SE509062C2 - Dataomvandlingsmetod för en laserskrivare med flera strålar för mycket komplexa mikrokolitografiska mönster - Google Patents
Dataomvandlingsmetod för en laserskrivare med flera strålar för mycket komplexa mikrokolitografiska mönsterInfo
- Publication number
- SE509062C2 SE509062C2 SE9700742A SE9700742A SE509062C2 SE 509062 C2 SE509062 C2 SE 509062C2 SE 9700742 A SE9700742 A SE 9700742A SE 9700742 A SE9700742 A SE 9700742A SE 509062 C2 SE509062 C2 SE 509062C2
- Authority
- SE
- Sweden
- Prior art keywords
- scan
- data
- conversion
- segments
- lists
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70383—Direct write, i.e. pattern is written directly without the use of a mask by one or multiple beams
- G03F7/704—Scanned exposure beam, e.g. raster-, rotary- and vector scanning
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
- G06K—GRAPHICAL DATA READING; PRESENTATION OF DATA; RECORD CARRIERS; HANDLING RECORD CARRIERS
- G06K15/00—Arrangements for producing a permanent visual presentation of the output data, e.g. computer output printers
- G06K15/02—Arrangements for producing a permanent visual presentation of the output data, e.g. computer output printers using printers
- G06K15/12—Arrangements for producing a permanent visual presentation of the output data, e.g. computer output printers using printers by photographic printing, e.g. by laser printers
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
- G06K—GRAPHICAL DATA READING; PRESENTATION OF DATA; RECORD CARRIERS; HANDLING RECORD CARRIERS
- G06K2215/00—Arrangements for producing a permanent visual presentation of the output data
- G06K2215/0002—Handling the output data
- G06K2215/0062—Handling the output data combining generic and host data, e.g. filling a raster
- G06K2215/0065—Page or partial page composition
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W20/00—Interconnections in chips, wafers or substrates
- H10W20/01—Manufacture or treatment
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Laser Beam Printer (AREA)
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
- Optical Head (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
- Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)
Description
20 25 30 35 509 062 2 (namometer) eller mindre. Det har beskrivits i den euro- peiska patentansökan EP 0 467 076 av samma uppfinnare att en kombination av tidsfördröjningar och analog effektmo- dulering kan användas för att uppnå ett godtyckligt litet adressraster. Samma patent beskriver även användning av flera strålar och parallella datavägar för att öka genom- strömningen för skrivsystemet.
För en skrivare med två laserstrålar kan två paral- lella datavägar vara lämpligt, men nuvarande flerstràle- skrivare kan använda upp till 32 strålar och enkel mul- tiplicering av ett enkelstråledataspår skulle vara prak- tiskt omöjligt.
Det finns också en stark önskan att ha olika antal processorer och strålar, speciellt ett mycket större an- tal processorer än strålar. Ett andra behov är att göra systemet enkelt skalbart, så att skrivare för olika app- likationer med olika krav på kapacitet kan konfigureras från standardmoduler och köras med identisk mjukvara.
I den amerikanska patentansökan US 5 533 170 be- skrivs ett flerstràledataspår med hög genomströmning ba- serat pà parallella rasteriserare. Varje rasteriserare, "geometrimotor", omvandlar en ram för mönstret till en pixelmatris där varje pixel har ett gràskalevärde från 0 till 16. Bitmatriserna fördelas till strålkorten via ett bussystem och laddas till ett buffert-RAM-område i varje busskort.
Metoden i US 5 533 170 erfordrar mycket hög behand- lingseffekt. Speciellt måste varje pixel fyllas med dess korrekta värde och sändas till strålkorten för skrivning.
Detta sker med en signalbehandlare och med konventionella ASIC. Skrivsystemet har en skursändningspixelhastighet på 1600 miljoner pixel per sekund, och extremt höga krav ställs på de interna datavägarna. Därför används ett sys- tem med parallella bussar och resultatet är ett komplext, dyrt och oflexibelt system.
Föreliggande uppfinning anvisar en metod för dataom- vandling vilken kan användas vid konfigurationer från en lO 15 20 25 30 35 509 062 3 stråle/en processor till tiotals strålar/hundratals pro- CESSOIQI' .
KORTFATTAD SAMMANFATTNING AV UPPFINNINGEN I föreliggande uppfinning uppdelas dataomvandlingen i två steg: först uppdelande av geometrierna i scannings- linjer och förenklande av dem, och sedan avslutande av omvandlingar av scanningslinjerna vid bestämda punkter, dvs i en stràlningsprocessor i drivelektroniken för varje stråle. Idén är att utföra så mycket som möjligt av om- vandlingen vid den senast möjliga punkten, dvs vid strå- larna. Vad som behövs vid ett tidigare steg är att sepa- rera datan för olika strålar och fördela dem, och att förenkla datan nog mycket för att tillse att stràlnings- processorerna alltid kan hantera dataflödet.
Uppfinningen medför fördelar inom tre områden: - det finns ingenstans i systemet av pixelmatris som be- höver fyllas, kraft; - att hålla informationen för strâlningsprocesserna i och därmed sparas àtskillig behandlings- geometrisk form i stället för som en pixelmatris ger en mindre datavolym, vilket gör implementeringen enklare och mer flexibel. Praktiska tester indikerar besparing- ar på 4 - 20 gånger beroende på mönstret; - manipulerandet av den geometriska datan utan fyllnads- operationer är väl lämpad för algoritmiska program kör- da på en allmän konventionell processor, medan den slutliga databehandlingen i strålningskorten àstadkoms bättre med anpassad logik. Användningen av allmänna vanliga processorer medför en stor flexibilitet. Det är möjligt att öka prestandan helt enkelt genom att övergå till snabbare processorer då de blir tillgängliga, och det är enkelt att modifiera eller förbättra algoritmer- na för att följa behoven för tillämpningarna. Vanliga algoritmer för specifika applikationer eller nya in- matningsformat implementeras enkelt. 10 15 20 25 30 35 509 062 4 KORTFATTAD BESKRIVNING AV RITNINGARNA Fig la visar hur en rund form 101 kombinerad med en triangulär form 102 representeras av en pixelmatris 103 med analoga intensiteter (visade som varierad skuggning).
Strålen 104 scannar i parallella linjer 105. Storleken på skrivljuspunkten är större än en pixel, och därför kommer resultatet på skivan att utjämnas till en rund figur.
Fig lb visar samma former som i fig la, men där den geometriska formen uppdelas i segment 106 som härrör sig till olika scanningslinjer.
Fig lc visar samma former som i fig lb, men där seg- menten har ersatts av ett förenklat nytt segment 107, med endast längd och bredd. Såsom i fig la, kommer storleken på punkten att göra den skrivna figuren utjämnad.
Fig ld visar segmenten i fig lc omvandlade till ana- loga värden av stràlningsprocessorn. 202, jesprångsscannade linjer på avståndet 206. Figuren visar Fig 2 visar tre strålar 201, 203 formande lin- att strålarna scannar tre linjer och sedan återgår medan plattformen flyttas fram en sträcka 207 som är lika med tre gånger scanningsavstånden. Det finns fler möjliga av- stånd 205 mellan strålarna, och här visas två gånger scanningsavståndet 206.
Fig 3 visar ett föredraget utförande av uppfinningen med två strålar och två segmentiserare.
Fig 4 visar ett föredraget utförande med tre strålar och fyra segmentiserare.
Fig 5 visar hur data buffertlagras för att tillåta att alla tet i ett annat föredraget utförande med fyra segmentise- komponenter körs kontinuerligt med full kapaci- rare och tre strålar.
FUNKTIONEN HOS UPPFINNINGEN Fig 3 visar ett utförande med två processorer och två strålar som skriver på ett arbetsstycke 301 med an- vändning av en förminsknings- och fokuseringslins 305.
Scanningen och framflyttningen mellan scanningar, ej vi- sade i denna figur, kan åstadkommas medelst plattformen 10 15 20 25 30 35 509 062 5 eller strålarna eller genom en kombination av de två.
Mönstret, fönster 307, beskrivs i den inmatade datan som läses från bandet 308 eller från ett nätverk 309. visat som en figur 306 i ett fyrkantigt Inmatningen kan lagras på ett lokalt massminne 310, kal hårddisk, inmatade datan till segmentiserare 312, exempelvis på en lo- Värddatorn sänder den 313 efter att den av Värddatorn 311. har utfört nödvändig formatkonvertering, skalning, expan- sion av hierarkiska strukturer etc. Den kan hela tiden använda massminnet 310 för mellanlagring. Vidare delar den in datan i fält vilka är passande för längden hos scanningslinjerna och för storleken på databuffertarna i dataspåret. Beroende på komplexiteten hos datan kan fäl- ten väljas till att vara hela skrivningssvepremsor eller en del av svepremsor.
Värddatorn sänder data för varje fält till en av 313, ver skrivas och till den först tillgängliga segmentisera- segmentiserarna 312, typiskt i den ordning de behö- ren. Värddatorn bibehåller en tabell av var data för var- je fält är och dess status.
