SE509062C2 - Dataomvandlingsmetod för en laserskrivare med flera strålar för mycket komplexa mikrokolitografiska mönster - Google Patents

Dataomvandlingsmetod för en laserskrivare med flera strålar för mycket komplexa mikrokolitografiska mönster

Info

Publication number
SE509062C2
SE509062C2 SE9700742A SE9700742A SE509062C2 SE 509062 C2 SE509062 C2 SE 509062C2 SE 9700742 A SE9700742 A SE 9700742A SE 9700742 A SE9700742 A SE 9700742A SE 509062 C2 SE509062 C2 SE 509062C2
Authority
SE
Sweden
Prior art keywords
scan
data
conversion
segments
lists
Prior art date
Application number
SE9700742A
Other languages
English (en)
Other versions
SE9700742L (sv
SE9700742D0 (sv
Inventor
Anders Thuren
Original Assignee
Micronic Laser Systems Ab
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Micronic Laser Systems Ab filed Critical Micronic Laser Systems Ab
Priority to SE9700742A priority Critical patent/SE509062C2/sv
Publication of SE9700742D0 publication Critical patent/SE9700742D0/sv
Priority to PCT/SE1998/000347 priority patent/WO1998038597A2/en
Priority to JP53758198A priority patent/JP2001513219A/ja
Priority to DE69815697T priority patent/DE69815697T2/de
Priority to EP98908378A priority patent/EP1012783B1/en
Priority to US09/380,270 priority patent/US7088468B1/en
Priority to AU66423/98A priority patent/AU6642398A/en
Priority to AT98908378T priority patent/ATE243343T1/de
Publication of SE9700742L publication Critical patent/SE9700742L/sv
Publication of SE509062C2 publication Critical patent/SE509062C2/sv

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70383Direct write, i.e. pattern is written directly without the use of a mask by one or multiple beams
    • G03F7/704Scanned exposure beam, e.g. raster-, rotary- and vector scanning
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
    • G06KGRAPHICAL DATA READING; PRESENTATION OF DATA; RECORD CARRIERS; HANDLING RECORD CARRIERS
    • G06K15/00Arrangements for producing a permanent visual presentation of the output data, e.g. computer output printers
    • G06K15/02Arrangements for producing a permanent visual presentation of the output data, e.g. computer output printers using printers
    • G06K15/12Arrangements for producing a permanent visual presentation of the output data, e.g. computer output printers using printers by photographic printing, e.g. by laser printers
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
    • G06KGRAPHICAL DATA READING; PRESENTATION OF DATA; RECORD CARRIERS; HANDLING RECORD CARRIERS
    • G06K2215/00Arrangements for producing a permanent visual presentation of the output data
    • G06K2215/0002Handling the output data
    • G06K2215/0062Handling the output data combining generic and host data, e.g. filling a raster
    • G06K2215/0065Page or partial page composition
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W20/00Interconnections in chips, wafers or substrates
    • H10W20/01Manufacture or treatment

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Laser Beam Printer (AREA)
  • Optical Recording Or Reproduction (AREA)
  • Optical Head (AREA)
  • Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)

