JP5016705B2 - 流体ハンドリング構造 - Google Patents
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Description
[0028]− 放射ビームB(例えばUV放射又はDUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
[0029]− パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構築され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスMAを正確に位置決めするように構成された第一ポジショナPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
[0030]− 基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構築され、特定のパラメータに従って基板Wを正確に位置決めするように構成された第二ポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
[0031]− パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ又は複数のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PSとを含む。
Claims (12)
- 投影システムと前記流体ハンドリング構造に対向する対向表面との間に画定された空間に液浸液を供給し閉じ込める流体ハンドリング構造であって、
前記流体ハンドリング構造の下面の第一部分が、使用時に前記対向表面から前記下面の第二部分とは異なる距離にあり、
前記第一部分の中に、
前記対向表面に向かって液体を供給する供給開口、及び
前記流体ハンドリング構造と前記対向表面との間から流体を除去する複数の抽出開口が形成されており、
前記複数の抽出開口が、前記下面に角を有する多角形状を形成するように配置されており、
前記多角形状の角が、前記流体ハンドリング構造と前記対向表面との間の相対移動方向に位置合わせされる、流体ハンドリング構造。 - 使用時に、前記第二部分が前記第一部分よりも前記対向表面から遠い、請求項1に記載の流体ハンドリング構造。
- 前記第二部分が前記第一部分とは異なる平面にある、請求項1又は請求項2に記載の流体ハンドリング構造。
- 前記第二部分が、前記投影システムの光軸に対して前記供給開口の半径方向内側にある、請求項1から3のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。
- 前記供給開口が、前記投影システムの前記光軸に対して前記抽出開口の半径方向内側にある、請求項1から4のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。
- 前記下面の前記第一部分が1つの平面にある、請求項1から5のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。
- 前記第一部分が、前記抽出開口と供給開口との間で実質的にフィーチャがない、請求項1から6のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。
- 前記第一部分と第二部分との間において、前記投影システムの前記光軸に対する前記下面の平面の角度に段状変化がある、及び/又は、前記対向表面から前記下面までの距離に段状変化がある、請求項1から7のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。
- 前記段状変化によって前記下面に形成される段状縁部は、前記複数の抽出開口の多角形状と同一の多角形状を有する、請求項8に記載の流体ハンドリング構造。
- 前記第一部分と前記第二部分との間において、前記投影システムの前記光軸に対する前記下面の平面の角度に連続的な角度変化の部分がある、及び/又は、前記対向表面から前記下面までの距離に連続的な角度変化の部分がある、請求項1から9のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。
- 前記対向表面が実質的に平坦な表面であり、前記下面の前記第一部分に実質的に平行である、請求項1から10のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。
- 複数の前記供給開口が、前記複数の抽出開口の前記多角形状と同一の多角形状を有する、請求項1から11のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。
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