JP2007019463A - 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】基板を移動しつつ露光するときにも、露光光の光路空間を液体で所望状態に満たすことができる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、露光光が照射可能な位置に配置された基板の表面と対向するように、且つ露光光の光路空間Ｋ１を囲むように設けられた第１ランド面７５と、基板の表面と対向するように、且つ所定方向において露光光の光路空間Ｋ１に対して第１ランド面７５の外側に設けられた第２ランド面７６と、露光光の光路空間Ｋ１を満たすための液体を回収する回収口２２とを備えている。第１ランド面７５は、基板の表面と略平行に設けられ、第２ランド面７６は、基板の表面に対して第１ランド面７５よりも離れた位置に設けられ、回収口２２は、第１ランド面７５と第２ランド面７６の外側に設けられている。
【選択図】図２

Description

本発明は、液体を介して基板を露光する露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法に関するものである。

半導体デバイスや液晶表示デバイス等のマイクロデバイスの製造工程の一つであるフォトリソグラフィ工程では、マスク上に形成されたパターンを感光性の基板上に投影する露光装置が用いられる。この露光装置は、マスクを保持して移動可能なマスクステージと、基板を保持して移動可能な基板ステージとを有し、マスクステージ及び基板ステージを逐次移動しながらマスクのパターンを投影光学系を介して基板に投影するものである。マイクロデバイスの製造においては、デバイスの高密度化のために、基板上に形成されるパターンの微細化が要求されている。この要求に応えるために露光装置の更なる高解像度化が望まれている。その高解像度化を実現するための手段の一つとして、下記特許文献１に開示されているような、投影光学系と基板との間の露光光の光路空間を液体で満たし、投影光学系と液体とを介して基板を露光する液浸露光装置が案出されている。
国際公開第９９／４９５０４号パンフレット

ところで、露光装置においては、デバイスの生産性向上等を目的として、基板（基板ステージ）の移動速度の高速化が要求される。ところが、基板（基板ステージ）を高速で移動した場合、露光光の光路空間を液体で所望状態に満たすことが困難となる可能性があり、液体を介した露光精度及び計測精度が劣化する可能性がある。例えば、基板（基板ステージＰＳＴ）の移動の高速化に伴って、露光光の光路空間を液体で十分に満たすことができなかったり、液体中に気泡が生成される等の不都合が生じると、露光光が基板上に良好に到達せず、基板上にパターンが形成されなかったり、基板上に形成されるパターンに欠陥が生じたりする等の不都合が生じる。また、基板（基板ステージＰＳＴ）の移動の高速化に伴って、光路空間に満たされた液体が漏出する不都合が生じる可能性もある。液体が漏出すると、周辺部材・機器が腐食したり故障する等の不都合が生じる。また、漏出した液体や回収しきれなかった液体が液滴となって基板上に残留した場合、その残留した液体（液滴）が気化することによって基板に液体の付着跡（所謂ウォーターマーク）が形成される不都合が生じる可能性もある。また、漏出した液体の気化熱により基板や基板ステージが熱変形したり、露光装置の置かれている環境（湿度、クリーン度等）が変動し、基板上でのパターン重ね合わせ精度等を含む露光精度の劣化を招いたり、干渉計等を使った各種計測精度の劣化を招く虞がある。また、液体が残留（付着）した基板を基板ステージから搬出すると、その濡れた基板を保持する搬送系にも液体が付着し、被害が拡大する虞がある。また、基板（基板ステージＰＳＴ）の移動の高速化に伴って、液体で覆われる領域が巨大化する可能性もあり、それに伴って露光装置全体も巨大化する不都合が生じる。

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、露光光の光路空間を液体で所望状態に満たすことができる露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法を提供することを目的とする。

上記の課題を解決するため、本発明は実施の形態に示す各図に対応付けした以下の構成を採用している。但し、各要素に付した括弧付き符号はその要素の例示に過ぎず、各要素を限定するものではない。

本発明の第１の態様に従えば、基板（Ｐ）を所定方向に移動しつつ基板（Ｐ）上に露光光（ＥＬ）を照射して基板（Ｐ）を露光する露光装置において、露光光（ＥＬ）が照射可能な位置に配置された物体（Ｐ）の表面と対向するように、且つ露光光（ＥＬ）の光路空間（Ｋ１）を囲むように設けられた第１面（７５）と、物体（Ｐ）の表面と対向するように、且つ所定方向において露光光（ＥＬ）の光路空間（Ｋ１）に対して第１面（７５）の外側に設けられた第２面（７６）と、露光光（ＥＬ）の光路空間（Ｋ１）を満たすための液体（ＬＱ）を回収する回収口（２２）とを備え、第１面（７５）は、物体（Ｐ）の表面と略平行に設けられ、第２面（７６）は、物体（Ｐ）の表面に対して第１面（７５）よりも離れた位置に設けられ、回収口（２２）は、第１面（７５）と第２面（７６）とは異なる位置に設けられている露光装置（ＥＸ）が提供される。

本発明の第１の態様によれば、基板を所定方向に移動しつつ露光した場合にも、露光光の光路空間を液体で所望状態に満たすことができる。

本発明の第２の態様に従えば、基板（Ｐ）を所定方向に移動しつつ基板（Ｐ）上に露光光（ＥＬ）を照射して基板（Ｐ）を露光する露光装置において、露光光（ＥＬ）が照射可能な位置に配置された物体（Ｐ）の表面と対向するように、且つ露光光（ＥＬ）の光路空間（Ｋ１）を囲むように設けられた第１面（７５）と、物体（Ｐ）の表面と対向するように、且つ所定方向において露光光（ＥＬ）の光路空間（Ｋ１）に対して第１面（７５）の外側に設けられた第２面（７６）と、露光光（ＥＬ）の光路空間（Ｋ１）を満たすための液体（ＬＱ）を回収する回収口（２２）とを備え、第１面（７５）は、物体（Ｐ）の表面と略平行に設けられ、第２面（７６）は、物体（Ｐ）の表面に対して第１面（７５）よりも離れた位置に設けられ、回収口（２２）は、第２面（７６）に設けられるとともに、該回収口（２２）の大きさが露光光（ＥＬ）の断面視における大きさよりも小さい露光装置（ＥＸ）が提供される。

本発明の第２の態様によれば、基板を所定方向に移動しつつ露光した場合にも、回収口の存在による影響を抑制することで、露光光の光路空間を液体で所望状態に満たすことができる。

本発明の第３の態様に従えば、基板（Ｐ）を所定方向に移動しつつ基板（Ｐ）上に露光光（ＥＬ）を照射して基板（Ｐ）を露光する露光装置において、露光光（ＥＬ）が照射可能な位置に配置された物体（Ｐ）の表面と対向するように、且つ露光光（ＥＬ）の光路空間（Ｋ１）を囲むように設けられた第１面（７５）と、物体（Ｐ）の表面と対向するように、且つ所定方向において露光光（ＥＬ）の光路空間（Ｋ１）に対して第１面（７５）の外側に設けられた第２面（７６）と、露光光（ＥＬ）の光路空間（Ｋ１）を満たすための液体（ＬＱ）を回収する回収口（２２）とを備え、第１面（７５）は、物体（Ｐ）の表面と略平行に設けられ、第２面（７６）は、物体（Ｐ）の表面に対して第１面（７５）よりも離れた位置に設けられ、物体（Ｐ）の表面と第２面（７６）との間に存在する液体（ＬＱ）が第２面（７６）から離れないように、第１面（７５）と第２面（７６）とが所定の位置関係で設けられている露光装置（ＥＸ）が提供される。

本発明の第３の態様によれば、基板を所定方向に移動しつつ露光した場合にも、露光光の光路空間を液体で所望状態に満たすことができる。

本発明の第４の態様に従えば、基板（Ｐ）を所定方向に移動しつつ基板（Ｐ）上に露光光（ＥＬ）を照射して基板（Ｐ）を露光する露光装置において、露光光（ＥＬ）が照射可能な位置に配置された物体（Ｐ）の表面と対向するように、且つ露光光（ＥＬ）の光路空間（Ｋ１）を囲むように設けられた第１面（７５）と、物体（Ｐ）の表面と対向するように、且つ所定方向において露光光（ＥＬ）の光路空間（Ｋ１）に対して第１面（７５）の外側に設けられた第２面（７６）と、露光光（ＥＬ）の光路空間（Ｋ１）を満たすための液体（ＬＱ）を回収する回収口（２２）とを備え、第１面（７５）は、物体（Ｐ）の表面と略平行に設けられ、第２面（７６）は、物体（Ｐ）の表面と略平行に、且つ物体（Ｐ）の表面に対して第１面（７５）よりも離れた位置に設けられ、第１面（７５）と第２面（７６）との段差は１ｍｍ以下である露光装置（ＥＸ）が提供される。

本発明の第４の態様によれば、基板を所定方向に移動しつつ露光した場合にも、露光光の光路空間を液体で所望状態に満たすことができる。

本発明の第５の態様に従えば、基板（Ｐ）を所定方向に移動しつつ基板（Ｐ）上に露光光（ＥＬ）を照射して基板（Ｐ）を露光する露光装置において、露光光（ＥＬ）が照射可能な位置に配置された物体（Ｐ）の表面と対向するように、且つ露光光（ＥＬ）の光路空間（Ｋ１）を囲むように設けられた第１面（７５）と、物体（Ｐ）の表面と対向するように、且つ所定方向において露光光（ＥＬ）の光路空間（Ｋ１）に対して第１面（７５）の外側に設けられた第２面（７６）と、露光光（ＥＬ）の光路空間（Ｋ１）を満たすための液体（ＬＱ）を回収する回収口（２２）とを備え、第１面（７５）は、物体（Ｐ）の表面と略平行に設けられ、第２面（７６）は、物体（Ｐ）の表面に対して第１面（７５）よりも離れて設けられ、露光光（ＥＬ）の光路空間（Ｋ１）から所定方向に離れるにつれて物体（Ｐ）の表面との間隔が大きくなる斜面であって、第１面（７５）と第２面（７６）とがなす角度が１０度以下である露光装置（ＥＸ）が提供される。

本発明の第５の態様によれば、基板を所定方向に移動しつつ露光した場合にも、露光光の光路空間を液体で所望状態に満たすことができる。

本発明の第６の態様に従えば、基板（Ｐ）を所定方向に移動しつつ基板（Ｐ）上に露光光（ＥＬ）を照射して基板（Ｐ）を露光する露光装置において、基板（Ｐ）を保持して移動可能な基板ステージ（ＰＳＴ）と、露光光（ＥＬ）の光路空間（Ｋ１）を囲むように、且つ基板ステージ（ＰＳＴ）の上面（９４）と対向するように配置された下面（７６）を有し、該下面（７６）と基板ステージ（ＰＳＴ）の上面（９４）との間で液体（ＬＱ）を保持可能なノズル部材（７０）とを備え、基板ステージ（ＰＳＴ）の可動範囲は、所定方向において、基板ステージ（ＰＳＴ）に保持された基板（Ｐ）の表面及び基板ステージ（ＰＳＴ）の上面（９４）の少なくとも一方と、ノズル部材（７０）の下面（７６）との間で液体（ＬＱ）を保持した状態で、基板ステージ（ＰＳＴ）の上面（９４）の端部（９４Ｅ）が下面（７６）の端部（７６Ｅ）よりも露光光（ＥＬ）の光路空間（Ｋ１）に近い位置に移動するように設定されている露光装置（ＥＸ）が提供される。

本発明の第６の態様によれば、基板を所定方向に移動しつつ露光した場合にも、露光光の光路空間を液体で所望状態に満たすことができる。

本発明の第７の態様に従えば、基板（Ｐ）を所定方向に移動しつつ基板（Ｐ）に液体（ＬＱ）を介して露光光（ＥＬ）を照射して基板（Ｐ）を露光する露光装置であって：前記基板上に液体（ＬＱ）の液浸領域（ＬＲ）を形成するための液浸機構（７０など）と；前記液浸機構（７０など）に設けられ、基板（Ｐ）上の液体（ＬＱ）を回収する回収口（２２）とを備え；前記回収口（２２）が、液体（ＬＱ）中を通る露光光の光路空間（Ｋ１）の前記所定方向（Ｙ）側に延在する延在領域（ＥＡ）の外側に設けられている露光装置（ＥＸ）が提供される。

本発明の第７の態様によれば、延在領域に液浸機構の回収口が存在していないために、基板を所定方向に移動しつつ露光した場合にも、基板上に液体の滴などが残留することを抑えつつ、光路空間を液体で満たした状態で基板を露光することができる。

本発明の第８の態様に従えば、基板（Ｐ）を露光する露光方法であって：前記基板上に液体（ＬＱ）をもたらすことと；基板（Ｐ）を所定方向に移動しつつ基板（Ｐ）に液体（ＬＱ）を介して露光光（ＥＬ）を照射して基板（Ｐ）を露光すること；液体（ＬＱ）中を通る露光光の光路空間（Ｋ１）の前記所定方向（Ｙ）側に延在する延在領域（ＥＡ）の外側で液体を回収することを含む露光方法が提供される。

本発明の第８の態様によれば、液体（ＬＱ）を延在領域の外側から回収するので、基板を所定方向に移動しつつ露光した場合にも、基板上に液体の滴などが残留することを抑えつつ、光路空間を液体で満たした状態で基板を露光することができる。

本発明の第９の態様に従えば、上記態様の露光装置（ＥＸ）を用いるデバイス製造方法が提供される。

本発明の第９の態様によれば、露光光の光路空間を液体で所望状態に満たすことができる露光装置を使ってデバイスを製造することができる。

本発明の第１０の態様に従えば、上記態様の露光方法を用いて基板を露光すること（２０４）を含むデバイス製造方法が提供される。

本発明の第１０の態様によれば、露光光の光路空間を液体で所望状態に満たすことができる露光方法を使ってデバイスを製造することができる。

本発明によれば、露光光の光路空間を液体で所望状態に満たすことができ、液体を介した露光処理及び計測処理を良好に行うことができる。

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。

＜第１実施形態＞
図１は第１実施形態に係る露光装置を示す概略構成図である。図１において、露光装置ＥＸは、マスクＭを保持して移動可能なマスクステージＭＳＴと、基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージＰＳＴと、マスクステージＭＳＴに保持されているマスクＭを露光光ＥＬで照明する照明光学系ＩＬと、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターン像を基板ステージＰＳＴに保持されている基板Ｐに投影する投影光学系ＰＬと、露光装置ＥＸ全体の動作を制御する制御装置ＣＯＮＴとを備えている。

本実施形態の露光装置ＥＸは、露光波長を実質的に短くして解像度を向上するとともに焦点深度を実質的に広くするために液浸法を適用した液浸露光装置であって、投影光学系ＰＬの像面近傍における露光光ＥＬの光路空間Ｋ１を液体ＬＱで満たすための液浸機構１を備えている。液浸機構１は、光路空間Ｋ１の近傍に設けられ、液体ＬＱを供給する供給口１２及び液体ＬＱを回収する回収口２２を有するノズル部材７０と、供給管１３、及びノズル部材７０に設けられた供給口１２を介して液体ＬＱを供給する液体供給装置１１と、ノズル部材７０に設けられた回収口２２、及び回収管２３を介して液体ＬＱを回収する液体回収装置２１とを備えている。後に詳述するように、ノズル部材７０の内部には、供給口１２と供給管１３とを接続する流路（供給流路）１４が設けられているとともに、回収口２２と回収管２３とを接続する流路（回収流路）２４が設けられている。なお図１には、供給口、回収口、供給流路、及び回収流路は図示されていない。ノズル部材７０は、投影光学系ＰＬの複数の光学素子のうち、投影光学系ＰＬの像面に最も近い最終光学素子ＬＳ１を囲むように環状に形成されている。

また、本実施形態の露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬの投影領域ＡＲを含む基板Ｐ上の一部に、投影領域ＡＲよりも大きく且つ基板Ｐよりも小さい液体ＬＱの液浸領域ＬＲを局所的に形成する局所液浸方式を採用している。露光装置ＥＸは、少なくともマスクＭのパターン像を基板Ｐに転写している間、投影光学系ＰＬの像面に最も近い最終光学素子ＬＳ１と、投影光学系ＰＬの像面側に配置された基板Ｐとの間の露光光ＥＬの光路空間Ｋ１を液体ＬＱで満たし、投影光学系ＰＬと光路空間Ｋ１に満たされた液体ＬＱとを介してマスクＭを通過した露光光ＥＬを基板Ｐに照射することによって、マスクＭのパターン像を基板Ｐに投影する。制御装置ＣＯＮＴは、液浸機構１の液体供給装置１１を使って液体ＬＱを所定量供給するとともに、液体回収装置２１を使って液体ＬＱを所定量回収することで、光路空間Ｋ１を液体ＬＱで満たし、基板Ｐ上に液体ＬＱの液浸領域ＬＲを局所的に形成する。

なお、以下の説明においては、露光光ＥＬが照射可能な位置に基板Ｐを配置した状態で、すなわち投影光学系ＰＬと基板Ｐとが対向している状態で光路空間Ｋ１が液体ＬＱで満たされている場合について説明するが、基板Ｐ以外の物体（例えば基板ステージＰＳＴの上面）が投影光学系ＰＬと対向している状態で光路空間Ｋ１が液体ＬＱで満たされている場合も同様である。