Description

20 25 30 35 509 062 2 (namometer) eller mindre. Det har beskrivits i den euro- peiska patentansökan EP 0 467 076 av samma uppfinnare att en kombination av tidsfördröjningar och analog effektmo- dulering kan användas för att uppnå ett godtyckligt litet adressraster. Samma patent beskriver även användning av flera strålar och parallella datavägar för att öka genom- strömningen för skrivsystemet.
För en skrivare med två laserstrålar kan två paral- lella datavägar vara lämpligt, men nuvarande flerstràle- skrivare kan använda upp till 32 strålar och enkel mul- tiplicering av ett enkelstråledataspår skulle vara prak- tiskt omöjligt.
Det finns också en stark önskan att ha olika antal processorer och strålar, speciellt ett mycket större an- tal processorer än strålar. Ett andra behov är att göra systemet enkelt skalbart, så att skrivare för olika app- likationer med olika krav på kapacitet kan konfigureras från standardmoduler och köras med identisk mjukvara.
I den amerikanska patentansökan US 5 533 170 be- skrivs ett flerstràledataspår med hög genomströmning ba- serat pà parallella rasteriserare. Varje rasteriserare, "geometrimotor", omvandlar en ram för mönstret till en pixelmatris där varje pixel har ett gràskalevärde från 0 till 16. Bitmatriserna fördelas till strålkorten via ett bussystem och laddas till ett buffert-RAM-område i varje busskort.
Metoden i US 5 533 170 erfordrar mycket hög behand- lingseffekt. Speciellt måste varje pixel fyllas med dess korrekta värde och sändas till strålkorten för skrivning.
Detta sker med en signalbehandlare och med konventionella ASIC. Skrivsystemet har en skursändningspixelhastighet på 1600 miljoner pixel per sekund, och extremt höga krav ställs på de interna datavägarna. Därför används ett sys- tem med parallella bussar och resultatet är ett komplext, dyrt och oflexibelt system.
Föreliggande uppfinning anvisar en metod för dataom- vandling vilken kan användas vid konfigurationer från en lO 15 20 25 30 35 509 062 3 stråle/en processor till tiotals strålar/hundratals pro- CESSOIQI' .
KORTFATTAD SAMMANFATTNING AV UPPFINNINGEN I föreliggande uppfinning uppdelas dataomvandlingen i två steg: först uppdelande av geometrierna i scannings- linjer och förenklande av dem, och sedan avslutande av omvandlingar av scanningslinjerna vid bestämda punkter, dvs i en stràlningsprocessor i drivelektroniken för varje stråle. Idén är att utföra så mycket som möjligt av om- vandlingen vid den senast möjliga punkten, dvs vid strå- larna. Vad som behövs vid ett tidigare steg är att sepa- rera datan för olika strålar och fördela dem, och att förenkla datan nog mycket för att tillse att stràlnings- processorerna alltid kan hantera dataflödet.
Uppfinningen medför fördelar inom tre områden: - det finns ingenstans i systemet av pixelmatris som be- höver fyllas, kraft; - att hålla informationen för strâlningsprocesserna i och därmed sparas àtskillig behandlings- geometrisk form i stället för som en pixelmatris ger en mindre datavolym, vilket gör implementeringen enklare och mer flexibel. Praktiska tester indikerar besparing- ar på 4 - 20 gånger beroende på mönstret; - manipulerandet av den geometriska datan utan fyllnads- operationer är väl lämpad för algoritmiska program kör- da på en allmän konventionell processor, medan den slutliga databehandlingen i strålningskorten àstadkoms bättre med anpassad logik. Användningen av allmänna vanliga processorer medför en stor flexibilitet. Det är möjligt att öka prestandan helt enkelt genom att övergå till snabbare processorer då de blir tillgängliga, och det är enkelt att modifiera eller förbättra algoritmer- na för att följa behoven för tillämpningarna. Vanliga algoritmer för specifika applikationer eller nya in- matningsformat implementeras enkelt. 10 15 20 25 30 35 509 062 4 KORTFATTAD BESKRIVNING AV RITNINGARNA Fig la visar hur en rund form 101 kombinerad med en triangulär form 102 representeras av en pixelmatris 103 med analoga intensiteter (visade som varierad skuggning).
Strålen 104 scannar i parallella linjer 105. Storleken på skrivljuspunkten är större än en pixel, och därför kommer resultatet på skivan att utjämnas till en rund figur.
Fig lb visar samma former som i fig la, men där den geometriska formen uppdelas i segment 106 som härrör sig till olika scanningslinjer.
Fig lc visar samma former som i fig lb, men där seg- menten har ersatts av ett förenklat nytt segment 107, med endast längd och bredd. Såsom i fig la, kommer storleken på punkten att göra den skrivna figuren utjämnad.
Fig ld visar segmenten i fig lc omvandlade till ana- loga värden av stràlningsprocessorn. 202, jesprångsscannade linjer på avståndet 206. Figuren visar Fig 2 visar tre strålar 201, 203 formande lin- att strålarna scannar tre linjer och sedan återgår medan plattformen flyttas fram en sträcka 207 som är lika med tre gånger scanningsavstånden. Det finns fler möjliga av- stånd 205 mellan strålarna, och här visas två gånger scanningsavståndet 206.
Fig 3 visar ett föredraget utförande av uppfinningen med två strålar och två segmentiserare.
Fig 4 visar ett föredraget utförande med tre strålar och fyra segmentiserare.
Fig 5 visar hur data buffertlagras för att tillåta att alla tet i ett annat föredraget utförande med fyra segmentise- komponenter körs kontinuerligt med full kapaci- rare och tre strålar.
FUNKTIONEN HOS UPPFINNINGEN Fig 3 visar ett utförande med två processorer och två strålar som skriver på ett arbetsstycke 301 med an- vändning av en förminsknings- och fokuseringslins 305.
Scanningen och framflyttningen mellan scanningar, ej vi- sade i denna figur, kan åstadkommas medelst plattformen 10 15 20 25 30 35 509 062 5 eller strålarna eller genom en kombination av de två.
Mönstret, fönster 307, beskrivs i den inmatade datan som läses från bandet 308 eller från ett nätverk 309. visat som en figur 306 i ett fyrkantigt Inmatningen kan lagras på ett lokalt massminne 310, kal hårddisk, inmatade datan till segmentiserare 312, exempelvis på en lo- Värddatorn sänder den 313 efter att den av Värddatorn 311. har utfört nödvändig formatkonvertering, skalning, expan- sion av hierarkiska strukturer etc. Den kan hela tiden använda massminnet 310 för mellanlagring. Vidare delar den in datan i fält vilka är passande för längden hos scanningslinjerna och för storleken på databuffertarna i dataspåret. Beroende på komplexiteten hos datan kan fäl- ten väljas till att vara hela skrivningssvepremsor eller en del av svepremsor.
Värddatorn sänder data för varje fält till en av 313, ver skrivas och till den först tillgängliga segmentisera- segmentiserarna 312, typiskt i den ordning de behö- ren. Värddatorn bibehåller en tabell av var data för var- je fält är och dess status.
Segmentiserarna delar datan för varje scanningslinje och formar en lista på geometriska element för varje scanningslinje och en lista på scanningslinjerna 316, 317. Även om funktionen för uppfinningen inte beror på detta, scanningslinje, kan segmentiseraren förenkla geometrierna i varje ta bort alla överlappande geometrier, forma segment vilka är rektanglar med längd och bredd och sortera båda listorna för segmenten och listorna för scanningslinjerna i användningsordningen för den skrivan- de hårdvaran.
Listan med scanningslinjer sänds till linj sprängs- uppdelaren 314, 315 där scanningslinjerna separ~ as bero- ende på vilka strålar de kommer att skrivas av. Nya lin- I fig 3 är listan 317 uppdelad till linjesprångslistor 318 och jesprångslistor för varje stråle sammanställts. 319 vilka sänds till stràlningsbehandlingsenheter, exem- pelvis stràlningsprocessorkort 320, 321, vardera med en 10 l5 20 25 30 35 509 062 6 I strål- ningsbehandlingskorten uppdelas den förenklade geometrin strålningsprocessor 322 och en modulator 323. i scanningslistorna och konverteras till amplitud och tidsmodulering för laserstrålarna. Då strålarna scannar arbetsstycket parallellt sammanställs linjesprångsmönst- ret 324, Eftersom endast ett fält skrivs i taget kan endast 325 åter i det exponerade mönstret. en linjesprångsuppdelare sända data till strålningspro- cessorerna åt gången såsom visas av de kraftiga linjerna från 315 till 320, 321, lagras så att behandlingen i strålningsprocessorerna om inte överföringarna buffert- kopplas bort ifrån datainmatningen.
För ett enkelt fall med ett litet antal strålar kan fördelningen göras av en multiplexor, dvs en logisk krets som accepterar en enda ingående dataström från segmenti- seraren/segmentiserarna och riktar dataobjekten till oli- ka utgångar i enlighet med antingen deras position i strömmen eller etiketter hos dataobjekten.
Fig 3 visar metoden i schematisk form och i en prak- tisk implementering kan detaljer variera, och exempelvis kan de två modulatorerna vara en enda fysisk enhet med två kanaler, varje segmentiserare kan använda en eller flera processorer etc.
FÖREDRAGNA UTFÖRANDEN Ett föredraget utförande av uppfinningen är en tre- strålelaserskrivare för halvledarsubstrat, såsom visas i fig 4. Skrivaren har ett avstånd mellan scanningslinjerna på 0,25 um och en kortaste segmentlängd på 0,25 um. Den maximala omvandlingshastigheten i strålprocessorerna är 60 miljoner segment per sekund och systemet skriver approximativt 60% av den totala tiden. Följaktligen skri- ver systemet 3 * 0,25 um * 0,25 pm * 60% * 60 miljoner = 6,75 mmz/s.
Dataomvandlingsnätverket måste vara dimensionerat för det värsta tänkbara fallet, dvs att hela området fylls med segment med minimal längd, eller så är det möj- ligt att tillföra en ingående datafil, vilken får syste- 10 15 20 25 30 35 509 062 7 met att fungera felaktigt beroende på dataöverlast. Varje strålprocessor har en maximal skurhastighet på 60 miljo- ner segment per sekund och varje segment beskrivs av två databyte. De tre strålprocessorerna har därför en maximal svarande mot 180 - 240 Mb/s maximal ihållande medelhastighet. datakonsumtion på 360 Mb/s, Länkarna mellan linjeuppdelarna och strålprocesso- rerna implementeras som ett kors-kopplat nätverk eller parallella länkar. Varje länk har en överföringshastighet på 180 Mb/s och det visade nätverket kan hela tiden stöd- ja tre samtidiga överföringar. Genommatningen för länkar- na mellan segmentiserarna och strålprocessorerna är 3 * l80 Mb/s = 540 Mb/S i skurhastighet vilket är mer än tillräckligt för det värsta möjliga mönstret innefattande reduktans (overhead). Alternativt kan ett enklare nätverk användas som stöder två eller endast en överföring.
Fig 5 visar hur väl tilltagna buffertar medger att alla komponenterna kan arbeta oberoende av varandra. De kraftiga linjerna visar innevarande dataöverföringar.
(IRl-IR4) för lagring av nya listor som bearbetas och en för lag- Linjeuppdelarna har två utgående buffertar, en ring av tidigare listor som väntar på att överföras till strålprocessorerna. Eftersom segmentiserarna typiskt är långsammare än spåruppdelarna behöver buffertminnet mel- lan S och IR dast vara stort nog att tillåta S det behöver en- och IR inte lagra någon data, att arbeta i ett asynkront tillstånd.
Strålprocessorenheterna har FIFO-buffertar med ut- Fältet n (Fn) rande och läses från alla FIFO samtidigt, från IRl medan IR1 arbetar med Fn+5. rymme för flera fält. skrivs för närva- Fn+1 överförs IR2 och IR3 är ett och FIFO-na för BP2 och BP3 lagrar nog data för att tillse att botten av alla FIFO är respektive två fält före IRl, synkroniserade.
S4 och IR4 har just slutat med Fn+4 och IR4 överför utsignalerna från arbetsbufferten till överföringsbuffer- ten. Samtidigt laddar värddatorn HC ingående data ifrån 10 l5 20 25 30 35 509 062 8 ett nytt fält till S4. en och överföringen av data mer oregelbunden än vad fig 5 I verklig drift är tidsfördelning- kan få en att tro, eftersom fälten tar olika lång tid att behandla och tidsfördelningen baseras på efterfrågan och tillgänglighet. Buffertminnena i fig 5 behöver inte vara fysiskt separata utan kan vara olika områden i samma fy- siska minne, och de kan tilldelas dynamiskt. Processorer- na Pl till P8 kan likaledes vara 8 fysiska processorer, men kan även vara av ett annat antal och kan vara dyna- miskt tilldelade till olika uppgifter.
Fig 5 antar att datan behöver laddas sekventiellt till strålprocessorbuffertarna. Användning av direkt åt- komstskrivning i stället för FIFO skulle medge mindre buffertområden, men till kostnaden av mer programadmi- nistration och mer komplex hantering för värddatorn. I det föredragna utförandet används FIFO.
Ett reellt mönster kommer att ha ett datakrav på åt- minstone 4 gånger mindre än den maximala datahastigheten på 45 - 67 Mb/s. Ett typiskt skrivningsfält är en del av svepremsor med 200 pm bredd och lO mm långt, vilket krä- ver ett absolut maximum på 32 miljoner segment eller 64 Mb data, i praktiken ej mer än 8 miljoner segment eller 16 Mb data eller 5,3 Mb per stråle. 72 Mb buffertminne i strålningsprocessorenheterna (24 Mb i varje enhet) kommer sedan att lagra flera fält såsom visas i fig 5. Ett en- staka fält med för mycket data kommer att göra att FIFO- bufferten fylls upp och genomströmningen kommer att för- loras under ett antal fält, men systemet kommer elegant att återhämta sig. Med ett större antal processorer än strålar behöver den skrivande hårdvaran endast vänta på dataöverföringar, och inte för behandling eftersom de ef- terföljande fälten redan befinner sig i överföringsbuf- fertarna hos IR.
Storleken på fälten kan förändras dynamiskt, så att fältstorlekarna görs mindre för extremt täta mönster och större för mindre täta mönster. 10 l5 20 25 30 35 509 062 9 Även i fall där data till strålprocessorerna endast är rektangulära icke överlappande segment, använder om- vandlingen från geometriska element till tid och kraft i strålprocessorerna en uppsättning regler. Först omvandlas geometrin till hårdvarustöd-tid och kapacitetsuppdelning.
För det andra är linjeariteten mellan effekten i strålen och positionen för kanten endast approximativ. När strå- len är endast något större än avståndet mellan de två scanningslinjerna, är transientfunktionen s-formad och på vissa ljuskänsliga material finns det en ytterligare sän- ka. Därför är det en fördel att göra en empirisk kalibre- ring och lagra kalibreringskurvan som en uppslagningsta- bell. ningslinjen inte är perfekt, är en lagrad geometrisk kor- Vidare, om den geometriska linjeariteten för scan- rigeringstabell till nytta.
Uppfinningen och utförandena uppfyller behovet av ett realtidsdatakonverteringssystem för ett brett fält av tillämpningar, och även så de mest krävande. Specifikt finns det ingen hårdvarugräns för antalet processorer som kan användas i typiska utföranden, eftersom de använder ett korskopplat nätverk, vilket är enklare att utvidga än bussystem. System utformade i enlighet med uppfinningen kan även utvecklas med de hastigt ökande kraven på kapa- citet. Eftersom det är lämpligt att bygga det med stan- dardprocessorer, standarddatorkort och mjukvara i portab- la högnivåspråk, kan det följa den tekniska utvecklingen vilken har givit en tredubbling av hastigheten vartannat år i det förflutna.
Termerna och uttrycken som har använts i den föregå- ende beskrivningen används däri som beskrivningstermer och är inte avsedda som begränsning, och det finns ingen avsikt i användningen av sådana termer och uttryck att utesluta ekvivalenter för särdragen som visats och be- skrivits eller delar därav, då det skall förstås att ra- men för uppfinningen definieras och begränsas endast av de följande patentkraven.

