JP6013396B2 - 基板テーブルを備えるリソグラフィ装置 - Google Patents
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Description
しい。
放射ビームを調節するように構成された照明システムと、
放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成できるパターニングデバイスを支持するように構築された支持体と、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
基板テーブルを位置決めするように構築された位置決めデバイスと、
パターン付放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、
投影システムに対向する基板の表面の一部分に係合して基板表面の該部分に力を加えるように構成された基板表面アクチュエータと、
基板テーブルの位置を制御するように構成され、位置決めデバイス及び基板表面アクチュエータに動作可能に接続されて位置決めデバイス及び基板表面アクチュエータを駆動するコントローラと
を備えるリソグラフィ装置が提供される。
1.ステップモードにおいては、パターニングデバイス支持体(例えばマスクテーブル)MT又は「マスク支持体」及び基板テーブルWT又は「基板支持体」は、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームに与えたパターン全体が1回でターゲット部分Cに投影される(すなわち単一静的露光)。次に、別のターゲット部分Cを露光できるように、基板テーブルWT又は「基板支持体」がX方向及び/又はY方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光で像が形成されるターゲット部分Cのサイズが制限される。
2.スキャンモードにおいては、パターニングデバイス支持体(例えばマスクテーブル)MT又は「マスク支持体」及び基板テーブルWT又は「基板支持体」は同期的にスキャンされる一方、放射ビームに与えられるパターンがターゲット部分Cに投影される(すなわち単一動的露光)。マスクテーブルMT又は「マスク支持体」に対する基板テーブルWT又は「基板支持体」の速度及び方向は、投影システムPSの拡大(縮小)及び像反転特性によって求めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光におけるターゲット部分の(非スキャン方向における)幅が制限され、スキャン動作の長さによってターゲット部分の(スキャン方向における)高さが決まる。
3.別のモードでは、パターニングデバイス支持体(例えばマスクテーブル)MT又は「マスク支持体」はプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルWT又は「基板支持体」を移動又はスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルWT又は「基板支持体」を移動させる毎に、又はスキャン中に連続する放射パルスの間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に適用できる。
Claims (14)
- 基板を保持する基板テーブルと、
前記基板テーブルを位置決めするポジショナと、
前記基板のターゲット部分にパターン付放射ビームを投影する投影システムと、
前記投影システムに対向する前記基板の表面の一部に対向して、前記投影システムの焦点面内に保持される前記基板の表面の前記一部に力を至らせる基板表面アクチュエータと、を備え、
前記基板表面アクチュエータは、前記基板の表面の前記一部に係合する流体静力学的ベアリングを備える、リソグラフィ装置。 - 基板を保持する基板テーブルと、
前記基板テーブルを位置決めするポジショナと、
前記基板のターゲット部分にパターン付放射ビームを投影する投影システムと、
前記投影システムに対向する前記基板の表面の一部に対向して、前記投影システムの焦点面内に保持される前記基板の表面の前記一部に力を至らせる基板表面アクチュエータと、
前記基板表面アクチュエータと前記基板の表面の前記一部との間の距離を測定する距離センサと、を備えるリソグラフィ装置。 - 基板を保持する基板テーブルと、
前記基板テーブルを位置決めするポジショナと、
前記基板のターゲット部分にパターン付放射ビームを投影する投影システムと、
前記投影システムに対向する前記基板の表面の一部に対向して、前記投影システムの焦点面内に保持される前記基板の表面の前記一部に力を至らせる基板表面アクチュエータと、を備え、
前記基板表面アクチュエータは、前記投影システムの下流側レンズと前記基板の照射される部分との間に液体を注入する液体供給システム内に含まれる、リソグラフィ装置。 - 基板を保持する基板テーブルと、
前記基板テーブルを位置決めするポジショナと、
前記基板のターゲット部分にパターン付放射ビームを投影する投影システムと、
前記投影システムに対向する前記基板の表面の一部に対向して、前記投影システムの焦点面内に保持される前記基板の表面の前記一部に力を至らせる基板表面アクチュエータと、を備え、
前記基板表面アクチュエータは、前記基板の表面の前記一部に隣接するギャップ内に流体を注入し、前記ギャップから流体を取り除く流体循環デバイスを備える、リソグラフィ装置。 - リソグラフィ装置であって、
基板を保持する基板テーブルと、
前記基板テーブルを位置決めするポジショナと、
前記基板のターゲット部分にパターン付放射ビームを投影する投影システムと、
前記投影システムに対向する前記基板の表面の一部に対向して、前記投影システムの焦点面内に保持される前記基板の表面の前記一部に力を至らせる基板表面アクチュエータと、
前記リソグラフィ装置のメトロロジフレーム又はベースフレームに前記基板表面アクチュエータを接続するバランスマスと、を備えるリソグラフィ装置。 - 前記基板テーブルの位置を制御し、前記ポジショナ及び前記基板表面アクチュエータに動作可能に接続されて前記ポジショナ及び前記基板表面アクチュエータを駆動する位置コントローラを備える、請求項1〜5のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記位置コントローラは、コントローラ出力信号を提供するコントローラと、前記コントローラ出力信号を前記ポジショナ及び前記基板表面アクチュエータに分配する分配装置と、を備える、請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 前記分配装置は、フィルタを含む周波数ドメイン選択装置を備える、請求項7に記載のリソグラフィ装置。
- 前記分配装置は、基板テーブル共振モード又は基板テーブルねじりモードの周波数帯域内で、実質的に前記基板表面アクチュエータに前記コントローラ出力信号を選択的に提供する、請求項7又は8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記分配装置は、前記基板テーブルと前記ポジショナのショートストロークアクチュエータとの間の弾性の共振の周波数帯域内で、実質的に前記基板表面アクチュエータに前記コントローラ出力信号を選択的に提供する、請求項7〜9のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記分配装置は、前記基板テーブルの位置に応じて前記コントローラ出力信号の分配を決定する、請求項7〜10のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板表面アクチュエータは、前記投影システムの下流側レンズの光軸の方向に沿って見て、前記投影システムの前記下流側レンズを取り囲む前記基板の表面の区域の少なくとも一部に係合する、請求項1〜11のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板表面アクチュエータは、2以上の別個のアクチュエータによって形成される、請求項1〜12のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記2以上の基板表面アクチュエータは、前記投影システムを取り囲む円形区域内に等間隔に配置される、請求項13に記載のリソグラフィ装置。
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