本実施形態では、露光装置ＥＸとしてマスクＭと基板Ｐとを走査方向に同期移動しつつマスクＭに形成されたパターンを基板Ｐに露光する走査型露光装置（所謂スキャニングステッパ）を使用する場合を例にして説明する。以下の説明において、水平面内においてマスクＭと基板Ｐとの同期移動方向（走査方向）をＹ軸方向、水平面内においてＹ軸方向と直交する方向をＸ軸方向（非走査方向）、Ｘ軸及びＹ軸方向に垂直で投影光学系ＰＬの光軸ＡＸと一致する方向をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。なお、ここでいう「基板」は半導体ウエハ等の基材上に感光材（フォトレジスト）、保護膜などの膜を塗布したものを含み、「マスク」は基板上に縮小投影されるデバイスパターンを形成されたレチクルを含む。

露光装置ＥＸは、床面上に設けられたベースＢＰと、そのベースＢＰ上に設置されたメインコラム９とを備えている。メインコラム９には、内側に向けて突出する上側段部７及び下側段部８が形成されている。照明光学系ＩＬは、マスクステージＭＳＴに保持されているマスクＭを露光光ＥＬで照明するものであって、メインコラム９の上部に固定された支持フレーム１０により支持されている。

照明光学系ＩＬは、露光用光源から射出された光束の照度を均一化するオプティカルインテグレータ、オプティカルインテグレータからの露光光ＥＬを集光するコンデンサレンズ、リレーレンズ系、及び露光光ＥＬによるマスクＭ上の照明領域を設定する視野絞り等を有している。マスクＭ上の所定の照明領域は照明光学系ＩＬにより均一な照度分布の露光光ＥＬで照明される。照明光学系ＩＬから射出される露光光ＥＬとしては、例えば水銀ランプから射出される輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）及びＦ_２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）などが用いられる。本実施形態においてはＡｒＦエキシマレーザ光が用いられる。

本実施形態においては、液体ＬＱとして純水が用いられる。純水はＡｒＦエキシマレーザ光のみならず、例えば水銀ランプから射出される輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）も透過可能である。

マスクステージＭＳＴは、マスクＭを保持して移動可能である。マスクステージＭＳＴは、マスクＭを真空吸着（又は静電吸着）により保持する。マスクステージＭＳＴの下面には非接触軸受である気体軸受（エアベアリング）８５が複数設けられている。マスクステージＭＳＴは、エアベアリング８５によりマスクステージ定盤２の上面（ガイド面）に対して非接触支持されている。マスクステージＭＳＴ及びマスクステージ定盤２の中央部にはマスクＭのパターン像を通過させる開口部がそれぞれ形成されている。マスクステージ定盤２は、メインコラム９の上側段部７に防振装置８６を介して支持されている。すなわち、マスクステージＭＳＴは、防振装置８６及びマスクステージ定盤２を介してメインコラム９の上側段部７に支持された構成となっている。防振装置８６によって、メインコラム９の振動がマスクステージＭＳＴを支持するマスクステージ定盤２に伝わらないように、マスクステージ定盤２とメインコラム９とが振動的に分離されている。

マスクステージＭＳＴは、制御装置ＣＯＮＴにより制御されるリニアモータ等を含むマスクステージ駆動装置ＭＳＴＤの駆動により、マスクＭを保持した状態で、マスクステージ定盤２上において、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに垂直な平面内、すなわちＸＹ平面内で２次元移動可能及びθＺ方向に微少回転可能である。マスクステージＭＳＴ上には移動鏡８１が設けられている。また、マスクステージＭＳＴに対して所定の位置にはレーザ干渉計８２が設けられている。マスクステージＭＳＴ上のマスクＭの２次元方向の位置、及びθＺ方向の回転角（場合によってはθＸ、θＹ方向の回転角も含む）は、移動鏡８１を用いてレーザ干渉計８２によりリアルタイムで計測される。レーザ干渉計８２の計測結果は制御装置ＣＯＮＴに出力される。制御装置ＣＯＮＴは、レーザ干渉計８２の計測結果に基づいてマスクステージ駆動装置ＭＳＴＤを駆動し、マスクステージＭＳＴに保持されているマスクＭの位置制御を行う。

投影光学系ＰＬは、マスクＭのパターンを所定の投影倍率βで基板Ｐに投影するものであって、複数の光学素子を有しており、それら光学素子は鏡筒ＰＫで保持されている。本実施形態において、投影光学系ＰＬは、投影倍率βが例えば１／４、１／５、あるいは１／８の縮小系である。なお、投影光学系ＰＬは等倍系及び拡大系のいずれでもよい。また、投影光学系ＰＬは、反射光学素子を含まない屈折系、屈折光学素子を含まない反射系、反射光学素子と屈折光学素子とを含む反射屈折系のいずれであってもよい。投影光学系ＰＬの複数の光学素子のうち、投影光学系ＰＬの像面に最も近い最終光学素子ＬＳ１は鏡筒ＰＫより露出している。

投影光学系ＰＬを保持する鏡筒ＰＫの外周にはフランジＰＦが設けられており、投影光学系ＰＬはフランジＰＦを介して鏡筒定盤５に支持されている。鏡筒定盤５は、メインコラム９の下側段部８に防振装置８７を介して支持されている。すなわち、投影光学系ＰＬは、防振装置８７及び鏡筒定盤５を介してメインコラム９の下側段部８に支持された構成となっている。また、防振装置８７によって、メインコラム９の振動が投影光学系ＰＬを支持する鏡筒定盤５に伝わらないように、鏡筒定盤５とメインコラム９とが振動的に分離されている。

基板ステージＰＳＴは、基板Ｐを保持する基板ホルダＰＨを有しており、基板ホルダＰＨに基板Ｐを保持して移動可能である。基板ホルダＰＨは、例えば真空吸着等により基板Ｐを保持する。基板ステージＰＳＴ上には凹部９３が設けられており、基板Ｐを保持するための基板ホルダＰＨは凹部９３に配置されている。そして、基板ステージＰＳＴのうち凹部９３以外の上面９４は、基板ホルダＰＨに保持された基板Ｐの表面とほぼ同じ高さ（面一）になるような平坦面となっている。なお、光路空間Ｋ１に液体ＬＱを満たし続けることができるならば、基板ステージＰＳＴの上面９４と基板ホルダＰＨに保持された基板Ｐの表面とに段差があってもよい。

基板ステージＰＳＴの下面には非接触軸受である気体軸受（エアベアリング）８８が複数設けられている。基板ステージＰＳＴは、エアベアリング８８により基板ステージ定盤６の上面（ガイド面）に対して非接触支持されている。基板ステージ定盤６は、ベースＢＰ上に防振装置８９を介して支持されている。また、防振装置８９によって、ベースＢＰ（床面）やメインコラム９の振動が基板ステージＰＳＴを支持する基板ステージ定盤６に伝わらないように、基板ステージ定盤６とメインコラム９及びベースＢＰ（床面）とが振動的に分離されている。

基板ステージＰＳＴは、制御装置ＣＯＮＴにより制御されるリニアモータ等を含む基板ステージ駆動装置ＰＳＴＤの駆動により、基板Ｐを基板ホルダＰＨを介して保持した状態で、基板ステージ定盤６上でＸＹ平面内で２次元移動可能及びθＺ方向に微小回転可能である。更に基板ステージＰＳＴは、Ｚ軸方向、θＸ方向、及びθＹ方向にも移動可能である。したがって、基板ステージＰＳＴに保持された基板Ｐの表面は、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６自由度の方向に移動可能である。基板ステージＰＳＴの側面には移動鏡８３が設けられている。また、基板ステージＰＳＴに対して所定の位置にはレーザ干渉計８４が設けられている。基板ステージＰＳＴ上の基板Ｐの２次元方向の位置、及び回転角は、移動鏡８３を用いてレーザ干渉計８４によりリアルタイムで計測される。また、不図示ではあるが、露光装置ＥＸは、基板ステージＰＳＴに保持されている基板Ｐの表面の面位置情報を検出するフォーカス・レベリング検出系を備えている。

レーザ干渉計８４の計測結果及びフォーカス・レベリング検出系の検出結果は制御装置ＣＯＮＴに出力される。制御装置ＣＯＮＴは、フォーカス・レベリング検出系の検出結果に基づいて、基板ステージ駆動装置ＰＳＴＤを駆動し、基板Ｐのフォーカス位置（Ｚ位置）及び傾斜角（θＸ、θＹ）を制御して、基板Ｐの表面と投影光学系ＰＬ及び液体ＬＱを介して形成される像面との位置関係を調整するとともに、レーザ干渉計８４の計測結果に基づいて、基板ＰのＸ軸方向、Ｙ軸方向、及びθＺ方向における位置制御を行う。

液浸機構１の液体供給装置１１は、液体ＬＱを収容するタンク、加圧ポンプ、供給する液体ＬＱの温度を調整する温度調整装置、及び液体ＬＱ中の異物を取り除くフィルタユニット等を備えている。液体供給装置１１には供給管１３の一端部が接続されており、供給管１３の他端部はノズル部材７０に接続されている。液体供給装置１１の液体供給動作は制御装置ＣＯＮＴにより制御される。なお、液体供給装置１１のタンク、加圧ポンプ、温度調整機構、フィルタユニット等は、その全てを露光装置ＥＸが備えている必要はなく、露光装置ＥＸが設置される工場等の設備を代用してもよい。

また、供給管１３の途中には、液体供給装置１１から送出され、投影光学系ＰＬの像面側に供給される単位時間当たりの液体量を制御するマスフローコントローラと呼ばれる流量制御器１９が設けられている。流量制御器１９による液体供給量の制御は制御装置ＣＯＮＴの指令信号のもとで行われる。

液浸機構１の液体回収装置２１は、真空ポンプ等の真空系、回収された液体ＬＱと気体とを分離する気液分離器、及び回収した液体ＬＱを収容するタンク等を備えている。液体回収装置２１には回収管２３の一端部が接続されており、回収管２３の他端部はノズル部材７０に接続されている。液体回収装置２１の液体回収動作は制御装置ＣＯＮＴにより制御される。なお、液体回収装置２１の真空系、気液分離器、タンク等は、その全てを露光装置ＥＸが備えている必要はなく、露光装置ＥＸが設置される工場等の設備を代用してもよい。

ノズル部材７０は、支持機構９１に支持されている。支持機構９１は、メインコラム９の下側段部８に接続されている。ノズル部材７０を支持機構９１を介して支持しているメインコラム９と、投影光学系ＰＬの鏡筒ＰＫをフランジＰＦを介して支持している鏡筒定盤５とは、防振装置８７を介して振動的に分離されている。したがって、ノズル部材７０で発生した振動が投影光学系ＰＬに伝達されることは防止されている。また、メインコラム９と、基板ステージＰＳＴを支持している基板ステージ定盤６とは、防振装置８９を介して振動的に分離されている。したがって、ノズル部材７０で発生した振動が、メインコラム９及びベースＢＰを介して基板ステージＰＳＴに伝達されることが防止されている。また、メインコラム９と、マスクステージＭＳＴを支持しているマスクステージ定盤２とは、防振装置８６を介して振動的に分離されている。したがって、ノズル部材７０で発生した振動がメインコラム９を介してマスクステージＭＳＴに伝達されることが防止されている。

次に、図２〜図５を参照しながら、ノズル部材７０について説明する。図２はノズル部材７０近傍を示す概略斜視図の一部破断図、図３（Ａ）はノズル部材７０を下側から見た斜視図、図３（Ｂ）はノズル部材７０を下側から見た平面概念図、図４はＸＺ平面と平行な側断面図、図５はＹＺ平面と平行な側断面図である。

ノズル部材７０は、投影光学系ＰＬの像面に最も近い最終光学素子ＬＳ１の近傍に設けられている。ノズル部材７０は、基板Ｐ（基板ステージＰＳＴ）の上方において最終光学素子ＬＳ１を囲むように設けられた環状部材であって、その中央部に投影光学系ＰＬ（最終光学素子ＬＳ１）を配置可能な穴部７０Ｈを有している。また、本実施形態においては、ノズル部材７０は複数の部材を組み合わせて構成されており、ノズル部材７０の外形は平面視略四角形状である。ノズル部材７０の外形は、平面視四角形状に限られず、例えば、平面視円形状であってもよい。なお、ノズル部材７０は一つの材料（チタンなど）で構成されていてもよいし、例えばアルミニウム、チタン、ステンレス鋼、ジュラルミン、及びこれらを含む合金によって構成されていてもよい。

ノズル部材７０は、側板部７０Ａと、傾斜板部７０Ｂと、側板部７０Ａ及び傾斜板部７０Ｂの上端部に設けられた天板部７０Ｃと、基板Ｐ（基板ステージＰＳＴ）と対向する底板部７０Ｄとを有している。傾斜板部７０Ｂはすり鉢状に形成されており、最終光学素子ＬＳ１は、傾斜板部７０Ｂによって形成された穴部７０Ｈの内側に配置される。傾斜板部７０Ｂの内側面（すなわちノズル部材７０の穴部７０Ｈを規定する内側面）７０Ｔと投影光学系ＰＬの最終光学素子ＬＳ１の側面ＬＴとは対向しており、傾斜板部７０Ｂの内側面７０Ｔと最終光学素子ＬＳ１の側面ＬＴとの間には所定のギャップＧ１が設けられている。ギャップＧ１が設けられていることにより、ノズル部材７０で発生した振動が、投影光学系ＰＬ（最終光学素子ＬＳ１）に直接的に伝達することが防止されている。また、傾斜板部７０Ｂの内側面７０Ｔは、液体ＬＱに対して撥液性（撥水性）となっており、投影光学系ＰＬの最終光学素子ＬＳ１の側面ＬＴと傾斜板部７０Ｂの内側面７０Ｔとの間のギャップＧ１への液体ＬＱの浸入が抑制されている。なお、傾斜板部７０Ｂの内側面７０Ｔを撥液性にするための撥液化処理としては、例えば、ポリ四フッ化エチレン（テフロン（登録商標））等のフッ素系樹脂材料、アクリル系樹脂材料、シリコン系樹脂材料等の撥液性材料を付着する処理等が挙げられる。

底板部７０Ｄの一部は、Ｚ軸方向に関して、投影光学系ＰＬの最終光学素子ＬＳ１の下面Ｔ１と基板Ｐ（基板ステージＰＳＴ）との間に設けられる（図１参照）。また、底板部７０Ｄの中央部には、露光光ＥＬが通過する開口部７４が形成されている。開口部７４には、投影光学系ＰＬの最終光学素子（光学部材）ＬＳ１を通過した露光光ＥＬが通過するようになっている。本実施形態においては、露光光ＥＬが照射される投影領域ＡＲはＸ軸方向（非走査方向）を長手方向とするスリット状（略矩形状）に設けられ、開口部７４は、投影領域ＡＲに応じた形状を有しており、本実施形態においてはＸ軸方向（非走査方向）を長手方向とするスリット状（略矩形状）に形成されている。開口部７４は投影領域ＡＲよりも大きく形成されており、投影光学系ＰＬを通過した露光光ＥＬは、底板部７０Ｄに遮られることなく、基板Ｐ上に到達できる。

ノズル部材７０のうち基板Ｐ（基板ステージＰＳＴ）と対向する下面は、露光光ＥＬが照射可能な位置に配置された基板Ｐの表面と対向する第１の領域７５を有している。第１の領域７５は、ＸＹ平面と平行な平坦面となっている。第１の領域７５は、露光光ＥＬの光路空間Ｋ１（この空間を通過した露光光が基板Ｐ上に投影領域ＡＲを形成する：本明細書では「光路空間Ｋ１」は露光光が通る空間を意図しており、この実施形態及び以下の実施形態では、最終光学素子ＬＳ１と基板Ｐとの間における露光光が通る空間を意味している。「光路空間Ｋ１」のＸ方向またはＹ方向の位置及び／又はサイズは、例えば、第１の領域（第１ランド面）７５を含むＸＹ平面と露光光ＥＬが交差する領域（露光光ＥＬのＸＹ断面領域）の位置及び／又はサイズで示すことができる）を囲むように設けられている。すなわち、第１の領域７５は、底板部７０Ｄのうち露光光ＥＬが通過する開口部７４を囲むように設けられた面である。ここで、露光光ＥＬが照射可能な位置とは、投影光学系ＰＬと対向する位置を含む。第１の領域７５は、投影光学系ＰＬを通過した露光光ＥＬの光路空間Ｋ１を囲むように設けられているため、制御装置ＣＯＮＴは、基板ステージを制御して、露光光ＥＬが照射可能な位置に基板Ｐを配置することにより、第１の領域７５と基板Ｐの表面とを対向させることができる。

そして、基板ステージＰＳＴに保持された基板Ｐの表面はＸＹ平面とほぼ平行であるため、ノズル部材７０の第１の領域７５は、基板ステージＰＳＴに保持された基板Ｐの表面と対向するように、且つ基板Ｐの表面（ＸＹ平面）と略平行となるように設けられた構成となっている。以下の説明においては、ノズル部材７０のうち、基板Ｐの表面と対向するように、且つ露光光ＥＬの光路空間Ｋ１を囲むように設けられ、基板Ｐの表面（ＸＹ平面）と略平行となるように形成された第１の領域（平坦面）７５を適宜、「第１ランド面７５」と称する。

第１ランド面７５は、ノズル部材７０のうち、基板ステージＰＳＴに保持された基板Ｐに最も近い位置となるように設けられている。すなわち、第１ランド面７５は、基板ステージＰＳＴに保持された基板Ｐの表面とのギャップが最も小さくなる部分である。これにより、第１ランド面７５と基板Ｐとの間で液体ＬＱを良好に保持して液浸領域ＬＲを形成することができる。