Claims (14)

lO 15 20 25 30 35 509 062 lO PATENTKRAV
1. Metod för snabb och precis skrivning av mycket komplexa mönster på en ljuskänslig yta omfattande stegen att: tillhandahålla åtminstone två modulerade fokuserade laserstrålar som scannar ytan med parallella linje- språngsscanningslinjer; för varje stråle tillhandahålla en strålprocessoren- het med dataomvandlingslogik och organ för modulering av nämnda laserstråle; tillhandahålla inmatningsdata innehållande geometri- erna som skall skrivas på skivan i ett ingående format, exempelvis en lista av polygoner; i ett första omvandlingssteg uppdela inmatningsdatan i skrivfält, exempelvis svepremsor; i ett andra omvandlingssteg indela geometrierna i den uppdelade databasen till scanningslinjer, och för varje scanningslinje generera en scanningslista inne- hållande geometrier som skall skrivas i scanningslinjen, s k segment, och utföra nämnda andra omvandlingssteg i åtminstone två parallella processorer, s k segmenti- serare, verkande simultant men på olika skrivfält; vidare fördela nämnda scanningslistor till strål- processorenheten i enlighet med linjesprångsuppdelningen för scanningslinjerna; och i ett tredje omvandlingssteg omvandla, i nämnda strålprocessorenhet, nämnda scanningslistor med segment till analoga effektmoduleringssekvenser för nämnda laser- strålar.
2. Metod i enlighet med patentkrav 1, varvid segmen- ten i scanningslistorna är förenklade geometriska repre- sentationer av de delar av de ingående geometrierna vilka faller inom scanningslinjen,
3. Metod i enlighet med patentkrav 1 eller 2, varvid segmenten i en scanningslista är icke överlappande.
4. Metod i enlighet med något av föregående 10 15 20 25 30 35 5o9åoe2 ll patentkrav, varvid segmenten i en scanningslista är rek- tanglar med en längd och en bredd.
5. Metod i enlighet med något av föregående patent- krav, varvid segmenten i scanningslistorna är sorterade i ordningen som de skall skrivas av scanningsstrålen.
6. Metod i enlighet med något av föregående patent- krav, varvid omvandlingen i strålprocessorenheterna an- vänder en uppsättning med omvandlingsregler vilka är em- piriskt kalibrerade.
7. Metod i enlighet med något av föregående patent- krav, varvid omvandlingen i strålprocessorenheterna an- vänder åtminstone en tabelluppslagningsfunktion.
8. Metod i enlighet med något av föregående patent- krav, varvid scanningslistorna är fördelade till strål- processorenheterna via ett korskopplat nätverk.
9. Metod i enlighet med något av föregående patent- krav, varvid scanningslistorna fördelas till strålproces- sorenheterna via ett bussystem.
10. Metod i enlighet med något av föregående patent- krav, varvid scanningslistorna fördelas till någon av strålprocessorenheterna med en multiplexer.
11. ll. Metod i enlighet med något av föregående patent- krav, varvid datan sänds genom det andra och tredje om- vandlingssteget utan mellanliggande icke-flyktiga minnen.
12. Metod i enlighet med något av föregående patent- krav, varvid strålkorten har en ingående buffert med ut- rymme för scanningslistor för åtminstone två skrivfält.
13. Metod i enlighet med något av föregående patent- krav, där överföringen mellan segmentiserarna och strål- processorenheten är dubbelt buffertlagrade, i en utgående buffert i segmentiseraren och i en ingående buffert i strålprocessorenheten.
14. Anordning för snabb och precis skrivning av mycket komplexa mönster på en ljuskänslig yta omfattande: åtminstone två modulerade fokuserade laserstràlar scannande ytan i parallella linjesprångsscanningslinjer; 10 15 20 509 062 12 en strålprocessorenhet för varje laserstråle med da- taomvandlingslogik och organ för modulering av nämnda la- serstråle; organ för accepterande av ingående data innehållande geometrierna som skall skrivas på skivan i ett ingående format, exempelvis en lista av polygoner; databehandlingsorgan för att i ett första omvand- lingssteg uppdela den ingående datan i skrivfält, exem- pelvis svepremsor; parallella databehandlingsorgan för att i ett andra omvandlingssteg indela geometrierna i den uppdelade data- för varje scan- basen till scanningslinjer, och generera, ningslinje, en scanningslinje innehållande geometrierna som skall skrivas i scanningslinjen, s k segment; datafördelningsorgan för distribution av nämnda scanningslistor till strålprocessorenheterna i enlighet med linjesprångsuppdelningen för scanningslinjerna; och dataomvandling- och strálmoduleringsorgan i strål- processorenheterna för att, i ett tredje omvandlingssteg, omvandla nämnda scanningslistor med segment till analoga effektmoduleringssekvenser för nämnda laserstràlar.
SE9700742A 1997-02-28 1997-02-28 Dataomvandlingsmetod för en laserskrivare med flera strålar för mycket komplexa mikrokolitografiska mönster SE509062C2 (sv)

Priority Applications (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SE9700742A SE509062C2 (sv) 1997-02-28 1997-02-28 Dataomvandlingsmetod för en laserskrivare med flera strålar för mycket komplexa mikrokolitografiska mönster
PCT/SE1998/000347 WO1998038597A2 (en) 1997-02-28 1998-02-26 Data-conversion method for a multibeam laser writer for very complex microlithographic patterns
JP53758198A JP2001513219A (ja) 1997-02-28 1998-02-26 非常に複雑な超微細リソグラフィ・パターン用マルチビームレーザライタのデータ変換方法
DE69815697T DE69815697T2 (de) 1997-02-28 1998-02-26 Datenumsetzungs-Verfahren für einen Multistrahllaserschreiber für sehr komplexe microlithographische Motive
EP98908378A EP1012783B1 (en) 1997-02-28 1998-02-26 Data-conversion method for a multibeam laser writer for very complex microlithographic patterns
US09/380,270 US7088468B1 (en) 1997-02-28 1998-02-26 Data-conversion method for a multibeam laser writer for very complex microlithographic patterns
AU66423/98A AU6642398A (en) 1997-02-28 1998-02-26 Data-conversion method for a multibeam laser writer for very complex microlithographic patterns
AT98908378T ATE243343T1 (de) 1997-02-28 1998-02-26 Datenumsetzungs-verfahren für einen multistrahllaserschreiber für sehr komplexe microlithographische motive

