KR20070039952A - 광학 부재의 지지 방법 및 지지 구조, 광학 장치, 노광장치, 그리고 디바이스 제조 방법 - Google Patents

Abstract

복수의 렌즈 중 최하단의 렌즈 (92) 와 그 하방에 배치된 평행 평판 (94) 사이에 스페이서 부재 (93) 가 배치되고, 렌즈 (92) 및 평행 평판의 일부를 흡인함으로써, 렌즈 (92) 에 평행 평판을 매달아 지지시킨다. 따라서, 스페이서 부재 (93) 를 평행 평판 (94) 보다도 크게 할 필요가 없고, 평행 평판 (94) 을 파지하여 유지하는 유지 기구를 채용하는 경우와 비교하여, 평행 평판 (94) 근방의 스페이스를 확보할 수 있다. 또, 평행 평판 (94) 이 파지되지 않기 때문에, 평행 평판 (94) 의 변형을 회피할 수 있어, 투영 유닛 (PU) 에 수차가 발생하는 것을 억제할 수 있다.

광학 장치, 노광 장치, 광학 부재, 광학 부재의 지지 방법, 광학 부재의 지지 구조

Description

광학 부재의 지지 방법 및 지지 구조, 광학 장치, 노광 장치, 그리고 디바이스 제조 방법{SUPPORT METHOD AND SUPPORT STRUCTURE FOR OPTICAL MEMBER, OPTICAL APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE PRODUCTION METHOD}

기술분야

본 발명은, 광학 부재의 지지 방법 및 지지 구조, 광학 장치, 노광 장치, 그리고 디바이스 제조 방법에 관련된 것으로, 더욱 상세하게는, 렌즈 등의 광학 부재에 별도의 광학 부재를 지지시키는 데에 바람직한 광학 부재의 지지 방법 및 지지 구조, 그 지지 구조가 그 일부에 채용된 광학 장치, 그 광학 장치를 구비하는 노광 장치, 그리고 상기 노광 장치를 사용하여 물체 상에 디바이스 패턴을 전사시키는 디바이스 제조 방법에 관한 것이다.

배경기술

종래부터, 반도체 소자 (집적 회로 등), 액정 표시 소자 등의 전자 디바이스를 제조하는 리소그래피 공정에서는, 마스크 (또는 레티클) 의 패턴 이미지를 투영 광학계를 통하여, 레지스트 (감광제) 가 도포된 웨이퍼 또는 유리 플레이트 등의 감광성의 물체 (이하,「웨이퍼」라고 부른다) 상의 복수의 쇼트 영역 각각에 전사시키는 스텝·앤드·리피트 방식의 축소 투영 노광 장치 (이른바 스테퍼) 나, 스텝·앤드·스캔 방식의 투영 노광 장치 (이른바 스캐닝·스테퍼 (스캐너라고도 불린다)) 등이 주로 사용되고 있다.

이 종류의 투영 노광 장치에서는, 집적 회로의 고집적화에 의한 패턴의 미세화에 수반하여, 보다 높은 해상력 (해상도) 이 해마다 요구되게 되고, 그 때문에 노광광의 단파장화 및 투영 광학계의 개구수 (NA) 의 증대화 (대 NA 화) 가 점차로 진행되어 왔다. 그런데, 노광광의 단파장화 및 투영 광학계의 대 NA 화는, 투영 노광 장치의 해상력을 향상시키는 반면, 초점 심도의 협소화를 초래한다. 또, 노광 파장은 앞으로 더욱 단파장화될 것이 확실하여, 이대로는 초점 심도가 지나치게 좁아져, 노광 동작시의 포커스 마진이 부족할 우려가 발생하고 있었다.

그래서, 실질적으로 노광 파장을 짧게 하고, 또한 공기 중에 비하여 초점 심도를 크게 (넓게) 하는 방법으로서, 액침법을 이용한 노광 장치가 최근 주목받게 되었다. 이 액침법을 이용한 노광 장치로서, 투영 광학계의 하단면, 즉 웨이퍼에 대향하는 투영 광학계의 종단에 위치하는 광학 부재의 하면과 웨이퍼 표면 사이에서 액침 영역 (물 또는 유기 용매 등의 액체로 채워진 국소 영역) 을 형성한 상태에서 노광을 행하는 것이 알려져 있다 (예를 들어 하기 특허 문헌 1 참조). 이 특허 문헌 1 에 기재된 노광 장치에서는, 액체 중에서의 노광광의 파장이, 공기 중의 1/n 배 (n 은 액체의 굴절률로 통상 1.2 ∼ 1.6 정도) 가 되는 것을 이용하여 해상도를 향상시킴과 함께, 그 해상도와 동일한 해상도가 액침법에 의하지 않고 얻어지는 투영 광학계 (이러한 투영 광학계의 제조가 가능하다고 하여) 에 비하여 초점 심도를 n 배로 확대하는, 즉 공기 중에 비하여 초점 심도를 실질적으로 n 배로 확대할 수 있다.

그런데, 액침 노광 장치에서는, 종단의 광학 부재의 하면이 액체 (물 등) 에 직접 접촉하기 때문에, 그 광학 부재의 하면에 대한 레지스트의 부착이나, 액체의 공급 및 회수를 반복함으로써 발생하는 액체의 부착 흔적 등에 의한 노광 정밀도의 저하를 방지하기 위하여, 종단의 광학 부재를 비교적 빈번하게 교환할 필요가 있다. 이러한 점을 감안하여, 종래의 투영 노광 장치에서는, 예를 들어 금속 등으로 이루어지고, 종단의 광학 부재를 기계적으로 파지하는 기구를 투영 광학계의 경통 하단에 형성하여, 이 기구에 의해 종단의 광학 부재를 경통에 대하여 착탈이 자유롭도록 유지하고 있었다.

그러나, 상기 기술한 바와 같은 기구를 사용하여 종단의 광학 부재를 유지하는 경우, 종단의 광학 부재의 중앙부는 광로가 되기 때문에, 필연적으로 그 광학 부재의 외연부 (外緣部) 를 파지 (유지) 하게 되므로, 그 기구는 필연적으로 그 일부가 종단의 광학 부재의 외측으로 확장되어, 종단의 광학 부재에 비하여 대형화된다. 이 때문에, 예를 들어 액침형의 노광 장치의 경우, 종단의 광학 부재 하면과 웨이퍼 표면 사이에 액침 영역을 형성하기 위한 노즐이 상기 광학 부재의 파지 기구 외측 (즉 투영 광학계의 외측) 으로 방출된다. 이것은, 액침 영역이 넓어지는 것을 의미한다. 이 액침 영역의 확대는, 웨이퍼의 주위에 웨이퍼 표면과 거의 면일한 영역이 필요한 것을 의미하고, 결과적으로 웨이퍼를 유지하는 테이블의 대형화, 나아가서는 그 위치 제어의 곤란화를 초래한다. 또, 투영 광학계에 의한 조명광의 투사 영역에 있어서의 웨이퍼 표면의 높이 위치를, 예를 들어 광학식의 센서로 검출하는 경우에는, 그 센서를 투영 광학계로부터 떨어진 위치에 배치하지 않을 수 없다. 이와 같이, 종단의 광학 부재를 기계적으로 파지하는 기구 를 채용하는 것은, 노광 장치를 대형화하게 하는 한 요인이 되고 있다.

또, 종단의 광학 부재를 기계적으로 파지하는 기구를 채용한 경우, 종단의 광학 부재의 변형을 초래하고, 나아가서는 투영 광학계의 결상 성능의 열화를 초래할 우려도 있다. 또한, 그 기계적인 기구를 구성하는 금속으로부터 금속 이온이 액체 중에 용출되어 노광 정밀도를 저하시킬 우려도 있다.

상기 기술한 레지스트 비말 (飛沫) 의 종단의 광학 부재에 대한 부착은, 액침형이 아닌 투영 노광 장치에서도 마찬가지로 발생하기 때문에, 이러한 장치에서는, 상기 기술한 종단의 광학 부재를 기계적으로 파지하는 기구를 투영 광학계의 경통 하단에 형성하여, 이 기구에 의해 종단의 광학 부재를 경통에 대하여 착탈이 자유롭도록 유지하고 있었다. 따라서, 그 종단의 광학 부재를 기계적으로 파지하는 기구를 채용하였을 때의 문제는, 액침 독자적인 문제를 제외하고, 통상적인 투영 노광 장치에도 존재하고 있다.

이러한 이유에 의해, 종단의 광학 부재의 외측으로 확장되지 않고, 그 광학 부재를 지지할 수 있는, 새로운 기술의 출현이 기대되고 있었다.

특허 문헌 1 : 국제 공개 제99/49504호 팜플렛

발명의 개시

과제를 해결하기 위한 수단

본 발명은, 상기 기술한 사정 하에 이루어진 것으로, 제 1 관점에서 보면, 제 1 광학 부재와 제 2 광학 부재 사이에 스페이서 부재를 개장 (介裝) 함과 함께, 상기 스페이서 부재가 상기 제 1 광학 부재의 주연부 (周緣部) 의 적어도 일부와 상기 제 2 광학 부재의 주연부의 적어도 일부 중 적어도 일방을 흡인함으로써, 상기 스페이서 부재를 통하여 상기 제 1 광학 부재에 상기 제 2 광학 부재를 지지시키는 광학 부재의 지지 방법이다.