そして、第１ランド面７５は、投影光学系ＰＬの下面Ｔ１と基板Ｐとの間において、露光光ＥＬの光路空間Ｋ１（投影領域ＡＲ）を囲むように設けられている。上述のように、第１ランド面７５は、ノズル部材７０（底板部７０Ｄ）の下面の一部の領域に設けられたものであって、露光光ＥＬが通過する開口部７４を囲むように設けられている。第１ランド面７５は、開口部７４に応じた形状を有しており、本実施形態における第１ランド面７５の外形は、Ｘ軸方向（非走査方向）を長手方向とする矩形状に形成されている。

また、開口部７４は、第１ランド面７５のほぼ中央部に設けられている。そして、図３等に示すように、Ｙ軸方向（走査方向）における第１ランド面７５の幅Ｄ１は、Ｙ軸方向における開口部７４の幅Ｄ２よりも小さくなっている。ここで、Ｙ軸方向における第１ランド面７５の幅Ｄ１とは、第１ランド面７５の＋Ｙ側端部（−Ｙ側端部）と開口部７４の＋Ｙ側端部（−Ｙ側端部）との距離である。本実施形態においては、開口部７４は第１ランド面７５のほぼ中央部に設けられているため、第１ランド面７５の＋Ｙ側端部と開口部７４の＋Ｙ側端部との距離と、第１ランド面７５の−Ｙ側端部と開口部７４の−Ｙ側端部との距離とはほぼ等しい。

また、本実施形態においては、Ｙ軸方向における第１ランド面７５の幅Ｄ１は、Ｘ軸方向における第１ランド面７５の幅Ｄ３よりも小さくなっている。ここで、Ｘ軸方向における第１ランド面７５の幅Ｄ３とは、第１ランド面７５の＋Ｘ側端部（−Ｘ側端部）と開口部７４の＋Ｘ側端部（−Ｘ側端部）との距離である。本実施形態においては、開口部７４は第１ランド面７５のほぼ中央部に設けられているため、第１ランド面７５の＋Ｘ側端部と開口部７４の＋Ｘ側端部との距離と、第１ランド面７５の−Ｘ側端部と開口部７４の−Ｘ側端部との距離とはほぼ等しい。

基板Ｐの表面と最終光学素子ＬＳ１の下面Ｔ１との距離は、基板Ｐの表面とランド面７５との距離よりも長くなっている。すなわち、最終光学素子ＬＳ１の下面Ｔ１は、第１ランド面７５より高い位置に形成されている。また、底板部７０Ｄは、最終光学素子ＬＳ１の下面Ｔ１及び基板Ｐ（基板ステージＰＳＴ）とは接触しないように設けられている。そして、図５等に示すように、最終光学素子ＬＳ１の下面Ｔ１と底板部７０Ｄの上面７７との間には、所定のギャップＧ２を有する空間が形成されている。底板部７０Ｄの上面７７は、露光光ＥＬが通過する開口部７４を囲むように設けられている。すなわち、底板部７０Ｄの上面７７は、露光光ＥＬの光路空間Ｋ１を囲むように設けられ、最終光学素子ＬＳ１との間に所定のギャップＧ２を介して対向した構成となっている。以下の説明においては、最終光学素子ＬＳ１の下面Ｔ１と底板部７０Ｄの上面７７との間の空間を含むノズル部材７０の内側の空間を適宜、「内部空間Ｇ２」と称する。

また、ノズル部材７０の下面は、基板ステージＰＳＴに保持され、露光光ＥＬが照射可能な位置に配置された基板Ｐの表面と対向するように、且つＹ軸方向において露光光ＥＬの光路空間Ｋ１に対して第１ランド面７５の外側に設けられ、基板Ｐの表面に対して第１ランド面７５よりも離れた位置に設けられた第２の領域７６を有している。以下の説明においては、ノズル部材７０のうち、基板Ｐの表面と対向するように、且つＹ軸方向において露光光ＥＬの光路空間Ｋ１に対して第１ランド面７５の外側に設けられ、基板Ｐの表面に対して第１ランド面７５よりも離れた位置（高さ方向（Ｚ方向）において第１ランド面７５とは異なる位置）に設けられた第２の領域７６を適宜、「第２ランド面７６」と称する。

本実施形態の第２ランド面７６は、露光光ＥＬの光路空間Ｋ１からＹ軸方向に離れるにつれて基板Ｐとの間隔が大きくなる斜面である。第２ランド面７６は、第１ランド面７５に対して走査方向一方側（＋Ｙ側）と他方側（−Ｙ側）とのそれぞれに設けられている。基板ステージＰＳＴに保持された基板Ｐの表面はＸＹ平面とほぼ平行であるため、ノズル部材７０の第２ランド面７６は、基板ステージＰＳＴに保持された基板Ｐの表面と対向するように、且つ基板Ｐの表面（ＸＹ平面）に対して傾斜するように設けられた構成となっている。

第１ランド面７５及び第２ランド面７６の一部には液浸領域ＬＲを形成する液体ＬＱが接触するようになっており、最終光学素子ＬＳ１の下面Ｔ１にも光路空間Ｋ１に満たされた液体ＬＱが接触するようになっている。すなわち、ノズル部材７０の第１ランド面７５、第２ランド面７６、及び最終光学素子ＬＳ１の下面Ｔ１のそれぞれは、液体ＬＱと接触する液体接触面となっている。

そして、後述するように、液体ＬＱが基板Ｐの表面と第２ランド面７６との間に存在する場合において、その基板Ｐの表面と第２ランド面７６との間に存在する液体ＬＱが第２ランド面７６から離れないように、第１ランド面７５と第２ランド面７６とが所定の位置関係で設けられている。具体的には、光路空間Ｋ１を液体ＬＱで満たした状態で基板Ｐを移動した場合でも、基板Ｐの表面と第２ランド面７６との間に存在する液体ＬＱが第２ランド面７６から離れないように（剥離しないように）第２ランド面７６が形成されている。

本実施形態においては、第２ランド面７６は、第１ランド面７５に対して連続的に設けられている。すなわち、光路空間Ｋ１に対して＋Ｙ側に設けられた第２ランド面７６のうち露光光ＥＬの光路空間Ｋ１に最も近い−Ｙ側のエッジと、第１ランド面７５の＋Ｙ側のエッジとが基板Ｐに対してほぼ同じ位置（高さ）に設けられ、光路空間Ｋ１に対して−Ｙ側に設けられた第２ランド面７６のうち露光光ＥＬの光路空間Ｋ１に最も近い＋Ｙ側のエッジと、第１ランド面７５の−Ｙ側のエッジとが基板Ｐに対してほぼ同じ位置（高さ）に設けられている。そして、第１ランド面７５と第２ランド面７６とがなす角度θ_Ａは１０度以下に設定されている（図５参照）。本実施形態においては、第１ランド面７５（ＸＹ平面）と第２ランド面７６とがなす角度θ_Ａは約４度に設定されている。

第１ランド面７５及び第２ランド面７６は、それぞれ液体ＬＱに対して親液性を有している。また、第１ランド面７５と液体ＬＱとの接触角と、第２ランド面７６と液体ＬＱとの接触角とはほぼ等しくなっている。本実施形態においては、第１ランド面７５及び第２ランド面７６を形成する底板部７０Ｄはチタンによって形成されている。なお、第１ランド面７５及び第２ランド面７６に、液体ＬＱに対して親液性を付与する表面処理（親液化処理）を施してもよい。

なお、チタン材料は光触媒作用を有する不動態膜が表面に形成され、その表面の親液性（親水性）を維持することができるため、第１ランド面７５における液体ＬＱの接触角と第２ランド面７６における液体ＬＱの接触角とをほぼ同じ、例えば２０°以下に維持することができる。

なお、第１ランド面７５及び第２ランド面７６をステンレス鋼（例えばＳＵＳ３１６）で形成し、その表面に液体ＬＱへの不純物の溶出を抑えるための表面処理、あるいは親液性を高めるための表面処理を施してもよい。そのような表面処理としては、第１ランド面７５及び第２ランド面７６のそれぞれに酸化クロムを付着する処理が挙げられ、例えば株式会社神鋼環境ソリューションの「GOLDEP」処理あるいは「GOLDEP WHITE」処理が挙げられる。

ノズル部材７０は、露光光ＥＬの光路空間Ｋ１を満たすための液体ＬＱを供給する供給口１２と、露光光ＥＬの光路空間Ｋ１を満たすための液体ＬＱを回収する回収口２２とを備えている。また、ノズル部材７０は、供給口１２に接続する供給流路１４、及び回収口２２に接続する回収流路２４を備えている。また、図２〜図５においてはその図示を省略若しくは簡略しているが、供給流路１４は供給管１３の他端部と接続され、回収流路２４は回収管２３の他端部と接続される。

供給流路１４は、図２、図５に示すように、ノズル部材７０の傾斜板部７０Ｂの内部を傾斜方向に沿って貫通するスリット状の貫通孔によって形成されている。また、本実施形態においては、供給流路１４は、光路空間Ｋ１（投影領域ＡＲ）に対してＹ軸方向両側のそれぞれに設けられている。そして、供給流路（貫通孔）１４の上端部と供給管１３の他端部とが接続され、これにより、供給流路１４が供給管１３を介して液体供給装置１１に接続される。一方、供給流路１４の下端部は、最終光学素子ＬＳ１の下面Ｔ１と底板部７０Ｄの上面７７との間の内部空間Ｇ２近傍に設けられており、この供給流路１４の下端部が供給口１２となっている。すなわち、供給口１２は、最終光学素子ＬＳ１の下面Ｔ１と底板部７０Ｄの上面７７との間の内部空間Ｇ２近傍に設けられており、内部空間Ｇ２と接続されている。本実施形態においては、供給口１２は、露光光ＥＬの光路空間Ｋ１の外側において、光路空間Ｋ１を挟んだＹ軸方向両側のそれぞれの所定位置に設けられている。

供給口１２は、光路空間Ｋ１を満たすための液体ＬＱを供給するためのものである。供給口１２には液体供給装置１１から液体ＬＱが供給されるようになっており、供給口１２は、最終光学素子ＬＳ１の下面Ｔ１と底板部７０Ｄの上面７７との間、すなわち内部空間Ｇ２に液体ＬＱを供給可能である。供給口１２から最終光学素子ＬＳ１と底板部７０Ｄとの間の内部空間Ｇ２に液体ＬＱを供給することによって、最終光学素子ＬＳ１と基板Ｐとの間の露光光ＥＬの光路空間Ｋ１が液体ＬＱで満たされる。

また、ノズル部材７０は、図２、図４に示すように、内部空間Ｇ２と外部空間Ｋ３とを連通させるための排気口１６を有している。排気口１６には排気流路１５が接続されている。排気流路１５は、ノズル部材７０の傾斜板部７０Ｂの内部を傾斜方向に沿って貫通するスリット状の貫通孔によって形成されている。また、本実施形態においては、排気口１６及び排気流路１５は、光路空間Ｋ１（投影領域ＡＲ）に対してＸ軸方向両側のそれぞれに設けられている。そして、排気流路（貫通孔）１５の上端部は外部空間（大気空間）Ｋ３に接続されており、大気開放された状態となっている。一方、排気流路１５の下端部は、最終光学素子ＬＳ１の下面Ｔ１と底板部７０Ｄの上面７７との間の内部空間Ｇ２に接続されており、この排気流路１５の下端部が排気口１６となっている。すなわち、排気口１６は、最終光学素子ＬＳ１の下面Ｔ１と底板部７０Ｄの上面７７との間の内部空間Ｇ２近傍に設けられており、内部空間Ｇ２と接続されている。本実施形態においては、排気口１６は、露光光ＥＬの光路空間Ｋ１の外側において、光路空間Ｋ１を挟んだＸ軸方向両側のそれぞれの所定位置に設けられている。また、本実施形態においては、底板部７０Ｄの上面７７のうち排気口１６近傍には凹部（段差部）７８が設けられている。排気口１６は、排気流路１５を介して、内部空間Ｇ２と外部空間Ｋ３とを連通させているため、内部空間Ｇ２の気体は、排気口１６を介して、排気流路１５の上端部より、外部空間Ｋ３に排出（排気）可能となっている。

ノズル部材７０は、側板部７０Ａと傾斜板部７０Ｂとの間において下向きに開口する空間部２４を有している。回収口２２は、空間部２４の開口部に配置されている。また、空間部２４は回収流路の少なくとも一部を構成している。そして、回収流路（空間部）２４の一部に回収管２３の他端部が接続される。

回収口２２は、光路空間Ｋ１を満たすための液体ＬＱを回収するためのものである。回収口２２は、基板ステージＰＳＴに保持された基板Ｐの上方において、その基板Ｐの表面と対向する位置に設けられている。回収口２２と基板Ｐの表面とは所定距離だけ離れている。Ｘ軸方向（非走査方向）において、回収口２２は、投影光学系ＰＬの像面近傍の光路空間Ｋ１に対して排気口１６の外側に設けられている。

回収口２２は、Ｘ軸方向（非走査方向）において露光光ＥＬの光路空間Ｋ１に対して第１ランド面７５の外側に設けられている。回収口２２は、第１ランド面７５に対して非走査方向一方側（＋Ｘ側）と他方側（−Ｘ側）とのそれぞれに設けられている。

また、回収口２２は、Ｘ軸方向（非走査方向）において第２ランド面７６の両側に設けられている。すなわち、回収口２２は、Ｘ軸方向（非走査方向）に関して、第２ランド面７６の一方側（＋Ｘ側）と他方側（−Ｘ側）とのそれぞれに設けられている。

ノズル部材７０は、回収口２２を覆うように配置された、複数の孔を有する多孔部材２５を備えている。多孔部材２５は複数の孔を有したメッシュ部材により構成可能であり、例えば略六角形状の複数の孔からなるハニカムパターンを形成されたメッシュ部材によって構成可能である。また、多孔部材２５は、チタンやステンレス鋼（例えばＳＵＳ３１６）などからなる多孔部材の基材となる板部材に孔あけ加工を施すことで形成可能である。あるいは、多孔部材２５として、セラミックス製の多孔部材を用いることも可能である。本実施形態の多孔部材２５は薄板状に形成されており、例えば１００μｍ程度の厚みを有するものである。

多孔部材２５は、基板ステージＰＳＴに保持された基板Ｐと対向する下面２６を有している。多孔部材２５の下面２６は、ノズル部材７０の下面の一部であり、多孔部材２５の基板Ｐと対向する下面２６はほぼ平坦である。多孔部材２５は、その下面２６が基板ステージＰＳＴに保持された基板Ｐの表面（すなわちＸＹ平面）とほぼ平行になるように回収口２２に設けられている。

回収口２２に設けられた多孔部材２５の下面２６と、第１ランド面７５とは、基板Ｐの表面に対してほぼ同じ位置（高さ）に設けられている。上述のように、第１ランド面７５及び多孔部材２５の下面２６のそれぞれは、基板ステージＰＳＴに保持された基板Ｐの表面（すなわちＸＹ平面）とほぼ平行であり、第１ランド面７５と多孔部材２５の下面２６とは連続するようにほぼ面一となっている。すなわち、光路空間Ｋ１に対して＋Ｘ側に設けられた多孔部材２５の下面２６のうち露光光ＥＬの光路空間Ｋ１に最も近い−Ｘ側のエッジと、第１ランド面７５の＋Ｘ側のエッジとが基板Ｐに対してほぼ同じ位置（高さ）に設けられ、光路空間Ｋ１に対して−Ｘ側に設けられた多孔部材２５の下面２６のうち露光光ＥＬの光路空間Ｋ１に最も近い＋Ｘ側のエッジと、第１ランド面７５の−Ｘ側のエッジとが基板Ｐに対してほぼ同じ位置（高さ）に設けられている。液体ＬＱは、回収口２２に配置された多孔部材２５を介して回収されるため、回収口２２は、第１ランド面７５とほぼ面一な平坦面（下面）２６に配置されている。

本実施形態においては、図３（Ａ）に示すように、第２ランド面７６は、平面視において、露光光ＥＬの光路空間Ｋ１からＹ軸方向に離れるにつれて漸次拡がる形状（台形状）に設けられている。また、回収口２２（多孔部材２５）は、平面視において、露光光ＥＬの光路空間Ｋ１からＸ軸方向に離れるにつれて漸次拡がる形状（台形状）に設けられている。そして、ノズル部材７０の下面うち、光路空間Ｋ１の走査方向側に延在した領域、すなわち光路空間Ｋ１のＹ軸方向側に延在する領域には、液体ＬＱを回収するための回収口２２が無い。

