JP2005109441A - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005109441A JP2005109441A JP2004196167A JP2004196167A JP2005109441A JP 2005109441 A JP2005109441 A JP 2005109441A JP 2004196167 A JP2004196167 A JP 2004196167A JP 2004196167 A JP2004196167 A JP 2004196167A JP 2005109441 A JP2005109441 A JP 2005109441A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- base frame
- actuator
- mask
- substrate
- radiation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16F—SPRINGS; SHOCK-ABSORBERS; MEANS FOR DAMPING VIBRATION
- F16F7/00—Vibration-dampers; Shock-absorbers
- F16F7/10—Vibration-dampers; Shock-absorbers using inertia effect
- F16F7/1005—Vibration-dampers; Shock-absorbers using inertia effect characterised by active control of the mass
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/709—Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Vibration Prevention Devices (AREA)
Abstract
【解決手段】これは、基板テーブルWT及び装置内の他の部品の移動及び加速についての情報に基づき、(制御装置25による)フィードフォワード制御を用いてアクチュエータ26によってベース・フレームBFに補償力を加えることにより達成される。
【選択図】図3
Description
1.ステップ・モード
マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTを本質的に静止した状態に保ち、それと同時に放射線ビームに与えられたパターン全体を1回(すなわち、ただ1回の静止露光)で目標部分Cに投影する。次いで、異なる目標部分Cを露光することができるように、基板テーブルWTをX方向及び/又はY方向に移動させる。ステップ・モードでは、露光フィールドの最大サイズによって1回の静止露光で結像される目標部分Cのサイズが制限される。
2.走査モード
マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTを同期して走査し、それと同時に放射線ビームに与えられたパターンを目標部分Cに投影する(すなわち、ただ1回の動的露光)。マスク・テーブルMTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影装置PSの拡大(縮小)率、及び像の反転特性によって決定することができる。走査モードでは、露光フィールドの最大サイズによって1回の動的露光における目標部分の(非走査方向の)幅が制限され、走査運動の長さによって目標部分の(走査方向の)高さが決定される。
3.他のモード
プログラム制御可能なパターン形成装置を保持しながらマスク・テーブルMTを本質的に静止した状態に保ち、基板テーブルWTを移動又は走査し、それと同時に放射線ビームに与えられたパターンを目標部分Cに投影する。このモードでは、一般にパルス式の放射線源を用い、基板テーブルWTが移動するたびに、又は走査中の連続する放射線パルスの合間に、プログラム制御可能なパターン形成装置を必要に応じて更新する。この作動モードは、先に言及した種類のプログラム制御可能ミラー・アレイなど、プログラム制御可能なパターン形成装置を利用するマスクの無いリソグラフィに簡単に適用することができる。
Claims (11)
- 放射線の投影ビームを提供するための放射線装置と、
所望のパターンに従って投影ビームにパターンを形成するように働くパターン形成手段を支持するための支持構造体と、
基板を保持するための基板テーブルと、
パターンの形成されたビームを前記基板の目標部分に投影するための投影装置と、
ベース・フレームと、
前記基板テーブルを前記ベース・フレームに対して移動させるための少なくとも1つのアクチュエータとを含むリソグラフィ投影装置において、
前記基板テーブルから反力を加えられるように構成されたバランス・マスであって、前記ベース・フレームの振振動数と等しくないサスペンション振動数で前記ベース・フレームに弾発的に連結されているバランス・マスを特徴とするリソグラフィ投影装置。 - 前記バランス・マスが、前記ベース・フレームによって支持される、前記基板テーブルの配置された補助フレームを含む請求項1に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記ベース・フレームと前記バランス・マスとの間に連結された弾発的手段及び/又は制動器をさらに含む請求項1又は請求項2に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 放射線の投影ビームを提供するための放射線装置と、
所望のパターンに従って投影ビームにパターンを形成するように働くパターン形成手段を支持するための支持構造体と、
基板を保持するための基板テーブルと、
パターンの形成されたビームを前記基板の目標部分に投影するための投影装置と、
ベース・フレームとを含むリソグラフィ投影装置において、
前記ベース・フレームに力を加えるための少なくとも1つのアクチュエータと、
前記少なくとも1つのアクチュエータを制御するための制御装置であって、前記ベース・フレームに反力が加えられるとき、該反力と大きさ及び方向が反対の力を前記ベース・フレームに加えるように前記アクチュエータを制御するようになっている制御装置とを特徴とするリソグラフィ投影装置。 - 前記少なくとも1つのアクチュエータが、前記ベース・フレームと前記ベース・フレームの置かれた床との間に連結され、前記制御装置が、前記ベース・フレームに反力を加えるリソグラフィ装置内における既知の移動についての入力と共にフィードフォワード制御を用いて、前記少なくとも1つのアクチュエータを制御するようになっている請求項4に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記少なくとも1つのアクチュエータが圧電アクチュエータである請求項4又は請求項5に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記支持構造体が、マスクを保持するためのマスク・テーブルと、マスク・フレームに対して相対移動できるようにマスク・テーブルを支持するためのマスク・フレームとを含み、該マスク・フレームが前記アクチュエータによって前記ベース・フレームに連結され、かつ前記ベース・フレームに対して移動できるように支持され、前記制御装置が前記支持構造体に対するマスク・テーブルの既知の移動に基づき、フィードフォワード制御を用いて前記アクチュエータを制御するようになっている請求項4に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記少なくとも1つのアクチュエータによって前記ベース・フレームに連結されたバランス・マスをさらに含み、前記制御装置が、前記ベース・フレームに反力を加える装置内における既知の移動についての入力と共にフィードフォワード制御を用いて、前記少なくとも1つのアクチュエータを制御するようになっている請求項4に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記制御装置が、前記ベース・フレームへの反力を前記ベース・フレームの主な走査方向だけに加える装置内における既知の移動についての入力を有する請求項4から請求項8までのいずれか1項に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記支持構造体がマスクを保持するためのマスク・テーブルを含み、前記装置内における既知の移動が、前記基板テーブル及び/又は前記マスク・テーブルの移動である請求項5、請求項6、請求項8又は請求項9のいずれか1項に記載されたリソグラフィ装置。
- 少なくとも一部分が放射線感光材料の層で被覆された基板を提供する段階と、
放射線装置を用いて放射線の投影ビームを提供する段階と、
パターン形成手段を用いて前記投影ビームの断面にパターンを付与する段階と、
パターンの形成された放射線ビームを放射線感光材料の層の目標部分に投影する段階とを含むデバイス製造方法において、
装置内部の物品の加速度によってベース・フレームに反力が加えられるとき、方向及び大きさが反対の力を該ベース・フレームに加えることを特徴とするデバイス製造方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP03254266 | 2003-07-04 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005109441A true JP2005109441A (ja) | 2005-04-21 |
Family
ID=34178603
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004196167A Pending JP2005109441A (ja) | 2003-07-04 | 2004-07-02 | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7248339B2 (ja) |
JP (1) | JP2005109441A (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007208110A (ja) * | 2006-02-03 | 2007-08-16 | Shimadzu Corp | 結晶化装置、結晶化装置の振動評価方法、および結晶化装置の光学ベース設計方法 |
JP2007266053A (ja) * | 2006-03-27 | 2007-10-11 | Canon Inc | 加工装置及び方法、並びに、デバイス製造方法 |
JP2008153631A (ja) * | 2006-11-08 | 2008-07-03 | Integrated Dynamics Engineering Gmbh | 組み合わせ動作制御システム |
JP2011029652A (ja) * | 2006-05-31 | 2011-02-10 | Asml Netherlands Bv | メトロロジーツール、リソグラフィ装置およびメトロロジーツールを備えるシステム、および、基板のパラメータを決定する方法 |
JP2011086727A (ja) * | 2009-10-14 | 2011-04-28 | Canon Inc | インプリント装置及び物品の製造方法 |
CN103809384A (zh) * | 2012-11-12 | 2014-05-21 | 上海微电子装备有限公司 | 工件台与掩模台公用的平衡质量系统及光刻机 |
US9104121B2 (en) | 2011-08-15 | 2015-08-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus having a vibration suppressing feature and method of manufacturing device using the exposure apparatus |
JP2016536638A (ja) * | 2013-10-29 | 2016-11-24 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
US10649347B2 (en) | 2013-10-29 | 2020-05-12 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006261605A (ja) * | 2005-03-18 | 2006-09-28 | Canon Inc | 露光装置及び露光方法 |
US8125610B2 (en) | 2005-12-02 | 2012-02-28 | ASML Metherlands B.V. | Method for preventing or reducing contamination of an immersion type projection apparatus and an immersion type lithographic apparatus |
EP1803967B1 (de) * | 2005-12-30 | 2016-08-03 | Integrated Dynamics Engineering GmbH | Schwingungsisolationssystem mit Störgrössenaufschaltung von vorhersehbaren Kraftstörungen |
NL1036511A1 (nl) * | 2008-02-13 | 2009-08-14 | Asml Netherlands Bv | Movable support, position control system, lithographic apparatus and method of controlling a position of an exchangeable object. |
US8144310B2 (en) * | 2008-04-14 | 2012-03-27 | Asml Netherlands B.V. | Positioning system, lithographic apparatus and device manufacturing method |