본 명세서에 있어서, 광학 부재의 주연부의 적어도 일부란, 광학 부재가 광학 소자만으로 이루어지는 경우의 그 광학 소자의 주연부의 적어도 일부는 물론, 광학 부재가 광학 소자와 그 주연부에 일체적으로 장착된 별도 부재를 갖는 경우에는 그 별도 부재의 일부도 포함한 개념이다. 또, 본 명세서에 있어서, 흡인이란, 진공 흡인은 물론, 자기력에 의한 흡인이나 정전기력에 의한 흡인 등도 포함한다.

이에 따르면, 제 1 광학 부재와 제 2 광학 부재 사이에 개장되고, 제 1 광학 부재의 주연부의 적어도 일부와 제 2 광학 부재의 주연부의 적어도 일부 중 적어도 일방을 흡인하는 스페이서 부재를 통하여 제 1 광학 부재에 제 2 광학 부재가 지지된다. 이 경우, 스페이서 부재는, 예를 들어 제 1 광학 부재, 제 2 광학 부재의 상호 대향면 중 적어도 일부를 흡인하도록 할 수 있기 때문에, 그 스페이서 부재가 제 1 광학 부재 및 제 2 광학 부재의 외측으로 확장되지 않도록 할 수 있다. 따라서, 예를 들어 제 2 광학 부재가 상기 기술한 투영 광학계의 웨이퍼에 대향하는 광학 부재 (종단의 광학 부재) 인 경우, 그 외측으로 확장되지 않고, 종단의 광학 부재를 지지하는 것이 가능해진다. 또, 제 2 광학 부재 근방의 스페이스를 확보할 수 있다. 또, 진공 그 외의 흡인력을 이용한 지지 방법이므로, 제 2 광학 부재의 변형을 억제하는 것이 가능하다. 또, 흡인력을 해제함으로써, 제 2 광학 부재를 용이하게 떼어낼 수 있어 그 교환이 용이하다.

본 발명은, 제 2 관점에서 보면, 제 1 광학 부재의 주연부와 제 2 광학 부재의 주연부 사이에 개장되고, 상기 제 1 광학 부재의 주연부의 적어도 일부와 상기 제 2 광학 부재의 주연부의 적어도 일부 중 적어도 일방을 흡인하여, 상기 제 1 광학 부재에 상기 제 2 광학 부재를 지지시키는 스페이서 부재를 구비하는 광학 부재의 지지 구조이다.

이에 따르면, 제 1 광학 부재의 주연부와 제 2 광학 부재의 주연부 사이에 개장되고, 상기 제 1 광학 부재의 주연부의 적어도 일부와 상기 제 2 광학 부재의 주연부의 적어도 일부 중 적어도 일방을 흡인하여, 상기 제 1 광학 부재에 상기 제 2 광학 부재를 지지시키는 스페이서 부재를 구비한다. 이 경우, 스페이서 부재는, 예를 들어 제 1 광학 부재, 제 2 광학 부재의 상호 대향면 중 적어도 일부를 흡인하도록 할 수 있기 때문에, 그 스페이서 부재가 제 1 광학 부재 및 제 2 광학 부재의 외측으로 확장되지 않도록 할 수 있다. 따라서, 예를 들어 제 2 광학 부재가 상기 기술한 투영 광학계의 웨이퍼에 대향하는 광학 부재 (종단의 광학 부재) 인 경우, 그 외측으로 확장되지 않고, 종단의 광학 부재를 지지하는 것이 가능해진다. 또, 제 2 광학 부재 근방의 스페이스를 확보할 수 있다. 또, 진공 그 외의 흡인력을 이용한 지지 구조이므로, 제 2 광학 부재의 변형을 억제하는 것이 가능하다. 또, 흡인력을 해제함으로써, 제 2 광학 부재를 용이하게 떼어낼 수 있어 그 교환이 용이하다.

본 발명은, 제 3 관점에서 보면, 복수의 광학 부재를 포함하여 구성되는 광 학 장치로서, 상기 복수의 광학 부재 중 제 1 광학 부재의 주연부와 제 2 광학 부재의 주연부 사이에 배치되고, 상기 제 1 광학 부재의 주연부의 적어도 일부와 상기 제 2 광학 부재의 주연부의 적어도 일부 중 적어도 일방을 흡인하여, 상기 제 1 광학 부재에 상기 제 2 광학 부재를 지지시키는 스페이서 부재를 구비하는 광학 장치이다.

이에 따르면, 복수의 광학 부재 중 제 1 광학 부재와 제 2 광학 부재 사이에 개장되고, 상기 제 1 광학 부재의 주연부의 적어도 일부와 상기 제 2 광학 부재의 주연부의 적어도 일부 중 적어도 일방을 흡인하는 스페이서 부재를 통하여 제 1 광학 부재에 제 2 광학 부재가 지지된다. 이 경우, 스페이서 부재는, 예를 들어 제 1 광학 부재, 제 2 광학 부재의 상호 대향면 중 적어도 일부를 흡인하도록 할 수 있기 때문에, 그 스페이서 부재가 제 1 광학 부재 및 제 2 광학 부재의 외측으로 확장되지 않도록 할 수 있다. 따라서, 예를 들어 제 2 광학 부재를 상기 기술한 투영 광학계의 웨이퍼에 대향하는 광학 부재 (종단의 광학 부재) 로 한 경우, 그 외측으로 확장되지 않고, 종단의 광학 부재를 지지하는 것이 가능해진다. 또, 제 2 광학 부재 근방의 스페이스를 확보할 수 있다. 또, 진공 그 외의 흡인력을 이용한 지지 방법이므로, 제 2 광학 부재의 변형을 억제하는 것이 가능하다. 또, 흡인력을 해제함으로써, 제 2 광학 부재를 용이하게 떼어낼 수 있어 그 교환이 용이하다.

본 발명은, 제 4 관점에서 보면, 소정의 패턴 이미지를 물체 상에 투영하는 노광 장치로서, 상기 물체가 탑재되는 스테이지와 ; 상기 물체에 상기 패턴 이미지 를 투영하는 본 발명의 광학 장치를 구비하는 노광 장치이다.

이에 따르면, 물체에 마스크로 형성된 패턴 이미지를 투영하는 본 발명의 광학 장치를 구비하고 있기 때문에, 제 2 광학 부재의 변형이 억제됨과 함께, 그 교환을 용이하게 행할 수 있다. 따라서, 이 제 2 광학 부재의 광학 성능을 장기간에 걸쳐 양호하게 유지할 수 있고, 나아가서는 노광 정밀도를 고정밀도로 유지하는 것이 가능해진다. 또, 예를 들어 제 2 광학 부재를 투영 광학계의 웨이퍼에 대향하는 광학 부재 (종단의 광학 부재) 로 한 경우, 그 제 2 광학 부재 근방의 스페이스가 확보되어 있기 때문에, 노광시에 필요한 부재를 투영 광학계의 근방에 배치할 수 있고, 이로써 노광 장치 전체의 소형화를 도모할 수 있다.

이 경우에 있어서, 상기 제 2 광학 부재와 상기 물체 사이에 액체가 채워진 액침 영역을 형성하는 액침 장치를 추가로 구비하도록 할 수 있다. 이러한 경우에는, 제 2 광학 부재 근방의 스페이스가 확보되어 있기 때문에, 액침 장치를 제 2 광학 부재의 근방으로 접근시킬 수 있으므로, 액침 영역을 작게 할 수 있다. 이로써, 물체를 유지하는 스테이지의 소형화도 도모할 수 있기 때문에, 스테이지의 위치 제어성이 향상되고, 이 점에서도 노광 정밀도를 향상시키는 것이 가능해진다.

또, 리소그래피 공정에 있어서, 본 발명의 노광 장치를 사용하여 물체 상에 디바이스 패턴을 전사시키기 때문에, 미세 패턴을 물체 상에 양호한 정밀도로 전사시킬 수 있다. 따라서, 본 발명은 다른 관점에서 보면, 본 발명의 노광 장치를 사용하여, 물체 상에 디바이스 패턴을 전사시키는 공정을 포함한 디바이스 제조 방법이라고도 할 수 있다.

도면의 간단한 설명

도 1 은 일 실시 형태에 관련된 노광 장치를 나타내는 개략도이다.

도 2 는 투영 광학계 하단부 근방의 종단면도이다.

도 3A 는 스페이서 부재를 상방에서 본 상태를 나타내는 사시도이다.

도 3B 는 스페이서 부재를 하방에서 본 상태를 나타내는 사시도이다.

도 4 는 스페이서 부재의 종단면도이다.

도 5A 는 환상 부재의 내부 구조 및 액침 장치의 구성을 나타내는 도면이다.

도 5B 는 환상 부재의 바닥면도이다.

도 6 은 액침 장치의 작용을 설명하기 위한 도면이다.

발명을 실시하기 위한 최선의 형태

이하, 본 발명의 일 실시 형태를 도 1 ∼ 도 6 에 기초하여 설명한다.

도 1 에는, 일 실시 형태의 노광 장치 (100) 의 개략 구성이 나타나 있다. 이 노광 장치 (100) 는, 스텝·앤드·스캔 방식의 투영 노광 장치, 즉 이른바 스캐닝·스테퍼 (스캐너라고도 부른다) 이다. 이 노광 장치 (100) 는, 조명계 (10), 마스크로서의 레티클 (R) 을 유지하는 레티클 스테이지 (RST), 광학 장치로서의 투영 유닛 (PU), 스테이지로서의 웨이퍼 스테이지 (WST) 를 갖는 스테이지 장치 (50) 및 이들의 제어계 등을 구비하고 있다. 웨이퍼 스테이지 (WST) 상에는, 물체로서의 웨이퍼 (W) 가 탑재되도록 되어 있다.