Segmentiserarna delar datan för varje scanningslinje och formar en lista på geometriska element för varje scanningslinje och en lista på scanningslinjerna 316, 317. Även om funktionen för uppfinningen inte beror på detta, scanningslinje, kan segmentiseraren förenkla geometrierna i varje ta bort alla överlappande geometrier, forma segment vilka är rektanglar med längd och bredd och sortera båda listorna för segmenten och listorna för scanningslinjerna i användningsordningen för den skrivan- de hårdvaran.
Listan med scanningslinjer sänds till linj sprängs- uppdelaren 314, 315 där scanningslinjerna separ~ as bero- ende på vilka strålar de kommer att skrivas av. Nya lin- I fig 3 är listan 317 uppdelad till linjesprångslistor 318 och jesprångslistor för varje stråle sammanställts. 319 vilka sänds till stràlningsbehandlingsenheter, exem- pelvis stràlningsprocessorkort 320, 321, vardera med en 10 l5 20 25 30 35 509 062 6 I strål- ningsbehandlingskorten uppdelas den förenklade geometrin strålningsprocessor 322 och en modulator 323. i scanningslistorna och konverteras till amplitud och tidsmodulering för laserstrålarna. Då strålarna scannar arbetsstycket parallellt sammanställs linjesprångsmönst- ret 324, Eftersom endast ett fält skrivs i taget kan endast 325 åter i det exponerade mönstret. en linjesprångsuppdelare sända data till strålningspro- cessorerna åt gången såsom visas av de kraftiga linjerna från 315 till 320, 321, lagras så att behandlingen i strålningsprocessorerna om inte överföringarna buffert- kopplas bort ifrån datainmatningen.
För ett enkelt fall med ett litet antal strålar kan fördelningen göras av en multiplexor, dvs en logisk krets som accepterar en enda ingående dataström från segmenti- seraren/segmentiserarna och riktar dataobjekten till oli- ka utgångar i enlighet med antingen deras position i strömmen eller etiketter hos dataobjekten.
Fig 3 visar metoden i schematisk form och i en prak- tisk implementering kan detaljer variera, och exempelvis kan de två modulatorerna vara en enda fysisk enhet med två kanaler, varje segmentiserare kan använda en eller flera processorer etc.
FÖREDRAGNA UTFÖRANDEN Ett föredraget utförande av uppfinningen är en tre- strålelaserskrivare för halvledarsubstrat, såsom visas i fig 4. Skrivaren har ett avstånd mellan scanningslinjerna på 0,25 um och en kortaste segmentlängd på 0,25 um. Den maximala omvandlingshastigheten i strålprocessorerna är 60 miljoner segment per sekund och systemet skriver approximativt 60% av den totala tiden. Följaktligen skri- ver systemet 3 * 0,25 um * 0,25 pm * 60% * 60 miljoner = 6,75 mmz/s.
Dataomvandlingsnätverket måste vara dimensionerat för det värsta tänkbara fallet, dvs att hela området fylls med segment med minimal längd, eller så är det möj- ligt att tillföra en ingående datafil, vilken får syste- 10 15 20 25 30 35 509 062 7 met att fungera felaktigt beroende på dataöverlast. Varje strålprocessor har en maximal skurhastighet på 60 miljo- ner segment per sekund och varje segment beskrivs av två databyte. De tre strålprocessorerna har därför en maximal svarande mot 180 - 240 Mb/s maximal ihållande medelhastighet. datakonsumtion på 360 Mb/s, Länkarna mellan linjeuppdelarna och strålprocesso- rerna implementeras som ett kors-kopplat nätverk eller parallella länkar. Varje länk har en överföringshastighet på 180 Mb/s och det visade nätverket kan hela tiden stöd- ja tre samtidiga överföringar. Genommatningen för länkar- na mellan segmentiserarna och strålprocessorerna är 3 * l80 Mb/s = 540 Mb/S i skurhastighet vilket är mer än tillräckligt för det värsta möjliga mönstret innefattande reduktans (overhead). Alternativt kan ett enklare nätverk användas som stöder två eller endast en överföring.
Fig 5 visar hur väl tilltagna buffertar medger att alla komponenterna kan arbeta oberoende av varandra. De kraftiga linjerna visar innevarande dataöverföringar.
(IRl-IR4) för lagring av nya listor som bearbetas och en för lag- Linjeuppdelarna har två utgående buffertar, en ring av tidigare listor som väntar på att överföras till strålprocessorerna. Eftersom segmentiserarna typiskt är långsammare än spåruppdelarna behöver buffertminnet mel- lan S och IR dast vara stort nog att tillåta S det behöver en- och IR inte lagra någon data, att arbeta i ett asynkront tillstånd.
Strålprocessorenheterna har FIFO-buffertar med ut- Fältet n (Fn) rande och läses från alla FIFO samtidigt, från IRl medan IR1 arbetar med Fn+5. rymme för flera fält. skrivs för närva- Fn+1 överförs IR2 och IR3 är ett och FIFO-na för BP2 och BP3 lagrar nog data för att tillse att botten av alla FIFO är respektive två fält före IRl, synkroniserade.
S4 och IR4 har just slutat med Fn+4 och IR4 överför utsignalerna från arbetsbufferten till överföringsbuffer- ten. Samtidigt laddar värddatorn HC ingående data ifrån 10 l5 20 25 30 35 509 062 8 ett nytt fält till S4. en och överföringen av data mer oregelbunden än vad fig 5 I verklig drift är tidsfördelning- kan få en att tro, eftersom fälten tar olika lång tid att behandla och tidsfördelningen baseras på efterfrågan och tillgänglighet. Buffertminnena i fig 5 behöver inte vara fysiskt separata utan kan vara olika områden i samma fy- siska minne, och de kan tilldelas dynamiskt. Processorer- na Pl till P8 kan likaledes vara 8 fysiska processorer, men kan även vara av ett annat antal och kan vara dyna- miskt tilldelade till olika uppgifter.
Fig 5 antar att datan behöver laddas sekventiellt till strålprocessorbuffertarna. Användning av direkt åt- komstskrivning i stället för FIFO skulle medge mindre buffertområden, men till kostnaden av mer programadmi- nistration och mer komplex hantering för värddatorn. I det föredragna utförandet används FIFO.
Ett reellt mönster kommer att ha ett datakrav på åt- minstone 4 gånger mindre än den maximala datahastigheten på 45 - 67 Mb/s. Ett typiskt skrivningsfält är en del av svepremsor med 200 pm bredd och lO mm långt, vilket krä- ver ett absolut maximum på 32 miljoner segment eller 64 Mb data, i praktiken ej mer än 8 miljoner segment eller 16 Mb data eller 5,3 Mb per stråle. 72 Mb buffertminne i strålningsprocessorenheterna (24 Mb i varje enhet) kommer sedan att lagra flera fält såsom visas i fig 5. Ett en- staka fält med för mycket data kommer att göra att FIFO- bufferten fylls upp och genomströmningen kommer att för- loras under ett antal fält, men systemet kommer elegant att återhämta sig. Med ett större antal processorer än strålar behöver den skrivande hårdvaran endast vänta på dataöverföringar, och inte för behandling eftersom de ef- terföljande fälten redan befinner sig i överföringsbuf- fertarna hos IR.
Storleken på fälten kan förändras dynamiskt, så att fältstorlekarna görs mindre för extremt täta mönster och större för mindre täta mönster. 10 l5 20 25 30 35 509 062 9 Även i fall där data till strålprocessorerna endast är rektangulära icke överlappande segment, använder om- vandlingen från geometriska element till tid och kraft i strålprocessorerna en uppsättning regler. Först omvandlas geometrin till hårdvarustöd-tid och kapacitetsuppdelning.
För det andra är linjeariteten mellan effekten i strålen och positionen för kanten endast approximativ. När strå- len är endast något större än avståndet mellan de två scanningslinjerna, är transientfunktionen s-formad och på vissa ljuskänsliga material finns det en ytterligare sän- ka. Därför är det en fördel att göra en empirisk kalibre- ring och lagra kalibreringskurvan som en uppslagningsta- bell. ningslinjen inte är perfekt, är en lagrad geometrisk kor- Vidare, om den geometriska linjeariteten för scan- rigeringstabell till nytta.
Uppfinningen och utförandena uppfyller behovet av ett realtidsdatakonverteringssystem för ett brett fält av tillämpningar, och även så de mest krävande. Specifikt finns det ingen hårdvarugräns för antalet processorer som kan användas i typiska utföranden, eftersom de använder ett korskopplat nätverk, vilket är enklare att utvidga än bussystem. System utformade i enlighet med uppfinningen kan även utvecklas med de hastigt ökande kraven på kapa- citet. Eftersom det är lämpligt att bygga det med stan- dardprocessorer, standarddatorkort och mjukvara i portab- la högnivåspråk, kan det följa den tekniska utvecklingen vilken har givit en tredubbling av hastigheten vartannat år i det förflutna.