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SE9700742A SE509062C2 (sv) 1997-02-28 1997-02-28 Dataomvandlingsmetod för en laserskrivare med flera strålar för mycket komplexa mikrokolitografiska mönster

Publications (3)

Publication Number Publication Date
SE9700742D0 SE9700742D0 (sv) 1997-02-28
SE9700742L SE9700742L (sv) 1998-08-29
SE509062C2 true SE509062C2 (sv) 1998-11-30

Family

ID=20405990

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SE9700742A SE509062C2 (sv) 1997-02-28 1997-02-28 Dataomvandlingsmetod för en laserskrivare med flera strålar för mycket komplexa mikrokolitografiska mönster

Country Status (8)

Country Link
US (1) US7088468B1 (sv)
EP (1) EP1012783B1 (sv)
JP (1) JP2001513219A (sv)
AT (1) ATE243343T1 (sv)
AU (1) AU6642398A (sv)
DE (1) DE69815697T2 (sv)
SE (1) SE509062C2 (sv)
WO (1) WO1998038597A2 (sv)

Families Citing this family (316)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SE516914C2 (sv) * 1999-09-09 2002-03-19 Micronic Laser Systems Ab Metoder och rastrerare för högpresterande mönstergenerering
US6961146B1 (en) * 1999-11-30 2005-11-01 Creo Il Ltd Method for homogenizing the exposure of the different beams in a multi beam plotter
US7508487B2 (en) 2000-06-01 2009-03-24 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby
US7113258B2 (en) 2001-01-15 2006-09-26 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus
JP3970106B2 (ja) 2001-05-23 2007-09-05 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. 実質的に透過性のプロセス層に整列マークを備える基板、上記マークを露出するためのマスク、およびデバイス製造方法
JP2003059827A (ja) * 2001-06-20 2003-02-28 Asml Netherlands Bv デバイスを製造する方法、この方法によって製造したデバイス、およびこの方法で使用するマスク
US6812474B2 (en) 2001-07-13 2004-11-02 Applied Materials, Inc. Pattern generation method and apparatus using cached cells of hierarchical data
TW529172B (en) 2001-07-24 2003-04-21 Asml Netherlands Bv Imaging apparatus
US6803993B2 (en) 2001-10-19 2004-10-12 Asml Netherlands-B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7333178B2 (en) 2002-03-18 2008-02-19 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7170587B2 (en) 2002-03-18 2007-01-30 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
EP1349010B1 (en) 2002-03-28 2014-12-10 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
EP1367446A1 (en) 2002-05-31 2003-12-03 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus
DE10226115A1 (de) * 2002-06-12 2003-12-24 Giesecke & Devrient Gmbh Verfahren zum Erzeugen eines Gitterbildes, Gitterbild und Sicherheitsdokument
JP3955837B2 (ja) 2002-07-11 2007-08-08 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. リソグラフィ機器およびデバイスの製造方法
EP1383007A1 (en) 2002-07-16 2004-01-21 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus, and device manufacturing method
JP4105616B2 (ja) 2002-08-15 2008-06-25 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. リソグラフ投影装置およびこの装置用の反射鏡アセンブリ
SG125923A1 (en) 2002-09-20 2006-10-30 Asml Netherlands Bv Lithographic marker structure, lithographic projection apparatus comprising such a lithographic marker structure and method for substrate alignment using such a lithographic marker structure
EP2204697A3 (en) 2002-09-20 2012-04-18 ASML Netherlands B.V. Marker structure, lithographic projection apparatus, method for substrate alignment using such a structure, and substrate comprising such marker structure
CN100421024C (zh) 2002-09-30 2008-09-24 Asml荷兰有限公司 光刻装置及器件制造方法
SG121822A1 (en) 2002-11-12 2006-05-26 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
US9482966B2 (en) 2002-11-12 2016-11-01 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US10503084B2 (en) 2002-11-12 2019-12-10 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
EP1420298B1 (en) 2002-11-12 2013-02-20 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus
EP1429188B1 (en) 2002-11-12 2013-06-19 ASML Netherlands B.V. Lithographic projection apparatus
SG121819A1 (en) 2002-11-12 2006-05-26 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7110081B2 (en) 2002-11-12 2006-09-19 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
SG111171A1 (en) 2002-11-27 2005-05-30 Asml Netherlands Bv Lithographic projection apparatus and device manufacturing method
DE60323927D1 (de) 2002-12-13 2008-11-20 Asml Netherlands Bv Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
JP4058405B2 (ja) 2002-12-19 2008-03-12 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. デバイス製造方法およびこの方法により製造したデバイス
CN100476585C (zh) 2002-12-23 2009-04-08 Asml荷兰有限公司 具有可扩展薄片的杂质屏蔽
EP1434092A1 (en) 2002-12-23 2004-06-30 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby
SG125101A1 (en) 2003-01-14 2006-09-29 Asml Netherlands Bv Level sensor for lithographic apparatus
TWI304158B (en) 2003-01-15 2008-12-11 Asml Netherlands Bv Detection assembly and lithographic projection apparatus provided with such a detection assembly
US7206059B2 (en) 2003-02-27 2007-04-17 Asml Netherlands B.V. Stationary and dynamic radial transverse electric polarizer for high numerical aperture systems
US6943941B2 (en) 2003-02-27 2005-09-13 Asml Netherlands B.V. Stationary and dynamic radial transverse electric polarizer for high numerical aperture systems
SG115641A1 (en) 2003-03-06 2005-10-28 Asml Netherlands Bv Device and method for manipulation and routing of a metrology beam
TWI264620B (en) 2003-03-07 2006-10-21 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
EP1457827A1 (en) 2003-03-11 2004-09-15 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby
SG125108A1 (en) 2003-03-11 2006-09-29 Asml Netherlands Bv Assembly comprising a sensor for determining at least one of tilt and height of a substrate, a method therefor and a lithographic projection apparatus
SG115632A1 (en) 2003-03-11 2005-10-28 Asml Netherlands Bv Lithographic projection assembly, handling apparatus for handling substrates and method of handling a substrate
EP1457826A1 (en) 2003-03-11 2004-09-15 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
EP1457825A1 (en) 2003-03-11 2004-09-15 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby
SG115629A1 (en) 2003-03-11 2005-10-28 Asml Netherlands Bv Method and apparatus for maintaining a machine part
SG115630A1 (en) 2003-03-11 2005-10-28 Asml Netherlands Bv Temperature conditioned load lock, lithographic apparatus comprising such a load lock and method of manufacturing a substrate with such a load lock
SG115631A1 (en) 2003-03-11 2005-10-28 Asml Netherlands Bv Lithographic projection assembly, load lock and method for transferring objects
EP1457833B1 (en) 2003-03-11 2012-05-30 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby
US7397539B2 (en) 2003-03-31 2008-07-08 Asml Netherlands, B.V. Transfer apparatus for transferring an object, lithographic apparatus employing such a transfer apparatus, and method of use thereof
SG125948A1 (en) 2003-03-31 2006-10-30 Asml Netherlands Bv Supporting structure for use in a lithographic apparatus
US7126671B2 (en) 2003-04-04 2006-10-24 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP4394500B2 (ja) 2003-04-09 2010-01-06 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. リソグラフィ装置、デバイス製造方法、及びコンピュータ・プログラム
SG115678A1 (en) 2003-04-22 2005-10-28 Asml Netherlands Bv Substrate carrier and method for making a substrate carrier
EP1475666A1 (en) 2003-05-06 2004-11-10 ASML Netherlands B.V. Substrate holder for lithographic apparatus
EP1475667A1 (en) 2003-05-09 2004-11-10 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
EP1477861A1 (en) 2003-05-16 2004-11-17 ASML Netherlands B.V. A method of calibrating a lithographic apparatus, an alignment method, a computer program, a lithographic apparatus and a device manufacturing method
US7063920B2 (en) 2003-05-16 2006-06-20 Asml Holding, N.V. Method for the generation of variable pitch nested lines and/or contact holes using fixed size pixels for direct-write lithographic systems
TWI304522B (en) 2003-05-28 2008-12-21 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus, method of calibrating and device manufacturing method
US7061591B2 (en) 2003-05-30 2006-06-13 Asml Holding N.V. Maskless lithography systems and methods utilizing spatial light modulator arrays
US6989920B2 (en) 2003-05-29 2006-01-24 Asml Holding N.V. System and method for dose control in a lithographic system
EP1482373A1 (en) 2003-05-30 2004-12-01 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
EP1486828B1 (en) 2003-06-09 2013-10-09 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7213963B2 (en) 2003-06-09 2007-05-08 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
EP2261741A3 (en) 2003-06-11 2011-05-25 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
EP1486824A1 (en) 2003-06-11 2004-12-15 ASML Netherlands B.V. A movable stage system for in a lithographic projection apparatus, lithographic projection apparatus and device manufacturing method
US7317504B2 (en) 2004-04-08 2008-01-08 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
SG118283A1 (en) * 2003-06-20 2006-01-27 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
EP1489449A1 (en) 2003-06-20 2004-12-22 ASML Netherlands B.V. Spatial light modulator
US7110082B2 (en) 2003-06-24 2006-09-19 Asml Holding N.V. Optical system for maskless lithography
SG119224A1 (en) 2003-06-26 2006-02-28 Asml Netherlands Bv Calibration method for a lithographic apparatus and device manufacturing method
EP1491967A1 (en) 2003-06-27 2004-12-29 ASML Netherlands B.V. Method and apparatus for positioning a substrate on a substrate table
TWI251129B (en) 2003-06-27 2006-03-11 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and integrated circuit manufacturing method
EP1494075B1 (en) 2003-06-30 2008-06-25 ASML Netherlands B.V. Lithographic projection apparatus and device manufacturing method
US7154587B2 (en) 2003-06-30 2006-12-26 Asml Netherlands B.V Spatial light modulator, lithographic apparatus and device manufacturing method
US7158215B2 (en) 2003-06-30 2007-01-02 Asml Holding N.V. Large field of view protection optical system with aberration correctability for flat panel displays
TWI284253B (en) 2003-07-01 2007-07-21 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7248339B2 (en) 2003-07-04 2007-07-24 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
EP1500987A1 (en) 2003-07-21 2005-01-26 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby
EP1500979A1 (en) 2003-07-21 2005-01-26 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7384149B2 (en) 2003-07-21 2008-06-10 Asml Netherlands B.V. Lithographic projection apparatus, gas purging method and device manufacturing method and purge gas supply system
TWI245170B (en) 2003-07-22 2005-12-11 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby
EP1500980A1 (en) 2003-07-22 2005-01-26 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby
TWI254188B (en) 2003-07-23 2006-05-01 Asml Netherlands Bv Lithographic projection apparatus and article holder therefor
US7224504B2 (en) 2003-07-30 2007-05-29 Asml Holding N. V. Deformable mirror using piezoelectric actuators formed as an integrated circuit and method of use
US6831768B1 (en) 2003-07-31 2004-12-14 Asml Holding N.V. Using time and/or power modulation to achieve dose gray-scaling in optical maskless lithography
US7145643B2 (en) 2003-08-07 2006-12-05 Asml Netherlands B.V. Interface unit, lithographic projection apparatus comprising such an interface unit and a device manufacturing method
JP4146825B2 (ja) 2003-08-27 2008-09-10 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. リソグラフィック装置、デバイス製造方法及びスライド・アセンブリ
TWI245163B (en) 2003-08-29 2005-12-11 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7414701B2 (en) 2003-10-03 2008-08-19 Asml Holding N.V. Method and systems for total focus deviation adjustments on maskless lithography systems
US8064730B2 (en) 2003-09-22 2011-11-22 Asml Netherlands B.V. Device manufacturing method, orientation determination method and lithographic apparatus
SG110196A1 (en) 2003-09-22 2005-04-28 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
US6876440B1 (en) 2003-09-30 2005-04-05 Asml Holding N.V. Methods and systems to compensate for a stitching disturbance of a printed pattern in a maskless lithography system utilizing overlap of exposure zones with attenuation of the aerial image in the overlap region
US7410736B2 (en) 2003-09-30 2008-08-12 Asml Holding N.V. Methods and systems to compensate for a stitching disturbance of a printed pattern in a maskless lithography system not utilizing overlap of the exposure zones
US7023526B2 (en) 2003-09-30 2006-04-04 Asml Holding N.V. Methods and systems to compensate for a stitching disturbance of a printed pattern in a maskless lithography system utilizing overlap without an explicit attenuation
US7109498B2 (en) 2003-10-09 2006-09-19 Asml Netherlands B.V. Radiation source, lithographic apparatus, and device manufacturing method
US7116398B2 (en) 2003-11-07 2006-10-03 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7196772B2 (en) 2003-11-07 2007-03-27 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7253077B2 (en) 2003-12-01 2007-08-07 Asml Netherlands B.V. Substrate, method of preparing a substrate, method of measurement, lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby, and machine-readable storage medium