상기 조명계 (10) 는, 도시를 생략한 레티클 블라인드 등 (모두 도시 생략) 을 포함하여 구성되어 있다. 이 조명계 (10) 에서는, 레티클 블라인드에서 규 정된 레티클 (R) 상에서 X 축 방향으로 연장되는 슬릿상의 조명 영역을 에너지 빔으로서의 조명광 (노광광 ; IL) 에 의해 거의 균일한 조도로 조명한다. 여기서, 조명광 (IL) 으로는, 일례로서 ArF 엑시머 레이저광 (파장 193㎚) 이 사용되고 있다.

상기 레티클 스테이지 (RST) 상에는, 회로 패턴 등이 그 패턴면 (도 1 에 있어서의 하면) 에 형성된 레티클 (R) 이, 예를 들어 진공 흡착에 의해 고정되어 있다. 레티클 스테이지 (RST) 는, 예를 들어 리니어 모터 등을 포함한 레티클 스테이지 구동부 (11) 에 의해, 조명계 (10) 의 광축 (후술하는 투영 광학계 (PL) 의 광축 (AX) 에 일치) 에 수직인 XY 평면 내에서 미소 구동 가능함과 함께, 소정의 주사 방향 (여기에서는 도 1 에 있어서의 지면 내 좌우 방향인 Y 축 방향으로 한다) 으로 지정된 주사 속도로 구동 가능하게 되어 있다.

레티클 스테이지 (RST) 의 스테이지 이동면 내의 위치 (Z 축 방향의 회전을 포함한다) 는, 레티클 레이저 간섭계 (이하,「레티클 간섭계」라고 한다 ; 16) 에 의해, 이동경 (15) 을 통하여, 예를 들어 0.5 ∼ 1㎚ 정도의 분해능으로 상시 검출된다. 또한, 이동경 (15) 은, 실제로는, Y 축 방향으로 직교하는 반사면을 갖는 Y 이동경과 X 축 방향으로 직교하는 반사면을 갖는 X 이동경이 형성되어 있다. 이 레티클 간섭계 (16) 의 계측값은, 주제어 장치 (20) 에 보내지고, 주제어 장치 (20) 에서는, 이 레티클 간섭계 (16) 의 계측값에 기초하여 레티클 스테이지 (RST) 의 X 축 방향, Y 축 방향 및 θz 방향 (Z 축 방향의 회전 방향) 의 위치를 산출함과 함께, 이 산출 결과에 기초하여 레티클 스테이지 구동부 (11) 를 제어함 으로써, 레티클 스테이지 (RST) 의 위치 (및 속도) 를 제어한다.

상기 투영 유닛 (PU) 은, 레티클 스테이지 (RST) 의 도 1 에 있어서의 하방에 배치되어 있다. 투영 유닛 (PU) 은, 경통 (40) 과, 그 경통 (40) 내에 소정의 위치 관계로 유지된 복수의 광학 소자, 및 웨이퍼에 대향하는 평행 평판 (94 ; 도 1 에서는 도시 생략, 도 2 참조) 을 포함한 투영 광학계 (PL) 를 포함하여 구성되어 있다. 본 실시 형태에서는, 투영 광학계 (PL) 로는, 예를 들어 Z 축 방향의 공통의 광축 (AX) 을 갖는 복수의 렌즈 (렌즈 엘리먼트) 및 상기 평행 평판 (94) 을 포함한 굴절 광학계가 사용되고 있다.

상기 평행 평판 (94) 은, 투영 유닛 (PU) 의 하단부 근방의 단면도인 도 2 에 나타내는 바와 같이, 투영 유닛 (PU) 의 경통 (40) 내부의 복수의 렌즈 중 최하단에 위치하는 제 1 광학 부재로서의 렌즈 (92) 의 하방에 스페이서 부재 (93) 를 통하여 지지되어 있다.

또, 도 2 에서 알 수 있는 바와 같이, 렌즈 (92) 와 평행 평판 (94) 사이에는, ArF 엑시머 레이저광 (파장 193㎚ 의 광) 이 투과하는 굴절률이 1 보다 큰 액체 (Lq2) 가 충전되도록 되어 있다.

본 실시 형태에서는, 렌즈 (92) 를 포함한 경통 (40) 내부의 복수의 렌즈와 물 (Lq2) 과 평행 평판 (94) 을 포함하여, 양측 텔레센트릭에서 소정의 투영 배율 (예를 들어 1/4 배 또는 1/5 배) 을 갖는 굴절 광학계로 이루어지는 투영 광학계 (PL) 가 실질적으로 구성되어 있다.

또, 평행 평판 (94) 과 웨이퍼 (W) 사이에는 ArF 엑시머 레이저광이 투과하 는 굴절률이 1 보다 큰 액체, 상기 기술한 액체 (Lq2) 와 동일한 액체 (Lq1) 가 공급되도록 되어 있다.

이 때문에, 조명계 (10) 로부터의 조명광 (IL) 에 의해 레티클 (R) 상의 조명 영역이 조명되면, 이 레티클 (R) 을 통과한 조명광 (IL) 에 의해, 투영 광학계 (PL ; 투영 유닛 (PU)) 를 통하여 그 조명 영역 내의 회로 패턴의 축소 이미지 (회로 패턴의 일부 축소 이미지) 가, 상기 투영 광학계 (PL) 및 액체 (Lq1) 를 통하여, 표면에 레지스트 (감광제) 가 도포된 웨이퍼 상의 상기 조명 영역에 공액인 조명광 (IL) 의 조사 영역에 형성된다.

또한, 본 실시 형태의 노광 장치 (100) 에서는, 액침법을 적용한 노광이 행해지기 때문에, 개구수 (NA) 가 실질적으로 증대됨에 수반하여 레티클측의 개구가 커진다. 이 때문에, 렌즈만으로 구성하는 굴절 광학계에 있어서는, 페츠발의 조건을 만족시키는 것이 곤란해져, 투영 광학계가 대형화되는 경향이 있다. 이러한 투영 광학계의 대형화를 피하기 위하여, 미러와 렌즈를 포함하여 구성되는 반사 굴절계 (카타디·옵트릭계) 를 사용해도 된다.

또한, 스페이서 부재 (93) 등을 포함한 투영 광학계 (PL) 의 하단부 근방의 구성이나, 액체 (Lq1, Lq2) 의 공급 등을 행하는 액침 장치의 구성 등에 대해서는, 이후에 상세히 기술한다.

도 1 로 돌아와서, 상기 스테이지 장치 (50) 는, 프레임 캐스터 (FC), 그 프레임 캐스터 (FC) 상에 도시를 생략한 방진 기구를 통하여 형성된 베이스반 (12), 그 베이스반 (12) 의 상면의 상방에 배치된 웨이퍼 스테이지 (WST), 및 그 웨이퍼 스테이지 (WST) 를 구동하는 스테이지 구동부 (124) 등을 구비하고 있다.

상기 베이스반 (12) 은, 정반이라고도 불리는 판상 부재로 이루어지고, 그 베이스반 (12) 의 상면은 평탄도가 매우 높게 마무리되어, 웨이퍼 스테이지 (WST) 의 이동시의 가이드면으로 되어 있다.

상기 웨이퍼 스테이지 (WST) 는, 도 1 에 나타내는 바와 같이, 베이스반 (12) 상에 배치되고, 리니어 모터 등에 의해 2 차원 면내를 이동 가능한 웨이퍼 스테이지 본체 (28) 와, 그 웨이퍼 스테이지 본체 (28) 상에 도시를 생략한 Z·틸트 구동 기구를 통하여 탑재된 웨이퍼 테이블 (WTB) 을 구비하고 있다. Z·틸트 구동 기구는, 실제로는, 웨이퍼 스테이지 본체 (28) 상에서 웨이퍼 테이블 (WTB) 을 3 점에서 지지하는 3 개의 액츄에이터 (예를 들어 보이스 코일 모터 또는 EI 코어) 등을 포함하여 구성되고, 웨이퍼 테이블 (WTB) 을 Z 축 방향, θx 방향 (X 축 방향의 회전 방향), θy 방향 (Y 축 방향의 회전 방향) 의 3 자유도 방향으로 미소 구동시킨다.

상기 웨이퍼 테이블 (WTB) 상에는, 웨이퍼 (W) 를 유지하는 웨이퍼 홀더 (70) 가 형성되어 있다. 웨이퍼 홀더 (70) 는, 판상의 본체부와, 그 본체부의 상면에 고정되어 그 중앙에 웨이퍼 (W) 의 직경보다 2㎜ 정도 직경이 큰 원형 개구가 형성된 보조 플레이트를 구비하고 있다. 이 보조 플레이트의 원형 개구 내부의 본체부의 영역에는, 다수의 핀이 배치되어 있고, 그 다수의 핀에 의해 웨이퍼 (W) 가 지지된 상태에서 진공 흡착되고 있다. 이 경우, 웨이퍼 (W) 가 진공 흡착된 상태에서는, 그 웨이퍼 (W) 표면과 보조 플레이트의 표면의 높이가 거의 동일 한 높이로 되도록 되어 있다.

