JP3621605B2 - 真空用気体軸受 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は電子ビーム露光装置あるいは半導体描画装置などに必要な構成要素である真空中で用いる気体軸受に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体基板(以降ウエーハと呼ぶ)に紫外線でパターンを露光するステッパなどの半導体製造装置では、その高度な位置精度の要求および塵埃対策から、製造装置に用いる軸受として気体軸受が活発に採用されるようになってきている。
【0003】
そのなかでも、とくにEB露光装置などのように比較的高真空が要求される装置に気体軸受を用いる場合には、その気体軸受から装置を包含する真空チャンバ内に漏れる気体の量を極力抑える工夫が必要となっている。
【0004】
図5は、従来のEB露光装置の構成の例を示す斜視図である。ここで、1は軸、17は気体軸受、41はステージ、42はウエーハ、50は電子銃鏡筒、51は真空チャンバを示している。
【0005】
従来、この種の真空チャンバ内で用いられる気体軸受の構成としては例えば図4に示すものが知られている(特開平2−212624号公報参照)。 同図において、1は軸、102はハウジング、3は多孔質パッド、113a〜113cは軸1との間に微小な間隔を形成するラビリンス隔壁、4は給気用通路、12、14a、14bはポケット、15、21、16、22、6、23は排気用通路、24、25は排気用吸引ポンプである。
【0006】
この構成において、給気用通路4を介して供給される空気は多孔質パッド3で絞られてポケット12に到達する。その後、排気用通路15および21を通り、真空チャンバ外部に排気される。
【0007】
この際、微量の空気はラビリンス隔壁113aと軸1との間のわずかな間隙を通過して次のポケット14aに到達する。ここでは排気用吸引ポンプ24によって吸引されているため、その空気は排気用通路16および22を通って強制的に排出される。
【0008】
同様に、ポケット14bに到達した空気は排気用吸引ポンプ25によって排気用通路6および23を介して吸引され、最終的に真空チャンバ内に漏れる空気の量は、ラビリンス隔壁113cと軸1との間隙を通過する極めて微量なものとなる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記の構成とすることによって真空チャンバ内に漏れる気体の量を微量にすることは可能である。ところが、例えばEB露光装置内での高精度の位置出しのためには、XYの2軸をもつステージではその荷重分散によるモーメント剛性を強化するためにも、図5に示すように軸の数は少なくとも4本以上は必要である。したがってこのために用いる気体軸受17は軸当たりで2個としても8個は用いなくてはならない。
【0010】
図6は、1本の軸上の2つの気体軸受の構成の一例を示す図である。図中、2は予備排気用通路、5は真空中に漏れる経路を示しており、他の符号は図4と共通である。
【0011】
このような構成とすると、差動排気機構をもつ一つの気体軸受から真空中に漏れる経路は各気体軸受の両側にできるため、合計で16個の真空中に漏れる経路が存在することになる。
【0012】
真空中に漏れる量が増加することによって真空チャンバ内圧力が増加する。したがって、排気ポンプの排気能力を高めないと必要な高真空を得ることはできない。高真空とするためにはコストアップを伴うことになり、装置にとっては不利な点が多い。
【0013】
さらに、排気能力を高めた差動排気機構をもつ気体軸受は気体軸受そのものが大きくなり、重量も増加することになる。
【0014】
したがって、本発明は真空中に漏れる気体の量を減少させるとともに重量の増加を抑え、さらに、コストを削減するために構造を簡略化するとともに性能を向上させることを目的とする。
【0015】
【課題を解決するための手段】
上記の課題は、一つの軸上に複数個の気体軸受を有し、該気体軸受のそれぞれの同等の圧力部の排気箇所を共通にする筒状のスリーブを有する気体軸受とすることによって解決される。
【0016】
