JP4429267B2 - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
- G03F7/70725—Stages control
Description
ここで、
H 送り関数を示す
CM 補償済み機構に対する関係を示す
s ラプラス演算子である(s=jω)
B 放射ビーム
BD ビーム導入系
C ターゲット箇所
CO コンデンサー
IF 位置センサー
IL 照射装置
IN 積分装置
M1,M2 マスク整合マーク
MA マスク
Me 作動制御システム
MT マスク・テーブル
P1,P2 基板整合マーク
PM 第一の位置決め手段
PS 投影系
PW 第二の位置決め装置
SO 放射光源
W 基板
2 可動の対象物体
Claims (16)
- 放射ビームを調整するように構成された照射系と、
パターン形成された放射ビームを形成するために放射ビームの横断面にパターンを与えることのできるパターン形成装置を支持するように構成されたパターン形成装置の支持部と、
基板を保持するように構成された基板の支持部と、
パターン形成された放射ビームを基板のターゲット箇所に投影するように構成された投影系と、
前記支持部の少なくとも一方の位置を複数の位置に沿って制御するための作動制御装置とを含み、前記制御装置は複数の位置送り関数の合計を含む送り関数を有し、各々の前記位置送り関数は前記位置のそれぞれ一つの位置について定められ、また各々の前記位置送り関数は重み関数を乗じられるようになされているリソグラフィ装置。 - 一送り関数が線形である請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 重み関数が位置に応じて変化する線形関数である請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 重み関数の合計は実質的に1に等しい請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記支持部の前記少なくとも一つがパターン形成装置の支持部である請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記支持部の前記少なくとも一つが基板の支持部である請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記作動制御装置が複数の位置に沿って前記支持部の両方の位置を制御するように構成された請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 送り関数を有し、また複数の位置に沿ってパターン形成装置の支持部の位置を制御するように構成された付加的な作動制御装置をさらに含む請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- パターン形成装置からのパターンを基板に伝達するように構成されたリソグラフィ装置であって、
可動の対象物体と、
送り関数を有し、前記対象物体の位置を複数の位置に沿って制御するように構成された制御装置を含む作動制御システムとを含み、
前記送り関数は複数の位置送り関数を合計して構成され、前記複数の位置送り関数の各々は前記位置の一つの位置について定められ、また前記複数の位置送り関数の各々は重み関数を乗じられるようになされているリソグラフィ装置。 - 前記可動対象物体がパターン形成装置を支持するように構成されたパターン形成装置の支持部である請求項9に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記可動対象物体が基板を保持するように構成された基板の支持部である請求項9に記載されたリソグラフィ装置。
- パターン形成装置からのパターンを基板上へ伝達すること、および
複数の位置に沿って可動対象物体の位置を制御装置で制御することとを含み、
前記制御装置は送り関数を有し、前記複数の位置に沿って前記対象物体の位置を制御するように構成されており、また
前記送り関数は複数の位置送り関数を合計して含み、前記複数の位置送り関数の各々はそれぞれ前記位置の一つの位置について定められ、前記複数の位置送り関数の各々はそれぞれ重み関数を乗じられるようになされていデバイス製造方法。 - 前記可動対象物体がパターン形成装置を支持するように構成されたパターン形成装置の支持部である請求項12に記載された方法。
- 前記可動対象物体が前記基板を保持するように構成された基板の支持部である請求項12に記載された方法。
- 付加的な制御装置によって他の可動対象物体の位置を複数の位置に沿って制御することをさらに含み、これにより前記制御装置および前記付加的な制御装置はそれぞれ複数の位置送り関数を合計して含む送り関数を有してそれぞれの対象物体の位置を制御するように構成されており、
前記複数の位置送り関数の各々は前記位置のそれぞれ一つについて定められ、
前記複数の位置送り関数の各々は重み関数を乗じられ、
前記可動対象物体はパターン形成装置を支持するように構成されたパターン形成装置の支持部であり、
前記可動対象物体は基板を支持するように構成された基板の支持部である請求項12に記載された方法。 - リソグラフィ装置の可動対象物体の移動を制御するように構成された作動制御システムであって、
送り関数を有し、前記対象物体の位置を複数の位置に沿って制御するように構成された制御装置を含み、
前記送り関数は複数の位置送り関数を合計して含み、前記複数の位置送り関数の各々は前記位置のそれぞれ一つの位置について定められ、前記複数の位置送り関数の各々は重み関数を乗じられるようになされている作動制御システム。
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