또, 웨이퍼 테이블 (WTB) 의 위치는, 그 상면 단부에 형성된 이동경 (17) 을 통하여 외부에 배치된 간섭계 (18) 에 의해, 0.5 ∼ 1㎚ 정도의 분해능으로 계측되어 있다. 여기서, 실제로는, 웨이퍼 테이블 (WTB) 상면에는, X 축 방향의 일단 (-X 측단) 에 X 축에 직교하는 반사면을 갖는 X 이동경이 Y 축 방향으로 연장 형성되고, Y 축 방향의 일단 (+Y 측단) 에 Y 축에 직교하는 반사면을 갖는 Y 이동경이 X 축 방향으로 연장 형성되어 있다. 이들 이동경의 각 반사면에는, X 축 간섭계, Y 축 간섭계로부터의 간섭계 빔 (측장 빔) 이 각각 투사되고, 각 간섭계에서는 각각의 반사광을 수광함으로써, 각 반사면의 기준 위치 (일반적으로는 투영 유닛 (PU) 측면이나, 도시를 생략한 오프 액시스·얼라인먼트계의 측면에 고정 미러를 배치하고, 거기를 기준면으로 한다) 로부터의 계측 방향의 변위를 계측한다. Y 축 간섭계는, 투영 광학계 (PL) 의 투영 중심 (광축 AX) 및 얼라인먼트계의 검출 중심을 잇는 Y 축으로 평행한 측장축을 갖고 있고, X 축 간섭계는, Y 축 간섭계의 측장축과 투영 광학계 (PL) 의 투영 중심에서 수직으로 교차하는 측장축을 갖고 있다.

상기 Y 축 간섭계는, 적어도 3 개의 광축을 갖는 다축 간섭계이며, 각 광축의 출력값은 독립적으로 계측할 수 있게 되어 있다. 이 Y 축 간섭계의 출력값 (계측값) 은, 주제어 장치 (20) 에 공급되고, 주제어 장치 (20) 에서는 Y 축 간섭계로부터의 출력값에 기초하여, 웨이퍼 테이블 (WTB) 의 Y 축 방향의 위치 (Y 위치) 뿐만 아니라, X 축 방향의 회전량 (피칭량) 및 Z 축 회전의 회전량 (요잉량) 도 계측할 수 있게 되어 있다. 또, X 축 간섭계는, 적어도 2 개의 광축을 갖는 다축 간섭계이며, 각 광축의 출력값은 독립적으로 계측할 수 있게 되어 있다. 이 X 축 간섭계의 출력값 (계측값) 은, 주제어 장치 (20) 에 공급되고, 주제어 장치 (20) 에서는 X 축 간섭계로부터의 출력값에 기초하여, 웨이퍼 테이블 (WTB) 의 X 축 방향의 위치 (X 위치) 뿐만 아니라, Y 축 방향의 회전량 (롤링량) 도 계측할 수 있게 되어 있다.

상기 기술한 바와 같이, 웨이퍼 테이블 (WTB) 상에는, 실제로는, X 축 이동경, Y 축 이동경이 형성되고, 이에 대응하여 X 축 간섭계, Y 축 간섭계가 형성되어 있지만, 도 1 에서는 이들이 대표적으로 이동경 (17), 간섭계 (18) 로서 나타나 있다. 또한, 예를 들어 웨이퍼 테이블 (WTB) 의 단면을 경면 가공하여 반사면 (이동경 (17) 의 반사면에 상당) 을 형성해도 된다.

다음으로 투영 유닛 (PU) 의 하단부 근방의 구성에 대하여 설명한다.

상기 기술한 경통 (40) 내부의 최하단의 렌즈 (92) 는, 석영 유리, 불소 도핑 석영, 또는 불화물 결정 (예를 들어 형석, 불화리튬 등) 으로 이루어지고, 그 하단면이 평면으로 되고, 상측이 구면 (또는 비구면) 으로 된 평볼록 렌즈이다. 이 렌즈 (92) 의 외연 근방에는, 전체 둘레에 걸쳐 경사면이 형성되어 있다. 그리고, 이 경사면이, 도 2 의 단면도에 나타내는 바와 같이, 경통 (40) 의 하단부의 테이퍼부에 하방으로부터 지지되는 상태로, 렌즈 (92) 가 고정되어 있다. 경통 (40) 의 하단에는, 링상의 시일 부재 (43) 가 형성되어 있다.

상기 스페이서 부재 (93) 는, 경사 상방에서 본 사시도인 도 3A 및 경사 하 방에서 본 사시도인 도 3B 에 나타내는 바와 같이, 단면 대략 사다리꼴상 (도 2 참조) 으로 원환상의 형상을 갖고, 예를 들어 렌즈 재료인 석영 유리 등의 열팽창률에 가까운 비금속 (예를 들어 석영 유리나 저열팽창 세라믹스 등) 으로 이루어진다. 이 스페이서 부재 (93) 의 상단면에는 전체 둘레에 걸쳐 오목홈으로 이루어지는 제 1 홈 (93a) 이 형성되고, 그 하단면에는 제 1 홈 (93a) 과 동일한 제 2 홈 (93b) 이 형성되어 있다.

스페이서 부재 (93) 의 +Y 측의 단부 근방의 상기 제 1 홈 (93a) 의 하방에는, 도 4 의 단면도에 나타내는 바와 같이, 단면 L 자상의 통기로 (193b) 가 형성되고, 그 통기로 (193b) 의 일단이 제 1 홈 (93a) 의 내부 바닥면에 개구되어 있다. 통기로 (193b) 의 타단은, 스페이서 부재 (93) 의 외주면에 개구되어 있다. 이 통기로 (193b) 의 타단에는, 진공 흡인관 (61b) 의 일단이 접속되어 있다. 진공 흡인관 (61b) 의 타단은, 진공 흡인 장치 (200) 에 접속되어 있다.

스페이서 부재 (93) 의 -Y 측의 단부 근방의 상기 제 1 홈 (93a) 의 하방에도, 상기 기술한 통기로 (193b) 와 동일한 통기로 (193a) 가 좌우 대칭으로 형성되고, 이 통기로 (193a) 의 일단이 제 1 홈 (93a) 의 내부 바닥면에 개구되어 있다. 이 통기로 (193a) 의 타단측의 개구단에는, 진공 흡인관 (61a) 의 일단이 접속되고, 이 진공 흡인관 (61a) 의 타단은, 상기 기술한 진공 흡인 장치 (200) 에 접속되어 있다 (도 4 참조).

스페이서 부재 (93) 의 +X 측, -X 측의 단부 근방의 상기 제 2 홈 (93b) 의 상방에는, 상기 기술한 통기로 (193b) 와 동일한 L 자상의 통기로 (193c, 193d) 가 각각 형성되고, 이들 통기로 (193c, 193d) 의 일단이 도 3B 에 나타내는 바와 같이 상기 제 2 홈 (93b) 의 내부 바닥면에 각각 개구되어 있다. 이들 통기로 (193c, 193d) 각각의 타단에는 진공 흡인관 (61c, 61d) 의 일단이 접속되고, 진공 흡인관 (61c, 61d) 의 타단은 상기 기술한 진공 흡인 장치 (200) 에 접속되어 있다.

본 실시 형태에서는, 진공 흡인관 (61a ∼ 61d) 및 진공 흡인 장치 (200) 에 의해, 스페이서 부재 (93) 에 형성된 통기로 (193a ∼ 193d) 및 제 1, 제 2 홈 (93a, 93b) 내에 부압을 발생시키는 것이 가능한 진공 흡인 기구가 구성되어 있다.

상기 스페이서 부재 (93) 에는, 도 3A 및 도 4 에 나타내는 바와 같이, 그 외주면의 외측에서 내주면의 내측에 이르는 반경 방향의 유로 (293b) 가 형성되어 있다. 이 유로 (293b) 의 일단에는, 액체 공급관 (62) 의 일단이 접속되어 있고, 그 액체 공급관 (62) 의 타단측은, 액체 공급 장치 (88 ; 도 4 에서는 도시 생략, 도 5A 참조) 에 접속되어 있다. 이 액체 공급 장치 (88) 는, 액체의 탱크, 가압 펌프, 온도 제어 장치를 포함하여 구성되어 있다. 상기 온도 제어 장치는, 액체 탱크 내의 액체의 온도를, 노광 장치 본체가 수납되어 있는 챔버 (도시 생략) 내의 온도와 동일한 정도의 온도로 조정한다. 또, 공급관 (62) 의 일부에는 액체의 공급·정지를 제어하기 위한 밸브 (51a) 가 형성되어 있다. 또한, 이 밸브 (51a) 로는, 예를 들어 액체의 공급·정지뿐만 아니라, 유량의 조정도 가능해지도록, 유량 제어 밸브를 사용하는 것이 바람직하다. 또, 밸브 (51a) 는 액체 공급 장치 (88) 의 내부에 형성하도록 해도 된다.

한편, 도 3A 에 나타내는 바와 같이, 스페이서 부재 (93) 의 유로 (293b) 에 대하여 반대측의 위치 (점대칭인 위치) 에는, 유로 (293a) 가 형성되어 있다. 이 경우, 도 3A 로부터 알 수 있는 바와 같이, 유로 (293a) 의 개구단은, 상기 기술한 유로 (293b) 의 개구단보다도 중력 방향에 관하여 높은 위치에 형성되어 있다. 이 유로 (293a) 의 일단에는, 액체 회수관 (63) 이 접속되어 있고, 그 액체 회수관 (63) 의 타단측은, 액체의 탱크 및 흡인 펌프를 포함하여 구성되는 액체 회수 장치 (99 ; 도 3A 에서는 도시 생략, 도 5A 참조) 에 접속되어 있다. 액체 회수관 (63) 의 일부에는, 액체의 회수·정지를 제어하기 위한 밸브 (51b) 가 형성되어 있다. 이 밸브 (51b) 로는, 상기 기술한 액체 공급 장치측의 밸브에 대응하여 유량 제어 밸브를 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 밸브 (51b) 는 액체 회수 장치 (99) 내부에 형성하도록 해도 된다.