Termerna och uttrycken som har använts i den föregå- ende beskrivningen används däri som beskrivningstermer och är inte avsedda som begränsning, och det finns ingen avsikt i användningen av sådana termer och uttryck att utesluta ekvivalenter för särdragen som visats och be- skrivits eller delar därav, då det skall förstås att ra- men för uppfinningen definieras och begränsas endast av de följande patentkraven.
Claims (14)
1. Metod för snabb och precis skrivning av mycket komplexa mönster på en ljuskänslig yta omfattande stegen att: tillhandahålla åtminstone två modulerade fokuserade laserstrålar som scannar ytan med parallella linje- språngsscanningslinjer; för varje stråle tillhandahålla en strålprocessoren- het med dataomvandlingslogik och organ för modulering av nämnda laserstråle; tillhandahålla inmatningsdata innehållande geometri- erna som skall skrivas på skivan i ett ingående format, exempelvis en lista av polygoner; i ett första omvandlingssteg uppdela inmatningsdatan i skrivfält, exempelvis svepremsor; i ett andra omvandlingssteg indela geometrierna i den uppdelade databasen till scanningslinjer, och för varje scanningslinje generera en scanningslista inne- hållande geometrier som skall skrivas i scanningslinjen, s k segment, och utföra nämnda andra omvandlingssteg i åtminstone två parallella processorer, s k segmenti- serare, verkande simultant men på olika skrivfält; vidare fördela nämnda scanningslistor till strål- processorenheten i enlighet med linjesprångsuppdelningen för scanningslinjerna; och i ett tredje omvandlingssteg omvandla, i nämnda strålprocessorenhet, nämnda scanningslistor med segment till analoga effektmoduleringssekvenser för nämnda laser- strålar.
2. Metod i enlighet med patentkrav 1, varvid segmen- ten i scanningslistorna är förenklade geometriska repre- sentationer av de delar av de ingående geometrierna vilka faller inom scanningslinjen,
3. Metod i enlighet med patentkrav 1 eller 2, varvid segmenten i en scanningslista är icke överlappande.
4. Metod i enlighet med något av föregående 10 15 20 25 30 35 5o9åoe2 ll patentkrav, varvid segmenten i en scanningslista är rek- tanglar med en längd och en bredd.
5. Metod i enlighet med något av föregående patent- krav, varvid segmenten i scanningslistorna är sorterade i ordningen som de skall skrivas av scanningsstrålen.
6. Metod i enlighet med något av föregående patent- krav, varvid omvandlingen i strålprocessorenheterna an- vänder en uppsättning med omvandlingsregler vilka är em- piriskt kalibrerade.
7. Metod i enlighet med något av föregående patent- krav, varvid omvandlingen i strålprocessorenheterna an- vänder åtminstone en tabelluppslagningsfunktion.
8. Metod i enlighet med något av föregående patent- krav, varvid scanningslistorna är fördelade till strål- processorenheterna via ett korskopplat nätverk.
9. Metod i enlighet med något av föregående patent- krav, varvid scanningslistorna fördelas till strålproces- sorenheterna via ett bussystem.
10. Metod i enlighet med något av föregående patent- krav, varvid scanningslistorna fördelas till någon av strålprocessorenheterna med en multiplexer.
11. ll. Metod i enlighet med något av föregående patent- krav, varvid datan sänds genom det andra och tredje om- vandlingssteget utan mellanliggande icke-flyktiga minnen.
12. Metod i enlighet med något av föregående patent- krav, varvid strålkorten har en ingående buffert med ut- rymme för scanningslistor för åtminstone två skrivfält.
13. Metod i enlighet med något av föregående patent- krav, där överföringen mellan segmentiserarna och strål- processorenheten är dubbelt buffertlagrade, i en utgående buffert i segmentiseraren och i en ingående buffert i strålprocessorenheten.
14. Anordning för snabb och precis skrivning av mycket komplexa mönster på en ljuskänslig yta omfattande: åtminstone två modulerade fokuserade laserstràlar scannande ytan i parallella linjesprångsscanningslinjer; 10 15 20 509 062 12 en strålprocessorenhet för varje laserstråle med da- taomvandlingslogik och organ för modulering av nämnda la- serstråle; organ för accepterande av ingående data innehållande geometrierna som skall skrivas på skivan i ett ingående format, exempelvis en lista av polygoner; databehandlingsorgan för att i ett första omvand- lingssteg uppdela den ingående datan i skrivfält, exem- pelvis svepremsor; parallella databehandlingsorgan för att i ett andra omvandlingssteg indela geometrierna i den uppdelade data- för varje scan- basen till scanningslinjer, och generera, ningslinje, en scanningslinje innehållande geometrierna som skall skrivas i scanningslinjen, s k segment; datafördelningsorgan för distribution av nämnda scanningslistor till strålprocessorenheterna i enlighet med linjesprångsuppdelningen för scanningslinjerna; och dataomvandling- och strálmoduleringsorgan i strål- processorenheterna för att, i ett tredje omvandlingssteg, omvandla nämnda scanningslistor med segment till analoga effektmoduleringssekvenser för nämnda laserstràlar.
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SE9700742A SE509062C2 (sv) | 1997-02-28 | 1997-02-28 | Dataomvandlingsmetod för en laserskrivare med flera strålar för mycket komplexa mikrokolitografiska mönster |
| PCT/SE1998/000347 WO1998038597A2 (en) | 1997-02-28 | 1998-02-26 | Data-conversion method for a multibeam laser writer for very complex microlithographic patterns |
| JP53758198A JP2001513219A (ja) | 1997-02-28 | 1998-02-26 | 非常に複雑な超微細リソグラフィ・パターン用マルチビームレーザライタのデータ変換方法 |
| DE69815697T DE69815697T2 (de) | 1997-02-28 | 1998-02-26 | Datenumsetzungs-Verfahren für einen Multistrahllaserschreiber für sehr komplexe microlithographische Motive |
| EP98908378A EP1012783B1 (en) | 1997-02-28 | 1998-02-26 | Data-conversion method for a multibeam laser writer for very complex microlithographic patterns |
| US09/380,270 US7088468B1 (en) | 1997-02-28 | 1998-02-26 | Data-conversion method for a multibeam laser writer for very complex microlithographic patterns |
| AU66423/98A AU6642398A (en) | 1997-02-28 | 1998-02-26 | Data-conversion method for a multibeam laser writer for very complex microlithographic patterns |
| AT98908378T ATE243343T1 (de) | 1997-02-28 | 1998-02-26 | Datenumsetzungs-verfahren für einen multistrahllaserschreiber für sehr komplexe microlithographische motive |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SE9700742A SE509062C2 (sv) | 1997-02-28 | 1997-02-28 | Dataomvandlingsmetod för en laserskrivare med flera strålar för mycket komplexa mikrokolitografiska mönster |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| SE9700742D0 SE9700742D0 (sv) | 1997-02-28 |
| SE9700742L SE9700742L (sv) | 1998-08-29 |
| SE509062C2 true SE509062C2 (sv) | 1998-11-30 |
Family
ID=20405990
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SE9700742A SE509062C2 (sv) | 1997-02-28 | 1997-02-28 | Dataomvandlingsmetod för en laserskrivare med flera strålar för mycket komplexa mikrokolitografiska mönster |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7088468B1 (sv) |
| EP (1) | EP1012783B1 (sv) |
| JP (1) | JP2001513219A (sv) |
| AT (1) | ATE243343T1 (sv) |
| AU (1) | AU6642398A (sv) |
| DE (1) | DE69815697T2 (sv) |
| SE (1) | SE509062C2 (sv) |
| WO (1) | WO1998038597A2 (sv) |
Families Citing this family (316)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SE516914C2 (sv) * | 1999-09-09 | 2002-03-19 | Micronic Laser Systems Ab | Metoder och rastrerare för högpresterande mönstergenerering |
| US6961146B1 (en) * | 1999-11-30 | 2005-11-01 | Creo Il Ltd | Method for homogenizing the exposure of the different beams in a multi beam plotter |
| US7508487B2 (en) | 2000-06-01 | 2009-03-24 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
| US7113258B2 (en) | 2001-01-15 | 2006-09-26 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus |
| JP3970106B2 (ja) | 2001-05-23 | 2007-09-05 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 実質的に透過性のプロセス層に整列マークを備える基板、上記マークを露出するためのマスク、およびデバイス製造方法 |
| JP2003059827A (ja) * | 2001-06-20 | 2003-02-28 | Asml Netherlands Bv | デバイスを製造する方法、この方法によって製造したデバイス、およびこの方法で使用するマスク |
| US6812474B2 (en) | 2001-07-13 | 2004-11-02 | Applied Materials, Inc. | Pattern generation method and apparatus using cached cells of hierarchical data |
| TW529172B (en) | 2001-07-24 | 2003-04-21 | Asml Netherlands Bv | Imaging apparatus |
| US6803993B2 (en) | 2001-10-19 | 2004-10-12 | Asml Netherlands-B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7333178B2 (en) | 2002-03-18 | 2008-02-19 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7170587B2 (en) | 2002-03-18 | 2007-01-30 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| EP1349010B1 (en) | 2002-03-28 | 2014-12-10 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| EP1367446A1 (en) | 2002-05-31 | 2003-12-03 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus |
| DE10226115A1 (de) * | 2002-06-12 | 2003-12-24 | Giesecke & Devrient Gmbh | Verfahren zum Erzeugen eines Gitterbildes, Gitterbild und Sicherheitsdokument |
| JP3955837B2 (ja) | 2002-07-11 | 2007-08-08 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ機器およびデバイスの製造方法 |
| EP1383007A1 (en) | 2002-07-16 | 2004-01-21 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, and device manufacturing method |
| JP4105616B2 (ja) | 2002-08-15 | 2008-06-25 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフ投影装置およびこの装置用の反射鏡アセンブリ |
| SG125923A1 (en) | 2002-09-20 | 2006-10-30 | Asml Netherlands Bv | Lithographic marker structure, lithographic projection apparatus comprising such a lithographic marker structure and method for substrate alignment using such a lithographic marker structure |
| EP2204697A3 (en) | 2002-09-20 | 2012-04-18 | ASML Netherlands B.V. | Marker structure, lithographic projection apparatus, method for substrate alignment using such a structure, and substrate comprising such marker structure |
| CN100421024C (zh) | 2002-09-30 | 2008-09-24 | Asml荷兰有限公司 | 光刻装置及器件制造方法 |
| SG121822A1 (en) | 2002-11-12 | 2006-05-26 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US9482966B2 (en) | 2002-11-12 | 2016-11-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US10503084B2 (en) | 2002-11-12 | 2019-12-10 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| EP1420298B1 (en) | 2002-11-12 | 2013-02-20 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus |
| EP1429188B1 (en) | 2002-11-12 | 2013-06-19 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic projection apparatus |
| SG121819A1 (en) | 2002-11-12 | 2006-05-26 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7110081B2 (en) | 2002-11-12 | 2006-09-19 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| SG111171A1 (en) | 2002-11-27 | 2005-05-30 | Asml Netherlands Bv | Lithographic projection apparatus and device manufacturing method |
| DE60323927D1 (de) | 2002-12-13 | 2008-11-20 | Asml Netherlands Bv | Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung |
| JP4058405B2 (ja) | 2002-12-19 | 2008-03-12 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | デバイス製造方法およびこの方法により製造したデバイス |
| CN100476585C (zh) | 2002-12-23 | 2009-04-08 | Asml荷兰有限公司 | 具有可扩展薄片的杂质屏蔽 |
| EP1434092A1 (en) | 2002-12-23 | 2004-06-30 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
| SG125101A1 (en) | 2003-01-14 | 2006-09-29 | Asml Netherlands Bv | Level sensor for lithographic apparatus |
| TWI304158B (en) | 2003-01-15 | 2008-12-11 | Asml Netherlands Bv | Detection assembly and lithographic projection apparatus provided with such a detection assembly |
| US7206059B2 (en) | 2003-02-27 | 2007-04-17 | Asml Netherlands B.V. | Stationary and dynamic radial transverse electric polarizer for high numerical aperture systems |
| US6943941B2 (en) | 2003-02-27 | 2005-09-13 | Asml Netherlands B.V. | Stationary and dynamic radial transverse electric polarizer for high numerical aperture systems |
| SG115641A1 (en) | 2003-03-06 | 2005-10-28 | Asml Netherlands Bv | Device and method for manipulation and routing of a metrology beam |
| TWI264620B (en) | 2003-03-07 | 2006-10-21 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| EP1457827A1 (en) | 2003-03-11 | 2004-09-15 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby |
| SG125108A1 (en) | 2003-03-11 | 2006-09-29 | Asml Netherlands Bv | Assembly comprising a sensor for determining at least one of tilt and height of a substrate, a method therefor and a lithographic projection apparatus |
| SG115632A1 (en) | 2003-03-11 | 2005-10-28 | Asml Netherlands Bv | Lithographic projection assembly, handling apparatus for handling substrates and method of handling a substrate |
| EP1457826A1 (en) | 2003-03-11 | 2004-09-15 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| EP1457825A1 (en) | 2003-03-11 | 2004-09-15 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby |
| SG115629A1 (en) | 2003-03-11 | 2005-10-28 | Asml Netherlands Bv | Method and apparatus for maintaining a machine part |
| SG115630A1 (en) | 2003-03-11 | 2005-10-28 | Asml Netherlands Bv | Temperature conditioned load lock, lithographic apparatus comprising such a load lock and method of manufacturing a substrate with such a load lock |
| SG115631A1 (en) | 2003-03-11 | 2005-10-28 | Asml Netherlands Bv | Lithographic projection assembly, load lock and method for transferring objects |
| EP1457833B1 (en) | 2003-03-11 | 2012-05-30 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
| US7397539B2 (en) | 2003-03-31 | 2008-07-08 | Asml Netherlands, B.V. | Transfer apparatus for transferring an object, lithographic apparatus employing such a transfer apparatus, and method of use thereof |
| SG125948A1 (en) | 2003-03-31 | 2006-10-30 | Asml Netherlands Bv | Supporting structure for use in a lithographic apparatus |
| US7126671B2 (en) | 2003-04-04 | 2006-10-24 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| JP4394500B2 (ja) | 2003-04-09 | 2010-01-06 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置、デバイス製造方法、及びコンピュータ・プログラム |
| SG115678A1 (en) | 2003-04-22 | 2005-10-28 | Asml Netherlands Bv | Substrate carrier and method for making a substrate carrier |
| EP1475666A1 (en) | 2003-05-06 | 2004-11-10 | ASML Netherlands B.V. | Substrate holder for lithographic apparatus |
| EP1475667A1 (en) | 2003-05-09 | 2004-11-10 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| EP1477861A1 (en) | 2003-05-16 | 2004-11-17 | ASML Netherlands B.V. | A method of calibrating a lithographic apparatus, an alignment method, a computer program, a lithographic apparatus and a device manufacturing method |
| US7063920B2 (en) | 2003-05-16 | 2006-06-20 | Asml Holding, N.V. | Method for the generation of variable pitch nested lines and/or contact holes using fixed size pixels for direct-write lithographic systems |
| TWI304522B (en) | 2003-05-28 | 2008-12-21 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus, method of calibrating and device manufacturing method |
| US7061591B2 (en) | 2003-05-30 | 2006-06-13 | Asml Holding N.V. | Maskless lithography systems and methods utilizing spatial light modulator arrays |
| US6989920B2 (en) | 2003-05-29 | 2006-01-24 | Asml Holding N.V. | System and method for dose control in a lithographic system |
| EP1482373A1 (en) | 2003-05-30 | 2004-12-01 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| EP1486828B1 (en) | 2003-06-09 | 2013-10-09 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7213963B2 (en) | 2003-06-09 | 2007-05-08 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| EP2261741A3 (en) | 2003-06-11 | 2011-05-25 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| EP1486824A1 (en) | 2003-06-11 | 2004-12-15 | ASML Netherlands B.V. | A movable stage system for in a lithographic projection apparatus, lithographic projection apparatus and device manufacturing method |
| US7317504B2 (en) | 2004-04-08 | 2008-01-08 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| SG118283A1 (en) * | 2003-06-20 | 2006-01-27 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| EP1489449A1 (en) | 2003-06-20 | 2004-12-22 | ASML Netherlands B.V. | Spatial light modulator |
| US7110082B2 (en) | 2003-06-24 | 2006-09-19 | Asml Holding N.V. | Optical system for maskless lithography |
| SG119224A1 (en) | 2003-06-26 | 2006-02-28 | Asml Netherlands Bv | Calibration method for a lithographic apparatus and device manufacturing method |
| EP1491967A1 (en) | 2003-06-27 | 2004-12-29 | ASML Netherlands B.V. | Method and apparatus for positioning a substrate on a substrate table |
| TWI251129B (en) | 2003-06-27 | 2006-03-11 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and integrated circuit manufacturing method |
| EP1494075B1 (en) | 2003-06-30 | 2008-06-25 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic projection apparatus and device manufacturing method |
| US7154587B2 (en) | 2003-06-30 | 2006-12-26 | Asml Netherlands B.V | Spatial light modulator, lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7158215B2 (en) | 2003-06-30 | 2007-01-02 | Asml Holding N.V. | Large field of view protection optical system with aberration correctability for flat panel displays |
| TWI284253B (en) | 2003-07-01 | 2007-07-21 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7248339B2 (en) | 2003-07-04 | 2007-07-24 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| EP1500987A1 (en) | 2003-07-21 | 2005-01-26 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
| EP1500979A1 (en) | 2003-07-21 | 2005-01-26 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7384149B2 (en) | 2003-07-21 | 2008-06-10 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic projection apparatus, gas purging method and device manufacturing method and purge gas supply system |
| TWI245170B (en) | 2003-07-22 | 2005-12-11 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