US7565219B2 (en) 2003-12-09 2009-07-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, method of determining a model parameter, device manufacturing method, and device manufactured thereby
US20050134865A1 (en) 2003-12-17 2005-06-23 Asml Netherlands B.V. Method for determining a map, device manufacturing method, and lithographic apparatus
US7288779B2 (en) 2003-12-17 2007-10-30 Asml Netherlands B.V. Method for position determination, method for overlay optimization, and lithographic projection apparatus
US7349101B2 (en) 2003-12-30 2008-03-25 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, overlay detector, device manufacturing method, and device manufactured thereby
US7145641B2 (en) 2003-12-31 2006-12-05 Asml Netherlands, B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby
US7012674B2 (en) 2004-01-13 2006-03-14 Asml Holding N.V. Maskless optical writer
JP4083751B2 (ja) 2004-01-29 2008-04-30 エーエスエムエル ホールディング エヌ.ブイ. 空間光変調器アレイを較正するシステムおよび空間光変調器アレイを較正する方法
US7580559B2 (en) 2004-01-29 2009-08-25 Asml Holding N.V. System and method for calibrating a spatial light modulator
US6847461B1 (en) 2004-01-29 2005-01-25 Asml Holding N.V. System and method for calibrating a spatial light modulator array using shearing interferometry
US7190434B2 (en) 2004-02-18 2007-03-13 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7133118B2 (en) 2004-02-18 2006-11-07 Asml Netherlands, B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7081947B2 (en) 2004-02-27 2006-07-25 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
USRE43515E1 (en) 2004-03-09 2012-07-17 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7094506B2 (en) 2004-03-09 2006-08-22 Asml Netherlands B.V Lithographic apparatus and device manufacturing method
US6967711B2 (en) 2004-03-09 2005-11-22 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7561251B2 (en) 2004-03-29 2009-07-14 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7053981B2 (en) 2004-03-31 2006-05-30 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7153616B2 (en) 2004-03-31 2006-12-26 Asml Holding N.V. System and method for verifying and controlling the performance of a maskless lithography tool
US7002666B2 (en) 2004-04-16 2006-02-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US6963434B1 (en) 2004-04-30 2005-11-08 Asml Holding N.V. System and method for calculating aerial image of a spatial light modulator
US20050259269A1 (en) 2004-05-19 2005-11-24 Asml Holding N.V. Shearing interferometer with dynamic pupil fill
US7242456B2 (en) 2004-05-26 2007-07-10 Asml Holdings N.V. System and method utilizing a lithography tool having modular illumination, pattern generator, and projection optics portions
US7477403B2 (en) 2004-05-27 2009-01-13 Asml Netherlands B.V. Optical position assessment apparatus and method
US7123348B2 (en) 2004-06-08 2006-10-17 Asml Netherlands B.V Lithographic apparatus and method utilizing dose control
JP4623095B2 (ja) 2004-06-17 2011-02-02 株式会社ニコン 液浸リソグラフィレンズの流体圧力補正
US7016016B2 (en) 2004-06-25 2006-03-21 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7116403B2 (en) 2004-06-28 2006-10-03 Asml Netherlands B.V Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7158208B2 (en) 2004-06-30 2007-01-02 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7116404B2 (en) 2004-06-30 2006-10-03 Asml Netherlands B.V Lithographic apparatus and device manufacturing method
EP1761822A4 (en) 2004-07-01 2009-09-09 Nikon Corp DYNAMIC FLUID CONTROL SYSTEM FOR IMMERSION LITHOGRAPHY
US7403264B2 (en) 2004-07-08 2008-07-22 Asml Netherlands B.V. Lithographic projection apparatus and a device manufacturing method using such lithographic projection apparatus
US7573574B2 (en) 2004-07-13 2009-08-11 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7227613B2 (en) 2004-07-26 2007-06-05 Asml Holding N.V. Lithographic apparatus having double telecentric illumination
US7259829B2 (en) 2004-07-26 2007-08-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7335398B2 (en) 2004-07-26 2008-02-26 Asml Holding N.V. Method to modify the spatial response of a pattern generator
US7142286B2 (en) 2004-07-27 2006-11-28 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7511798B2 (en) 2004-07-30 2009-03-31 Asml Holding N.V. Off-axis catadioptric projection optical system for lithography
US7251020B2 (en) 2004-07-30 2007-07-31 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7538855B2 (en) 2004-08-10 2009-05-26 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7102733B2 (en) 2004-08-13 2006-09-05 Asml Holding N.V. System and method to compensate for static and dynamic misalignments and deformations in a maskless lithography tool
US7500218B2 (en) 2004-08-17 2009-03-03 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, method, and computer program product for generating a mask pattern and device manufacturing method using same
US7304718B2 (en) 2004-08-17 2007-12-04 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7079225B2 (en) 2004-09-14 2006-07-18 Asml Netherlands B.V Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7177012B2 (en) 2004-10-18 2007-02-13 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7388663B2 (en) 2004-10-28 2008-06-17 Asml Netherlands B.V. Optical position assessment apparatus and method
US7423732B2 (en) 2004-11-04 2008-09-09 Asml Holding N.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing placement of a patterning device at a pupil plane
US7609362B2 (en) 2004-11-08 2009-10-27 Asml Netherlands B.V. Scanning lithographic apparatus and device manufacturing method
US7170584B2 (en) 2004-11-17 2007-01-30 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7061581B1 (en) 2004-11-22 2006-06-13 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7474384B2 (en) 2004-11-22 2009-01-06 Asml Holding N.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method, and a projection element for use in the lithographic apparatus
US7643192B2 (en) 2004-11-24 2010-01-05 Asml Holding N.V. Pattern generator using a dual phase step element and method of using same
US7333177B2 (en) 2004-11-30 2008-02-19 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7713667B2 (en) 2004-11-30 2010-05-11 Asml Holding N.V. System and method for generating pattern data used to control a pattern generator
US7262831B2 (en) 2004-12-01 2007-08-28 Asml Netherlands B.V. Lithographic projection apparatus and device manufacturing method using such lithographic projection apparatus
US7365848B2 (en) 2004-12-01 2008-04-29 Asml Holding N.V. System and method using visible and infrared light to align and measure alignment patterns on multiple layers
US7391499B2 (en) 2004-12-02 2008-06-24 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7362415B2 (en) 2004-12-07 2008-04-22 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US20060119811A1 (en) 2004-12-07 2006-06-08 Asml Netherlands B.V. Radiation exposure apparatus comprising a gas flushing system
US7355677B2 (en) 2004-12-09 2008-04-08 Asml Netherlands B.V. System and method for an improved illumination system in a lithographic apparatus
US7349068B2 (en) 2004-12-17 2008-03-25 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7180577B2 (en) 2004-12-17 2007-02-20 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a microlens array at an image plane
US7375795B2 (en) 2004-12-22 2008-05-20 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby
US7391676B2 (en) 2004-12-22 2008-06-24 Asml Netherlands B.V. Ultrasonic distance sensors
US7274502B2 (en) 2004-12-22 2007-09-25 Asml Holding N.V. System, apparatus and method for maskless lithography that emulates binary, attenuating phase-shift and alternating phase-shift masks
US7230677B2 (en) 2004-12-22 2007-06-12 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing hexagonal image grids
US7202939B2 (en) 2004-12-22 2007-04-10 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7256867B2 (en) 2004-12-22 2007-08-14 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7656506B2 (en) 2004-12-23 2010-02-02 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a substrate handler
US7242458B2 (en) 2004-12-23 2007-07-10 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a multiple substrate carrier for flat panel display substrates
US7426076B2 (en) 2004-12-23 2008-09-16 Asml Holding N.V. Projection system for a lithographic apparatus
US7538857B2 (en) 2004-12-23 2009-05-26 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a substrate handler
US7279110B2 (en) 2004-12-27 2007-10-09 Asml Holding N.V. Method and apparatus for creating a phase step in mirrors used in spatial light modulator arrays
US7126672B2 (en) 2004-12-27 2006-10-24 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US20060138349A1 (en) 2004-12-27 2006-06-29 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7459247B2 (en) 2004-12-27 2008-12-02 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7317510B2 (en) 2004-12-27 2008-01-08 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7145636B2 (en) 2004-12-28 2006-12-05 Asml Netherlands Bv System and method for determining maximum operational parameters used in maskless applications
US7274029B2 (en) 2004-12-28 2007-09-25 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7756660B2 (en) 2004-12-28 2010-07-13 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7403865B2 (en) 2004-12-28 2008-07-22 Asml Netherlands B.V. System and method for fault indication on a substrate in maskless applications
US7342644B2 (en) 2004-12-29 2008-03-11 Asml Netherlands B.V. Methods and systems for lithographic beam generation
US7253881B2 (en) 2004-12-29 2007-08-07 Asml Netherlands Bv Methods and systems for lithographic gray scaling
US7567368B2 (en) 2005-01-06 2009-07-28 Asml Holding N.V. Systems and methods for minimizing scattered light in multi-SLM maskless lithography
US7542013B2 (en) 2005-01-31 2009-06-02 Asml Holding N.V. System and method for imaging enhancement via calculation of a customized optimal pupil field and illumination mode
US7460208B2 (en) 2005-02-18 2008-12-02 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7286137B2 (en) 2005-02-28 2007-10-23 Asml Holding N.V. Method and system for constrained pixel graytones interpolation for pattern rasterization
US7499146B2 (en) 2005-03-14 2009-03-03 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method, an integrated circuit, a flat panel display, and a method of compensating for cupping
US7812930B2 (en) 2005-03-21 2010-10-12 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method using repeated patterns in an LCD to reduce datapath volume
US7209216B2 (en) 2005-03-25 2007-04-24 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing dynamic correction for magnification and position in maskless lithography
US7548302B2 (en) 2005-03-29 2009-06-16 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7317506B2 (en) 2005-03-29 2008-01-08 Asml Netherlands B.V. Variable illumination source
US7403265B2 (en) 2005-03-30 2008-07-22 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing data filtering
US7728956B2 (en) 2005-04-05 2010-06-01 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing multiple die designs on a substrate using a data buffer that stores pattern variation data
US7456935B2 (en) 2005-04-05 2008-11-25 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a positioning device for positioning an object table
US7330239B2 (en) 2005-04-08 2008-02-12 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a blazing portion of a contrast device
US7209217B2 (en) 2005-04-08 2007-04-24 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing plural patterning devices
US7221514B2 (en) 2005-04-15 2007-05-22 Asml Netherlands B.V. Variable lens and exposure system
US7400382B2 (en) 2005-04-28 2008-07-15 Asml Holding N.V. Light patterning device using tilting mirrors in a superpixel form
US7738081B2 (en) 2005-05-06 2010-06-15 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a flat panel display handler with conveyor device and substrate handler
US7477772B2 (en) 2005-05-31 2009-01-13 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing 2D run length encoding for image data compression
US7197828B2 (en) 2005-05-31 2007-04-03 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing FPD chuck Z position measurement
US7292317B2 (en) 2005-06-08 2007-11-06 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing substrate stage compensating
US7742148B2 (en) 2005-06-08 2010-06-22 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method for writing a digital image
US7233384B2 (en) 2005-06-13 2007-06-19 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method, and device manufactured thereby for calibrating an imaging system with a sensor
US7321416B2 (en) 2005-06-15 2008-01-22 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method, device manufactured thereby, and controllable patterning device utilizing a spatial light modulator with distributed digital to analog conversion
US7408617B2 (en) 2005-06-24 2008-08-05 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a large area FPD chuck equipped with encoders an encoder scale calibration method
US7965373B2 (en) 2005-06-28 2011-06-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a datapath having a balanced calculation load