여기서, 상기 액체로는, ArF 엑시머 레이저광 (파장 193㎚ 의 광) 이 투과하는 초순수 (이하, 특별히 필요한 경우를 제외하고, 단순히「물」이라고 기술한다) 를 사용하는 것으로 한다. 초순수는, 반도체 제조 공장 등에서 용이하게 대량으로 입수할 수 있음과 함께, 웨이퍼 상의 포토레지스트나 광학 렌즈 등에 대한 악영향이 없는 이점이 있다.

상기 평행 평판 (94) 은, 도 3A 에 나타내는 바와 같이, 그 상면과 하면이 평행한 평면으로 된 렌즈 (92) 와 마찬가지로, 형석, 불화리튬 등의 불화물 결정으로 이루어지는, 전체적으로 원판상의 부재이다. 이 평행 평판 (94) 의 하면의 외연부에는, 둘레 방향 전체에 걸쳐 경사부 (테이퍼부) 가 형성되어 있다 (도 2 등 참조).

본 실시 형태에서는, 상기 기술한 바와 같이, 스페이서 부재 (93) 에 진공 흡인관 (61a ∼ 61d) 을 통하여 진공 흡인 장치 (200) 가 접속되어 있기 때문에, 도 2 에 나타내는 바와 같이, 렌즈 (92) 의 하면 (평면) 과 평행 평판 (94) 의 상면 (평면) 사이에 스페이서 부재 (93) 를 개장시킨 상태로 하여, 진공 흡인 장치 (200) 를 작동시킴으로써, 스페이서 부재 (93) 의 통기로 (193a ∼ 193d) 내부 및 제 1, 제 2 홈 (93a, 93b) 내부에 부압을 발생시켜, 스페이서 부재 (93) 에 렌즈 (92) 의 주연부 및 평행 평판 (94) 의 주연부를 진공 흡인시킬 수 있고, 이와 같이 하여, 평행 평판 (94) 이 스페이서 부재 (93) 를 통하여 렌즈 (92) 에 지지되어 있다.

또, 스페이서 부재 (93) 는 원환상의 부재이기 때문에, 렌즈 (92) 와 스페이서 부재 (93) 와 평행 평판 (94) 으로 둘러싸이는 공간은, 폐공간 (21) 이 된다 (도 2 참조). 이 폐공간 (21) 내에 액체 (물) 가 유지되기 때문에, 이하에서는 이 폐공간 (21) 을 액체실 (21) 이라고 부른다. 본 실시 형태에서는, 이 액체실 (21) 내에, 다음과 같이 하여 액체 (물 ; Lq2) 가 유지되고 있다.

즉, 주제어 장치 (20 ; 도 1 참조) 가, 액체 공급관 (62) 에 접속된 밸브 (51a) 를 소정 개도로 열고, 유로 (293b) 를 통하여 상기 액체실 (21) 내로의 물의 공급을 개시한다. 그리고, 액체실 (21) 내가 물로 채워짐에 앞서, 주제어 장치 (20) 는, 액체 회수관 (63) 에 접속된 밸브 (51b) 를 소정 개도로 열고, 유로 (293a) 를 통하여 액체실 (21) 로부터 액체 회수 장치 (99 ; 액체의 탱크) 의 내부 로의 물의 회수를 개시한다 (도 5 참조). 이 때, 주제어 장치 (20) 는, 액체실 (21) 내로 공급되는 물의 양과, 액체실 (21) 로부터 회수되는 물의 양이 항상 동일해지도록 한다. 따라서, 액체실 (21) 내에, 일정량의 물 (Lq2 ; 도 2 참조) 이 유지된다. 이 경우, 액체실 (21) 내에서 유지된 물 (Lq2) 은, 항상 교체되고 있다. 또, 본 실시 형태에서는, 물이 액체실 (21) 의 하단부 근방으로부터 공급되고, 액체실 (21) 의 상단부 근방으로부터 회수되기 때문에, 액체실 (21) 내의 공기가 물의 회수시에 동시에 회수되므로, 액체실 (21) 내를 물로 확실하게 채우는 것이 가능하게 되어 있다.

상기 평행 평판 (94) 의 주위에는, 도 2 에 나타내는 바와 같이, 그 평행 평판 (94) 및 스페이서 부재 (93) 를 둘러싸는 상태로 환상 부재 (95) 가 형성되어 있다. 이것을 더욱 상세히 기술하면, 환상 부재 (95) 는, 평행 평판 (94) 의 상기 기술한 테이퍼부와 웨이퍼 (W) 사이에 그 선단부 (내주측의 단부) 가 삽입된 상태에서, 또한 그 바닥면이 XY 평면에 평행이 되는 상태에서, 도시를 생략한 지지 부재를 통하여, 예를 들어 투영 유닛 (PU) 을 유지하는 유지 부재에 매달아 지지되어 있다. 이로써, 투영 광학계 (PL) 와 환상 부재 (95) 의 투영 광학계 (PL) 의 광축 (AX) 방향 (Z 축 방향) 에 관한 위치 관계가 일정하게 유지되고 있다.

또, 환상 부재 (95) 는, 도 2 의 상태에서, 스페이서 부재 (93) 의 외주연 근방에 소정의 클리어런스를 통하여 하방으로부터 끼워 맞춤 (걸어 맞춤) 하는 단부가 그 내주측의 상단면 근방에 형성되어 있다. 이 환상 부재 (95) 의 단부 상면에는, 스페이서 부재 (93) 의 하면에 압접하는 환상의 시일 부재 (42) 가 형성 되어 있다. 또, 이 환상 부재 (95) 상면의 단부의 내주측에는, 평행 평판 (94) 의 상기 기술한 테이퍼부에 하방으로부터 압접하는 환상의 시일 부재 (41) 가 형성되어 있다. 이 경우, 스페이서 부재 (93) 에 의한 진공 흡인력이 해제된 경우, 환상 부재 (95) 에 의해, 시일 부재 (42, 41) 를 각각 개재하여 스페이서 부재 (93), 평행 평판 (94) 이 하방으로부터 지지되도록 되어 있다.

환상 부재 (95) 의 바닥면에는, 도 2 에서는 생략되어 있지만, 도 5A 와, 도 5B 의 환상 부재 (95) 의 바닥면도를 종합하면 알 수 있는 바와 같이, 원환상의 급수 홈 (70) 및 원환상의 배수 홈 (72) 이, 내측에서 외측으로 순서대로, 또한 동심원상으로 형성되어 있다. 또한, 도 5A, 도 5B 에 있어서는, 2 개의 홈 (70, 72) 내, 급수 홈 (70) 의 홈폭이 배수 홈 (72) 의 홈폭보다 크게 설정되어 있다.

급수 홈 (70) 의 내부 바닥면 (도 5A 의 내부 상면) 에는, 상하 방향으로 관통하는 관통 구멍 (78) 이, 거의 등간격으로 복수 형성되고, 각 관통 구멍 (78) 에 급수관 (80) 의 일단이 각각 상방으로부터 접속되어 있다. 각 급수관 (80) 의 타단은, 밸브 (86a) 를 각각 개재하여, 상기 기술한 액체 공급 장치 (88) 에 그 일단이 접속된 공급관로 (90) 의 타단에 각각 접속되어 있다. 이 경우, 대응하는 밸브 (86a) 가 열린 상태일 때, 액체 공급 장치 (88) 가 작동되면, 예를 들어 노광 장치 (100 ; 의 본체) 가 수납되어 있는 챔버 (도시 생략) 내의 온도와 동일한 정도의 온도로 온도 제어 장치에 의해 온도 조절된 액침용의 액체가, 공급관로 (90), 급수관 (80) 및 관통 구멍 (78) 을 순서대로 통하여, 환상 부재 (95) 의 급수 홈 (70) 내부에 공급된다. 또한, 이하에서는, 각 급수관 (80) 에 형성된 밸브 (86a) 모두를, 밸브군 (86a) 이라고도 기술한다.

상기 액침용의 액체로는, 상기 기술한 액체 (Lq2) 와 마찬가지로, 여기에서는, ArF 엑시머 레이저광 (193.3㎚ 의 광) 이 투과하는 초순수를 사용하는 것으로 한다. 물의 굴절률 (n) 은, 거의 1.44 이다. 이 물 중에서는, 조명광 (IL) 의 파장은, 193㎚×1/n=약 134㎚ 로 단파장화된다. 또, 초순수는 환경에 대한 악영향이 없음과 함께, 불순물의 함유량이 매우 낮기 때문에, 웨이퍼의 표면, 및 평행 평판 (94) 의 표면을 세정하는 작용도 기대할 수 있다.