| EP1500980A1 (en) | 2003-07-22 | 2005-01-26 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
| TWI254188B (en) | 2003-07-23 | 2006-05-01 | Asml Netherlands Bv | Lithographic projection apparatus and article holder therefor |
| US7224504B2 (en) | 2003-07-30 | 2007-05-29 | Asml Holding N. V. | Deformable mirror using piezoelectric actuators formed as an integrated circuit and method of use |
| US6831768B1 (en) | 2003-07-31 | 2004-12-14 | Asml Holding N.V. | Using time and/or power modulation to achieve dose gray-scaling in optical maskless lithography |
| US7145643B2 (en) | 2003-08-07 | 2006-12-05 | Asml Netherlands B.V. | Interface unit, lithographic projection apparatus comprising such an interface unit and a device manufacturing method |
| JP4146825B2 (ja) | 2003-08-27 | 2008-09-10 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィック装置、デバイス製造方法及びスライド・アセンブリ |
| TWI245163B (en) | 2003-08-29 | 2005-12-11 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7414701B2 (en) | 2003-10-03 | 2008-08-19 | Asml Holding N.V. | Method and systems for total focus deviation adjustments on maskless lithography systems |
| US8064730B2 (en) | 2003-09-22 | 2011-11-22 | Asml Netherlands B.V. | Device manufacturing method, orientation determination method and lithographic apparatus |
| SG110196A1 (en) | 2003-09-22 | 2005-04-28 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US6876440B1 (en) | 2003-09-30 | 2005-04-05 | Asml Holding N.V. | Methods and systems to compensate for a stitching disturbance of a printed pattern in a maskless lithography system utilizing overlap of exposure zones with attenuation of the aerial image in the overlap region |
| US7410736B2 (en) | 2003-09-30 | 2008-08-12 | Asml Holding N.V. | Methods and systems to compensate for a stitching disturbance of a printed pattern in a maskless lithography system not utilizing overlap of the exposure zones |
| US7023526B2 (en) | 2003-09-30 | 2006-04-04 | Asml Holding N.V. | Methods and systems to compensate for a stitching disturbance of a printed pattern in a maskless lithography system utilizing overlap without an explicit attenuation |
| US7109498B2 (en) | 2003-10-09 | 2006-09-19 | Asml Netherlands B.V. | Radiation source, lithographic apparatus, and device manufacturing method |
| US7116398B2 (en) | 2003-11-07 | 2006-10-03 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7196772B2 (en) | 2003-11-07 | 2007-03-27 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7253077B2 (en) | 2003-12-01 | 2007-08-07 | Asml Netherlands B.V. | Substrate, method of preparing a substrate, method of measurement, lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby, and machine-readable storage medium |
| US7565219B2 (en) | 2003-12-09 | 2009-07-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, method of determining a model parameter, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
| US20050134865A1 (en) | 2003-12-17 | 2005-06-23 | Asml Netherlands B.V. | Method for determining a map, device manufacturing method, and lithographic apparatus |
| US7288779B2 (en) | 2003-12-17 | 2007-10-30 | Asml Netherlands B.V. | Method for position determination, method for overlay optimization, and lithographic projection apparatus |
| US7349101B2 (en) | 2003-12-30 | 2008-03-25 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, overlay detector, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
| US7145641B2 (en) | 2003-12-31 | 2006-12-05 | Asml Netherlands, B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
| US7012674B2 (en) | 2004-01-13 | 2006-03-14 | Asml Holding N.V. | Maskless optical writer |
| JP4083751B2 (ja) | 2004-01-29 | 2008-04-30 | エーエスエムエル ホールディング エヌ.ブイ. | 空間光変調器アレイを較正するシステムおよび空間光変調器アレイを較正する方法 |
| US7580559B2 (en) | 2004-01-29 | 2009-08-25 | Asml Holding N.V. | System and method for calibrating a spatial light modulator |
| US6847461B1 (en) | 2004-01-29 | 2005-01-25 | Asml Holding N.V. | System and method for calibrating a spatial light modulator array using shearing interferometry |
| US7190434B2 (en) | 2004-02-18 | 2007-03-13 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7133118B2 (en) | 2004-02-18 | 2006-11-07 | Asml Netherlands, B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7081947B2 (en) | 2004-02-27 | 2006-07-25 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| USRE43515E1 (en) | 2004-03-09 | 2012-07-17 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7094506B2 (en) | 2004-03-09 | 2006-08-22 | Asml Netherlands B.V | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US6967711B2 (en) | 2004-03-09 | 2005-11-22 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7561251B2 (en) | 2004-03-29 | 2009-07-14 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7053981B2 (en) | 2004-03-31 | 2006-05-30 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7153616B2 (en) | 2004-03-31 | 2006-12-26 | Asml Holding N.V. | System and method for verifying and controlling the performance of a maskless lithography tool |
| US7002666B2 (en) | 2004-04-16 | 2006-02-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US6963434B1 (en) | 2004-04-30 | 2005-11-08 | Asml Holding N.V. | System and method for calculating aerial image of a spatial light modulator |
| US20050259269A1 (en) | 2004-05-19 | 2005-11-24 | Asml Holding N.V. | Shearing interferometer with dynamic pupil fill |
| US7242456B2 (en) | 2004-05-26 | 2007-07-10 | Asml Holdings N.V. | System and method utilizing a lithography tool having modular illumination, pattern generator, and projection optics portions |
| US7477403B2 (en) | 2004-05-27 | 2009-01-13 | Asml Netherlands B.V. | Optical position assessment apparatus and method |
| US7123348B2 (en) | 2004-06-08 | 2006-10-17 | Asml Netherlands B.V | Lithographic apparatus and method utilizing dose control |
| JP4623095B2 (ja) | 2004-06-17 | 2011-02-02 | 株式会社ニコン | 液浸リソグラフィレンズの流体圧力補正 |
| US7016016B2 (en) | 2004-06-25 | 2006-03-21 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7116403B2 (en) | 2004-06-28 | 2006-10-03 | Asml Netherlands B.V | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7158208B2 (en) | 2004-06-30 | 2007-01-02 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7116404B2 (en) | 2004-06-30 | 2006-10-03 | Asml Netherlands B.V | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| EP1761822A4 (en) | 2004-07-01 | 2009-09-09 | Nikon Corp | DYNAMIC FLUID CONTROL SYSTEM FOR IMMERSION LITHOGRAPHY |
| US7403264B2 (en) | 2004-07-08 | 2008-07-22 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic projection apparatus and a device manufacturing method using such lithographic projection apparatus |
| US7573574B2 (en) | 2004-07-13 | 2009-08-11 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7227613B2 (en) | 2004-07-26 | 2007-06-05 | Asml Holding N.V. | Lithographic apparatus having double telecentric illumination |
| US7259829B2 (en) | 2004-07-26 | 2007-08-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7335398B2 (en) | 2004-07-26 | 2008-02-26 | Asml Holding N.V. | Method to modify the spatial response of a pattern generator |
| US7142286B2 (en) | 2004-07-27 | 2006-11-28 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7511798B2 (en) | 2004-07-30 | 2009-03-31 | Asml Holding N.V. | Off-axis catadioptric projection optical system for lithography |
| US7251020B2 (en) | 2004-07-30 | 2007-07-31 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7538855B2 (en) | 2004-08-10 | 2009-05-26 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7102733B2 (en) | 2004-08-13 | 2006-09-05 | Asml Holding N.V. | System and method to compensate for static and dynamic misalignments and deformations in a maskless lithography tool |
| US7500218B2 (en) | 2004-08-17 | 2009-03-03 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, method, and computer program product for generating a mask pattern and device manufacturing method using same |
| US7304718B2 (en) | 2004-08-17 | 2007-12-04 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7079225B2 (en) | 2004-09-14 | 2006-07-18 | Asml Netherlands B.V | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7177012B2 (en) | 2004-10-18 | 2007-02-13 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7388663B2 (en) | 2004-10-28 | 2008-06-17 | Asml Netherlands B.V. | Optical position assessment apparatus and method |
| US7423732B2 (en) | 2004-11-04 | 2008-09-09 | Asml Holding N.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing placement of a patterning device at a pupil plane |
| US7609362B2 (en) | 2004-11-08 | 2009-10-27 | Asml Netherlands B.V. | Scanning lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7170584B2 (en) | 2004-11-17 | 2007-01-30 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7061581B1 (en) | 2004-11-22 | 2006-06-13 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7474384B2 (en) | 2004-11-22 | 2009-01-06 | Asml Holding N.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and a projection element for use in the lithographic apparatus |