NL2002902A1 (nl) * | 2008-06-18 | 2009-12-22 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus having a feed forward pressure pulse compensation for the metrology frame. |
NL2004735A (en) * | 2009-07-06 | 2011-01-10 | Asml Netherlands Bv | Imprint lithography apparatus and method. |
JP5641878B2 (ja) * | 2010-10-29 | 2014-12-17 | キヤノン株式会社 | 振動制御装置、リソグラフィー装置、および、物品の製造方法 |
US10077865B2 (en) | 2014-06-05 | 2018-09-18 | The Regents Of The University Of Michigan | Magnet assisted stage for vibration and heat reduction in wafer scanning |
JP6644891B2 (ja) * | 2015-12-21 | 2020-02-12 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | アクティブベースフレームサポートを有するリソグラフィ装置 |
WO2023083573A1 (en) * | 2021-11-15 | 2023-05-19 | Asml Netherlands B.V. | Method and system of reducing chamber vibration |
CN114810930B (zh) * | 2022-07-01 | 2022-09-16 | 上海隐冠半导体技术有限公司 | 运动系统 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5523193A (en) * | 1988-05-31 | 1996-06-04 | Texas Instruments Incorporated | Method and apparatus for patterning and imaging member |
EP0527166B1 (de) * | 1990-05-02 | 1995-06-14 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Förderung Der Angewandten Forschung E.V. | Belichtungsvorrichtung |
NL9100407A (nl) | 1991-03-07 | 1992-10-01 | Philips Nv | Optisch lithografische inrichting met een krachtgecompenseerd machinegestel. |
US5229872A (en) * | 1992-01-21 | 1993-07-20 | Hughes Aircraft Company | Exposure device including an electrically aligned electronic mask for micropatterning |
JP3217522B2 (ja) * | 1992-03-02 | 2001-10-09 | キヤノン株式会社 | 精密位置決め装置 |
US5812420A (en) * | 1995-09-05 | 1998-09-22 | Nikon Corporation | Vibration-preventive apparatus and exposure apparatus |
WO1997033205A1 (en) * | 1996-03-06 | 1997-09-12 | Philips Electronics N.V. | Differential interferometer system and lithographic step-and-scan apparatus provided with such a system |
DE69717975T2 (de) * | 1996-12-24 | 2003-05-28 | Asml Netherlands Bv | In zwei richtungen ausgewogenes positioniergerät, sowie lithographisches gerät mit einem solchen positioniergerät |
US5815246A (en) * | 1996-12-24 | 1998-09-29 | U.S. Philips Corporation | Two-dimensionally balanced positioning device, and lithographic device provided with such a positioning device |
ATE216091T1 (de) | 1997-01-29 | 2002-04-15 | Micronic Laser Systems Ab | Verfahren und gerät zur erzeugung eines musters auf einem mit fotoresist beschichteten substrat mittels fokusiertem laserstrahl |
SE509062C2 (sv) | 1997-02-28 | 1998-11-30 | Micronic Laser Systems Ab | Dataomvandlingsmetod för en laserskrivare med flera strålar för mycket komplexa mikrokolitografiska mönster |
US6490025B1 (en) | 1997-03-17 | 2002-12-03 | Nikon Corporation | Exposure apparatus |
JPH11315883A (ja) * | 1998-04-30 | 1999-11-16 | Canon Inc | 除振装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
JP2000216082A (ja) | 1999-01-27 | 2000-08-04 | Nikon Corp | ステ―ジ装置および露光装置 |
EP1111469B1 (en) | 1999-12-21 | 2007-10-17 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus with a balanced positioning system |
US20040252287A1 (en) * | 2003-06-11 | 2004-12-16 | Michael Binnard | Reaction frame assembly that functions as a reaction mass |