図３（Ｂ）に概念的に示したように、光路空間Ｋ１（寸法的には投影領域ＡＲに近い）の走査方向（Ｙ方向）側に延在している延在領域ＥＡ１には回収口は設けられていない。回収口２２は延在領域ＥＡ１の外側、すなわち、非走査方向（Ｘ方向）に関して、延在領域ＥＡ１の両側に設けられている。本実施形態の場合には、第１ランド面７５の走査方向（Ｙ方向）側に延在する延在領域ＥＡ２にも回収口は設けられておらず、回収口２２は延在領域ＥＡ２の外側、すなわち、非走査方向（Ｘ方向）に関して、延在領域ＥＡ２の両側に設けられている。このように回収口２２を延在領域ＥＡ１及びＥＡ２に設けずに、その外側に設けたのは次のような発明者の知見による。図２１には、光路空間の走査方向（Ｙ方向）側に延在する延在領域内に回収口７０２が設けられているノズル部材７００の一例が示されており、基板Ｐとノズル部材７００との間に液体ＬＱが存在している。このようなノズル部材７００を用いて走査方向（＋Ｙ方向）に高速で基板Ｐを移動すると、回収口７０２と基板Ｐとの間において液体ＬＱが基板Ｐ上で薄い膜となり、基板Ｐ上の液体ＬＱが回収口７０２の外側（＋Ｙ側）に漏れ出すことがある。この現象は、回収口７０２と基板Ｐとの間の液体ＬＱのうち、回収口７０２近傍の液体はノズル部材７００に設けられた回収口７０２に回収されるが、基板Ｐの表面近傍の液体は基板Ｐとの表面張力などにより、回収口７０２から回収されずに、基板Ｐ上で薄膜となり、基板Ｐの移動とともに、回収口７０２の外側（ノズル部材７００と基板Ｐとの間の空間の外側）へ引き出されることによって生じる。このような現象が生じると、回収口７０２の外側に引き出された液体が、例えば滴となって基板Ｐ上に残留し、パターン欠陥などの引き起こす原因となる。しかしながら、本実施形態では、延在領域ＥＡ１及びＥＡ２に回収口が設けられていないので、走査方向（Ｙ方向）に基板Ｐを高速で移動しても、液体ＬＱが基板Ｐ上で薄い膜になることが抑制され、基板Ｐ上に液体ＬＱ（滴など）が残留するなどの不都合を防止することができる。

このように、第２ランド面７６はノズル部材７０の下面のうち露光光ＥＬの光路空間Ｋ１に対してＹ軸方向の所定領域に設けられ、回収口２２はノズル部材７０の下面のうち露光光ＥＬの光路空間Ｋ１に対してＸ軸方向の所定領域に設けられている。回収口２２は、第２ランド面７６とは異なる位置に設けられている。また、回収口２２（多孔部材２５の下面２６）は第１ランド面７５とほぼ面一に設けられているものの、第１ランド面７５には設けられていない。すなわち、回収口２２は、光路空間Ｋ１と、Ｙ軸方向において光路空間Ｋ１に対して第１ランド面７５の外側に設けられた第２ランド面７６との間以外の位置に設けられた構成となっている。換言すれば、回収口２２は、光路空間Ｋ１（開口部７４）に対してＹ軸方向に設けられた第２ランド面７６には無いとともに、第１ランド面７５のうち光路空間Ｋ１（開口部７４）に対してＹ軸方向側の領域にも無い（第１ランド面７５及び第２ランド面７６のいずれにもない）。

また、本実施形態においては、多孔部材２５はチタン材料で形成され、液体ＬＱに対して親液性（親水性）を有している。多孔部材２５をステンレス鋼（例えばＳＵＳ３１６）で形成し、その表面に親液性にするための親液化処理（表面処理）を施してもよい。親液化処理の一例としては、多孔部材２５に酸化クロムを付着する処理が挙げられる。具体的には、上述したような「GOLDEP」処理あるいは「GOLDEP WHITE」処理が挙げられる。また、このような表面処理を施すことにより、多孔部材２５から液体ＬＱへの不純物の溶出が抑えられる。もちろん、親液性の材料で多孔部材２５を形成してもよい。

次に、上述した構成を有する露光装置ＥＸを用いてマスクＭのパターン像を基板Ｐに露光する方法について説明する。

露光光ＥＬの光路空間Ｋ１を液体ＬＱで満たすために、制御装置ＣＯＮＴは、液体供給装置１１及び液体回収装置２１のそれぞれを駆動する。制御装置ＣＯＮＴの制御のもとで液体供給装置１１から送出された液体ＬＱは、供給管１３を流れた後、ノズル部材７０の供給流路１４を介して、供給口１２より投影光学系ＰＬの最終光学素子ＬＳ１と底板部７０Ｄとの間の内部空間Ｇ２に供給される。供給口１２から内部空間Ｇ２に供給された液体ＬＱは、底板部７０Ｄの上面７７に濡れ拡がるように流れ、開口部７４に達する。内部空間Ｇ２に液体ＬＱが供給されることにより、内部空間Ｇ２に存在していた気体部分は排気口１６及び／又は開口部７４を介して外部空間Ｋ３に排出される。したがって、内部空間Ｇ２に対する液体ＬＱの供給開始時に、内部空間Ｇ２に気体が留まってしまうといった不都合を防止することができ、光路空間Ｋ１の液体ＬＱ中に気体部分（気泡）が生成される不都合を防止することができる。

また、本実施形態においては、底板部７０Ｄの上面７７の排気口１６近傍には凹部７８が設けられている。これにより、最終光学素子ＬＳ１の下面Ｔ１と底板部７０Ｄの上面７７との間のギャップが小さくても、排気口１６近傍の流路は凹部７８によって広くなっているので、内部空間Ｇ２の気体部分を凹部７８及び排気口１６を介して外部空間Ｋ３に円滑に排出することができる。

なお、ここでは、排気流路１５の上端部は大気空間（外部空間）Ｋ３に接続されており、大気開放された状態となっているが、排気流路１５の上端部を真空系などの吸引装置と接続して、内部空間Ｇ２の気体を強制的に排気するようにしてもよい。

また、光路空間Ｋ１に対してＸ軸方向の両側に設けられた口（排気口）１６から内部空間Ｇ２に対して液体ＬＱを供給するとともに、光路空間Ｋ１に対してＹ軸方向の両側に設けられた口（供給口）１２から内部空間Ｇ２の気体部分を外部空間Ｋ３に排出するようにしてもよい。

内部空間Ｇ２に供給された液体ＬＱは、内部空間Ｇ２を満たした後、開口部７４を介して第１ランド面７５と基板Ｐ（基板ステージＰＳＴ）との間の空間に流入し、露光光ＥＬの光路空間Ｋ１を満たす。このように、最終光学素子ＬＳ１と底板部７０Ｄとの間の内部空間Ｇ２に供給口１２から液体ＬＱを供給することによって、最終光学素子ＬＳ１（投影光学系ＰＬ）と基板Ｐとの間の露光光ＥＬの光路空間Ｋ１が液体ＬＱで満たされる。

このとき、制御装置ＣＯＮＴの制御のもとで駆動されている液体回収装置２１は、単位時間当たり所定量の液体ＬＱを回収している。真空系を含む液体回収装置２１は、空間部２４を負圧にすることにより、回収口２２（多孔部材２５）と基板Ｐとの間に存在する液体ＬＱを、回収口２２を介して回収することができる。露光光ＥＬの光路空間Ｋ１に満たされている液体ＬＱは、ノズル部材７０の回収口２２を介して回収流路２４に流入し、回収管２３を流れた後、液体回収装置２１に回収される。

以上のように、制御装置ＣＯＮＴは、液浸機構１を使って、光路空間Ｋ１に対して単位時間当たり所定量の液体ＬＱを供給するとともに光路空間Ｋ１の液体ＬＱを単位時間当たり所定量で回収することで、投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間の露光光ＥＬの光路空間Ｋ１を満たす液体ＬＱと、ノズル部材７０と基板Ｐとの間の液体ＬＱとで、基板Ｐ上に液浸領域ＬＲを局所的に形成することができる。制御装置ＣＯＮＴは、露光光ＥＬの光路空間Ｋ１を液体ＬＱで満たした状態で、投影光学系ＰＬと基板Ｐとを相対的に移動しながらマスクＭのパターン像を投影光学系ＰＬ及び光路空間Ｋ１の液体ＬＱを介して基板Ｐ上に投影する。上述のように、本実施形態の露光装置ＥＸは、Ｙ軸方向を走査方向とする走査型露光装置であるため、制御装置ＣＯＮＴは、基板ステージＰＳＴを制御して、基板Ｐを５００〜７００ｍｍ／ｓｅｃ．の速度でＹ軸方向に移動しつつ基板Ｐ上に露光光ＥＬを照射して、基板Ｐを露光する。

このような走査型露光装置において、ノズル部材の構造によっては、例えば基板Ｐの走査速度（移動速度）の高速化に伴って、回収口２２を介して液体ＬＱを十分に回収することができず、光路空間Ｋ１に満たされた液体ＬＱが基板Ｐとノズル部材７０との間の空間よりも外側へ漏出する可能性がある。

例えば、図６に示すように、光路空間Ｋ１の走査方向（Ｙ軸方向）側に延在するノズル部材７０の下面の全域が基板Ｐの表面（ＸＹ平面）と略平行に設けられている場合、液浸領域ＬＲ（ノズル部材７０）に対して基板Ｐを走査方向（Ｙ軸方向）に移動すると、液浸領域ＬＲの液体ＬＱとその外側の空間との界面（気液界面）の移動距離及び／又は移動速度が大きくなり、液体ＬＱが漏出する可能性がある。すなわち、図６（Ａ）の模式図に示すような第１状態から、液浸領域ＬＲに対して基板Ｐを−Ｙ方向に所定速度で所定距離だけ移動し、図６（Ｂ）に示すような基板Ｐの移動中における第２状態となった場合、基板Ｐの移動速度（走査速度）が高速化されると、液浸領域ＬＲの液体ＬＱとその外側の空間との界面ＬＧの移動距離及び／又は移動速度が大きくなり、液浸領域ＬＲが拡大して、液浸領域ＬＲの液体ＬＱが回収口２２の外側に漏出する可能性がある。

また、図７の模式図に示すように、ノズル部材７０の下面にＸＹ平面と平行な平坦部と、この平坦部のＹ軸方向側に延在するとともに、ＸＹ平面に対して大きな角度（例えば５０°）を有する斜面部が形成されている場合、液浸領域ＬＲに対して基板Ｐを−Ｙ方向に所定速度で所定距離だけ移動すると、ノズル部材７０の下面と基板Ｐとの間に存在する液体ＬＱの一部がその段差部（平坦部と斜面部との境界）でノズル部材７０の下面から離れ（剥離し）、基板Ｐ上に液体ＬＱの薄膜を形成する可能性がある。その液体ＬＱの薄膜は回収口２２（多孔部材２５）とは離れているため、その液体ＬＱの薄膜部分が回収口２２の直下に存在しても、回収口２２によって回収できない状況が生じる可能性がある。すると、液体ＬＱが基板Ｐとノズル部材７０との間の空間よりも外側に漏出したり、基板Ｐ上に液体ＬＱが残留したりする不都合が生じる可能性がある。そして、基板Ｐの移動速度の高速化に伴って、基板Ｐ上に液体ＬＱの薄膜が形成される可能性が高くなるため、基板Ｐの移動の高速化に伴って、回収口２２を介して液体ＬＱを十分に回収することができなる可能性が高くなる。このように、光路空間Ｋ１の走査方向（Ｙ軸方向）側に延在するノズル部材７０の下面に回収口２２が形成されていない場合であっても、基板Ｐで液体ＬＱが薄い膜となり、基板Ｐ上に液体ＬＱの滴などが残留する可能性がある。

そこで、本実施形態においては、基板Ｐを移動した場合においても、液浸領域ＬＲの拡大を抑え、且つノズル部材７０の下面から液体ＬＱが離れないように、ノズル部材７０のうち基板Ｐと対向する下面の状態が最適化されている。具体的には、本実施形態においては、第１ランド面７５と第２ランド面７６との位置関係及び／又は、第１ランド面７５及び第２ランド面７６それぞれの表面状態が最適化されている。

上述のように、第１ランド面７５は基板Ｐの表面とほぼ平行な平坦面であって親液性を有しており、基板Ｐの表面と第１ランド面７５との間に存在する液体ＬＱは第１ランド面７５に密着し、露光光ＥＬの光路空間Ｋ１を満たすための液体ＬＱは、基板Ｐの表面と第１ランド面７５との間において良好に保持される。第２ランド面７６は、露光光ＥＬの光路空間Ｋ１からＹ軸方向に離れるにつれて基板Ｐとの間隔が大きくなる斜面であって親液性を有している。そして、第１ランド面７５と第２ランド面７６とがなす角度θ_Ａは１０度以下に設定されている。また、第２ランド面７６は第１ランド面７５に対して連続的に設けられている。更に、回収口２２は第２ランド面７６には設けられておらず、第１ランド面７５のうち光路空間Ｋ１に対して走査方向（Ｙ軸方向）にも設けられていない。このような第１ランド面７５と第２ランド面７６との位置関係、あるいは第１ランド面７５及び第２ランド面７６それぞれの表面状態が最適化されたノズル部材７０を用いた場合、露光光ＥＬの光路空間Ｋ１を液体ＬＱで満たした状態で基板Ｐを移動しても、液浸領域ＬＲの拡大を抑え、基板Ｐの表面と第２ランド面７６との間に存在する液体ＬＱを第２ランド面７６から離さない（剥離させない）ようにすることができる。

第１ランド面７５と第２ランド面７６との位置関係が最適化されていない場合、ノズル部材７０の下面に液体ＬＱを密着させることが困難となる可能性がある。また、光路空間Ｋ１（開口部７４）に対してＹ軸方向の第１ランド面７５及び／又は第２ランド面７６に回収口２２を設けた場合、上述したように、ノズル部材７０の下面の表面状態が変わることとなり、ノズル部材７０の下面から液体ＬＱが離れてしまう可能性がある。本実施形態においては、第１ランド面７５と第２ランド面７６との位置関係を最適化するとともに、回収口２２を光路空間Ｋ１（開口部７４）の走査方向（Ｙ軸方向）側には設けないようにしたので、第１ランド面７５及び第２ランド面７６によって、基板Ｐとの間で液体ＬＱを良好に保持することができ、図７、図２１を参照して説明したような液体ＬＱの薄膜が形成される現象の発生を抑え、液体ＬＱの漏出や残留を防止することができる。

そして、第２ランド面７６は、基板Ｐの表面に対して第１ランド面７５よりも離れた位置に設けられており、ノズル部材７０の下面のうち光路空間Ｋ１の走査方向（Ｙ軸方向）側には回収口２２が無いので、液浸領域ＬＲの界面の移動距離及び移動速度を抑え、液浸領域ＬＲの拡大（巨大化）を抑えることができる。

図８は、基板ＰをＹ軸方向に移動したときの液浸領域ＬＲの挙動を説明するための模式図である。図８（Ａ）に示す第１状態（第１ランド面７５と基板Ｐとの間に液体ＬＱが保持されている状態）から、基板Ｐを液浸領域ＬＲに対して−Ｙ方向に所定速度で所定距離だけ移動した場合、図８（Ｂ）に示すような第２状態となる。第２ランド面７６と基板Ｐとの間の距離は、第１ランド面７５と基板Ｐとの間の距離よりも大きく、第２ランド面７６と基板Ｐとの間の空間は、第１ランド面７５と基板Ｐとの間の空間よりも大きいため、図８（Ｂ）に示すような基板Ｐの移動中の第２状態においては、液浸領域ＬＲの液体ＬＱには、上方に移動する成分Ｆ１と、水平方向に移動する成分Ｆ２とが生成される。成分Ｆ１は、具体的には、第２ランド面７６に沿って斜め上方に移動する成分である。したがって、基板Ｐを移動したとき、図８（Ａ）に示すような第１状態での界面ＬＧと、図８（Ｂ）に示す基板Ｐの移動中の第２状態での界面ＬＧとの距離を比較的小さくすることができる。そのため、液浸領域ＬＲの拡大（巨大化）を抑制することができる。また、第１ランド面７５と第２ランド面７６とがなす角度θ_Ａは１０度以下と小さいため、液浸領域ＬＲに対して基板Ｐを高速に移動したとしても、界面ＬＧの形状の大きな変化を抑制することができる。

そして、図６、図７、図２１を参照して説明したような、液体ＬＱの漏出の原因となる現象、すなわち液浸領域ＬＲの界面ＬＧの移動距離及び／又は移動速度が大きくなったり、ノズル部材７０の下面から液体ＬＱが離れたりするなどの現象は、基板Ｐを高速で移動する走査方向（Ｙ軸方向）において生じやすいため、ノズル部材７０の下面のうち光路空間Ｋ１のＹ軸方向側の領域の状態を、液体ＬＱの漏出等を抑えることができるように最適化することで、基板ＰをＹ軸方向に移動しつつ基板Ｐを露光するときにおいても、液体ＬＱの漏出を抑えることができる。

そして、基板Ｐの複数のショット領域の露光中、基板Ｐ（基板ステージＰＳＴ）はＹ軸方向への移動だけでなく、Ｘ軸方向への移動も頻繁に行うので、液体ＬＱを回収する回収口２２を光路空間Ｋ１に対してＸ軸方向側に設けることにより、液体ＬＱを回収することができ、液浸領域ＬＲの拡大を抑えることができる。また、本実施形態においては、回収口２２に設けられた多孔部材２５の下面２６は基板Ｐの表面とほぼ平行に設けられており、回収口２２の多孔部材２５の下面２６と第１ランド面７５とはほぼ面一なので、回収口２２（多孔部材２５の下面２６）は基板Ｐに近い位置に配置された構成となっている。したがって、回収口２２は液体ＬＱを良好に効率よく回収することができる。

以上説明したように、ノズル部材７０は、第１ランド面７５と、基板Ｐの表面に対して第１ランド面７５よりも離れた位置に設けられた第２ランド面７６とを有しているので、液浸領域ＬＲの巨大化を抑制することができる。したがって、液浸領域ＬＲの巨大化に伴うノズル部材７０巨大化や基板ステージＰＳＴの巨大化、あるいは基板ステージＰＳＴの移動ストロークの増大を防止し、ひいては露光装置ＥＸ全体の巨大化を防止することができる。