상기 배수 홈 (72) 의 내부 바닥면 (도 5A 의 내부 상면) 에는, 상하 방향으로 관통하는 관통 구멍 (74) 이, 거의 등간격으로 복수 형성되고, 각 관통 구멍 (74) 에 배수관 (76) 의 일단이 각각 상방으로부터 접속되어 있다. 상기 각 배수관 (76) 의 타단은, 밸브 (86b) 를 각각 개재하여, 상기 기술한 액체 회수 장치 (99) 에 그 일단이 접속된 배수로 (98) 의 타단에 각각 접속되어 있다. 이 경우, 대응하는 밸브 (86b) 가 열린 상태일 때, 환상 부재 (95) 의 하면과 웨이퍼 (W) 표면 사이의, 배수 홈 (72) 근방에 존재하는 물이 배수관 (76) 을 통하여 액체 회수 장치 (99) 에 의해 회수된다. 또한, 이하에서는, 각 배수관 (76) 에 형성된 밸브 (86b) 모두를, 밸브군 (86b) 이라고도 기술하는 것으로 한다.

여기서, 밸브군 (86a, 86b) 의 각 밸브로는, 상기 기술한 바와 마찬가지로, 개폐 외에, 그 개도의 조정이 가능한 조정 밸브 (예를 들어 유량 제어 밸브) 등이 사용되고 있다.

다음으로, 액침용의 물의 급배 동작에 대하여 설명한다. 여기에서는, 웨 이퍼 스테이지 (WST) 는, 정지되어 있는 것으로 한다.

먼저, 주제어 장치 (20) 는, 밸브군 (86a) 의 각 밸브를 소정의 개도로 연 상태에서, 액체 공급 장치 (88) 로부터 환상 부재 (95) 에 대하여 급수를 개시함과 함께, 밸브군 (86b) 의 각 밸브를 소정의 개도로 연 상태에서, 액체 회수 장치 (99) 의 작동을 개시시킨다. 이로써, 액체 공급 장치 (88) 로부터 급수로 (90) 및 각 급수관 (80) 을 통하여 환상 부재 (95) 의 급수 홈 (70) 내부에 소정 압력 (양압) 의 물이 이송되고, 이 이송된 물의 일부가 환상 부재 (95) 의 급수 홈 (70) 내부 및 환상 부재 (95) 의 하면과 웨이퍼 (W) 사이의 공간, 그리고 평행 평판 (94) 과 웨이퍼 (W) 사이의 공간에 널리 퍼진 후, 배수 홈 (72), 각 관통 구멍 (74) 을 통하여 액체 회수 장치 (99) 에 회수된다.

이 때, 주제어 장치 (20) 는, 환상 부재 (95) 에 대한 급수량이, 배수 홈 (72) 으로부터 배수되는 양과 거의 동일해지도록, 밸브군 (86a, 86b) 의 각 밸브의 개도, 액체 공급 장치 (88) 로부터 공급되는 물의 압력, 액체 회수 장치 (99) 가 각 배수관 (76) 의 내부에 발생시키는 부압 등을 설정하고 있다. 이와 같이 하여, 상시 일정량의 물이 평행 평판 (94) 하방으로 이송되고, 이 이송된 물이 액체 회수 장치 (99) 에 의해 상시 회수되고 있다.

또한, 환상 부재 (95) 의 바닥면의 급수 홈 (70) 내측에 별도의 배수 홈을 형성하고, 이 별도의 배수 홈의 내부를 도시를 생략한 관로를 통하여 대기에 해방시켜도 된다. 이 경우에는, 주제어 장치 (20) 는, 환상 부재 (95) 에 대한 급수량이, 배수 홈 (72) 으로부터 배수되는 양보다 약간 많아지도록, 밸브군 (86a, 86b) 의 각 밸브의 개도, 액체 공급 장치 (88) 로부터 공급되는 물의 압력, 액체 회수 장치 (99) 가 각 배수관 (76) 의 내부에 발생시키는 부압 등을 설정할 필요가 있다. 이와 같이 하면, 환상 부재 (95) 에 공급되어, 배수 홈 (72) 으로부터 배수되지 않은 나머지의 물은, 환상 부재 (95) 의 하면 및 평행 평판 (94) 과 웨이퍼 (W) 사이의 공간을 채운 후, 별도의 배수 홈 및 관로를 통하여 외부로 배수된다. 이 경우, 별도의 배수 홈은, 대기 개방된 수동적인 배수 홈으로 되어 있기 때문에, 평행 평판 (94) 에는 대부분 수압이 가해지지 않아, 스트레스 (응력) 가 발생하지 않게 된다.

어쨌든, 웨이퍼 스테이지 (WST) 가, 소정 방향, 예를 들어 도 6 중에 화살표 (C) 로 나타내는 방향으로 이동할 때에는, 평행 평판 (94) 의 하방에 동일 도면에 화살표 (F) 로 나타내는 바와 같은 물의 흐름이 발생한다. 이 화살표 (F) 로 나타내는 흐름은, 비압축성의 점성 유체이고, 또한 뉴턴의 점성 법칙이 성립되는 뉴턴 유체인 물이, 웨이퍼 (W) 표면과 평행 평판 (94) 하면의 상대 변위에 의해 전단력을 받는 것에 기인하여 발생하는, 층류 쿠에트 (Couette) 흐름이다.

본 실시 형태의 노광 장치 (100) 에서는, 웨이퍼 스테이지 (WST) 및 웨이퍼 (W) 가 구동될 때, 예를 들어 웨이퍼 스테이지 (WST ; 및 웨이퍼 (W)) 의 쇼트간 스테핑시 및 스캔 노광시 등에는, 그 구동 방향에 따른 방향의 층류 쿠에트 흐름이 발생하기 때문에, 평행 평판 (94) 하방의 물이 교체되도록 되어 있다.

상기 기술한 바와 같이 하여 구성된 본 실시 형태의 노광 장치 (100) 에서는, 통상적인 스캐닝·스테퍼와 마찬가지로, 도시를 생략한 레티클 얼라인먼트계, 얼라인먼트 검출계 등을 사용한 레티클 얼라인먼트, 얼라인먼트 검출계의 베이스라인 계측, 그리고 EGA (인헨스드·글로벌·얼라인먼트) 등의 웨이퍼 얼라인먼트 등의 소정의 준비 작업이 행해진 후, 스텝·앤드·스캔 방식의 노광 동작이 행해지고, 웨이퍼 (W) 상의 각 쇼트 영역에 레티클 (R) 의 패턴이 전사된다. 또한, 이들 각 동작은, 상기 기술한 바와 같이 하여 액체실 (21) 내에 액체 (Lq2) 를 유지하고, 또한 평행 평판 (94) 과 웨이퍼 (W) 사이에 액체 (Lq1) 를 유지한 상태에서, 레티클 얼라인먼트 및 노광 동작이 행해지는 점을 제외하고, 통상적인 스캐닝·스테퍼의 경우와 특별히 상이한 점은 없기 때문에, 상세한 설명에 대해서는 생략한다.

지금까지의 설명으로부터 알 수 있는 바와 같이, 본 실시 형태에서는, 환상 부재 (95) 에 형성된 각 관통 구멍 (78) 및 급수 홈 (70) 이 액체 공급 노즐의 기능을 하고, 환상 부재 (95) 에 형성된 각 관통 구멍 (74) 및 배수 홈 (72) 이 액체 회수 노즐로서의 기능을 하고 있다. 그러나, 본 실시 형태의 구성은, 일례에 불과하고, 예를 들어 국제 공개 제99/49504호 팜플렛에 개시된 바와 같은 공급 노즐 및 회수 노즐을, 환상 부재 (95) 대신에 형성하도록 해도 된다.

이상 설명한 바와 같이, 본 실시 형태에 관련된 투영 유닛 (PU) 에 의하면, 그 투영 유닛 (PU) 을 구성하는 평행 평판 (94) 의 지지 구조로서, 본 발명의 지지 구조가 채용되고 있다. 즉, 투영 광학계 (PL) 를 구성하는 복수의 렌즈 중 경통 (40) 내부의 최하단에 위치하는 렌즈 (92) 와 평행 평판 (94) 사이에 개장되고, 렌즈 (92) 의 주연부와 평행 평판 (94) 의 주연부를 흡인하는 스페이서 부재 (93) 를 통하여 렌즈 (92) 에 평행 평판 (94) 이 지지된다. 이 경우, 스페이서 부재 (93) 는, 렌즈 (92), 평행 평판 (94) 의 상호 대향면을 각각 흡인하게 되어 있기 때문에, 그 스페이서 부재 (93) 가 렌즈 (92) 및 평행 평판 (94) 의 외측으로 확장되지 않도록 되어 있다. 따라서, 평행 평판 (94) 을, 그 외측으로 확장시키지 않고, 스페이서 부재 (93) 에 의해 지지할 수 있게 되어 있다. 이로써, 평행 평판 (94) 근방의 스페이스를 확보할 수 있다.

또, 스페이서 부재 (93) 에 의한 평행 평판 (94) 의 지지 방법은, 진공 흡인력을 이용한 지지 방법이기 때문에, 평행 평판 (94) 의 변형을 억제하는 것이 가능하다. 또, 흡인력을 해제함으로써, 평행 평판 (94) 을 용이하게 떼어낼 수 있어, 그 교환이 용이하기 때문에, 비교적 빈번하게 평행 평판 (94) 을 교환할 수 있다.

따라서, 본 실시 형태의 노광 장치 (100) 에 의하면, 상기 기술한 바와 같은 이유에 의해, 결상 성능이 양호하게 유지된 투영 광학계 (PL) 를 사용하여 웨이퍼 (W) 상에 레티클 (R) 의 패턴이 전사된다.