US7307694B2 (en) 2005-06-29 2007-12-11 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, radiation beam inspection device, method of inspecting a beam of radiation and device manufacturing method
US7522258B2 (en) 2005-06-29 2009-04-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing movement of clean air to reduce contamination
US7576835B2 (en) 2005-07-06 2009-08-18 Asml Netherlands B.V. Substrate handler, lithographic apparatus and device manufacturing method
US7251019B2 (en) 2005-07-20 2007-07-31 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a continuous light beam in combination with pixel grid imaging
US8194242B2 (en) 2005-07-29 2012-06-05 Asml Netherlands B.V. Substrate distortion measurement
US7606430B2 (en) 2005-08-30 2009-10-20 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a multiple dictionary compression method for FPD
US20070046917A1 (en) 2005-08-31 2007-03-01 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method that compensates for reticle induced CDU
JP2007114750A (ja) 2005-09-09 2007-05-10 Asml Netherlands Bv 投影システム設計方法、リソグラフィー装置およびデバイス製造方法
CN101305323B (zh) * 2005-09-26 2011-03-30 麦克罗尼克激光系统公司 用于基于多种形式的设计数据的图案生成的方法和系统
US7303440B2 (en) * 2005-10-03 2007-12-04 Stull Michael F Universal battery charger/power source adapter
US7830493B2 (en) 2005-10-04 2010-11-09 Asml Netherlands B.V. System and method for compensating for radiation induced thermal distortions in a substrate or projection system
US7391503B2 (en) 2005-10-04 2008-06-24 Asml Netherlands B.V. System and method for compensating for thermal expansion of lithography apparatus or substrate
US7332733B2 (en) 2005-10-05 2008-02-19 Asml Netherlands B.V. System and method to correct for field curvature of multi lens array
US20070127005A1 (en) 2005-12-02 2007-06-07 Asml Holding N.V. Illumination system
US7626181B2 (en) 2005-12-09 2009-12-01 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7440078B2 (en) 2005-12-20 2008-10-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method using interferometric and maskless exposure units
US7466394B2 (en) 2005-12-21 2008-12-16 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method using a compensation scheme for a patterning array
US7649611B2 (en) 2005-12-30 2010-01-19 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7751130B2 (en) 2005-12-30 2010-07-06 Asml Holding N.V. Optical element damping systems
US7532403B2 (en) 2006-02-06 2009-05-12 Asml Holding N.V. Optical system for transforming numerical aperture
US7368744B2 (en) 2006-02-17 2008-05-06 Asml Netherlands B.V. Photon sieve for optical systems in micro-lithography
US7598024B2 (en) 2006-03-08 2009-10-06 Asml Netherlands B.V. Method and system for enhanced lithographic alignment
US7728955B2 (en) 2006-03-21 2010-06-01 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, radiation supply and device manufacturing method
US7528933B2 (en) 2006-04-06 2009-05-05 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a MEMS mirror with large deflection using a non-linear spring arrangement
US7508491B2 (en) 2006-04-12 2009-03-24 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilized to reduce quantization influence of datapath SLM interface to dose uniformity
US7839487B2 (en) 2006-04-13 2010-11-23 Asml Holding N.V. Optical system for increasing illumination efficiency of a patterning device
US7948606B2 (en) 2006-04-13 2011-05-24 Asml Netherlands B.V. Moving beam with respect to diffractive optics in order to reduce interference patterns
US8264667B2 (en) 2006-05-04 2012-09-11 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method using interferometric and other exposure
US7583359B2 (en) 2006-05-05 2009-09-01 Asml Netherlands B.V. Reduction of fit error due to non-uniform sample distribution
US7728462B2 (en) 2006-05-18 2010-06-01 Nikon Corporation Monolithic stage devices providing motion in six degrees of freedom
US8934084B2 (en) 2006-05-31 2015-01-13 Asml Holding N.V. System and method for printing interference patterns having a pitch in a lithography system
US7728954B2 (en) 2006-06-06 2010-06-01 Asml Netherlands B.V. Reflective loop system producing incoherent radiation
US7532309B2 (en) 2006-06-06 2009-05-12 Nikon Corporation Immersion lithography system and method having an immersion fluid containment plate for submerging the substrate to be imaged in immersion fluid
US7649676B2 (en) 2006-06-14 2010-01-19 Asml Netherlands B.V. System and method to form unpolarized light
US7936445B2 (en) 2006-06-19 2011-05-03 Asml Netherlands B.V. Altering pattern data based on measured optical element characteristics
US8896808B2 (en) 2006-06-21 2014-11-25 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and method
US7697115B2 (en) 2006-06-23 2010-04-13 Asml Holding N.V. Resonant scanning mirror
US7593094B2 (en) 2006-06-26 2009-09-22 Asml Netherlands B.V. Patterning device
US7630136B2 (en) 2006-07-18 2009-12-08 Asml Holding N.V. Optical integrators for lithography systems and methods
US7548315B2 (en) 2006-07-27 2009-06-16 Asml Netherlands B.V. System and method to compensate for critical dimension non-uniformity in a lithography system
US7738077B2 (en) 2006-07-31 2010-06-15 Asml Netherlands B.V. Patterning device utilizing sets of stepped mirrors and method of using same
US7567338B2 (en) 2006-08-30 2009-07-28 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7626182B2 (en) 2006-09-05 2009-12-01 Asml Netherlands B.V. Radiation pulse energy control system, lithographic apparatus and device manufacturing method
US7628875B2 (en) 2006-09-12 2009-12-08 Asml Netherlands B.V. MEMS device and assembly method
US8049865B2 (en) 2006-09-18 2011-11-01 Asml Netherlands B.V. Lithographic system, device manufacturing method, and mask optimization method
US7804603B2 (en) 2006-10-03 2010-09-28 Asml Netherlands B.V. Measurement apparatus and method
US7683300B2 (en) 2006-10-17 2010-03-23 Asml Netherlands B.V. Using an interferometer as a high speed variable attenuator
US20080100816A1 (en) * 2006-10-31 2008-05-01 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and method
US7738079B2 (en) 2006-11-14 2010-06-15 Asml Netherlands B.V. Radiation beam pulse trimming
US7453551B2 (en) 2006-11-14 2008-11-18 Asml Netherlands B.V. Increasing pulse-to-pulse radiation beam uniformity
US20080111977A1 (en) 2006-11-14 2008-05-15 Asml Holding N.V. Compensation techniques for fluid and magnetic bearings
US8054449B2 (en) 2006-11-22 2011-11-08 Asml Holding N.V. Enhancing the image contrast of a high resolution exposure tool
US8259285B2 (en) 2006-12-14 2012-09-04 Asml Holding N.V. Lithographic system, device manufacturing method, setpoint data optimization method, and apparatus for producing optimized setpoint data
US7965378B2 (en) 2007-02-20 2011-06-21 Asml Holding N.V Optical system and method for illumination of reflective spatial light modulators in maskless lithography
US8009269B2 (en) 2007-03-14 2011-08-30 Asml Holding N.V. Optimal rasterization for maskless lithography
US8009270B2 (en) 2007-03-22 2011-08-30 Asml Netherlands B.V. Uniform background radiation in maskless lithography
US7714986B2 (en) 2007-05-24 2010-05-11 Asml Netherlands B.V. Laser beam conditioning system comprising multiple optical paths allowing for dose control
US8189172B2 (en) 2007-06-14 2012-05-29 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and method
US7768627B2 (en) 2007-06-14 2010-08-03 Asml Netherlands B.V. Illumination of a patterning device based on interference for use in a maskless lithography system
US8692974B2 (en) 2007-06-14 2014-04-08 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method using pupil filling by telecentricity control
US8493548B2 (en) 2007-08-06 2013-07-23 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7872244B2 (en) 2007-08-08 2011-01-18 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
NL1036272A1 (nl) 2007-12-19 2009-06-22 Asml Netherlands Bv Radiation source, lithographic apparatus and device manufacturing method.
NL1036321A1 (nl) 2007-12-20 2009-06-29 Asml Netherlands Bv Device control method and apparatus.
WO2009147202A1 (en) * 2008-06-04 2009-12-10 Mapper Lithography Ip B.V. Writing strategy
NL2003364A (en) 2008-09-26 2010-03-29 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and method.
TWI448830B (zh) 2010-02-09 2014-08-11 Asml荷蘭公司 微影裝置及元件製造方法
US20120320359A1 (en) 2010-02-23 2012-12-20 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP5438848B2 (ja) 2010-02-23 2014-03-12 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
KR101469588B1 (ko) * 2010-02-23 2014-12-05 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법
JP5584785B2 (ja) 2010-02-23 2014-09-03 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. リソグラフィ装置
WO2011104171A1 (en) 2010-02-23 2011-09-01 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
CN102770810B (zh) 2010-02-23 2016-01-06 Asml荷兰有限公司 光刻设备和器件制造方法
JP5584786B2 (ja) 2010-02-23 2014-09-03 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. リソグラフィ装置
NL2006256A (en) 2010-02-23 2011-08-24 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method.
CN102763041B (zh) 2010-02-23 2014-10-22 Asml荷兰有限公司 光刻设备和器件制造方法
EP2539771B1 (en) 2010-02-25 2017-02-01 ASML Netherlands BV Lithographic apparatus and device manufacturing method
KR101537289B1 (ko) 2010-04-12 2015-07-16 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 기판 핸들링 장치 및 리소그래피 장치
WO2011144387A1 (en) 2010-05-18 2011-11-24 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
CN103238113B (zh) 2010-12-08 2015-09-09 Asml荷兰有限公司 光刻设备和器件制造方法
WO2012130532A1 (en) 2011-03-29 2012-10-04 Asml Netherlands B.V. Measurement of the position of a radiation beam spot in lithography
WO2012136434A2 (en) 2011-04-08 2012-10-11 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, programmable patterning device and lithographic method
CN103492952A (zh) 2011-04-21 2014-01-01 Asml荷兰有限公司 光刻设备、用于维护光刻设备的方法以及器件制造方法
US20140160452A1 (en) 2011-08-16 2014-06-12 Asml Netherlands B.V Lithographic apparatus, programmable patterning device and lithographic method
NL2009213A (en) 2011-08-18 2013-02-19 Asml Netherlands Bv Lithograpic apparatus and device manufacturing method.
NL2009342A (en) 2011-10-31 2013-05-07 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method.
US9696636B2 (en) 2011-11-29 2017-07-04 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method and computer program
KR101633758B1 (ko) 2011-11-29 2016-06-27 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 프로그래머블 패터닝 디바이스에 데이터를 제공하는 장치 및 방법, 리소그래피 장치, 및 디바이스 제조 방법
WO2013083371A1 (en) 2011-12-05 2013-06-13 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP5881851B2 (ja) 2011-12-06 2016-03-09 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. リソグラフィ装置、セットポイントデータを提供する装置、デバイス製造方法、セットポイントデータの計算方法、およびコンピュータプログラム
NL2009902A (en) 2011-12-27 2013-07-01 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method.
KR101633759B1 (ko) 2012-01-12 2016-06-27 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 리소그래피 장치, 세트포인트 데이터를 제공하는 장치, 디바이스 제조 방법, 세트포인트 데이터를 제공하는 방법, 및 컴퓨터 프로그램
WO2013107595A1 (en) 2012-01-17 2013-07-25 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
NL2010176A (en) 2012-02-23 2013-08-26 Asml Netherlands Bv Device, lithographic apparatus, method for guiding radiation and device manufacturing method.
NL2012052A (en) 2013-01-29 2014-08-04 Asml Netherlands Bv A radiation modulator for a lithography apparatus, a lithography apparatus, a method of modulating radiation for use in lithography, and a device manufacturing method.
US10173718B2 (en) * 2013-07-19 2019-01-08 Steering Solutions Ip Holding Corporation Motor position filter for estimation of velocity using moving linear regression
CN108292038B (zh) 2015-12-07 2021-01-15 Asml控股股份有限公司 物镜系统
KR102373722B1 (ko) 2015-12-30 2022-03-14 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 직접 기입 마스크리스 리소그래피를 위한 방법 및 장치
WO2017114658A1 (en) 2015-12-30 2017-07-06 Asml Netherlands B.V. Method and apparatus for direct write maskless lithography
CN108700820B (zh) 2015-12-30 2021-07-09 Asml荷兰有限公司 用于直接写入无掩模光刻的方法和设备
US10527950B2 (en) 2016-07-19 2020-01-07 Asml Netherlands B.V. Apparatus for direct write maskless lithography
CN109564390B (zh) 2016-07-19 2021-03-23 Asml荷兰有限公司 确定在光刻步骤中待施加到衬底的图案的组合
CN108093151B (zh) * 2016-11-22 2020-03-06 京瓷办公信息系统株式会社 图像形成装置及非临时性的计算机可读取的记录介质
CN114402261B (zh) 2019-08-19 2025-06-13 Asml荷兰有限公司 微反射镜阵列
KR102901745B1 (ko) 2019-08-19 2025-12-17 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 마이크로미러 어레이
EP3862813A1 (en) 2020-02-07 2021-08-11 ASML Netherlands B.V. Methods and systems for maskless lithography
IL303058A (en) 2020-11-30 2023-07-01 Asml Netherlands Bv A high-power, low-voltage piezoelectric micromirror actuator
WO2022112037A1 (en) 2020-11-30 2022-06-02 Asml Netherlands B.V. Mems array interconnection design
IL302973A (en) 2020-11-30 2023-07-01 Asml Netherlands Bv High accuracy temperature-compensated piezoresistive position sensing system
EP4260121B1 (en) 2020-12-14 2025-10-29 ASML Netherlands B.V. Micromirror arrays
DE102021123440B4 (de) * 2021-09-10 2024-10-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Teilchenstrahl-induzierten Bearbeiten eines Defekts einer Photomaske für die Mikrolithographie
US20250258367A1 (en) 2022-07-12 2025-08-14 Asml Netherlands B.V. Mirror assembly for micromirror array