| US7643192B2 (en) | 2004-11-24 | 2010-01-05 | Asml Holding N.V. | Pattern generator using a dual phase step element and method of using same |
| US7333177B2 (en) | 2004-11-30 | 2008-02-19 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7713667B2 (en) | 2004-11-30 | 2010-05-11 | Asml Holding N.V. | System and method for generating pattern data used to control a pattern generator |
| US7262831B2 (en) | 2004-12-01 | 2007-08-28 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic projection apparatus and device manufacturing method using such lithographic projection apparatus |
| US7365848B2 (en) | 2004-12-01 | 2008-04-29 | Asml Holding N.V. | System and method using visible and infrared light to align and measure alignment patterns on multiple layers |
| US7391499B2 (en) | 2004-12-02 | 2008-06-24 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7362415B2 (en) | 2004-12-07 | 2008-04-22 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US20060119811A1 (en) | 2004-12-07 | 2006-06-08 | Asml Netherlands B.V. | Radiation exposure apparatus comprising a gas flushing system |
| US7355677B2 (en) | 2004-12-09 | 2008-04-08 | Asml Netherlands B.V. | System and method for an improved illumination system in a lithographic apparatus |
| US7349068B2 (en) | 2004-12-17 | 2008-03-25 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7180577B2 (en) | 2004-12-17 | 2007-02-20 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a microlens array at an image plane |
| US7375795B2 (en) | 2004-12-22 | 2008-05-20 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
| US7391676B2 (en) | 2004-12-22 | 2008-06-24 | Asml Netherlands B.V. | Ultrasonic distance sensors |
| US7274502B2 (en) | 2004-12-22 | 2007-09-25 | Asml Holding N.V. | System, apparatus and method for maskless lithography that emulates binary, attenuating phase-shift and alternating phase-shift masks |
| US7230677B2 (en) | 2004-12-22 | 2007-06-12 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing hexagonal image grids |
| US7202939B2 (en) | 2004-12-22 | 2007-04-10 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7256867B2 (en) | 2004-12-22 | 2007-08-14 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7656506B2 (en) | 2004-12-23 | 2010-02-02 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a substrate handler |
| US7242458B2 (en) | 2004-12-23 | 2007-07-10 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a multiple substrate carrier for flat panel display substrates |
| US7426076B2 (en) | 2004-12-23 | 2008-09-16 | Asml Holding N.V. | Projection system for a lithographic apparatus |
| US7538857B2 (en) | 2004-12-23 | 2009-05-26 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a substrate handler |
| US7279110B2 (en) | 2004-12-27 | 2007-10-09 | Asml Holding N.V. | Method and apparatus for creating a phase step in mirrors used in spatial light modulator arrays |
| US7126672B2 (en) | 2004-12-27 | 2006-10-24 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US20060138349A1 (en) | 2004-12-27 | 2006-06-29 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7459247B2 (en) | 2004-12-27 | 2008-12-02 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7317510B2 (en) | 2004-12-27 | 2008-01-08 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7145636B2 (en) | 2004-12-28 | 2006-12-05 | Asml Netherlands Bv | System and method for determining maximum operational parameters used in maskless applications |
| US7274029B2 (en) | 2004-12-28 | 2007-09-25 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7756660B2 (en) | 2004-12-28 | 2010-07-13 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7403865B2 (en) | 2004-12-28 | 2008-07-22 | Asml Netherlands B.V. | System and method for fault indication on a substrate in maskless applications |
| US7342644B2 (en) | 2004-12-29 | 2008-03-11 | Asml Netherlands B.V. | Methods and systems for lithographic beam generation |
| US7253881B2 (en) | 2004-12-29 | 2007-08-07 | Asml Netherlands Bv | Methods and systems for lithographic gray scaling |
| US7567368B2 (en) | 2005-01-06 | 2009-07-28 | Asml Holding N.V. | Systems and methods for minimizing scattered light in multi-SLM maskless lithography |
| US7542013B2 (en) | 2005-01-31 | 2009-06-02 | Asml Holding N.V. | System and method for imaging enhancement via calculation of a customized optimal pupil field and illumination mode |
| US7460208B2 (en) | 2005-02-18 | 2008-12-02 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7286137B2 (en) | 2005-02-28 | 2007-10-23 | Asml Holding N.V. | Method and system for constrained pixel graytones interpolation for pattern rasterization |
| US7499146B2 (en) | 2005-03-14 | 2009-03-03 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method, an integrated circuit, a flat panel display, and a method of compensating for cupping |
| US7812930B2 (en) | 2005-03-21 | 2010-10-12 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method using repeated patterns in an LCD to reduce datapath volume |
| US7209216B2 (en) | 2005-03-25 | 2007-04-24 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing dynamic correction for magnification and position in maskless lithography |
| US7548302B2 (en) | 2005-03-29 | 2009-06-16 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7317506B2 (en) | 2005-03-29 | 2008-01-08 | Asml Netherlands B.V. | Variable illumination source |
| US7403265B2 (en) | 2005-03-30 | 2008-07-22 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing data filtering |
| US7728956B2 (en) | 2005-04-05 | 2010-06-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing multiple die designs on a substrate using a data buffer that stores pattern variation data |
| US7456935B2 (en) | 2005-04-05 | 2008-11-25 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a positioning device for positioning an object table |
| US7330239B2 (en) | 2005-04-08 | 2008-02-12 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a blazing portion of a contrast device |
| US7209217B2 (en) | 2005-04-08 | 2007-04-24 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing plural patterning devices |
| US7221514B2 (en) | 2005-04-15 | 2007-05-22 | Asml Netherlands B.V. | Variable lens and exposure system |
| US7400382B2 (en) | 2005-04-28 | 2008-07-15 | Asml Holding N.V. | Light patterning device using tilting mirrors in a superpixel form |
| US7738081B2 (en) | 2005-05-06 | 2010-06-15 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a flat panel display handler with conveyor device and substrate handler |
| US7477772B2 (en) | 2005-05-31 | 2009-01-13 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing 2D run length encoding for image data compression |
| US7197828B2 (en) | 2005-05-31 | 2007-04-03 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing FPD chuck Z position measurement |
| US7292317B2 (en) | 2005-06-08 | 2007-11-06 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing substrate stage compensating |
| US7742148B2 (en) | 2005-06-08 | 2010-06-22 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method for writing a digital image |
| US7233384B2 (en) | 2005-06-13 | 2007-06-19 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method, and device manufactured thereby for calibrating an imaging system with a sensor |
| US7321416B2 (en) | 2005-06-15 | 2008-01-22 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, device manufactured thereby, and controllable patterning device utilizing a spatial light modulator with distributed digital to analog conversion |
| US7408617B2 (en) | 2005-06-24 | 2008-08-05 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a large area FPD chuck equipped with encoders an encoder scale calibration method |
| US7965373B2 (en) | 2005-06-28 | 2011-06-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a datapath having a balanced calculation load |
| US7307694B2 (en) | 2005-06-29 | 2007-12-11 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, radiation beam inspection device, method of inspecting a beam of radiation and device manufacturing method |
| US7522258B2 (en) | 2005-06-29 | 2009-04-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing movement of clean air to reduce contamination |
| US7576835B2 (en) | 2005-07-06 | 2009-08-18 | Asml Netherlands B.V. | Substrate handler, lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7251019B2 (en) | 2005-07-20 | 2007-07-31 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a continuous light beam in combination with pixel grid imaging |
| US8194242B2 (en) | 2005-07-29 | 2012-06-05 | Asml Netherlands B.V. | Substrate distortion measurement |
| US7606430B2 (en) | 2005-08-30 | 2009-10-20 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a multiple dictionary compression method for FPD |