また、図３で示したように、第２ランド面７６及び第２ランド面７６と露光光ＥＬの光路空間Ｋ１との間に回収口２２を設けていないので、例えば基板ＰをＹ軸方向（走査方向）に移動する場合にも、ノズル部材７０の下面から液体ＬＱが離れにくくなっている。従って、基板Ｐ上における液体ＬＱの薄膜形成を防止することができる。すなわち、回収口２２を、第２ランド面７６以外の位置であって、露光光ＥＬの光路空間Ｋ１と光路空間Ｋ１に対してＹ軸方向に離れた位置に設けられた第２ランド面７６との間の領域以外の位置（すなわち、第１ランド面７５のうち光路空間Ｋ１に対してＹ軸方向の所定領域以外の位置）に設けることにより、ノズル部材７０の下面のＹ軸方向における表面状態を、液体ＬＱを密着させるために最適な状態にすることができる。したがって、基板ＰをＹ軸方向に移動させた場合でも、液体ＬＱをノズル部材７０の下面と基板Ｐの表面との間で良好に保持することができる。

また、ノズル部材７０は、光路空間Ｋ１の周囲に、基板Ｐの表面と近接して配置される第１ランド面７５を有しているため、基板Ｐとの間で液体ＬＱを良好に保持することができる。したがって、基板Ｐの露光中等においても、露光光ＥＬの光路空間Ｋ１を液体ＬＱで確実に満たすことができ、光路空間Ｋ１から液体ＬＱが無くなってしまう状態（液切れ状態）、すなわち光路空間Ｋ１に気体部分が生成されてしまうといった不都合を防止することができる。

また、本実施形態においては、Ｙ軸方向（走査方向）における第１ランド面７５の幅Ｄ１は、Ｙ軸方向における開口部７４の幅Ｄ２よりも小さくなっている。また、Ｙ軸方向における第１ランド面７５の幅Ｄ１は、Ｘ軸方向における第１ランド面７５の幅Ｄ３よりも小さくなっている。このように、第１ランド面７５のＹ軸方向の幅Ｄ１を第１ランド面７５と基板Ｐとの間で液体ＬＱを保持可能な範囲において可能な限り小さくして第１ランド面７５のコンパクト化を図ることにより、その第１ランド面７５に応じて形成される液浸領域ＬＲをコンパクト化することができる。したがって、露光装置ＥＸ全体のコンパクト化を実現することができる。

また、本実施形態においては、ノズル部材７０は排気口１６を有しているため、光路空間Ｋ１を満たす液体ＬＱ中に気泡が生成されてしまう不都合が抑制される。したがって、露光光ＥＬを基板Ｐまで良好に到達させることができる。

なお本実施形態においては、第２ランド面７６は、平面視において、光路空間Ｋ１からＹ軸方向に離れるにつれて漸次拡がる台形状に設けられ、回収口２２（多孔部材２５）は、平面視において、光路空間Ｋ１からＸ軸方向に離れるにつれて漸次拡がる台形状に設けられているが、他の形状でもよく、例えば第２ランド面７６を、光路空間Ｋ１（開口部７４）のＸ軸方向の幅と同じ幅を有する平面視長方形状に形成してもよい。そして、ノズル部材７０の下面のうち、平面視長方形状の第２ランド面７６が設けられた以外の領域を回収口２２とすることができる。この場合においても、回収口２２は、第２ランド面７６以外の（と異なる）位置であって、且つ露光光ＥＬの光路空間Ｋ１（開口部７４）と第２ランド面７６との間の領域以外の位置に設けられた構成となり、光路空間Ｋ１のＹ軸方向側の領域（延在領域ＥＡ１）には、液体ＬＱを回収するための回収口２２が無い構成となる。このような構成であっても、基板ＰをＹ軸方向に移動しつつ露光したときの液浸領域ＬＲの巨大化や液体ＬＱの漏出を防止することができる。

なお本実施形態においては、第２ランド面７６は平面であるが、曲面であってもよい。

あるいは、第２ランド面７６は複数の平面の組み合わせであってもよい。例えば、光路空間Ｋ１に対して第１ランド面７５の外側に、第２ランド面７６の一部として第１ランド面７５と所定角度θ１を有する第１平面を形成し、更に光路空間Ｋ１に対して第１平面の外側に、第２ランド面７６の一部として第１ランド面７５と所定角度θ２（θ１≠θ２、例えば、θ１＝４°、θ２＝０°）を有する第２平面を設けるようにしてもよい。

なお本実施形態においては、回収口２２（多孔部材２５）は、ノズル部材７０の下面のうち第１ランド面７５に対してＸ軸方向両側のそれぞれに１つずつ設けられているが、複数に分割されていてもよい。

なお、本実施形態においては、Ｙ軸方向における第１ランド面７５の幅Ｄ１は、Ｙ軸方向における開口部７４の幅Ｄ２よりも小さいが、Ｙ軸方向における第１ランド面７５の幅Ｄ１を、Ｙ軸方向における開口部７４の幅Ｄ２よりも大きくしてもよい。また、本実施形態においては、第１ランド面７５の外形は、Ｘ軸方向を長手方向とする矩形状（長方形状）であるが、例えば正方形状や円形状など任意の形状であってもよい。

＜第２実施形態＞
次に第２実施形態について図９〜図１２を参照しながら説明する。以下の説明において上述の第１実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。

図９は第２実施形態に係るノズル部材７０近傍を示す概略斜視図の一部破断図、図１０はノズル部材７０を下側から見た斜視図、図１１はＸＺ平面と平行な側断面図、図１２はＹＺ平面と平行な側断面図である。

ノズル部材７０の底板部７０Ｄの中央部には、露光光ＥＬが通過する開口部７４が形成されている。開口部７４は、投影領域ＡＲに応じた形状を有しており、上述の第１実施形態同様、Ｘ軸方向（非走査方向）を長手方向とするスリット状（略矩形状）に形成されている。ノズル部材７０の下面における開口部７４の周囲には第１ランド面７５が設けられている。第１ランド面７５は、基板Ｐの表面と対向するように、且つ露光光ＥＬの光路空間Ｋ１（投影領域ＡＲ）を囲むように設けられている。第１ランド面７５は、基板Ｐの表面（ＸＹ平面）と略平行となるように設けられている。第１ランド面７５は、ノズル部材７０のうち、基板ステージＰＳＴに保持された基板Ｐに最も近い位置に設けられている。

そして、第１ランド面７５は、投影光学系ＰＬの下面Ｔ１と基板Ｐとの間において、露光光ＥＬの光路空間Ｋ１（投影領域ＡＲ）を囲むように設けられている。上述のように、第１ランド面７５は、底板部７０Ｄの下面の一部の領域に設けられたものであって、露光光ＥＬが通過する開口部７４を囲むように、開口部７４の周囲に設けられた構成となっている。図１０に示すように、本実施形態における第１ランド面７５の外形は、略正方形状に形成されており、開口部７４は、第１ランド面７５のほぼ中央部に設けられている。そして、Ｙ軸方向における第１ランド面７５の幅は、Ｙ軸方向における開口部７４の幅よりも大きくなっている。なお、上述の第１実施形態同様、第１ランド面７５の外形を、Ｘ軸方向を長手方向とする矩形状にしてもよい。そして、Ｙ軸方向における第１ランド面７５の幅を、Ｙ軸方向における開口部７４の幅よりも小さくしてもよい。あるいは、第１ランド面７５の外形は、円形状など任意の形状であってもよい。

また、ノズル部材７０の下面は、基板ステージＰＳＴに保持された基板Ｐの表面と対向するように、且つ露光光ＥＬの光路空間Ｋ１に対して第１ランド面７５の外側に設けられ、基板Ｐの表面に対して第１ランド面７５よりも離れた位置に設けられた第２ランド面７６を有している。

本実施形態の第２ランド面７６は、基板Ｐの表面（ＸＹ平面）と略平行に、且つ基板Ｐの表面に対して第１ランド面よりも離れた位置に設けられている。そして、基板Ｐの表面と略平行に設けられた第１ランド面７５と、基板Ｐの表面と略平行に設けられた第２ランド面７６との間には段差Ｄ４が設けられている。

本実施形態においては、第２ランド面７６は、Ｙ軸方向において露光光ＥＬの光路空間Ｋ１に対して第１ランド面７５の外側に設けられているとともに、Ｘ軸方向において露光光ＥＬの光路空間Ｋ１に対して第１ランド面７５の外側に設けられている。すなわち、本実施形態においては、第２ランド面７６は、第１ランド面７５を囲むように設けられている。

そして、本実施形態においても、液体ＬＱが基板Ｐの表面と第２ランド面７６との間に存在する場合において、その基板Ｐの表面と第２ランド面７６との間に存在する液体ＬＱが第２ランド面７６から離れないように、第１ランド面７５と第２ランド面７６とが所定の位置関係で設けられた状態となっている。具体的には、光路空間Ｋ１を液体ＬＱで満たした状態で基板ＰをＹ軸方向に移動した場合でも、基板Ｐの表面と第２ランド面７６との間に存在する液体ＬＱが第２ランド面７６から離れないように（剥離しないように）なっている。

そして、第１ランド面７５と第２ランド面７６との段差Ｄ４は１ｍｍ以下に設定されている（図１２参照）。本実施形態においては、第１ランド面７５と第２ランド面７６との段差Ｄ４は、約０．５ｍｍに設定されている。

第１ランド面７５及び第２ランド面７６は、第１実施形態と同様に、それぞれ液体ＬＱに対して親液性を有している。また、第１ランド面７５と液体ＬＱとの接触角と、第２ランド面７６と液体ＬＱとの接触角とはほぼ等しくなっている。

ノズル部材７０は、露光光ＥＬの光路空間Ｋ１を満たすための液体ＬＱを供給する供給口１２と、露光光ＥＬの光路空間Ｋ１を満たすための液体ＬＱを回収する回収口２２とを備えている。供給口１２は、最終光学素子ＬＳ１と上面７７との間の内部空間Ｇ２近傍に設けられており、内部空間Ｇ２と接続されている。また、ノズル部材７０は、内部空間Ｇ２と外部空間とを連通させるための排気口１６を有している。排気口１６は、最終光学素子ＬＳ１と上面７７との間の内部空間Ｇ２近傍に設けられており、内部空間Ｇ２と接続されている。なお、第１実施形態で述べたように、排気口１６から強制排気するようにしてもよい。なお、上述の第１実施形態と同様に、光路空間Ｋ１に対してＸ軸方向の両側に設けられた口（排気口）１６から内部空間Ｇ２に対して液体ＬＱを供給するとともに、光路空間Ｋ１に対してＹ軸方向の両側に設けられた口（供給口）１２から内部空間Ｇ２の気体部分を外部空間Ｋ３に排出するようにしてもよい。

回収口２２は、基板ステージＰＳＴに保持された基板Ｐの上方において、その基板Ｐの表面と対向する位置に設けられている。回収口２２と基板Ｐの表面とは所定距離だけ離れている。回収口２２は、投影光学系ＰＬの像面近傍の光路空間Ｋ１に対して供給口１２の外側に設けられている。

本実施形態の回収口２２は、ノズル部材７０の下面の一部である第２ランド面７６に設けられている。回収口２２は、第２ランド面７６の複数の所定位置のそれぞれに設けられている。そして、回収口２２のそれぞれは、露光光ＥＬの断面視における大きさ、すなわち投影領域ＡＲの大きさよりも小さく設けられている。なお、この実施形態における「露光光ＥＬの断面視における大きさ」とは、基板Ｐと最終光学素子ＬＳ１との間の光路空間Ｋ１における露光光のＥＬの断面視における大きさであり、ほぼ投影領域ＡＲの大きさに近似することができる。図１０に示すように、本実施形態においては、回収口２２のそれぞれは平面視略三角形状に設けられている。なお、回収口２２の平面視における形状としては、矩形状や円形状など任意の形状であってもよい。また、回収口２２は、第２ランド面７６のうち、光路空間Ｋ１（開口部７４）に対してＹ軸方向に沿った複数の所定位置、及び光路空間Ｋ１（開口部７４）に対してＸ軸方向に沿った複数の所定位置のそれぞれに設けられている。具体的には、回収口２２は、第２ランド面７６のうち、第１ランド面７５の＋Ｙ側端部近傍の位置と、その位置よりも光路空間Ｋ１に対して＋Ｙ方向に離れた位置とのそれぞれに設けられているとともに、第１ランド面７５の−Ｙ側端部近傍の位置と、その位置よりも光路空間Ｋ１に対して−Ｙ方向に離れた位置とのそれぞれに設けられている。更に、回収口２２は、第２ランド面７６のうち、第１ランド面７５の＋Ｘ側端部近傍の位置と、その位置よりも光路空間Ｋ１に対して＋Ｘ方向に離れた位置とのそれぞれに設けられているとともに、第１ランド面７５の−Ｘ側端部近傍の位置と、その位置よりも光路空間Ｋ１に対して−Ｘ方向に離れた位置とのそれぞれに設けられている。すなわち、本実施形態においては、回収口２２は８つの所定位置のそれぞれに設けられている。なお、液体ＬＱが第２ランド面７６から離れないように、液体ＬＱを回収可能であれば、回収口２２の数や配置は任意に設定可能である。また、ここでは、各回収口２２の大きさや形状は互いに等しいが、異なっていてもよい。

また、第１実施形態と同様に、各回収口２２のそれぞれには多孔部材２５が配置されている。多孔部材２５のそれぞれは、基板ステージＰＳＴに保持された基板Ｐと対向する平坦な下面２６を有している。多孔部材２５は、その下面２６が基板ステージＰＳＴに保持された基板Ｐの表面（すなわちＸＹ平面）とほぼ平行になるように回収口２２に設けられている。また、回収口２２に設けられた多孔部材２５の下面２６と、第２ランド面７６とは、基板Ｐの表面に対してほぼ同じ位置（高さ）に設けられている。すなわち、第２ランド面７６と多孔部材２５の下面２６とは連続するようにほぼ面一となっている。液体ＬＱは、回収口２２に配置された多孔部材２５を介して回収されるため、回収口２２は、第２ランド面７６とほぼ面一な平坦面（下面）２６に形成された構成となっている。また、多孔部材２５は、第１実施形態と同様に、液体ＬＱに対して親液性（親水性）を有している。

次に、上述した構成を有する露光装置ＥＸを用いてマスクＭのパターン像を基板Ｐに露光する方法について説明する。

上述のように、第１ランド面７５は基板Ｐの表面とほぼ平行な平坦面であって親液性を有しており、基板Ｐの表面と第１ランド面７５との間に存在する液体ＬＱは第１ランド面７５に密着し、露光光ＥＬの光路空間Ｋ１を満たすための液体ＬＱは、基板Ｐの表面と第１ランド面７５との間において良好に保持される。第２ランド面７６は、基板Ｐの表面とほぼ平行に、且つ基板Ｐの表面に対して第１ランド面７５よりも離れた位置に設けられており、親液性を有している。そして、第１ランド面７５と第２ランド面７６との段差Ｄ４は１ｍｍ以下に設定されている。更に、回収口２２は、露光光ＥＬの断面視における大きさよりも小さく設けられている。このような第１ランド面７５と第２ランド面７６との位置関係、あるいは第１ランド面７５及び第２ランド面７６それぞれの表面状態が最適化されたノズル部材７０を用いた場合、光路空間Ｋ１を液体ＬＱで満たした状態で基板Ｐを移動しても、液浸領域ＬＲの拡大を抑え、基板Ｐの表面と第２ランド面７６との間に存在する液体ＬＱを第２ランド面７６から離さないようにすることができる。

すなわち、本実施形態においても、基板Ｐを移動した場合において、液浸領域ＬＲの拡大を抑え、且つノズル部材７０の下面から液体ＬＱが離れないように、ノズル部材７０のうち基板Ｐと対向する下面の状態が最適化されている。

図１３は、基板ＰをＹ軸方向に移動したときの液浸領域ＬＲの挙動を説明するための模式図である。図１３（Ａ）に示す第１状態（第１ランド面７５と基板Ｐとの間に液体ＬＱが保持されている状態）から、基板Ｐを液浸領域ＬＲに対して−Ｙ方向に所定速度で所定距離だけ移動した場合、図１３（Ｂ）に示すような第２状態となる。第２ランド面７６と基板Ｐとの間の距離は、第１ランド面７５と基板Ｐとの間の距離よりも大きく、第２ランド面７６と基板Ｐとの間の空間は、第１ランド面７５と基板Ｐとの間の空間よりも大きいため、図１３（Ｂ）に示すような基板Ｐの移動中の第２状態においては、液浸領域ＬＲの液体ＬＱには、上方に移動する成分Ｆ１’と、水平方向に移動する成分Ｆ２とが生成される。したがって、基板Ｐを移動したとき、図１３（Ａ）に示すような第１状態での界面ＬＧと、図１３（Ｂ）に示す基板Ｐの移動中の第２状態での界面ＬＧとの距離を比較的小さくすることができる。そのため、液浸領域ＬＲの拡大（巨大化）を抑制することができる。また、段差Ｄ４が大きいと、液体ＬＱが第２ランド面７６から剥離する可能性があるが、段差Ｄ４が１ｍｍ以下と小さいため、液体ＬＱが第２ランド面７６から離れて基板Ｐ上に液体ＬＱの薄膜が形成されるのを防止することができる。また、段差Ｄ４は１ｍｍ以下と小さいため、液浸領域ＬＲに対して基板Ｐを高速に移動したとしても、界面ＬＧの形状の大きな変化を抑制することができる。

