら、このように粗動ステージ５の吸着保持が十分となるようにエアパッド４の圧力が低下させるまでの待機時間だけタクトタイムは増加してしまう。
もし、粗動ステージ５に対する十分な吸着保持力を確保するために、磁石６による磁気吸引力を大きくすると、今度は粗動ステージ５を浮上させるために必要となるエアパッド４の正圧力が大きくなってしまう。
また、タクトタイムを低減するために微動ステージ７の駆動加速度を増加させると、粗動ステージ５に対する吸着保持力が不足してしまい、やはり微動ステージ７と粗動ステージ５との間の相対位置ずれが発生してしまう。

そこで本実施形態に係るステージ装置２０において、微動ステージ７の駆動精度を低下させずに、上記に示したようなタクトタイムの増加を抑制することについて以下に詳述する。

次に、本実施形態に係るステージ装置２０における特徴的な構成について示す。
図２（ａ）及び（ｂ）はそれぞれ、本実施形態に係るステージ装置２０の模式的正面図及び模式的側面図を示している。

図２（ａ）及び（ｂ）に示されているように、本実施形態に係るステージ装置２０では、微動ステージ７上の不図示のレール等を用いて、Ｙ軸方向に移動可能な磁力遮蔽板１０（磁気遮蔽部材）が磁石６の各々に対して設けられている。なお、図２（ａ）及び（ｂ）では、簡単のために一つの磁石６に対応する一つの磁力遮蔽板１０しか図示していない。
そして、磁力遮蔽板１０をＹ軸方向に駆動させて磁石６を遮蔽することによって磁石６による粗動ステージ５の吸着保持力を変化させることができる。
すなわち、本実施形態に係るステージ装置２０では、制御部１５が、磁石６の上方を遮蔽する遮蔽位置Ｓ（第１の位置）と磁石６の上方から退避する退避位置Ｒ（第２の位置）との間で磁力遮蔽板１０をＹ軸方向に駆動させる。それにより、磁石６とターゲット磁性体１１との間に働く磁気吸引力の大きさを変化させることができる。

なお、上記に限らず、本実施形態に係るステージ装置２０では、制御部１５が磁力遮蔽板１０を遮蔽位置Ｓに移動させることによって、ターゲット磁性体１１に対する磁石６による磁気吸引力を少なくとも低減させることができればよい。
すなわち、本実施形態に係るステージ装置２０では、ターゲット磁性体１１と磁石６との間の磁気吸引力を低減させる位置と、ターゲット磁性体１１と磁石６との間の磁気吸引力に影響を与えない位置との間で磁力遮蔽板１０を移動させることができればよい。

ここで、磁力遮蔽板１０の材質としては鉄等の軟磁性体が好ましく、形状としては磁石６から発生する磁界を粗動ステージ５に設けられたターゲット磁性体１１から逸らすために、磁石６を包囲するようなコの字型やＵ字型が好ましい。しかしながら、磁力遮蔽板１０の材質及び形状はこれに限られない。

また、磁力遮蔽板１０の駆動手段としては、軽量且つ磁力遮蔽板１０を駆動する際の発熱が少ないことが望ましい。
そのため、駆動手段として空圧、油圧又はモータ等を用いることによって、磁石６から発生する磁力の大きさに関わらず磁力遮蔽板１０を駆動させる力は一定となり、磁石６自体を駆動させるような大きな駆動力も必要なくなる。
また、駆動手段として上記の手段を用いることによって、電磁石のように発熱することもない。

次に、本実施形態に係るステージ装置２０を露光装置に用いた例について説明する。
図３（ａ）及び（ｂ）はそれぞれ、本実施形態に係るステージ装置２０を備えた露光装置において基板を露光する際のフローチャート及びその際のエアパッド４による圧力の時間変化を示したグラフである。

まず、基板露光処理を開始すると（ステップＳ１）、粗動ステージ５上に基板が載置される（ステップＳ２）。
このとき、粗動ステージ５はエアパッド４によってＰ＝＋１５０ｋＰａの正圧が印加されることで浮上しており、磁力遮蔽板１０はターゲット磁性体１１に対する磁石６の磁気吸引力を弱めるために遮蔽位置Ｓに配置されている。

次に、粗動ステージ５が駆動されることで基板のＺ軸方向の位置及びＺ軸回りの角度が設定される（ステップＳ３）。
そして、粗動ステージ５を吸着するために、エアパッド４の減圧を開始すると共に、磁力遮蔽板１０を遮蔽位置Ｓから退避位置Ｒまで移動させる（ステップＳ４）。なお、この時の時間をＴ＝０秒とする。

次に、エアパッド４による圧力Ｐが＋２０ｋＰａまで減圧されるまで待機し（ステップＳ５）、その後、計測系によって基板上の第１のアライメントマークが計測される（ステップＳ６）。なお、このときの時間は、例えばＴ＝１．７秒である。