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4541712A (en) * 1981-12-21 1985-09-17 Tre Semiconductor Equipment Corporation Laser pattern generating system
DE4022732A1 (de) * 1990-07-17 1992-02-20 Micronic Laser Systems Ab Auf einem lichtempfindlich beschichteten substrat durch fokussierte laserstrahlung hergestellte struktur sowie verfahren und vorrichtung zu ihrer herstellung
US5635976A (en) * 1991-07-17 1997-06-03 Micronic Laser Systems Ab Method and apparatus for the production of a structure by focused laser radiation on a photosensitively coated substrate
US5706415A (en) * 1991-12-20 1998-01-06 Apple Computer, Inc. Method and apparatus for distributed interpolation of pixel shading parameter values
EP0664033B1 (en) 1992-11-02 2002-02-06 Etec Systems, Inc. Rasterizer for a pattern generation apparatus
US5701405A (en) * 1995-06-21 1997-12-23 Apple Computer, Inc. Method and apparatus for directly evaluating a parameter interpolation function used in rendering images in a graphics system that uses screen partitioning
JPH09323180A (ja) * 1996-06-04 1997-12-16 Asahi Optical Co Ltd スケーリング補正機能を持つレーザ描画装置
US6078331A (en) * 1996-09-30 2000-06-20 Silicon Graphics, Inc. Method and system for efficiently drawing subdivision surfaces for 3D graphics