そして、第２ランド面７６には回収口２２が設けられているものの、その大きさは第２ランド面７６からの液体ＬＱの剥離を防止するように十分に小さく形成されているため、ノズル部材７０の下面のＹ軸方向における表面状態が、液体ＬＱを保持するために最適な状態となっている。したがって、基板ＰをＹ軸方向に移動させた場合でも、液体ＬＱをノズル部材７０の下面と基板Ｐとの間で良好に保持することができる。

また、回収口２２のそれぞれの大きさは小さいものの、回収口２２は第２ランド面７６の複数の所定位置のそれぞれに設けられているため、液体ＬＱを良好に回収することができる。

以上説明したように、本実施形態においても、液浸領域ＬＲの巨大化を抑制することができる。また、回収口２２を、第２ランド面７６に設けるとともに、その回収口２２の大きさを、液体ＬＱを回収可能な範囲で可能な限り小さくすることで、ノズル部材７０の下面のＹ軸方向における表面状態を、液体ＬＱを保持するために最適な状態にすることができる。したがって、基板ＰをＹ軸方向に移動させた場合でも、液体ＬＱをノズル部材７０の下面と基板Ｐとの間で良好に保持することができる。

なお、第２実施形態の第２ランド面７６は、基板Ｐの表面と略平行に、且つ基板Ｐの表面に対して第１ランド面７５よりも離れた位置に設けられているが、その第２ランド面７６を、露光光ＥＬの光路空間Ｋ１からＹ軸方向に離れるにつれて基板Ｐの表面との間隔が大きくなる斜面とし、その斜面からなる第２ランド面７６に、投影領域ＡＲの大きさよりも小さい回収口２２を設けるようにしてもよい。

なお、上述の第１実施形態の第２ランド面７６は、露光光ＥＬの光路空間Ｋ１からＹ軸方向に離れるにつれて基板Ｐの表面との間隔が大きくなる斜面であるが、その第２ランド面７６を、基板Ｐの表面と略平行に、且つ基板Ｐの表面に対して第１ランド面７５よりも離れた位置に設けてもよい。そして、回収口２２を、第２ランド面７６以外の位置であって、且つ露光光ＥＬの光路空間Ｋ１と第２ランド面７６との間以外の位置に配置すればよい。また、その回収口２２の大きさを、露光光ＥＬの断面視における大きさよりも小さくしてもよい。

なお、上述の各実施形態において、基板Ｐの表面と第２ランド面７６との間に存在する液体ＬＱが第２ランド面７６から離れないように、第１ランド面７５と第２ランド面７６とが所定の位置関係で設けられていれば、例えば第１ランド面７５と第２ランド面７６との間に段差が設けられ、且つ第１ランド面７５に対して第２ランド面７６が傾斜していてもよい。

また、上述の各実施形態においては、第１ランド面７５と液体ＬＱとの接触角と、第２ランド面７６と液体ＬＱとの接触角とはほぼ等しいが、異なっていてもよい。 この実施形態では、図３に示した延在領域ＥＡ１及びＥＡ２に回収口が存在する場合を示したが、回収口の大きさが露光光の断面積より小さいために、基板Ｐ上で液体ＬＱが薄い膜となる可能性が小さい。

＜第３実施形態＞
次に第３実施形態について図１４〜図１７を参照しながら説明する。図１４は第３実施形態に係るノズル部材７０近傍を示す概略斜視図の一部破断図、図１５はノズル部材７０を下側から見た斜視図、図１６はＸＺ平面と平行な側断面図、図１７はＹＺ平面と平行な側断面図である。

ノズル部材７０の底板部７０Ｄの中央部には、露光光ＥＬが通過する開口部７４が形成されている。開口部７４は、投影領域ＡＲに応じた形状を有しており、上述の第１実施形態同様、Ｘ軸方向を長手方向とするスリット状に形成されている。ノズル部材７０の下面における開口部７４の周囲には第１ランド面７５が設けられている。第１ランド面７５は、基板Ｐの表面と対向するように、且つ露光光ＥＬの光路空間Ｋ１を囲むように設けられている。第１ランド面７５は、基板Ｐの表面（ＸＹ平面）と略平行となるように設けられている。本実施形態の第１ランド面７５の外形は、上述の第１実施形態同様、Ｘ軸方向を長手方向とする矩形状である。

また、ノズル部材７０の下面は、基板ステージＰＳＴに保持された基板Ｐの表面と対向するように、且つＹ軸方向において露光光ＥＬの光路空間Ｋ１に対して第１ランド面７５の外側に設けられ、基板Ｐの表面に対して第１ランド面７５よりも離れた位置に設けられた第２ランド面７６を有している。本実施形態の第２ランド面７６は、上述の第１実施形態同様、露光光ＥＬの光路空間Ｋ１からＹ軸方向に離れるにつれて基板Ｐの表面との間隔が大きくなる斜面である。第２ランド面７６は、第１ランド面７５に対して走査方向一方側（＋Ｙ側）と他方側（−Ｙ側）とのそれぞれに設けられている。また、上述の第１実施形態同様、第２ランド面７６のうち光路空間Ｋ１に最も近いエッジと第１ランド面７５のエッジとが接続されており、第１ランド面７５と第２ランド面７６とがなす角度θ_Ａは１０度以下に設定されている。第１ランド面７５及び第２ランド面７６は、それぞれ液体ＬＱに対して親液性を有している。第１ランド面７５と液体ＬＱとの接触角と、第２ランド面７６と液体ＬＱとの接触角とはほぼ等しくなっている。光路空間Ｋ１を液体ＬＱで満たした状態で基板Ｐを移動した場合でも、基板Ｐの表面と第２ランド面７６との間に存在する液体ＬＱが第２ランド面７６から離れないようになっている。

また、ノズル部材７０の下面は、基板ステージＰＳＴに保持された基板Ｐの表面と対向するように、且つＸ軸方向において露光光ＥＬの光路空間Ｋ１に対して第１ランド面７５の外側に設けられ、基板Ｐの表面に対して第１ランド面７５よりも離れた位置に設けられた第３ランド面８０を有している。第３ランド面８０は、露光光ＥＬの光路空間Ｋ１からＸ軸方向に離れるにつれて基板Ｐの表面との間隔が大きくなる斜面である。第３ランド面８０は、第１ランド面７５に対して走査方向と交差する方向一方側（＋Ｘ側）と他方側（−Ｘ側）とのそれぞれに設けられている。第１ランド面７５と第３ランド面８０とがなす角度θ_Ｂは、例えば４０度以下に設定されている（図１６参照）。

第３ランド面８０は、液体ＬＱに対して親液性を有している。また、第１ランド面７５と液体ＬＱとの接触角と、第３ランド面８０と液体ＬＱとの接触角とはほぼ等しくなっている。そして、液体ＬＱが基板Ｐの表面と第３ランド面８０との間に存在する場合において、その基板Ｐの表面と第３ランド面８０との間に存在する液体ＬＱが第３ランド面８０から離れないように、第１ランド面７５と第３ランド面８０とが所定の位置関係で設けられている。具体的には、光路空間Ｋ１を液体ＬＱで満たした状態で基板Ｐを移動した場合でも、基板Ｐの表面と第３ランド面８０との間に存在する液体ＬＱが第３ランド面８０から離れないように、第３ランド面８０が形成されている。

図１５に示すように、第２ランド面７６は、平面視において、露光光ＥＬの光路空間Ｋ１からＹ軸方向に離れるにつれて漸次拡がる形状（台形状）に設けられている。第３ランド面８０は、平面視において、露光光ＥＬの光路空間Ｋ１からＸ軸方向に離れるにつれて漸次拡がる形状（台形状）に設けられている。そして、第２ランド面７６のエッジと第３ランド面８０のエッジとが接続されている。

回収口２２は、露光光ＥＬの光路空間Ｋ１と第３ランド面８０との間に設けられている。具体的には、回収口２２は、第１ランド面７５と第３ランド面８０との間に設けられている。回収口２２には多孔部材２５が配置されている。本実施形態においては、回収口２２は平面視矩形状に形成されている。そして、回収口２２は、Ｙ軸方向に関して第１ランド面７５とほぼ同じ大きさに設けられている。

多孔部材２５は、基板ステージＰＳＴに保持された基板Ｐと対向する下面２６を有している。多孔部材２５の基板Ｐと対向する下面２６はほぼ平坦である。多孔部材２５は、その下面２６が基板ステージＰＳＴに保持された基板Ｐの表面（すなわちＸＹ平面）とほぼ平行になるように回収口２２に設けられている。

回収口２２に設けられた多孔部材２５の下面２６と第１ランド面７５とは、基板Ｐの表面に対してほぼ同じ位置（高さ）に設けられており、第１ランド面７５と多孔部材２５の下面２６とは連続するようにほぼ面一となっている。また、光路空間Ｋ１に対して＋Ｘ側に設けられた多孔部材２５の下面２６のうち露光光ＥＬの光路空間Ｋ１に最も遠い＋Ｘ側のエッジと、第３ランド面８０の−Ｘ側のエッジとが基板Ｐに対してほぼ同じ位置（高さ）に設けられ、光路空間Ｋ１に対して−Ｘ側に設けられた多孔部材２５の下面２６のうち露光光ＥＬの光路空間Ｋ１に最も遠い−Ｘ側のエッジと、第３ランド面８０の＋Ｘ側のエッジとが基板Ｐに対してほぼ同じ位置（高さ）に設けられている。

このように、本実施形態においては、上述の第１実施形態同様、光路空間Ｋ１に対して走査方向と平行な方向（Ｙ軸方向）には、液体ＬＱを回収するための回収口２２が無い構成となっている。

また、上述の第１、第２実施形態同様、最終光学素子ＬＳ１の下面Ｔ１と底板部７０Ｄの上面７７との間の内部空間Ｇ２近傍には、光路空間Ｋ１に液体ＬＱを供給するための供給口１２が設けられている。供給口１２は、光路空間Ｋ１を挟んだＹ軸方向両側のそれぞれの所定位置に設けられている。最終光学素子ＬＳ１の下面Ｔ１と底板部７０Ｄの上面７７との間の内部空間Ｇ２近傍には、内部空間Ｇ２と外部空間Ｋ３とを連通させるための排気口１６が設けられている。排気口１６は、光路空間Ｋ１を挟んだＸ軸方向両側のそれぞれの所定位置に設けられている。

底板部７０Ｄの上面７７のうち供給口１２近傍には第１凹部７９が設けられている。また、底板部７０Ｄの上面７７のうち排気口１６近傍には第２凹部７８が設けられている。第１凹部７９は、供給口１２と開口部７４とを接続するように、底板部７０Ｄの上面７７に形成されている。同様に、第２凹部７８は、排気口１６と開口部７４とを接続するように、底板部７０Ｄの上面７７に形成されている。

次に、上述した構成を有する露光装置ＥＸを用いてマスクＭのパターン像を基板Ｐに露光する方法について説明する。

露光光ＥＬの光路空間Ｋ１を液体ＬＱで満たすために、制御装置ＣＯＮＴは、液体供給装置１１及び液体回収装置２１のそれぞれを駆動する。制御装置ＣＯＮＴの制御のもとで液体供給装置１１から送出された液体ＬＱは、供給口１２より内部空間Ｇ２に供給される。本実施形態においては、底板部７０Ｄの上面７７に第１凹部７９が設けられているので、供給口１２から供給された液体ＬＱは、第１凹部７９を含む上面７７を介して開口部７４まで円滑に流れる。また、内部空間Ｇ２に液体ＬＱが供給されることにより、内部空間Ｇ２に存在していた気体部分は排気口１６及び／又は開口部７４を介して外部空間Ｋ３に排出される。ここで、底板部７０Ｄの上面７７の排気口１６近傍には第２凹部７８が設けられているため、内部空間Ｇ２の気体部分を第１凹部７８及び排気口１６を介して外部空間Ｋ３に円滑に排出することができる。なお、本実施形態においても、排気流路１５の上端部に真空系などの吸引装置と接続して、内部空間Ｇ２の気体を強制的に排気するようにしてもよい。

また、光路空間Ｋ１に対してＸ軸方向に設けられた口（排気口）１６から内部空間Ｇ２に対して液体ＬＱを供給するとともに、光路空間Ｋ１に対してＹ軸方向に設けられた口（供給口）１２から内部空間Ｇ２の気体部分を外部空間Ｋ３に排出するようにしてもよい。この場合においても、第１凹部７９及び第２凹部７８によって、液体ＬＱを円滑に流すことができるとともに、内部空間Ｇ２の気体を円滑に排出することができる。

光路空間Ｋ１を液体ＬＱで満たした後、制御装置ＣＯＮＴは、光路空間Ｋ１に対して基板ＰをＹ軸方向に移動しつつ、液体ＬＱを介して基板Ｐに露光光ＥＬを照射する。ノズル部材７０は第２ランド面７６を有しているので、基板ＰをＹ軸方向に移動しつつ基板Ｐを露光するときにおいても、液体ＬＱの漏出を抑えることができる。

また、光路空間Ｋ１に対して基板ＰをＸ軸方向に移動するときにおいても、ノズル部材７０は第３ランド面８０を有しているので、液体ＬＱの漏出を抑えることができる。また、第３ランド面８０によって、基板Ｐの表面との間で液体ＬＱを良好に保持することができ、図７を参照して説明したような液体ＬＱの薄膜が形成される現象の発生を抑え、液体ＬＱの漏出や残留を抑えることができる。そして、光路空間Ｋ１（第１ランド面７５）と第３ランド面８０との間に設けられた回収口２２を介して液体ＬＱを良好に回収することができる。回収口２２の下面２６は第１ランド面７５とほぼ面一なので、液体ＬＱと良好に接触することができ、回収口２２を介して液体ＬＱを良好に回収することができる。

以上説明したように、本実施形態においても、液浸領域ＬＲの巨大化を抑制し、露光光ＥＬの光路空間Ｋ１を液体ＬＱで所望状態に満たすことができる。

なお、第３実施形態においては、第３ランド面８０は、平面視において、光路空間Ｋ１からＹ軸方向に離れるにつれて漸次拡がる台形状に設けられているが、例えば平面視長方形状など他の形状であってもよい。同様に、第２ランド面７６も、例えば平面視長方形状など他の形状であってもよい。

なお、第３実施形態においては、第３ランド面８０は平面であるが、曲面であってもよい。また、第３ランド面８０は複数の平面の組み合わせであってもよい。同様に、第２ランド面７６も、曲面であってもよいし、複数の平面の組み合わせであってもよい。

なお、第３実施形態においては、第２ランド面７６は、露光光ＥＬの光路空間Ｋ１からＹ軸方向に離れるにつれて基板Ｐの表面との間隔が大きくなる斜面であり、第３ランド面８０は、露光光ＥＬの光路空間Ｋ１からＸ軸方向に離れるにつれて基板Ｐの表面との間隔が大きくなる斜面であるが、第２ランド面７６及び第３ランド面８０のいずれか一方が、第２実施形態で説明したような、第１ランド面７５との間に段差を有するものであってもよい。

なお、第３実施形態においては、回収口２２（多孔部材２５）は、ノズル部材７０の下面のうち第１ランド面７５に対してＸ軸方向両側のそれぞれに１つずつ設けられているが、複数に分割されていてもよい。また、第２ランド面７６の一部や第３ランド面８０の一部に回収口２２が設けられていてもよい。

なお、第３実施形態においては、第１ランド面７５の外形は、Ｘ軸方向を長手方向とする矩形状であるが、例えば正方形状や円形状など任意の形状であってもよい。

また、第３実施形態においては、第１ランド面７５と液体ＬＱとの接触角と、第２ランド面７６と液体ＬＱとの接触角とはほぼ等しいが、異なっていてもよい。同様に、第１ランド面７５と液体ＬＱとの接触角と、第３ランド面８０と液体ＬＱとの接触角とが異なっていてもよい。

＜第４実施形態＞
次に第４実施形態について図１８を参照しながら説明する。図１８はノズル部材７０と基板ステージＰＳＴとの位置関係を模式的に示した図である。なお、本実施形態においては、ノズル部材７０として、上述の第１実施形態で説明したノズル部材７０を例にして説明する。

図１８において、基板ステージＰＳＴは、基板Ｐを保持して移動するとともに、基板Ｐの周囲に、第１ランド面７５及び第２ランド面７６との間で液体ＬＱを保持可能な上面９４を有している。上述のように、第１ランド面７５、及び第２ランド面７６は、基板ステージＰＳＴの上面９４及び基板Ｐの表面の少なくとも一方との間で液体ＬＱを保持可能に設けられている。そして、基板ステージＰＳＴの可動範囲は、Ｙ軸方向（走査方向）において、基板ステージＰＳＴに保持された基板Ｐの表面及び基板ステージＰＳＴの上面９４の少なくとも一方に液浸領域ＬＲを形成した状態で、基板ステージＰＳＴの上面９４の端部９４Ｅが第２ランド面７６の端部７６Ｅよりも露光光ＥＬの光路空Ｋ１に近い位置に移動可能に設定されている。

このように基板ステージの位置制御を設定したのは、発明者による以下のような発見に基づく。液浸領域は、基板Ｐ及び基板ステージＰＳＴの上面９４と、ノズル部材７０のような部材との間に液体を供給することで形成される。ここで、図１８に示すように、例えば、ノズル部材７０の下面の一部が基板Ｐの表面、及び基板ステージＰＳＴの上面９４のいずれとも対向しないような状況になると液浸領域ＬＲの液体が基板ステージＰＳＴからこぼれ落ちると考えられていた。それゆえ、これまで、基板ステージＰＳＴの上面９４の端部９４Ｅがノズル部材７０の（第２ランド面７６の）端部７６Ｅよりも内側、すなわち、露光光ＥＬの光路空Ｋ１に近い位置に位置付けられることはなかった。換言すれば、これまでは、液浸領域の液体の基板ステージＰＳＴからの漏れを防止する観点から、基板ステージＰＳＴは常にノズル部材７０をカバーするような領域で移動制御されていた。