-
2004
- 2004-07-01 US US10/880,606 patent/US7248339B2/en active Active
- 2004-07-02 JP JP2004196167A patent/JP2005109441A/ja active Pending
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007208110A (ja) * | 2006-02-03 | 2007-08-16 | Shimadzu Corp | 結晶化装置、結晶化装置の振動評価方法、および結晶化装置の光学ベース設計方法 |
JP2007266053A (ja) * | 2006-03-27 | 2007-10-11 | Canon Inc | 加工装置及び方法、並びに、デバイス製造方法 |
JP2011029652A (ja) * | 2006-05-31 | 2011-02-10 | Asml Netherlands Bv | メトロロジーツール、リソグラフィ装置およびメトロロジーツールを備えるシステム、および、基板のパラメータを決定する方法 |
JP2008153631A (ja) * | 2006-11-08 | 2008-07-03 | Integrated Dynamics Engineering Gmbh | 組み合わせ動作制御システム |
JP2011086727A (ja) * | 2009-10-14 | 2011-04-28 | Canon Inc | インプリント装置及び物品の製造方法 |
US9104121B2 (en) | 2011-08-15 | 2015-08-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus having a vibration suppressing feature and method of manufacturing device using the exposure apparatus |
CN103809384A (zh) * | 2012-11-12 | 2014-05-21 | 上海微电子装备有限公司 | 工件台与掩模台公用的平衡质量系统及光刻机 |
JP2015535613A (ja) * | 2012-11-12 | 2015-12-14 | シャンハイ マイクロ エレクトロニクス イクイプメント カンパニー リミティド | ワークテーブルとマスクテーブルで共有するバランスマスシステム及びリソグラフィマシン |
JP2016536638A (ja) * | 2013-10-29 | 2016-11-24 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
US10409175B2 (en) | 2013-10-29 | 2019-09-10 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US10649347B2 (en) | 2013-10-29 | 2020-05-12 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20050041233A1 (en) | 2005-02-24 |
US7248339B2 (en) | 2007-07-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4686563B2 (ja) | 可動物体の位置依存信号を測定するための測定システム、リソグラフィ装置および方法 | |
JP3813923B2 (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP5009991B2 (ja) | リソグラフィ装置 | |
JP4871340B2 (ja) | アクティブ制振サブアセンブリを有するリソグラフィ装置 | |
KR101155066B1 (ko) | 리소그래피 장치, 투영 조립체 및 능동 감쇠 | |
JP5323160B2 (ja) | パターニングデバイスから基板上にパターンを転写するためのリソグラフィ装置、および制振方法 | |
JP4954967B2 (ja) | 構造物と2以上の能動減衰システムの組合せ、リソグラフィ装置、および投影アセンブリ | |
JP2005109441A (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP4881215B2 (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP5162417B2 (ja) | リソグラフィ装置およびその振動制御方法 | |
JP2010153854A (ja) | オブジェクトを制動させるための方法、アクティブダンピングシステムおよびリソグラフィ装置 | |
JP4824054B2 (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP6741739B2 (ja) | 粒子ビーム装置 | |
JP2020517980A (ja) | 支持構造、方法、及びリソグラフィ装置 | |
JP2018538570A (ja) | 振動絶縁デバイス、リソグラフィ装置、および振動絶縁システムを調節する方法 | |
JP5572113B2 (ja) | リソグラフィ装置 | |
JP2007513503A (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP2010226106A (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP6209234B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP4740970B2 (ja) | 振動絶縁サポートデバイスを含むリソグラフィ装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20060919 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061127 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070823 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070828 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071127 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080108 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080408 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080520 |