또, 평행 평판 (94) 근방의 스페이스가 확보되어 있기 때문에, 그 스페이스에 노광을 위하여 필요한 부재, 예를 들어 상기 기술한 환상 부재 (95) 등의 노즐 형성 부재를 배치할 수 있고, 이로써, 액침 영역을 작게 할 수 있다. 이로써, 웨이퍼 테이블 (WTB) 의 소형화를 도모할 수 있어, 웨이퍼 테이블 (WTB) 의 위치 제어성이 향상되고, 이 점에 있어서도 노광 정밀도를 향상시키는 것이 가능해진다.

또한, 본 실시 형태의 노광 장치에 의하면, 렌즈 (92) 와 평행 평판 (94) 사 이에 형성된 액체실 (21) 에, 물 (액체) 이 공급된 상태의 투영 광학계 (PL) 를 통하여, 평행 평판 (94) 과 웨이퍼 (W) 사이에 액침 영역을 형성한 상태로 노광이 행해지기 때문에, 고해상도 또한 공기 중과 비교하여 대초점 심도 (NA>1) 의 노광을 행하는 것이 가능해져, 레티클 (R) 의 패턴을 양호한 정밀도로 웨이퍼 상에 전사시킬 수 있고, 예를 들어 디바이스 룰로서 70 ∼ 100㎚ 정도의 미세 패턴의 전사를 실현할 수 있다.

또, 본 실시 형태에서는, 투영 광학계 (PL) 의 가장 이미지면측의 광학 소자가, 평행 평판 (94) 으로 되어 있기 때문에, 교환 전후의 위치 결정이 간단함과 함께, 교환 전후에 있어서의 결상 성능의 변화가 거의 발생하지 않는다. 따라서, 이 점에 있어서도, 투영 광학계 (PL) 의 양호한 결상 성능을 유지할 수 있다.

또한, 상기 실시 형태에 있어서, 상기 기술한 급수 홈 (70) 및 배수 홈 (72) 을 격벽으로 나누어, 복수의 셀을 형성해도 된다. 이와 같이 하면, 웨이퍼의 에지 부분에 환상 부재 (95) 가 걸렸을 때에, 에지 부분에 대응하는 셀의 압력 변화가 발생하는 경우라도, 그 압력 변화의 영향이 그 외의 셀에 미치지 않게 할 수 있다.

또한, 상기 실시 형태에서는, 환상 부재 (95) 에 의해 시일 부재 (42, 41) 를 통하여 평행 평판 (94) 을 하방으로부터 지지하는 것으로 하였으나, 반드시 이와 같이 하지 않아도 된다.

또한, 상기 실시 형태에서는, 본 발명이 액침 노광 장치에 채용된 경우에 대하여 설명하였으나, 이에 한정하지 않고, 통상적인 노광 장치에 채용할 수도 있다. 이 경우, 평행 평판 (94) 에 의해, 웨이퍼 (W) 표면에 도포된 레지스트가 비산된 경우에, 렌즈 (92) 에 부착되는 것을 방지할 수 있다.

또한, 상기 실시 형태에서는, 렌즈 (92) 의 하측에 배치되는 광학 부재로서 평행 평판 (94) 을 채용하였으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니고, 평행 평판 (94) 대신에 렌즈를 채용해도 된다. 이 경우, 렌즈의 상면의 주연부 근방을 평면으로 가공하여, 그 평면을 진공 흡인하도록 해도 되고, 렌즈에 유지 부재 (플랜지) 를 형성하여, 그 플랜지 부분을 진공 흡인해도 된다.

또한, 상기 실시 형태에서는, 스페이서 부재 (93) 를 환상으로 하는 경우에 대하여 설명하였으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 스페이서 부재 (93) 는, 단체 (單體) 인 경우에 한정하지 않고, 예를 들어 3 개의 스페이서 부재를 광학 부재의 주연부에 대하여 소정 거리를 두고 배치하여, 평행 평판 (94) 을 3 점에서 매달아 지지하도록 해도 된다.

또한, 상기 실시 형태와 같이 스페이서 부재 (93) 와 렌즈 (92) 사이, 및 스페이서 부재 (93) 와 평행 평판 (94) 사이의 양방에, 진공 흡인력을 작용시키는 경우에 한정하지 않고, 어느 일방, 예를 들어 평행 평판 (94) 에만 진공 흡인력을 작용시키고, 편방을 나사 등으로 고정시키도록 해도 된다. 이 경우, 렌즈 (92) 주위에 플랜지를 형성하고, 그 플랜지를 나사 등으로 고정시키도록 해도 된다.

또한, 상기 실시 형태에서는, 흡인력으로서 진공 흡인력을 사용하도록 하였으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니고, 예를 들어 정전기력이나 자기력을 사용하도록 해도 된다.

또한, 상기 실시 형태에서는, 스페이서 부재 (93) 를 개장하여, 투영 광학계 (PL) 를 구성하는 최하단의 렌즈 (92) 에 평행 평판 (94) 을 유지시키는 경우에 대하여 설명하였으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니고, 투영 광학계 (PL) 내의 한 렌즈와, 그 한 렌즈의 하방에 배치된 다른 렌즈 사이에 스페이서 부재 (93) 를 개장하여, 한 렌즈에 다른 렌즈를 지지시키도록 해도 된다.

또, 본 발명의 지지 방법은, 투영 광학계를 구성하는 광학 부재의 지지에 채용하는 경우에 한정되지 않고, 조명계를 구성하는 광학 부재의 지지에 채용하도록 해도 된다.

또한, 상기 실시 형태에서는, 액체로서 초순수 (물) 를 사용하는 것으로 하였으나, 본 발명이 이에 한정되지 않는 것은 물론이다. 액체로는, 화학적으로 안정적이고, 조명광 (IL) 의 투과율이 높아 안전한 액체, 예를 들어 불소계 불활성 액체를 사용해도 된다. 이 불소계 불활성 액체로는, 예를 들어 플루오리너트 (미국 3M 사의 상품명) 를 사용할 수 있다. 이 불소계 불활성 액체는 냉각 효과면에서도 우수하다. 또, 액체로서, 조명광 (IL) 에 대한 투과성이 있어 가능한 한 굴절률이 높고, 또, 투영 광학계나 웨이퍼 표면에 도포되어 있는 포토레지스트에 대하여 안정적인 것 (예를 들어 시더유 등) 을 사용할 수도 있다. 또, F₂ 레이저를 광원으로 하는 경우에는, 폼블린오일을 선택하면 된다.

또, 상기 실시 형태에서, 회수된 액체를 재이용하도록 해도 되고, 이 경우에는 회수된 액체로부터 불순물을 제거하는 필터를 액체 회수 장치, 또는 회수관 등 에 형성해 두는 것이 바람직하다.

또, 상기 실시 형태에서는, 스텝·앤드·스캔 방식 등의 주사형 노광 장치에 본 발명이 적용된 경우에 대하여 설명하였으나, 본 발명의 적용 범위가 이에 한정되지 않는 것은 물론이다. 즉 스텝·앤드·리피트 방식의 투영 노광 장치, 또한, 스텝·앤드·스티치 방식의 노광 장치, 또는 프록시미티 방식의 노광 장치 등에도, 본 발명은 적용할 수 있다.

노광 장치의 용도로는 반도체 제조용의 노광 장치에 한정되지 않고, 예를 들어 각형의 유리 플레이트에 액정 표시 소자 패턴을 전사시키는 액정용의 노광 장치나, 유기 EL, 박막 자기 헤드, 촬상 소자 (CCD 등), 마이크로 머신 및 DNA 칩 등을 제조하기 위한 노광 장치에도 널리 적용할 수 있다. 또, 반도체 소자 등의 마이크로 디바이스뿐만 아니라, 광 노광 장치, EUV 노광 장치, X 선 노광 장치, 및 전자선 노광 장치 등으로 사용되는 레티클 또는 마스크를 제조하기 위하여, 유리 기판 또는 실리콘 웨이퍼 등에 회로 패턴을 전사시키는 노광 장치에도 본 발명을 적용할 수 있다.

또한, 상기 실시 형태의 노광 장치에서는, 조명광 (IL) 으로서 ArF 엑시머 레이저광에 한정하지 않고, KrF 엑시머 레이저광 (파장 248㎚), F₂ 레이저광 (파장 157㎚), Ar₂ 레이저광 (파장 126㎚), Kr₂ 레이저광 (파장 146㎚) 등의 펄스 레이저광이나, 초고압 수은 램프로부터의 g 선 (파장 436㎚), i 선 (파장 365㎚) 등의 휘선 등을 사용하는 것도 가능하다. 또, YAG 레이저의 고조파나, DFB 반도체 레 이저 또는 화이버 레이저로부터 발진되는 적외역, 또는 가시역의 단일 파장 레이저광을, 예를 들어 에르븀 (또는 에르븀과 이테르븀 양방) 이 도핑된 화이버 앰프로 증폭시키고, 비선형 광학 결정을 사용하여 자외광으로 파장 변환된 고조파를 사용해도 된다. 또, 투영 광학계는 축소계뿐만 아니라 등배 및 확대계 중 어느 것이라도 좋다.

