JP5525571B2 - リソグラフィ装置、基板テーブルを変形させる方法、及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Claims (15)
- パターンが与えられた放射ビームを基板に投影するための投影系と、
基板を支持し、投影系に対し移動するよう構成されている基板テーブルと、
基板テーブルの変形を測定するための複数のセンサと、
基板テーブルを変形させるための少なくとも1つのアクチュエータと、
前記複数のセンサにより行われた測定に基づいて基板テーブルを変形させるように前記アクチュエータを制御するコントローラと、を備え、
前記複数のセンサは、投影系に対向する基板テーブルの第2の片側とは反対の基板テーブルの第1の片側に配置されており、
前記複数のセンサは、投影系に対し実質的に静止した前記基板テーブルの下方の場所に配置されている、リソグラフィ装置。 - 前記複数のセンサの少なくとも1つは、前記投影系の光軸に配置され前記基板テーブルの鉛直高さを測定するよう構成されている、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記コントローラは、前記複数のセンサにより行われた測定に基づいて、前記基板テーブルの平坦度を維持するように前記アクチュエータを制御する、請求項1または2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記コントローラは、前記基板テーブルの変形を少なくとも1つの固有モードに関して演算し、該少なくとも1つの固有モードの特性に基づいて前記アクチュエータを制御する、請求項1から3のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 複数のアクチュエータを備え、該アクチュエータは、アレイに備えられ、前記基板テーブルの主たる表面にわたって実質的に均一に分布する、請求項1から4のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 各アクチュエータは、前記第1の片側に配置されているベースプレート内に任意的に配設されているコイルを備える、請求項1から5のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 各センサは、前記アクチュエータのうちの1つのコイルを通過して測定位置と当該センサとの間を伝播する信号によって、当該測定位置での前記基板テーブルの変形を感知する、請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 前記複数のセンサは各々が、前記基板テーブルの前記第1の片側で伝達される信号によって、前記第1の片側での前記基板テーブルの表面の変形を測定する、請求項1から7のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1の片側での前記基板テーブルの表面は、前記複数のセンサからの信号を反射するよう反射性を有する、請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記複数のセンサは、ベースプレート、台座、または外部バランスマスに配置されている、請求項1から9のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板テーブルの1次固有振動数は2kHz以下であり、及び/または、前記基板テーブルの平均鉛直厚さは60mm以下であり、及び/または、前記基板テーブルは基板テーブル面に平行な平均直径が300mm以上である、請求項1から10のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記複数のセンサは各々が、静電容量センサを備える、請求項1から11のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 少なくとも2つのアクチュエータが前記基板テーブルの複数の端部に位置する、請求項1から12のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- リソグラフィ装置の基板テーブルを変形させる方法であって、
基板テーブルの変形を複数のセンサを使用して測定することと、
測定結果に基づいて基板テーブルを変形させるよう少なくとも1つのアクチュエータを制御することと、を備え、
前記複数のセンサは、投影系に対向する基板テーブルの第2の片側とは反対の基板テーブルの第1の片側に配置されており、
前記複数のセンサは、投影系に対し実質的に静止した前記基板テーブルの下方の場所に配置されている、方法。 - パターンが与えられた放射ビームを、少なくとも1つの基板テーブルにより支持される連続する複数基板に投影するようリソグラフィ装置を使用することと、
リソグラフィ装置の使用中に基板テーブルを変形させるために、請求項14に記載の方法を使用することと、を備えるデバイス製造方法。
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