次に、圧力Ｐが０ｋＰａまで減圧されると、粗動ステージ５を十分に吸着保持して微動ステージ７を駆動することができる（ステップＳ８）。なお、このときの時間は、例えばＴ＝２．０秒である。
そして、計測系によって基板上の第２のアライメントマークが計測され（ステップＳ９）、その後、決定された位置に基づいて基板に対して露光が行われ（ステップＳ１０）、基板露光処理が終了する（ステップＳ１１）。

上記で示したように、磁力遮蔽板１０が設けられていない従来のステージ装置では、粗動ステージ５を吸着保持するためにエアパッド４の圧力Ｐが十分小さくなる、例えば−２０ｋＰａまで待機する（ステップＳ７）。そして、ステップＳ８’において微動ステージ７を駆動させている。すなわち、この例に対応させると、ステップＳ７によってＴ＝２．５秒まで待機する必要があった。

一方、本実施形態に係るステージ装置２０では、ステップＳ４において磁石６のターゲット磁性体１１に対する磁気吸引力を強めるために、磁力遮蔽板１０を遮蔽位置Ｓから退避位置Ｒまで移動させている。
そのため、エアパッド４による圧力Ｐが０ｋＰａまで減圧されれば、磁石６の磁気吸引力も伴って粗動ステージ５を十分に吸着保持することができ、微動ステージ７を駆動することができる。

以上のように、本実施形態に係るステージ装置２０では、粗動ステージ５を十分に吸着保持して微動ステージ７を駆動するまでの時間を２．５−２．０＝０．５秒短縮することができる。
このようにして、ステージ装置２０ひいてはそれを備える露光装置としてのタクトタイムを低減させることができる。

ステージ装置におけるタクトタイムを低減させるためには、ステージの駆動速度の増加や補正計測系の高速化が求められる。
このとき、後者についてはエアベアリングの圧力を切り替えた後の待機時間等を含む機械的な状態変化の待機時間等が阻害要因となる。
従って、本実施形態に係るステージ装置２０では、磁力遮蔽板１０を用いて磁石６による吸着保持力を可変とすることによって、このような機械的な状態変化の待機時間を削減することができ、これによりタクトタイムを低減させることができる。

換言すると、本実施形態に係るステージ装置２０では、粗動ステージ５に対する十分な吸着保持力を確保するために、エアパッド４による圧力に加えて、磁石６による磁気吸引力も利用している。
一方で、粗動ステージ５を浮上させる際には、磁石６による磁気吸引力を低減した方がよいため、磁石６上に磁力遮蔽板１０を配置する。

その結果、磁石６による磁気吸引力の分だけエアパッド４による圧力が低下しなくても粗動ステージ５と微動ステージ７との間における相対位置ずれが発生しなくなる。
それにより、エアベアリングによる粗動ステージ５の吸着保持のための待機時間を短縮しても、ステージ装置２０の駆動精度を維持することができる。

なお、本実施形態に係るステージ装置２０では、タクトタイムを低減するために、粗動ステージ５をエアパッド４に吸着した後、エアパッド４から再び浮上させる前に、予め磁力遮蔽板１０を退避位置Ｒから遮蔽位置Ｓに移動させておいてもよい。
また、本実施形態に係るステージ装置２０では、磁力遮蔽板１０の移動に限らず、磁石６及びターゲット磁性体１１の少なくとも一方を案内手段を用いて移動させることで、磁石６とターゲット磁性体１１との間の磁気吸引力を変更することもできる。

［露光装置］
図４は、本実施形態に係るステージ装置２０を備えた露光装置５０の模式図を示している。
図４に示されているように、露光装置５０は、光源５１と、光源５１から出射した露光光をレチクル５３（原版）へ導光する照明光学系５２とを備えている。
また露光装置５０は、レチクル５３を通過した露光光をステージ装置２０から構成されるウエハステージ上に配置されたウエハ５６（基板）に導光する投影光学系５４を備えている。

本実施形態に係るステージ装置２０を備えた露光装置５０は、ウエハステージによって露光時のウエハ５６の位置決めを行い、レチクル５３に形成（描画）されたパターンをウエハ５６上に転写するようにウエハ５６を露光する。

なお、本実施形態に係るステージ装置２０は、露光装置５０を含むリソグラフィ装置に限らず、被処理体の加工装置や検査装置等において被処理体を移動可能に保持することができるステージにも用いることができる。

［物品の製造方法］
次に、本実施形態に係るステージ装置２０を備えた露光装置５０を用いた物品の製造方法について説明する。

物品は、半導体デバイス、表示デバイス、カラーフィルタ、光学部品、ＭＥＭＳ等である。
例えば、半導体デバイスは、ウエハに回路パターンを作るための前工程と、前工程で作られた回路チップを製品として完成させるための、加工工程を含む後工程とを経ることにより製造される。