| US20070046917A1 (en) | 2005-08-31 | 2007-03-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method that compensates for reticle induced CDU |
| JP2007114750A (ja) | 2005-09-09 | 2007-05-10 | Asml Netherlands Bv | 投影システム設計方法、リソグラフィー装置およびデバイス製造方法 |
| CN101305323B (zh) * | 2005-09-26 | 2011-03-30 | 麦克罗尼克激光系统公司 | 用于基于多种形式的设计数据的图案生成的方法和系统 |
| US7303440B2 (en) * | 2005-10-03 | 2007-12-04 | Stull Michael F | Universal battery charger/power source adapter |
| US7830493B2 (en) | 2005-10-04 | 2010-11-09 | Asml Netherlands B.V. | System and method for compensating for radiation induced thermal distortions in a substrate or projection system |
| US7391503B2 (en) | 2005-10-04 | 2008-06-24 | Asml Netherlands B.V. | System and method for compensating for thermal expansion of lithography apparatus or substrate |
| US7332733B2 (en) | 2005-10-05 | 2008-02-19 | Asml Netherlands B.V. | System and method to correct for field curvature of multi lens array |
| US20070127005A1 (en) | 2005-12-02 | 2007-06-07 | Asml Holding N.V. | Illumination system |
| US7626181B2 (en) | 2005-12-09 | 2009-12-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7440078B2 (en) | 2005-12-20 | 2008-10-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method using interferometric and maskless exposure units |
| US7466394B2 (en) | 2005-12-21 | 2008-12-16 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method using a compensation scheme for a patterning array |
| US7649611B2 (en) | 2005-12-30 | 2010-01-19 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7751130B2 (en) | 2005-12-30 | 2010-07-06 | Asml Holding N.V. | Optical element damping systems |
| US7532403B2 (en) | 2006-02-06 | 2009-05-12 | Asml Holding N.V. | Optical system for transforming numerical aperture |
| US7368744B2 (en) | 2006-02-17 | 2008-05-06 | Asml Netherlands B.V. | Photon sieve for optical systems in micro-lithography |
| US7598024B2 (en) | 2006-03-08 | 2009-10-06 | Asml Netherlands B.V. | Method and system for enhanced lithographic alignment |
| US7728955B2 (en) | 2006-03-21 | 2010-06-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, radiation supply and device manufacturing method |
| US7528933B2 (en) | 2006-04-06 | 2009-05-05 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a MEMS mirror with large deflection using a non-linear spring arrangement |
| US7508491B2 (en) | 2006-04-12 | 2009-03-24 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilized to reduce quantization influence of datapath SLM interface to dose uniformity |
| US7839487B2 (en) | 2006-04-13 | 2010-11-23 | Asml Holding N.V. | Optical system for increasing illumination efficiency of a patterning device |
| US7948606B2 (en) | 2006-04-13 | 2011-05-24 | Asml Netherlands B.V. | Moving beam with respect to diffractive optics in order to reduce interference patterns |
| US8264667B2 (en) | 2006-05-04 | 2012-09-11 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method using interferometric and other exposure |
| US7583359B2 (en) | 2006-05-05 | 2009-09-01 | Asml Netherlands B.V. | Reduction of fit error due to non-uniform sample distribution |
| US7728462B2 (en) | 2006-05-18 | 2010-06-01 | Nikon Corporation | Monolithic stage devices providing motion in six degrees of freedom |
| US8934084B2 (en) | 2006-05-31 | 2015-01-13 | Asml Holding N.V. | System and method for printing interference patterns having a pitch in a lithography system |
| US7728954B2 (en) | 2006-06-06 | 2010-06-01 | Asml Netherlands B.V. | Reflective loop system producing incoherent radiation |
| US7532309B2 (en) | 2006-06-06 | 2009-05-12 | Nikon Corporation | Immersion lithography system and method having an immersion fluid containment plate for submerging the substrate to be imaged in immersion fluid |
| US7649676B2 (en) | 2006-06-14 | 2010-01-19 | Asml Netherlands B.V. | System and method to form unpolarized light |
| US7936445B2 (en) | 2006-06-19 | 2011-05-03 | Asml Netherlands B.V. | Altering pattern data based on measured optical element characteristics |
| US8896808B2 (en) | 2006-06-21 | 2014-11-25 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and method |
| US7697115B2 (en) | 2006-06-23 | 2010-04-13 | Asml Holding N.V. | Resonant scanning mirror |
| US7593094B2 (en) | 2006-06-26 | 2009-09-22 | Asml Netherlands B.V. | Patterning device |
| US7630136B2 (en) | 2006-07-18 | 2009-12-08 | Asml Holding N.V. | Optical integrators for lithography systems and methods |
| US7548315B2 (en) | 2006-07-27 | 2009-06-16 | Asml Netherlands B.V. | System and method to compensate for critical dimension non-uniformity in a lithography system |
| US7738077B2 (en) | 2006-07-31 | 2010-06-15 | Asml Netherlands B.V. | Patterning device utilizing sets of stepped mirrors and method of using same |
| US7567338B2 (en) | 2006-08-30 | 2009-07-28 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7626182B2 (en) | 2006-09-05 | 2009-12-01 | Asml Netherlands B.V. | Radiation pulse energy control system, lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7628875B2 (en) | 2006-09-12 | 2009-12-08 | Asml Netherlands B.V. | MEMS device and assembly method |
| US8049865B2 (en) | 2006-09-18 | 2011-11-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic system, device manufacturing method, and mask optimization method |
| US7804603B2 (en) | 2006-10-03 | 2010-09-28 | Asml Netherlands B.V. | Measurement apparatus and method |
| US7683300B2 (en) | 2006-10-17 | 2010-03-23 | Asml Netherlands B.V. | Using an interferometer as a high speed variable attenuator |
| US20080100816A1 (en) * | 2006-10-31 | 2008-05-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and method |
| US7738079B2 (en) | 2006-11-14 | 2010-06-15 | Asml Netherlands B.V. | Radiation beam pulse trimming |
| US7453551B2 (en) | 2006-11-14 | 2008-11-18 | Asml Netherlands B.V. | Increasing pulse-to-pulse radiation beam uniformity |
| US20080111977A1 (en) | 2006-11-14 | 2008-05-15 | Asml Holding N.V. | Compensation techniques for fluid and magnetic bearings |
| US8054449B2 (en) | 2006-11-22 | 2011-11-08 | Asml Holding N.V. | Enhancing the image contrast of a high resolution exposure tool |
| US8259285B2 (en) | 2006-12-14 | 2012-09-04 | Asml Holding N.V. | Lithographic system, device manufacturing method, setpoint data optimization method, and apparatus for producing optimized setpoint data |
| US7965378B2 (en) | 2007-02-20 | 2011-06-21 | Asml Holding N.V | Optical system and method for illumination of reflective spatial light modulators in maskless lithography |
| US8009269B2 (en) | 2007-03-14 | 2011-08-30 | Asml Holding N.V. | Optimal rasterization for maskless lithography |
| US8009270B2 (en) | 2007-03-22 | 2011-08-30 | Asml Netherlands B.V. | Uniform background radiation in maskless lithography |
| US7714986B2 (en) | 2007-05-24 | 2010-05-11 | Asml Netherlands B.V. | Laser beam conditioning system comprising multiple optical paths allowing for dose control |
| US8189172B2 (en) | 2007-06-14 | 2012-05-29 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and method |
| US7768627B2 (en) | 2007-06-14 | 2010-08-03 | Asml Netherlands B.V. | Illumination of a patterning device based on interference for use in a maskless lithography system |
| US8692974B2 (en) | 2007-06-14 | 2014-04-08 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method using pupil filling by telecentricity control |
| US8493548B2 (en) | 2007-08-06 | 2013-07-23 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7872244B2 (en) | 2007-08-08 | 2011-01-18 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| NL1036272A1 (nl) | 2007-12-19 | 2009-06-22 | Asml Netherlands Bv | Radiation source, lithographic apparatus and device manufacturing method. |
| NL1036321A1 (nl) | 2007-12-20 | 2009-06-29 | Asml Netherlands Bv | Device control method and apparatus. |
| WO2009147202A1 (en) * | 2008-06-04 | 2009-12-10 | Mapper Lithography Ip B.V. | Writing strategy |
| NL2003364A (en) | 2008-09-26 | 2010-03-29 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and method. |
| TWI448830B (zh) | 2010-02-09 | 2014-08-11 | Asml荷蘭公司 | 微影裝置及元件製造方法 |
| US20120320359A1 (en) | 2010-02-23 | 2012-12-20 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| JP5438848B2 (ja) | 2010-02-23 | 2014-03-12 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
| KR101469588B1 (ko) * | 2010-02-23 | 2014-12-05 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 |
| JP5584785B2 (ja) | 2010-02-23 | 2014-09-03 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置 |
| WO2011104171A1 (en) | 2010-02-23 | 2011-09-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| CN102770810B (zh) | 2010-02-23 | 2016-01-06 | Asml荷兰有限公司 | 光刻设备和器件制造方法 |
| JP5584786B2 (ja) | 2010-02-23 | 2014-09-03 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置 |
| NL2006256A (en) | 2010-02-23 | 2011-08-24 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method. |