Also Published As

Publication number Publication date
EP1012783B1 (en) 2003-06-18
SE9700742L (sv) 1998-08-29
DE69815697T2 (de) 2004-01-15
US7088468B1 (en) 2006-08-08
WO1998038597A2 (en) 1998-09-03
DE69815697D1 (de) 2003-07-24
ATE243343T1 (de) 2003-07-15
AU6642398A (en) 1998-09-18
JP2001513219A (ja) 2001-08-28
SE9700742D0 (sv) 1997-02-28
EP1012783A2 (en) 2000-06-28
WO1998038597A3 (en) 1999-01-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
SE509062C2 (sv) Dataomvandlingsmetod för en laserskrivare med flera strålar för mycket komplexa mikrokolitografiska mönster
US20040159636A1 (en) Data path for high performance pattern generator
KR100459813B1 (ko) 집속된 레이저 광선에 의해 감광 물질로 코팅된 기판상에 구조체를 형성시키는 방법 및 장치
EP0664033B1 (en) Rasterizer for a pattern generation apparatus
KR101563055B1 (ko) 시분할 다중화 로딩을 포함하는 전자 비임 리소그래피 시스템 및 방법
CN110531590A (zh) 一种直写式光刻机拼接方法
JPH05304591A (ja) ラスター装置用フルページビットマップの作成装置及びフレームバッファのスキャンアウト方法
JP2005521253A (ja) 大量データフローをプリントする方法と装置
US8035852B2 (en) Frame data producing apparatus, method and plotting apparatus
US8184333B2 (en) Image recording processing circuit, image recording apparatus and image recording method using image recording processing circuit
US20020018238A1 (en) Printer, print control apparatus and method
US20090147276A1 (en) Image Recording Apparatus, Image Recording Method, Data Structure, Recording Medium, Data Processing Apparatus and Method
CN115268232B (zh) 一种dmd倾斜扫描的高效数据处理方法
CN100362389C (zh) 多光束图像输出装置及方法
JP2008065094A (ja) 描画用処理回路及び描画方法
JPS63193524A (ja) Lsi描画パタ−ン・デ−タ作成装置
JP2989778B2 (ja) 印刷制御装置及び方法
JP2001043364A (ja) ラベリング回路
JPH01229666A (ja) 印字装置
HK1076513B (en) Apparatus and method for pattern a workpiece
CN1245565A (zh) 利用聚焦激光辐射在光敏涂敷衬底上制作结构的方法与装置
AU2008237549A1 (en) Modal fill generation in a pixel sequential renderer
JPH08227853A (ja) 荷電粒子ビーム露光装置
JPS59148988A (ja) 画像処理装置
JPS60110449A (ja) 植字方式

Legal Events

Date Code Title Description
NUG Patent has lapsed