すなわち、本発明の気体軸受においては、一つの軸上の複数個の気体軸受の同等の圧力部を筒状のスリーブによって気体軸受の外部に対して封じるために圧気流体の排気箇所を共通にするようにしている。
【0017】
また、前記スリーブは、一部がベローズになっている。すなわち、スリーブは、軸のたわみや各気体軸受への荷重の偏りによる微小な変位が吸収できるように、一部がベローズになるようにしている。
【0018】
こうすることによって本発明の気体軸受では、真空中に漏れる気体の量が減少し、重量の増加を抑え、構造を簡略化することができるとともに性能の向上が達成できる。
【0019】
【発明の実施の形態】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0020】
図2は本発明による一実施例の気体軸受の断面を示す図である。また、図1は本発明による一実施例の気体軸受のガイド機構部を示す拡大図である。
【0021】
図中、100はガイド機構部、101は気体軸受、1は軸、2は予備排気用通路、4は給気用通路、5は真空中に漏れる経路、6は主排気用通路、7はベローズ、8はOリング、9はスリーブ、113a、113b、113cはラビリンス隔壁、51は真空チャンバ、52はドライポンプ、53はロータリポンプ、54はターボ分子ポンプ、55は給気用パイプをそれぞれ示している。
【0022】
真空チャンバ51には気体軸受101を用いたガイド機構部100が入っている。また、この真空チャンバ51はターボ分子ポンプ54により高真空に排気されている。
【0023】
一方、外部に引き出された給気用パイプ55には、たとえばゲージ圧5気圧の窒素ガスが供給され、各気体軸受の給気用通路4にその圧力が付加される。この給気用通路4のノズルから窒素ガスは流れ、気体軸受は軸1よりほんのわずか浮上し、軸受作用をもつ。
【0024】
予備排気用通路2は大気圧に保たれている。必要に応じ、ここの圧力もドライポンプなどで排気を行い、減圧してもよい。
【0025】
いったん大気圧になった窒素ガスはそのとなりの主排気用通路6にわずかながら流れる。気体軸受101と軸1の隙間である真空中に漏れる経路5から真空チャンバ51への窒素ガスの流れが最小限に抑えられるように、主排気用通路6からはドライポンプ52で積極的に排気される。
【0026】
本発明では、一つの軸1上の2つの気体軸受の向かい合った真空中に漏れる経路5を共通とすることで、気体軸受101としなかった図5に示す気体軸受の場合には真空中に漏れる経路5となっていた部分を少なくとも2分の1にすることができる。
【0027】
また、この2つの気体軸受を接続して気体軸受としているスリーブ9の一部がベローズ7になっていることにより、軸1のたわみや各気体軸受への荷重の偏りによる微小な変位が吸収できる。
【0028】
さらに、スリーブ9と気体軸受との接合部に弾性体であるOリング8を挟むことにより、軸1のたわみや各気体軸受への荷重の偏りによる微小な変位が吸収できるとともに、気体軸受と図示していないウエーハを搭載するステージの組立・調整も容易になるという利点がある。
【0029】
なお、ベローズ7は必要に応じて取り付ければよい。または、ベローズ7にかわる位置ずれが吸収できる機能を付加してもよい。また、ここに示した実施例は気体軸受の方式がオリフィス2列給気型のものであるが、多孔質絞り型など他の型のものを用いてもよい。
【0030】
図3は本発明による他の実施例の気体軸受の断面を示す図である。図中の符号は図1と同じである。ここでは一つの軸上に3個の気体軸受を設置したものである。もちろん4個以上の気体軸受を設置する場合でも同様の構成とすることができる。
【0031】
3つの気体軸受を気体軸受にする構成は、基本的には図1に示すものと同じでよい。
【0032】
すなわち、気体軸受101を用いたガイド機構部100は図示していない真空チャンバ51に入っている。また、この真空チャンバ51は図示していないターボ分子ポンプ54により高真空に排気されている。
【0033】
一方、外部に引き出された図示していない給気用パイプ55には、例えばゲージ圧5気圧の窒素ガスが供給され、各気体軸受の給気用通路4にその圧力が付加される。