前工程は、本実施形態に係るステージ装置２０を備えた露光装置５０を使用して感光剤が塗布されたウエハを露光する露光工程と、感光剤を現像する現像工程とを含む。
現像された感光剤のパターンをマスクとしてエッチング工程やイオン注入工程等が行われ、ウエハ上に回路パターンが形成される。
これらの露光、現像、エッチング等の工程を繰り返して、ウエハ上に複数の層からなる回路パターンが形成される。
後工程で、回路パターンが形成されたウエハに対してダイシングを行い、チップのマウンティング、ボンディング、検査工程を行う。

表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラスウエハに感光剤を塗布する工程と、本実施形態に係るステージ装置２０を備えた露光装置５０を使用して感光剤が塗布されたガラスウエハを露光する工程と、露光された感光剤を現像する工程とを含む。

本実施形態に係る物品の製造方法によれば、従来よりも高品位の物品を製造することができる。

４ エアパッド（エアベアリング）
５ 粗動ステージ（第２のステージ）
６ 磁石（第２の磁性体）
７ 微動ステージ（第１のステージ）
１０ 磁力遮蔽板（部材）
１１ ターゲット磁性体（第１の磁性体）
１２ エアパッド受け（エアベアリング）
２０ ステージ装置
Ｒ 退避位置（第２の位置）
Ｓ 遮蔽位置（第１の位置）

Claims (14)

1. 所定のストロークで移動可能であり、第１の磁性体を含む第１のステージと、
   前記第１のステージ上で、前記第１のステージのストロークより長いストロークで移動可能であり、前記第１の磁性体との間に磁気吸引力を発生させる第２の磁性体を含む第２のステージと、
   前記第１のステージに対して前記第２のステージを浮上させるエアベアリングと、
   前記第１の磁性体と前記第２の磁性体との間の前記磁気吸引力を低減させる部材と、
   を備えるステージ装置であって、
   前記部材は、前記磁気吸引力を低減させる第１の位置と、前記磁気吸引力に影響を与えない第２の位置との間で移動可能であることを特徴とするステージ装置。
2. 前記第２のステージを前記第１のステージに対して吸着させる際に前記部材を前記第２の位置に移動させる制御部を備えることを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
3. 前記制御部は、前記第２のステージを前記第１のステージに対して吸着させた後、前記第２のステージを前記第１のステージに対して浮上させる前に、前記部材を前記第１の位置に移動させることを特徴とする請求項２に記載のステージ装置。
4. 前記制御部は、前記第２のステージを前記第１のステージに対して吸着させる際に前記第１の磁性体及び前記第２の磁性体の少なくとも一方を移動させることを特徴とする請求項２または３に記載のステージ装置。
5. 前記部材は、軟磁性体で形成されている部材であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載のステージ装置。
6. 前記第１のステージ及び前記第２のステージはそれぞれ、微動ステージ及び粗動ステージであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載のステージ装置。
7. 所定のストロークで移動可能であり、第１の磁性体を含む第１のステージと、
   前記第１のステージ上で、前記第１のステージのストロークより長いストロークで移動可能であり、前記第１の磁性体との間に磁気吸引力を発生させる第２の磁性体を含む第２のステージと、
   前記第１のステージに対して前記第２のステージを浮上させるエアベアリングと、
   前記第２のステージを前記第１のステージに対して吸着させる際に前記磁気吸引力を変化させる制御部と、
   を備えることを特徴とするステージ装置。
8. 前記第１の磁性体と前記第２の磁性体との間の前記磁気吸引力を低減させる部材であって、該部材は、前記磁気吸引力を低減させる第１の位置と、前記磁気吸引力に影響を与えない第２の位置との間で移動可能である、部材を備え、
   前記制御部は、前記第２のステージを前記第１のステージに対して吸着させる際に前記部材を前記第２の位置に移動させることを特徴とする請求項７に記載のステージ装置。
9. 前記制御部は、前記第２のステージを前記第１のステージに対して吸着させた後、前記第２のステージを前記第１のステージに対して浮上させる前に、前記部材を前記第１の位置に移動させることを特徴とする請求項８に記載のステージ装置。
10. 前記部材は、軟磁性体で形成されている部材であることを特徴とする請求項８または９に記載のステージ装置。
11. 前記制御部は、前記第２のステージを前記第１のステージに対して吸着させる際に前記第１の磁性体及び前記第２の磁性体の少なくとも一方を移動させることを特徴とする請求項７乃至１０のいずれか一項に記載のステージ装置。
12. 前記第１のステージ及び前記第２のステージはそれぞれ、微動ステージ及び粗動ステージであることを特徴とする請求項７乃至１１のいずれか一項に記載のステージ装置。
13. 原版に描画されたパターンを基板に転写するように前記基板を露光する露光装置であって、
    前記基板が載置される請求項１乃至１２のいずれか一項に記載のステージ装置を備えることを特徴とする露光装置。
14. 請求項１３に記載の露光装置を用いて前記基板を露光する工程と、
    露光された前記基板を現像する工程と、
    現像された前記基板を加工して物品を得る工程と、
    を有することを特徴とする物品の製造方法。

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