しかしながら、発明者の実験などによると、上述のように、第２ランド面７６は、基板ステージＰＳＴの上面９４及び基板Ｐの表面の少なくとも一方との間で液体ＬＱを保持可能に設けられている。図１８に示すように、基板ステージＰＳＴを＋Ｙ方向に移動する場合には、液体ＬＱの液浸領域ＬＲは＋Ｙ方向に拡大しようとするため、光路空間Ｋ１に対して−Ｙ側の第２ランド面７６が液体ＬＱと接触する領域（面積）は比較的小さくなる。この場合、光路空間Ｋ１に対して−Ｙ側の第２ランド面７６の全部の領域が基板ステージＰＳＴの上面９４及び基板Ｐの表面の少なくとも一方と対向していなくても、第２ランド面７６の一部の領域だけが、基板ステージＰＳＴの上面９４及び基板Ｐの表面の少なくとも一方と対向していれば、液浸領域ＬＲの液体ＬＱを保持することができる。したがって、基板ステージＰＳＴを＋Ｙ方向に移動する場合、基板ステージＰＳＴの上面９４の−Ｙ側の端部９４Ｅが、第２ランド面７６の−Ｙ側の端部７６Ｅよりも光路空間Ｋ１に近い位置（図１８の例では、＋Ｙ側）になるまで、基板ステージＰＳＴを移動することができる。

そして、基板ステージＰＳＴの可動範囲を上述のように設定することで、基板Ｐの−Ｙ側に設けられた基板ステージＰＳＴの上面９４を小さくしても、基板ステージＰＳＴとノズル部材７０との間で液体ＬＱを保持し、基板Ｐの表面の周縁領域を円滑に液浸露光することができる。例えば、図１８に示すように、基板Ｐの表面の−Ｙ側の周縁領域を、基板ステージＰＳＴを＋Ｙ方向に移動しながら液浸露光するときに、基板ステージＰＳＴの上面９４及び基板Ｐの表面の少なくとも一方と、ノズル部材７０との間で液体ＬＱを保持することができる。従って、基板ステージＰＳＴを小型化することができる。

このように、基板ステージＰＳＴの小型化を図ることもできるため、露光装置全体の巨大化を抑制することができる。また、基板ステージＰＳＴの小型化を図ることができるため、基板ステージＰＳＴの駆動を円滑に制御できるとともに、例えば基板ステージＰＳＴを駆動するアクチュエータからの発熱を抑えることができる。

なおここでは、基板ステージＰＳＴの−Ｙ側の端部９４Ｅと第２ランド面７６の−Ｙ側の端部７６Ｅとの位置関係について説明したが、基板ステージＰＳＴの＋Ｙ側の端部９４Ｅと第２ランド面７６の＋Ｙ側の端部７６Ｅとの位置関係についても同様に設定可能である。また、基板ステージＰＳＴのＸ軸方向における端部とノズル部材７０の下面のＸ軸方向における端部との位置関係も同様に設定可能である。

なお、基板ステージＰＳＴとノズル部材７０との間で液体ＬＱを保持できる基板ステージＰＳＴの上面９４の端部９４Ｅと第２ランド面７６の端部７６Ｅとの位置関係、すなわち、基板ステージＰＳＴの可動範囲は、基板ステージＰＳＴの移動条件（移動速度、加速度など）、基板Ｐの表面条件（液体ＬＱとの接触角など）などを考慮して、実験又はシミュレーションによって予め求めることができる。

なお、基板ステージＰＳＴの上面９４の端部９４Ｅを、第２ランド面７６の端部７６Ｅよりも光路空間Ｋ１に近い位置まで移動したとき、ノズル部材７０の下面のうち、第２ランド面７６の一部や回収口２２に配置されている多孔部材２５の一部など、基板ステージＰＳＴの上面及び基板Ｐの表面のいずれとも対向しない所定領域が形成される。以下の説明では、この所定領域を、適宜「オーバーハング領域」と称する。この場合、そのオーバーハング領域に、例えば露光装置ＥＸが置かれている環境を調整するための気流と接触する可能性がある。ノズル部材７０の下面（例えば、第２ランド面７６）には液体ＬＱが付着している可能性があるので、その気流との接触によって付着している液体ＬＱの一部が気化し、その気化熱によってノズル部材７０が温度変化（温度低下）する可能性がある。ノズル部材７０が温度変化すると、ノズル部材７０自体が熱変形したり、ノズル部材７０の周囲に設けられている各種部材（例えば最終光学素子ＬＳ１）が熱変形したり、あるいはノズル部材７０の周囲の空間の温度が変化する可能性がある。例えば最終光学素子ＬＳ１が熱変形したり、あるいは露光光ＥＬの光路上の温度が変化すると、マスクＭのパターン像を基板Ｐに投影するときの投影状態が変化する不都合が生じる可能性がある。その場合には、ノズル部材７０の温度変化を抑制するための温度調整機構を設けてもよい。温度調整機構としては、例えば、ノズル部材７０の内部に、供給流路１４、排気流路１５、回収流路２４とは別の流路を設け、その流路に、ノズル部材７０の温度を調整するための流体（温調用流体）を流す形態が挙げられる。なお、回収流路２４の内側に温調用流体を供給するようにしてもよい。この場合、回収流路２４の内側に供給された温調用流体は、光路空間Ｋ１より回収口２２を介して回収された液体ＬＱとともに液体回収装置２１に回収される。あるいは、ノズル部材７０の側面などに温調用流体が流れるジャケット部材を取り付けたり、あるいは、ノズル部材７０近傍に熱を放射する放射装置を設け、その放射装置から放射された熱によってノズル部材７０の温度調整を行うようにしてもよい。

なお、第４実施形態においては、ノズル部材７０として、上述の第１実施形態で説明したノズル部材７０を例にして説明したが、第２、第３実施形態で説明したノズル部材７０を用いることができる。あるいは、上述の第１〜第３実施形態以外のノズル部材７０を用いることもできる。例えば、オーバーハング領域を形成するという目的の達成のみを考慮する場合には、光路空間Ｋ１の＋Ｙ側と−Ｙ側に液体の回収口を配置してもよい。また、オーバーハング領域を有するノズル部材７０としては、基板ステージＰＳＴの上面との間で液体ＬＱを保持可能なものであればよく、供給口のみを有したもの、あるいは回収口のみを有したものであってもよい。あるいは、供給口及び回収口の両方を有していない部材であってもよい。すなわち、基板ステージＰＳＴの上面との間で液体ＬＱを保持可能な部材（ノズル部材）と、液体を供給する供給口及び回収口を有する部材とが別々に設けられていてもよい。要は、投影光学系ＰＬの像面側に液浸領域ＬＲを形成した状態で、基板ステージＰＳＴを所定方向（図１８においては＋Ｙ方向）に移動した場合に、その所定方向における液浸領域ＬＲの一方の端部（図１８においては−Ｙ側の端部）が光路空間Ｋ１に近い位置に形成されるように設けられた下面を有し、その下面が基板ステージＰＳＴの上面９４と対向するように配置されたノズル部材を設け、基板ステージＰＳＴの可動範囲を、所定方向において、基板ステージＰＳＴに保持された基板Ｐの表面及び基板ステージＰＳＴの上面９４の少なくとも一方と、ノズル部材７０の下面との間で液体ＬＱを保持した状態で、基板ステージＰＳＴの上面９４の端部がノズル部材７０の下面の端部よりも露光光ＥＬの光路空間Ｋ１に近い位置に移動可能に設定すれば、基板ステージＰＳＴの上面９４の所定方向における面積が小さくても、液浸領域ＬＲの液体ＬＱを維持することができる。

なお、第４実施形態において、オーバーハング領域に回収口２２の少なくとも一部が含まれている場合、液体回収装置２１のトラブルなどによって、回収口２２から逆流した液体ＬＱが、基板ステージ定盤６上に流出する可能性がある。したがって、そのようなトラブルが懸念される場合には、回収口２２の少なくとも一部がオーバーハング領域に含まれないように、ノズル部材７０の下面における回収口２２の位置（領域）を設定しておくことが望ましい。例えば、図３に示されている第１実施形態のノズル部材７０の回収口２２を、図１９に示すように変更してもよい。図１９においては、ノズル部材７０の回収口２２’がオーバーハング領域に含まれないように、回収口２２のＹ軸方向の長さが、図３に示したノズル部材７０の回収口２２よりも短くなっている。

また、上述の各実施形態においては、ノズル部材７０のほぼ中心に露光光ＥＬが通過する開口部７４が形成され、ＸＹ平面内において、投影光学系ＰＬの像面側の光軸とノズル部材７０の中心とがほぼ一致するように、投影光学系ＰＬとノズル部材７０とが配置されている。しかしながら、例えば投影光学系ＰＬとして反射屈折系を用いた場合には、投影光学系ＰＬの像面側の光軸に対して偏心した位置に露光光ＥＬの照射領域（投影領域ＡＲ）が設定される可能性がある。このような場合には、露光光ＥＬがノズル部材７０の開口部７４を通過するように、ＸＹ平面内において、投影光学系ＰＬの像面側における光軸ＡＸに対してノズル部材７０の中心をずらしてもよい。あるいは、ＸＹ平面内において、投影光学系ＰＬの像面側の光軸とノズル部材７０の中心とがほぼ一致するように、投影光学系ＰＬとノズル部材７０とを配置するとともに、露光光ＥＬがノズル部材７０の開口部７４を通過するように、ノズル部材７０の中心に対して開口部７４をずらして形成してもよい。

上記実施形態においては、第１ランド面７５と第２ランド面７６は、離れていた（面一ではなかった）が、延在領域ＥＡ１または延在領域ＥＡ２の外側に回収口２２が設けられていれば、第１ランド面７５と第２ランド面７６を面一にしてもよい（この場合、第１及び第２面の区別はなくなる）。すなわち、液浸領域ＬＲの拡がりがある程度許容される場合には、延在領域ＥＡ１または延在領域ＥＡ２の外側に回収口２２が設けられていれば、走査露光における液浸領域ＬＲを所望の状態に維持することができる。
上記実施形態においては、第２ランド面７６に走査方向（Ｙ方向）に延在するフィンを設けてもよい。フィンにより走査方向に液体をより良好に維持することができる。

なお、上述の各実施形態においては、露光光ＥＬが照射可能な位置に基板Ｐを配置した状態で、露光光ＥＬの光路空間Ｋ１を液体ＬＱで満たしているが、露光光ＥＬが照射可能な位置に、例えば基板ステージＰＳＴの上面９４や、基板ステージＰＳＴとは別の物体を配置した状態で、露光光ＥＬの光路空間Ｋ１が液体ＬＱで満たされてもよい。

なお、上述した各実施形態において、液浸機構１は、回収口２２を介して液体ＬＱのみを回収するように設けられている。したがって、液浸機構１は、回収口２２を介して空間部２４に気体を流入させること無く、液体ＬＱを良好に回収することができる。以下、図２０を参照しながら、液浸機構１による液体回収動作の原理について説明する。図２０は多孔部材２５の一部を拡大した断面図であって、多孔部材２５を介して行われる液体回収動作を説明するための模式図である。

図２０において、回収口２２には多孔部材２５が設けられている。また、多孔部材２５の下側には基板Ｐが設けられている。そして、多孔部材２５と基板Ｐとの間には、気体空間及び液体空間が形成されている。より具体的には、多孔部材２５の第１孔２５Ｈａと基板Ｐとの間には気体空間が形成され、多孔部材２５の第２孔２５Ｈｂと基板Ｐとの間には液体空間が形成されている。また、多孔部材２５の上側には、回収流路（流路空間）２４が形成されている。

多孔部材２５の第１孔２５Ｈａと基板Ｐとの間の空間Ｋ３の圧力（多孔部材２５Ｈの下面での圧力）をＰａ、多孔部材２５の上側の流路空間２４の圧力（多孔部材２５の上面での圧力）をＰｃ、孔２５Ｈａ、２５Ｈｂの孔径（直径）をｄ、多孔部材２５（孔２５Ｈの内側面）の液体ＬＱとの接触角をθ、液体ＬＱの表面張力をγとした場合、本実施形態の液浸機構１は、
（４×γ×ｃｏｓθ）／ｄ ≧ （Ｐａ−Ｐｃ） …（１）
の条件を満足するように設定されている。なお、上記（１）式においては、説明を簡単にするために多孔部材２５の上側の液体ＬＱの静水圧は考慮してない。

この場合において、多孔部材２５（孔２５Ｈの内側面）の液体ＬＱとの接触角θは、
θ ≦ ９０° …（２）
の条件を満足する必要がある。

上記条件が成立する場合、多孔部材２５の第１孔２５Ｈａの下側（基板Ｐ側）に気体空間が形成された場合でも、多孔部材２５の下側の空間Ｋ３の気体が孔２５Ｈａを介して多孔部材２５の上側の流路空間２４に移動（侵入）することが防止される。すなわち、上記条件を満足するように、多孔部材２５の孔径ｄ、多孔部材２５の液体ＬＱとの接触角（親和性）θ、液体ＬＱの表面張力γ、及び圧力Ｐａ、Ｐｃを最適化することにより、液体ＬＱと気体との界面を多孔部材２５の第１孔２５Ｈａの内側に維持することができ、第１孔２５Ｈａを介して空間Ｋ３から流路空間２４へ気体が侵入することを抑えることができる。一方、多孔部材２５の第２孔２５Ｈｂの下側（基板Ｐ側）には液体空間が形成されているので、第２孔２５Ｈｂを介して液体ＬＱのみを回収することができる。

本実施形態においては、多孔部材２５の下側の空間Ｋ３の圧力Ｐａ、孔径ｄ、多孔部材２５（孔２５Ｈの内側面）の液体ＬＱとの接触角θ、液体（純水）ＬＱの表面張力γはほぼ一定であり、液浸機構１は、液体回収装置２１の吸引力を制御して、上記条件を満足するように、多孔部材２５の上側の流路空間２４の圧力Ｐｃを調整する。

なお、上記（１）式において、（Ｐａ−Ｐｃ）の絶対値が大きいほど、すなわち、（（４×γ×ｃｏｓθ）／ｄ）の絶対値が大きいほど、上記条件を満足するような圧力Ｐｃの制御が容易になるので、孔径ｄは可能な限り小さく、多孔部材２５の液体ＬＱとの接触角θは可能な限り小さいことが望ましい。本実施形態においては、多孔部材２５は液体ＬＱに対して親液性を有しており、十分に小さい接触角θを有している。

このように、本実施形態では、多孔部材２５が濡れた状態で、多孔部材２５の上側の空間２４と下側の空間Ｋ３との圧力差（多孔部材２５の上面と下面との圧力差）を、上記条件を満足するように制御することで、多孔部材２５の孔２５Ｈから液体ＬＱのみを回収する。これにより、液体ＬＱと気体とを一緒に吸引することに起因する振動の発生を抑制することができる。

上記実施形態で用いたノズル部材７０などの液浸機構１は、上述の構造に限られず、例えば、欧州特許公開第１４２０２９８号公報、国際公開第２００４／０５５８０３号公報、国際公開第２００４／０５７５８９号公報、国際公開第２００４／０５７５９０号公報、国際公開第２００５／０２９５５９号公報に記載されているものも用いることができる。

また、上述の実施形態においては、ノズル部材７０の一部（底板部７０Ｄ）が、投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間に配置されているが、ノズル部材７０の一部が投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間に配置されていなくてもよい。すなわち、投影光学系ＰＬの最終光学素子ＬＳ１の下面Ｔ１の全体が基板Ｐと対向していてもよい。

また、上述の実施形態において、供給口１２は内部空間Ｇ２に接続されているが、ノズル部材７０の下面に供給口を設けてもよい。

上述したように、本実施形態における液体ＬＱは純水である。純水は、半導体製造工場等で容易に大量に入手できるとともに、基板Ｐ上のフォトレジストや光学素子（レンズ）等に対する悪影響がない利点がある。また、純水は環境に対する悪影響がないとともに、不純物の含有量が極めて低いため、基板Ｐの表面、及び投影光学系ＰＬの先端面に設けられている光学素子の表面を洗浄する作用も期待できる。なお工場等から供給される純水の純度が低い場合には、露光装置が超純水製造器を持つようにしてもよい。

そして、波長が１９３ｎｍ程度の露光光ＥＬに対する純水（水）の屈折率ｎはほぼ１．４４程度と言われており、露光光ＥＬの光源としてＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）を用いた場合、基板Ｐ上では１／ｎ、すなわち約１３４ｎｍに短波長化されて高い解像度が得られる。更に、焦点深度は空気中に比べて約ｎ倍、すなわち約１．４４倍に拡大されるため、空気中で使用する場合と同程度の焦点深度が確保できればよい場合には、投影光学系ＰＬの開口数をより増加させることができ、この点でも解像度が向上する。

本実施形態では、投影光学系ＰＬの先端に光学素子ＬＳ１が取り付けられており、このレンズにより投影光学系ＰＬの光学特性、例えば収差（球面収差、コマ収差等）の調整を行うことができる。なお、投影光学系ＰＬの先端に取り付ける光学素子としては、投影光学系ＰＬの光学特性の調整に用いる光学プレートであってもよい。あるいは露光光ＥＬを透過可能な平行平面板であってもよい。