| CN102763041B (zh) | 2010-02-23 | 2014-10-22 | Asml荷兰有限公司 | 光刻设备和器件制造方法 |
| EP2539771B1 (en) | 2010-02-25 | 2017-02-01 | ASML Netherlands BV | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| KR101537289B1 (ko) | 2010-04-12 | 2015-07-16 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 기판 핸들링 장치 및 리소그래피 장치 |
| WO2011144387A1 (en) | 2010-05-18 | 2011-11-24 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| CN103238113B (zh) | 2010-12-08 | 2015-09-09 | Asml荷兰有限公司 | 光刻设备和器件制造方法 |
| WO2012130532A1 (en) | 2011-03-29 | 2012-10-04 | Asml Netherlands B.V. | Measurement of the position of a radiation beam spot in lithography |
| WO2012136434A2 (en) | 2011-04-08 | 2012-10-11 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, programmable patterning device and lithographic method |
| CN103492952A (zh) | 2011-04-21 | 2014-01-01 | Asml荷兰有限公司 | 光刻设备、用于维护光刻设备的方法以及器件制造方法 |
| US20140160452A1 (en) | 2011-08-16 | 2014-06-12 | Asml Netherlands B.V | Lithographic apparatus, programmable patterning device and lithographic method |
| NL2009213A (en) | 2011-08-18 | 2013-02-19 | Asml Netherlands Bv | Lithograpic apparatus and device manufacturing method. |
| NL2009342A (en) | 2011-10-31 | 2013-05-07 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method. |
| US9696636B2 (en) | 2011-11-29 | 2017-07-04 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method and computer program |
| KR101633758B1 (ko) | 2011-11-29 | 2016-06-27 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 프로그래머블 패터닝 디바이스에 데이터를 제공하는 장치 및 방법, 리소그래피 장치, 및 디바이스 제조 방법 |
| WO2013083371A1 (en) | 2011-12-05 | 2013-06-13 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| JP5881851B2 (ja) | 2011-12-06 | 2016-03-09 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置、セットポイントデータを提供する装置、デバイス製造方法、セットポイントデータの計算方法、およびコンピュータプログラム |
| NL2009902A (en) | 2011-12-27 | 2013-07-01 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method. |
| KR101633759B1 (ko) | 2012-01-12 | 2016-06-27 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피 장치, 세트포인트 데이터를 제공하는 장치, 디바이스 제조 방법, 세트포인트 데이터를 제공하는 방법, 및 컴퓨터 프로그램 |
| WO2013107595A1 (en) | 2012-01-17 | 2013-07-25 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| NL2010176A (en) | 2012-02-23 | 2013-08-26 | Asml Netherlands Bv | Device, lithographic apparatus, method for guiding radiation and device manufacturing method. |
| NL2012052A (en) | 2013-01-29 | 2014-08-04 | Asml Netherlands Bv | A radiation modulator for a lithography apparatus, a lithography apparatus, a method of modulating radiation for use in lithography, and a device manufacturing method. |
| US10173718B2 (en) * | 2013-07-19 | 2019-01-08 | Steering Solutions Ip Holding Corporation | Motor position filter for estimation of velocity using moving linear regression |
| CN108292038B (zh) | 2015-12-07 | 2021-01-15 | Asml控股股份有限公司 | 物镜系统 |
| KR102373722B1 (ko) | 2015-12-30 | 2022-03-14 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 직접 기입 마스크리스 리소그래피를 위한 방법 및 장치 |
| WO2017114658A1 (en) | 2015-12-30 | 2017-07-06 | Asml Netherlands B.V. | Method and apparatus for direct write maskless lithography |
| CN108700820B (zh) | 2015-12-30 | 2021-07-09 | Asml荷兰有限公司 | 用于直接写入无掩模光刻的方法和设备 |
| US10527950B2 (en) | 2016-07-19 | 2020-01-07 | Asml Netherlands B.V. | Apparatus for direct write maskless lithography |
| CN109564390B (zh) | 2016-07-19 | 2021-03-23 | Asml荷兰有限公司 | 确定在光刻步骤中待施加到衬底的图案的组合 |
| CN108093151B (zh) * | 2016-11-22 | 2020-03-06 | 京瓷办公信息系统株式会社 | 图像形成装置及非临时性的计算机可读取的记录介质 |
| CN114402261B (zh) | 2019-08-19 | 2025-06-13 | Asml荷兰有限公司 | 微反射镜阵列 |
| KR102901745B1 (ko) | 2019-08-19 | 2025-12-17 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 마이크로미러 어레이 |
| EP3862813A1 (en) | 2020-02-07 | 2021-08-11 | ASML Netherlands B.V. | Methods and systems for maskless lithography |
| IL303058A (en) | 2020-11-30 | 2023-07-01 | Asml Netherlands Bv | A high-power, low-voltage piezoelectric micromirror actuator |
| WO2022112037A1 (en) | 2020-11-30 | 2022-06-02 | Asml Netherlands B.V. | Mems array interconnection design |
| IL302973A (en) | 2020-11-30 | 2023-07-01 | Asml Netherlands Bv | High accuracy temperature-compensated piezoresistive position sensing system |
| EP4260121B1 (en) | 2020-12-14 | 2025-10-29 | ASML Netherlands B.V. | Micromirror arrays |
| DE102021123440B4 (de) * | 2021-09-10 | 2024-10-10 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zum Teilchenstrahl-induzierten Bearbeiten eines Defekts einer Photomaske für die Mikrolithographie |
| US20250258367A1 (en) | 2022-07-12 | 2025-08-14 | Asml Netherlands B.V. | Mirror assembly for micromirror array |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4541712A (en) * | 1981-12-21 | 1985-09-17 | Tre Semiconductor Equipment Corporation | Laser pattern generating system |
| DE4022732A1 (de) * | 1990-07-17 | 1992-02-20 | Micronic Laser Systems Ab | Auf einem lichtempfindlich beschichteten substrat durch fokussierte laserstrahlung hergestellte struktur sowie verfahren und vorrichtung zu ihrer herstellung |
| US5635976A (en) * | 1991-07-17 | 1997-06-03 | Micronic Laser Systems Ab | Method and apparatus for the production of a structure by focused laser radiation on a photosensitively coated substrate |
| US5706415A (en) * | 1991-12-20 | 1998-01-06 | Apple Computer, Inc. | Method and apparatus for distributed interpolation of pixel shading parameter values |
| EP0664033B1 (en) | 1992-11-02 | 2002-02-06 | Etec Systems, Inc. | Rasterizer for a pattern generation apparatus |
| US5701405A (en) * | 1995-06-21 | 1997-12-23 | Apple Computer, Inc. | Method and apparatus for directly evaluating a parameter interpolation function used in rendering images in a graphics system that uses screen partitioning |
| JPH09323180A (ja) * | 1996-06-04 | 1997-12-16 | Asahi Optical Co Ltd | スケーリング補正機能を持つレーザ描画装置 |
| US6078331A (en) * | 1996-09-30 | 2000-06-20 | Silicon Graphics, Inc. | Method and system for efficiently drawing subdivision surfaces for 3D graphics |
-
1997
- 1997-02-28 SE SE9700742A patent/SE509062C2/sv not_active IP Right Cessation
-
1998
- 1998-02-26 EP EP98908378A patent/EP1012783B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-02-26 WO PCT/SE1998/000347 patent/WO1998038597A2/en not_active Ceased
- 1998-02-26 AU AU66423/98A patent/AU6642398A/en not_active Abandoned
- 1998-02-26 JP JP53758198A patent/JP2001513219A/ja not_active Ceased
- 1998-02-26 DE DE69815697T patent/DE69815697T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1998-02-26 US US09/380,270 patent/US7088468B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-02-26 AT AT98908378T patent/ATE243343T1/de not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1012783B1 (en) | 2003-06-18 |
| SE9700742L (sv) | 1998-08-29 |
| DE69815697T2 (de) | 2004-01-15 |
| US7088468B1 (en) | 2006-08-08 |
| WO1998038597A2 (en) | 1998-09-03 |
| DE69815697D1 (de) | 2003-07-24 |
| ATE243343T1 (de) | 2003-07-15 |
| AU6642398A (en) | 1998-09-18 |
| JP2001513219A (ja) | 2001-08-28 |
| SE9700742D0 (sv) | 1997-02-28 |
| EP1012783A2 (en) | 2000-06-28 |
| WO1998038597A3 (en) | 1999-01-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| SE509062C2 (sv) | Dataomvandlingsmetod för en laserskrivare med flera strålar för mycket komplexa mikrokolitografiska mönster | |
| US20040159636A1 (en) | Data path for high performance pattern generator | |
| KR100459813B1 (ko) | 집속된 레이저 광선에 의해 감광 물질로 코팅된 기판상에 구조체를 형성시키는 방법 및 장치 | |
| EP0664033B1 (en) | Rasterizer for a pattern generation apparatus | |
| KR101563055B1 (ko) | 시분할 다중화 로딩을 포함하는 전자 비임 리소그래피 시스템 및 방법 | |
| CN110531590A (zh) | 一种直写式光刻机拼接方法 | |
| JPH05304591A (ja) | ラスター装置用フルページビットマップの作成装置及びフレームバッファのスキャンアウト方法 | |
| JP2005521253A (ja) | 大量データフローをプリントする方法と装置 | |
| US8035852B2 (en) | Frame data producing apparatus, method and plotting apparatus | |
| US8184333B2 (en) | Image recording processing circuit, image recording apparatus and image recording method using image recording processing circuit | |
| US20020018238A1 (en) | Printer, print control apparatus and method | |
| US20090147276A1 (en) | Image Recording Apparatus, Image Recording Method, Data Structure, Recording Medium, Data Processing Apparatus and Method | |
| CN115268232B (zh) | 一种dmd倾斜扫描的高效数据处理方法 | |
| CN100362389C (zh) | 多光束图像输出装置及方法 | |
| JP2008065094A (ja) | 描画用処理回路及び描画方法 | |
| JPS63193524A (ja) | Lsi描画パタ−ン・デ−タ作成装置 | |
| JP2989778B2 (ja) | 印刷制御装置及び方法 | |
| JP2001043364A (ja) | ラベリング回路 | |
| JPH01229666A (ja) | 印字装置 | |
| HK1076513B (en) | Apparatus and method for pattern a workpiece | |
| CN1245565A (zh) | 利用聚焦激光辐射在光敏涂敷衬底上制作结构的方法与装置 | |
| AU2008237549A1 (en) | Modal fill generation in a pixel sequential renderer | |
| JPH08227853A (ja) | 荷電粒子ビーム露光装置 | |
| JPS59148988A (ja) | 画像処理装置 | |
| JPS60110449A (ja) | 植字方式 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| NUG | Patent has lapsed |