또, 상기 실시 형태에서는, 노광 장치의 조명광 (IL) 으로는 파장 100㎚ 이상의 광에 한정하지 않고, 파장 100㎚ 미만의 광을 사용해도 되는 것은 말할 필요도 없다. 예를 들어 최근 70㎚ 이하의 패턴을 노광하기 위하여, SOR 이나 플라즈마 레이저를 광원으로 하여, 연 X 선 영역 (예를 들어 5 ∼ 15㎚ 의 파장역) 의 EUV (Extreme Ultraviolet) 광을 발생시킴과 함께, 그 노광 파장 (예를 들어 13.5㎚) 하에서 설계된 올 반사 축소 광학계, 및 반사형 마스크를 사용한 EUV 노광 장치의 개발이 행해지고 있다. 이 장치에 있어서는, 원호 조명을 사용하여 마스크와 웨이퍼를 동기 주사하여 스캔 노광하는 구성을 생각할 수 있다.

또, 전자선 또는 이온 빔 등의 하전 입자선을 사용하는 노광 장치에도, 본 발명은 적용할 수 있다. 또한, 전자선 노광 장치는, 펜슬 빔 방식, 가변 성형 빔 방식, 셀 프로젝션 방식, 블랭킹·어퍼처·어레이 방식, 및 마스크 투영 방식 중 어느 것이라도 좋다. 예를 들어 전자선을 사용하는 노광 장치에서는, 전자 렌즈를 구비한 광학계가 사용되지만, 이 광학계가 노광 광학계를 구성하고, 이 노광 광학계의 경통 등을 포함하여 노광 광학계 유닛이 구성된다.

또한, 반도체 디바이스는, 디바이스의 기능·성능 설계를 행하는 단계, 이 설계 단계에 기초한 레티클을 제작하는 단계, 실리콘 재료로 웨이퍼를 제작하는 단계, 상기 기술한 조정 방법에 의해 패턴의 전사 특성이 조정되는 상기 실시 형태의 노광 장치로서, 마스크에 형성된 패턴을 감광 물체 상에 전사시키는 리소그래피 단계, 디바이스 조립 단계 (다이싱 공정, 본딩 공정, 패키지 공정을 포함한다), 검사 단계 등을 거쳐 제조된다. 이 경우, 리소그래피 단계에서, 패턴의 전사 특성이 조정되는 상기 실시 형태의 노광 장치가 사용되기 때문에, 고집적도의 디바이스를 양호한 수율로 제조할 수 있다.

산업상이용가능성

이상 설명한 바와 같이, 본 발명의 광학 부재의 지지 방법 및 지지 구조는, 광학 부재의 지지에 적합하다. 또, 본 발명의 광학 장치는, 노광 장치를 구성하는 투영 광학계로서 사용하는 데에 적합하다. 또, 본 발명의 노광 장치는, 마스크에 형성된 패턴을 물체 상에 전사시키는 데에 적합하다. 또, 본 발명의 디바이스 제조 방법은, 마이크로 디바이스의 제조에 적합하다.

Claims (21)

1. 제 1 광학 부재와 제 2 광학 부재 사이에 스페이서 부재를 개장 (介裝) 함과 함께, 상기 스페이서 부재가 상기 제 1 광학 부재의 주연부 (周緣部) 의 적어도 일부와 상기 제 2 광학 부재의 주연부의 적어도 일부 중 적어도 일방을 흡인함으로써, 상기 스페이서 부재를 통하여 상기 제 1 광학 부재에 상기 제 2 광학 부재를 지지시키는, 광학 부재의 지지 방법.
2. 제 1 항에 있어서,

   상기 스페이서 부재가 상기 제 1 광학 부재의 주연부의 적어도 일부와, 상기 제 2 광학 부재의 주연부의 적어도 일부 중 적어도 일방을 진공 흡인하는 것을 특징으로 하는 광학 부재의 지지 방법.
3. 제 1 항에 있어서,

   상기 스페이서 부재가 상기 제 1 광학 부재의 주연부의 적어도 일부와, 상기 제 2 광학 부재의 주연부의 적어도 일부 중 적어도 일방을 정전기력 또는 자기력에 의해 흡인하는 것을 특징으로 하는 광학 부재의 지지 방법.
4. 제 1 광학 부재의 주연부와 제 2 광학 부재의 주연부 사이에 개장되고, 상기 제 1 광학 부재의 주연부의 적어도 일부와 상기 제 2 광학 부재의 주연부의 적어도 일부 중 적어도 일방을 흡인하여, 상기 제 1 광학 부재에 상기 제 2 광학 부재를 지지시키는 스페이서 부재를 구비하는, 광학 부재의 지지 구조.
5. 제 4 항에 있어서,

   상기 스페이서 부재가 상기 제 1 광학 부재의 주연부의 적어도 일부와, 상기 제 2 광학 부재의 주연부의 적어도 일부 중 적어도 일방을 진공 흡인하는 것을 특징으로 하는 광학 부재의 지지 구조.
6. 제 4 항에 있어서,

   상기 스페이서 부재가 상기 제 1 광학 부재의 주연부의 적어도 일부와, 상기 제 2 광학 부재의 주연부의 적어도 일부 중 적어도 일방을 정전기력 또는 자기력에 의해 흡인하는 것을 특징으로 하는 광학 부재의 지지 구조.
7. 복수의 광학 부재를 포함하여 구성되는 광학 장치로서,

   상기 복수의 광학 부재 중 제 1 광학 부재의 주연부와 제 2 광학 부재의 주연부 사이에 배치되고, 상기 제 1 광학 부재의 주연부의 적어도 일부와 상기 제 2 광학 부재의 주연부의 적어도 일부 중 적어도 일방을 흡인하여, 상기 제 1 광학 부재에 상기 제 2 광학 부재를 지지시키는 스페이서 부재를 구비하는, 광학 장치.
8. 제 7 항에 있어서,

   상기 스페이서 부재에 접속되고, 상기 스페이서 부재에 형성된 통기로 내에 부압 (負壓) 을 발생시켜, 상기 스페이서 부재에 상기 제 1 광학 부재의 주연부의 적어도 일부와 상기 제 2 광학 부재의 주연부의 적어도 일부 중 적어도 일방을 흡인하는 진공 흡인 기구를 추가로 구비하는, 광학 장치.
9. 제 7 항에 있어서,

   상기 스페이서 부재에 형성되고, 상기 제 1 광학 부재의 주연부의 적어도 일부와 상기 제 2 광학 부재의 주연부의 적어도 일부 중 적어도 일방을 정전기력 또는 자기력으로 흡인하는 흡인 기구를 추가로 구비하는, 광학 장치.
10. 소정의 패턴 이미지를 물체 상에 투영하는 노광 장치로서,

    상기 물체가 탑재되는 스테이지와 ;

    상기 물체에 상기 패턴 이미지를 투영하는 제 7 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 기재된 광학 장치를 구비하는, 노광 장치.
11. 제 10 항에 있어서,

    상기 제 2 광학 부재는, 상기 복수의 광학 부재 중, 가장 이미지면측에 가까이 위치하는 광학 부재인 것을 특징으로 하는 노광 장치.
12. 제 11 항에 있어서,

    상기 제 2 광학 부재와 상기 물체 사이에 액체가 채워진 액침 영역을 형성하는 액침 장치를 추가로 구비하는, 노광 장치.
13. 제 12 항에 있어서,

    상기 제 2 광학 부재는, 평행 평판인 것을 특징으로 하는 노광 장치.
14. 제 12 항에 있어서,

    상기 액침 장치는, 상기 제 2 광학 부재와 상기 물체 사이에 상기 액체를 공급하는 공급 노즐과, 상기 제 2 광학 부재와 상기 물체 사이로부터 액체를 회수하는 회수 노즐을 갖는, 노광 장치.
15. 제 14 항에 있어서,

    상기 공급 노즐 및 상기 회수 노즐 중 적어도 일방은, 그 선단부가, 상기 제 2 광학 부재와 상기 물체 사이에 삽입되어 있는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
16. 제 14 항에 있어서,

    상기 스페이서 부재는 환상 (環狀) 이고,

    상기 제 1 광학 부재와 상기 제 2 광학 부재와 상기 스페이서 부재로 구획되는 공간이 액체로 채워지는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
17. 제 16 항에 있어서,

    상기 액체를 외부로부터 상기 공간에 공급하기 위한 유로가 상기 스페이서 부재에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
18. 제 16 항에 있어서,

    상기 액체를 외부로부터 상기 공간에 공급하기 위한 공급 유로와, 상기 액체를 상기 공간으로부터 회수하기 위한 회수 유로가 상기 스페이서 부재에 형성되고,

    상기 공급 유로의 개구단 쪽이, 상기 회수 유로의 개구단보다도 중력 방향 하측에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
19. 제 16 항에 있어서,

    상기 공급 노즐 및 상기 회수 노즐은, 상기 제 2 광학 부재와 상기 물체 사이에 그 내주 (內周) 측의 단부가 삽입된 환상 부재에 각각 형성되고, 그 환상 부재와 상기 제 2 광학 부재 및 상기 스페이서 부재 중 적어도 일방 사이에는, 상기 공간과 외부를 격리하는 환상의 시일 부재가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
20. 제 19 항에 있어서,

    상기 환상 부재는, 상기 스페이서 부재에 의한 상기 제 1 광학 부재 및 상기 제 2 광학 부재 중 적어도 일방의 흡인이 해제되었을 때에, 상기 제 2 광학 부재 및 상기 스페이서 부재 중 적어도 일방을, 상기 시일 부재를 통하여 지지하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
21. 제 10 항에 기재된 노광 장치를 사용하여, 물체 상에 디바이스 패턴을 전사시키는 리소그래피 공정을 포함하는, 디바이스 제조 방법.

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