なお、液体ＬＱの流れによって生じる投影光学系ＰＬの先端の光学素子と基板Ｐとの間の圧力が大きい場合には、その光学素子を交換可能とするのではなく、その圧力によって光学素子が動かないように堅固に固定してもよい。

なお、本実施形態では、投影光学系ＰＬと基板Ｐ表面との間は液体ＬＱで満たされている構成であるが、例えば基板Ｐの表面に平行平面板からなるカバーガラスを取り付けた状態で液体ＬＱを満たす構成であってもよい。

また、上述の実施形態の投影光学系は、先端の光学素子の像面側の光路空間を液体で満たしているが、国際公開第２００４／０１９１２８号パンフレットに開示されているように、先端の光学素子のマスク側の光路空間も液体で満たす投影光学系を採用することもできる。

なお、本実施形態の液体ＬＱは水であるが、水以外の液体であってもよい、例えば、露光光ＥＬの光源がＦ_２レーザである場合、このＦ_２レーザ光は水を透過しないので、液体ＬＱとしてはＦ_２レーザ光を透過可能な例えば、過フッ化ポリエーテル（ＰＦＰＥ）やフッ素系オイル等のフッ素系流体であってもよい。この場合、液体ＬＱと接触する部分には、例えばフッ素を含む極性の小さい分子構造の物質で薄膜を形成することで親液化処理する。また、液体ＬＱとしては、その他にも、露光光ＥＬに対する透過性があってできるだけ屈折率が高く、投影光学系ＰＬや基板Ｐ表面に塗布されているフォトレジストに対して安定なもの（例えばセダー油）を用いることも可能である。

また、液体ＬＱとしては、屈折率が１．６〜１．８程度のものを使用してもよい。更に、石英や蛍石よりも屈折率が高い（例えば１．６以上）材料で光学素子ＬＳ１を形成してもよい。

なお、上記各実施形態の基板Ｐとしては、半導体デバイス製造用の半導体ウエハのみならず、ディスプレイデバイス用のガラス基板や、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等が適用される。

露光装置ＥＸとしては、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）の他に、マスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを一括露光し、基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）にも適用することができる。

また、露光装置ＥＸとしては、第１パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で第１パターンの縮小像を投影光学系（例えば１／８縮小倍率で反射素子を含まない屈折型投影光学系）を用いて基板Ｐ上に一括露光する方式の露光装置にも適用できる。この場合、更にその後に、第２パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で第２パターンの縮小像をその投影光学系を用いて、第１パターンと部分的に重ねて基板Ｐ上に一括露光するスティッチ方式の一括露光装置にも適用できる。また、スティッチ方式の露光装置としては、基板Ｐ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Ｐを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。

また、上記実施形態では投影光学系ＰＬを備えた露光装置を例に挙げて説明してきたが、投影光学系ＰＬを用いない露光装置及び露光方法に本発明を適用することができる。このように投影光学系ＰＬを用いない場合であっても、露光光はレンズなどの光学部材を介して基板に照射され、そのような光学部材と基板との間の所定空間に液浸領域が形成される。国際公開第２００１／０３５１６８号パンフレットに開示されているように、干渉縞を基板Ｐ上に形成することによって、基板Ｐ上にライン・アンド・スペースパターンを形成する露光装置にも適用できる。

また、本発明は、特開平１０−１６３０９９号公報、特開平１０−２１４７８３号公報、特表２０００−５０５９５８号公報などに開示されているような複数の基板ステージを備えたツインステージ型の露光装置にも適用できる。

更に、特開平１１−１３５４００号公報や特開２０００−１６４５０４号公報に開示されているように、基板を保持する基板ステージと基準マークが形成された基準部材及び／又は各種の光電センサを搭載した計測ステージとを備えた露光装置にも本発明を適用することができる。この場合、計測ステージ上にも液浸領域ＬＲを形成することができる。

露光装置ＥＸの種類としては、基板Ｐに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。

なお、上述の実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクを用いたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第６，７７８，２５７号公報に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスクを用いてもよい。

また、国際公開第２００１／０３５１６８号パンフレットに開示されているように、干渉縞を基板Ｐ上に形成することによって、基板Ｐ上にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置（リソグラフィシステム）にも本発明を適用することができる。

以上のように、本願実施形態の露光装置ＥＸは、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。

半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図２２に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、前述した実施形態の露光装置ＥＸによりマスクのパターンを基板に露光する露光処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。

第１実施形態に係る露光装置を示す概略構成図である。 第１実施形態に係るノズル部材７０近傍を示す概略斜視図の一部破断図である。 第１実施形態に係るノズル部材７０を下側から見た斜視図及び平面図である。 図２のＸＺ平面と平行な側断面図である。 図２のＹＺ平面と平行な側断面図である。 基板の移動に伴う液体の挙動を説明するための模式図である。 基板の移動に伴う液体の挙動を説明するための模式図である。 第１実施形態に係る基板の移動に伴う液体の挙動を説明するための模式図である。 第２実施形態に係るノズル部材７０近傍を示す概略斜視図の一部破断図である。 第２実施形態に係るノズル部材７０を下側から見た斜視図である。 図９のＸＺ平面と平行な側断面図である。 図９のＹＺ平面と平行な側断面図である。 第２実施形態に係る基板の移動に伴う液体の挙動を説明するための模式図である。 第３実施形態に係るノズル部材７０近傍を示す概略斜視図の一部破断図である。 第３実施形態に係るノズル部材７０を下側から見た斜視図である。 図１４のＸＺ平面と平行な側断面図である。 図１４のＹＺ平面と平行な側断面図である。 第４実施形態を説明するための模式図である。 第４実施形態で用いられるノズル部材の一例を下側から見た斜視図である。 液浸機構による液体回収動作の原理を説明するための図である。 光路空間の走査方向側に延在する延在領域内に回収口が設けられているノズル部材と液体の状態を概念的に示す。 マイクロデバイスの製造工程の一例を示すフローチャート図である。

符号の説明

１…液浸機構、１２…供給口、１６…排気口、２２…回収口、７０…ノズル部材、７０Ｄ…底板部、７４…開口部、７５…第１ランド面、７６…第２ランド面、７６Ｅ…端部、７７…上面、７８…凹部、７９…凹部、８０…第３ランド面、９４…上面、９４Ｅ…端部、Ｄ４…段差、ＥＬ…露光光、ＥＸ…露光装置、Ｇ２…内部空間、Ｋ１…光路空間、Ｋ３…外部空間、ＬＱ…液体、ＬＲ…液浸領域、ＬＳ１…最終光学素子、Ｐ…基板

Claims (40)

1. 基板を所定方向に移動しつつ前記基板上に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置において、
   前記露光光が照射可能な位置に配置された物体の表面と対向するように、且つ前記露光光の光路空間を囲むように設けられた第１面と、
   前記物体の表面と対向するように、且つ前記所定方向において前記露光光の光路空間に対して前記第１面の外側に設けられた第２面と、
   前記露光光の光路空間を満たすための液体を回収する回収口とを備え、
   前記第１面は、前記物体の表面と略平行に設けられ、
   前記第２面は、前記物体の表面に対して前記第１面よりも離れた位置に設けられ、
   前記回収口は、第１面及び第２面とは異なる位置に設けられている露光装置。
2. 前記物体は、前記基板を含む請求項１記載の露光装置。
3. 基板を所定方向に移動しつつ前記基板上に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置において、
   前記露光光が照射可能な位置に配置された物体の表面と対向するように、且つ前記露光光の光路空間を囲むように設けられた第１面と、
   前記物体の表面と対向するように、且つ前記所定方向において前記露光光の光路空間に対して前記第１面の外側に設けられた第２面と、
   前記露光光の光路空間を満たすための液体を回収する回収口とを備え、
   前記第１面は、前記物体の表面と略平行に設けられ、
   前記第２面は、前記物体の表面に対して前記第１面よりも離れた位置に設けられ、
   前記回収口は、前記第２面に設けられるとともに、該回収口の大きさが前記露光光の断面視における大きさよりも小さい露光装置。
4. 前記物体の表面と前記第２面との間に存在する液体が前記第２面から離れないように、前記第１面と前記第２面とが所定の位置関係で設けられている請求項１〜３のいずれか一項記載の露光装置。
5. 基板を所定方向に移動しつつ前記基板上に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置において、
   前記露光光が照射可能な位置に配置された物体の表面と対向するように、且つ前記露光光の光路空間を囲むように設けられた第１面と、
   前記物体の表面と対向するように、且つ前記所定方向において前記露光光の光路空間に対して前記第１面の外側に設けられた第２面と、
   前記露光光の光路空間を満たすための液体を回収する回収口とを備え、
   前記第１面は、前記物体の表面と略平行に設けられ、
   前記第２面は、前記物体の表面に対して前記第１面よりも離れた位置に設けられ、
   前記物体の表面と前記第２面との間に存在する液体が前記第２面から離れないように、前記第１面と前記第２面とが所定の位置関係で設けられている露光装置。
6. 前記第２面は、前記物体の表面と略平行に設けられ、
   前記第１面と前記第２面との間に段差が設けられている請求項１〜５のいずれか一項記載の露光装置。
7. 前記段差は１ｍｍ以下である請求項６記載の露光装置。
8. 基板を所定方向に移動しつつ前記基板上に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置において、
   前記露光光が照射可能な位置に配置された物体の表面と対向するように、且つ前記露光光の光路空間を囲むように設けられた第１面と、
   前記物体の表面と対向するように、且つ前記所定方向において前記露光光の光路空間に対して前記第１面の外側に設けられた第２面と、
   前記露光光の光路空間を満たすための液体を回収する回収口とを備え、
   前記第１面は、前記物体の表面と略平行に設けられ、
   前記第２面は、前記物体の表面と略平行に、且つ前記物体の表面に対して前記第１面よりも離れた位置に設けられ、
   前記第１面と前記第２面との段差は１ｍｍ以下である露光装置。
9. 前記第２面は、前記露光光の光路空間から前記所定方向に離れるにつれて前記物体の表面との間隔が大きくなる斜面である請求項１〜５のいずれか一項記載の露光装置。
10. 前記第２面は、前記第１面に対して連続的に設けられている請求項９記載の露光装置。
11. 前記第１面と前記第２面とがなす角度は１０度以下である請求項９又は１０記載の露光装置。
12. 基板を所定方向に移動しつつ前記基板上に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置において、
    前記露光光が照射可能な位置に配置された物体の表面と対向するように、且つ前記露光光の光路空間を囲むように設けられた第１面と、
    前記物体の表面と対向するように、且つ前記所定方向において前記露光光の光路空間に対して前記第１面の外側に設けられた第２面と、
    前記露光光の光路空間を満たすための液体を回収する回収口とを備え、
    前記第１面は、前記物体の表面と略平行に設けられ、
    前記第２面は、前記物体の表面に対して前記第１面よりも離れて設けられ、前記露光光の光路空間から前記所定方向に離れるにつれて前記物体の表面との間隔が大きくなる斜面であって、
    前記第１面と前記第２面とがなす角度が１０度以下である露光装置。
13. 前記第１面及び前記第２面は、それぞれ前記液体に対して親液性を有する請求項１〜１２のいずれか一項記載の露光装置。
14. 前記第１面と前記液体との接触角と、前記第２面と前記液体との接触角とは略等しい請求項１〜１３のいずれか一項記載の露光装置。
15. 前記物体の表面と対向するように、且つ前記所定方向と交差する方向において前記露光光の光路空間に対して前記第１面の外側に設けられた第３面を備え、
    前記第３面は、前記物体の表面に対して前記第１面よりも離れた位置に設けられ、
    前記物体の表面と前記第３面との間に存在する液体が前記第３面から離れないように、前記第１面と前記第３面とが所定の位置関係で設けられている請求項１〜１４のいずれか一項記載の露光装置。
16. 前記回収口は、前記露光光の光路空間と前記第３面との間に設けられている請求項１５記載の露光装置。
17. 前記第３面は、前記露光光の光路空間から前記所定方向と交差する方向に離れるにつれて前記物体の表面との間隔が大きくなる斜面である請求項１５又は１６記載の露光装置。
18. 前記第３面は、前記液体に対して親液性を有する請求項１５〜１７のいずれか一項記載の露光装置。
19. 前記第１面と前記液体との接触角と、前記第３面と前記液体との接触角とは略等しい請求項１５〜１８のいずれか一項記載の露光装置。
20. 前記第１面の外形は、前記所定方向と交差する方向を長手方向とする矩形状である請求項１〜１９のいずれか一項記載の露光装置。
21. 前記露光光が通過する光学部材と、
    前記露光光が通過する開口を有し、前記光学部材と前記物体との間に設けられた所定部材と、
    前記光学部材と前記所定部材との間に液体を供給する供給口とを備え、
    前記第１面は、前記開口を囲むように前記所定部材に形成され、
    前記供給口から液体を供給することによって、前記光学部材と前記物体との間の前記露光光の光路空間が前記液体で満たされる請求項１〜２０のいずれか一項記載の露光装置。
22. 前記所定方向における前記第１面の幅は、前記所定方向における前記開口の幅よりも小さい請求項２１記載の露光装置。
23. 前記所定部材の前記光学部材と対向する面のうち前記供給口近傍に第１凹部が形成されている請求項２１又は２２記載の露光装置。
24. 前記光学部材と前記所定部材との間の所定空間の近傍に設けられ、前記所定空間と外部空間とを連通させるための排気口を有する請求項２１〜２３のいずれか一項記載の露光装置。
25. 前記所定部材の前記光学部材と対向する面のうち前記排気口近傍に第２凹部が形成されている請求項２４記載の露光装置。
26. 前記露光光が通過する光学部材と、
    前記露光光が通過する開口を有し、前記光学部材と前記物体との間に設けられた所定部材と、
    前記光学部材と前記所定部材との間の所定空間の近傍に設けられ、前記所定空間と外部空間とを連通させるための排気口と、
    前記所定部材の前記光学部材と対向する面のうち前記排気口近傍に形成された第２凹部とを有する請求項１〜２０のいずれか一項記載の露光装置。
27. 前記基板を保持して移動するとともに、前記第１面及び第２面との間で前記液体を保持可能な上面を有する基板ステージを更に備え、
    前記基板ステージの可動範囲は、前記所定方向において、前記基板ステージに保持された前記基板の表面及び前記基板ステージの上面の少なくとも一方に液浸領域を形成した状態で、前記基板ステージの上面の端部が前記第２面の端部よりも前記露光光の光路空間に近い位置に移動可能に設定されている請求項１〜２６のいずれか一項記載の露光装置。
28. 基板を所定方向に移動しつつ前記基板上に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置において、
    前記基板を保持して移動可能な基板ステージと、
    前記露光光の光路空間を囲むように、且つ前記基板ステージの上面と対向するように配置された下面を有し、該下面と前記基板ステージの上面との間で液体を保持可能なノズル部材とを備え、
    前記基板ステージの可動範囲は、前記所定方向において、前記基板ステージに保持された前記基板の表面及び前記基板ステージの上面の少なくとも一方と、前記ノズル部材の下面との間で液体を保持した状態で、前記基板ステージの上面の端部が前記下面の端部よりも前記露光光の光路空間に近い位置に移動するように設定されている露光装置。
29. 前記ノズル部材は、前記露光光の光路空間を満たすための液体を供給する供給口、及び前記光路空間の液体を回収する回収口の少なくとも一方を有する請求項２８記載の露光装置。
30. 基板を所定方向に移動しつつ基板に液体を介して露光光を照射して基板を露光する露光装置であって、
    前記基板上に液体の液浸領域を形成するための液浸機構と、
    前記液浸機構に設けられ、基板上の液体を回収する回収口とを備え、
    前記回収口が、液体中を通る露光光の光路空間の前記所定方向側に延在する延在領域の外側に設けられている露光装置。
31. 前記回収口は、前記所定方向と直交する方向に関して、前記延在領域の両側に設けられている請求項３０に記載の露光装置。
32. 前記液浸機構は、前記基板と対向するように、且つ前記光路空間を囲むように設けられた下面を有し、
    前記下面は、前記延在領域を含み、
    前記下面の一部に前記回収口が設けられている請求項３１記載の露光装置。
33. 前記延在領域は、前記基板の表面とほぼ平行となるように設けられた第１面と、前記基板の表面に対して前記第１面よりも離れて設けられた第２面とを有する請求項３１又は３２記載の露光装置。
34. 前記第２面は、前記第１面に対して傾斜している請求項３３記載の露光装置。
35. 前記延在領域は、前記所定方向に関して前記光路空間の両側に設けられている請求項３１〜３４のいずれか一項記載の露光装置。
36. 請求項１〜請求項３５のいずれか一項記載の露光装置を用いるデバイス製造方法。
37. 基板を露光する露光方法であって、
    前記基板上に液体をもたらすことと、
    基板を所定方向に移動しつつ基板に液体を介して露光光を照射して基板を露光することと、
    液体中を通る露光光の光路空間の前記所定方向側に延在する延在領域の外側で液体を回収することを含む露光方法。
38. 前記基板を所定方向に移動しつつ延在領域の外側で液体を回収する請求項３７に記載の露光方法。
39. 前記基板を所定方向に移動しつつ液体を供給することを含む請求項３７又は３８に記載の露光方法。
40. 請求項３７に記載の露光方法を用いて基板を露光することを含むデバイス製造方法。
    

Images