【0034】
この給気用通路4のノズルから窒素ガスは流れ、気体軸受101は軸1よりほんのわずか浮上し、軸受作用をもつ。
【0035】
予備排気用通路2は大気圧に保たれている。必要に応じ、ここの圧力も図示していないドライポンプ52で排気を行い、減圧してもよい。
【0036】
いったん大気圧になった窒素ガスはそのとなりの主排気用通路6にわずかながら流れる。気体軸受101と軸1の隙間である真空中に漏れる経路5から真空チャンバ51への窒素ガスの量が最小限に抑えられるように、主排気用通路6からは図示していないドライポンプ52で積極的に排気する。
【0037】
本実施例では、一つの軸1上の3つの気体軸受の向かい合った真空中に漏れる経路5を共通とすることで、気体軸受101としなかった気体軸受の場合には真空中に漏れる経路5となっていた部分を3分の1にすることができる。
【0038】
この実施例では中央部に位置する気体軸受には2つの予備排気用通路2と1つの給気用通路4を持つものを示したが、この中央部に位置する気体軸受には予備排気用通路2を設けずに1つの給気用通路4だけとしてもよく、そうすることにより構成が簡素化できるので、コストも下げることができる。
【0039】
また、これら3つの気体軸受のそれぞれの接続部であるスリーブ9の一部がベローズ7になっていることにより、軸1のたわみや各気体軸受への荷重の偏りによる微小な変位が吸収できる。
【0040】
さらに、スリーブ9と気体軸受との接合部に弾性体であるOリング8を挟むことにより、軸1のたわみや各気体軸受への荷重の偏りによる微小の変位が吸収できるとともに、気体軸受と図示していないウエーハを搭載するステージの組立・調整も容易になるという利点がある。
【0041】
なお、ベローズ7は必要に応じて取り付ければよい。または、ベローズ7にかわる位置ずれが吸収できる機能を付加してもよい。
【0042】
また、ここに示した実施例は気体軸受の方式がオリフィス2列給気型のものであるが、多孔質絞り型など他の型のものを用いてもよい。
【0043】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、比較的高真空が要求される装置に従来から用いられている気体軸受の問題点である真空チャンバ内に漏れる気体の量が2分の1もしくはそれ以下と抑えることができるとともにガイド機構部の重量の増加を抑え、構造を簡略化できるという効果がある。
【0044】
さらに、本発明の構成とすることによって軸のたわみや各気体軸受への荷重の偏りによる微小な変位が吸収できるとともに、ウエーハを搭載するステージの組立・調整も容易になり、これらのもたらす効果として半導体製造装置などの真空中で用いる気体軸受のコストを削減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による一実施例の気体軸受のガイド機構部を示す拡大図
【図2】本発明による一実施例の気体軸受の断面を示す図
【図3】本発明による他の実施例の気体軸受の断面を示す図
【図4】従来の気体軸受の断面を示す図
【図5】従来のEB露光装置の構成の例を示す斜視図
【図6】従来の気体軸受の例を示す断面図
【符号の説明】
1 軸
2 予備排気用通路
4 給気用通路
5 真空中に漏れる経路
6 主排気用通路
7 ベローズ
8 Oリング
9 スリーブ
17 気体軸受
41 ステージ
42 ウエーハ
50 電子銃鏡筒
51 真空チャンバ
52 ドライポンプ
53 ロータリポンプ
54 ターボ分子ポンプ
55 給気用パイプ
100 ガイド機構部
101 気体軸受
113a,113b,113c ラビリンス隔壁

Claims (1)

  1. 真空中で用いられる真空用気体軸受において、
    一つの軸上に分離して配置された複数個の気体軸受を有し、
    該軸上で隣り合う該気体軸受の間に、排気用通路を備え、かつ該気体軸受のそれぞれの同等の圧力部の排気箇所を共通にすると共に、一部がベローズからなる筒状のスリーブを有する真空用気体軸受。
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