JP3955837B2 - リソグラフィ機器およびデバイスの製造方法 - Google Patents
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Description
−放射投影ビームを供給する放射システムと、
−所望のパターンに従って投影ビームをパターン化する助けとなるパターン化手段を支持する支持構造と、
−基板を保持する基板テーブルと、
−基板の目標部分上にパターン化したビームを投影する投影システムと、
−前記支持構造および前記基板テーブルを装着するベースと、
−前記ベースにコンプライアントに装着する基準フレームとを備える。
−マスク:マスクの概念はリソグラフィにおいては周知であり、2値型、交互配置型位相シフト型、ハーフトーン位相シフト型、ならびにさまざまなハイブリッド型などのマスク・タイプの例が含まれる。こうしたマスクを放射ビーム中に配置することにより、マスク上のパターンに従って、マスクに入射する放射の選択的な透過(透過性マスクの場合)または反射(反射性マスクの場合)が生じる。マスクの場合、一般に、支持構造はマスク・テーブルであり、それによって入射する放射ビーム中で所望の位置にマスクを保持し、望まれる場合には、マスクがビームに対して相対的に移動できるようにする。
−プログラム可能なミラー・アレイ:このようなデバイスの一例は、粘弾性制御層および反射面を有するマトリックス・アドレス可能型表面である。こうした機器の基礎となる基本原理は、(たとえば)反射面のアドレスされた区域は入射光を回折光として反射し、アドレスされない区域は入射光を非回折光として反射するというものである。適当なフィルタを使用して、前記非回折光をフィルタリングして反射光から除去し、回折光のみを後に残すことができる。このようにして、マトリックス・アドレス可能型表面のアドレス・パターンに従ってビームがパターン化される。プログラム可能なミラー・アレイの代替実施形態では、適切な局所電界を印加し、あるいは圧電作動手段を使用することによってそれぞれ独立にある軸の周りで傾けることができる小ミラーのマトリックス配置を使用する。この場合も、ミラーはマトリックス・アドレス可能型であり、そのためアドレスされたミラーは、アドレスされないミラーとは異なる方向に、入射する放射ビームを反射する。このようにして、反射ビームは、マトリックス・アドレス可能型ミラーのアドレス・パターンに従ってパターン化される。必要とされるマトリックス・アドレス指定は、適当な電子的手段を使用して行うことができる。上記のいずれの状況でも、パターン化手段は、1つまたは複数のプログラム可能なミラー・アレイを備えることができる。ここで言及したミラー・アレイに関するより多くの情報は、たとえば、米国特許第5,296,891号および第5,523,193号、ならびにPCT特許出願WO98/38597号およびWO98/33096号から得ることができる。参照によりこれらを本明細書に合体する。プログラム可能なミラー・アレイの場合、前記支持構造は、たとえばフレームまたはテーブルとして実施することができ、必要に応じて、固定あるいは移動可能とすることができる。
−プログラム可能なLCDアレイ:このような構造の一例が、米国特許第5,229,872号に示されている。参照によりこれを本明細書に合体する。上記の場合と同様に、この場合の支持構造も、たとえばフレームまたはテーブルとして実施することができ、必要に応じて、固定あるいは移動可能とすることができる。
簡単にするために、本明細書の残りの部分は、ある個所では、マスクおよびマスク・テーブルを含む例を具体的に取り上げる。しかし、こうした例で論じる一般原理は、上記のパターン化手段のより広い状況の中で理解すべきである。
−放射感受性材料の層で少なくとも部分的に覆われた基板を提供するステップと、
−放射システムを使用して放射投影ビームを提供するステップと、
−パターン化手段を使用して投影ビームの横断面にパターンを付与するステップと、
−投影システムを使用して、放射感受性材料の層の目標部分上にパターン化した放射ビームを投影するステップと、
−基準フレーム、パターン化手段を支持する支持構造、および基板を保持する基板テーブルをベース上に支持するステップとを含み、前記基準フレームがベースにコンプライアントに装着され、前記投影システムが前記基準フレームに装着されるデバイスの製造方法であって、
−パターン化した放射ビームを目標部分上に投影する間、投影システムが前記基準フレームにコンプライアントに装着されることを特徴とする方法が提供される。
放射投影ビームPB(たとえばEUV放射)を供給し、この特定のケースでは放射源LAも備える放射システムEx、ILと、
マスクMA(たとえばレチクル)を保持するマスク・ホルダを備え、第1位置決め手段に連結されて要素PLに対してマスクを正確に位置決めする第1対象物テーブル(マスク・テーブル)MTと、
基板W(たとえばレジストを塗布したシリコン・ウエハ)を保持する基板ホルダを備え、第2位置決め手段に連結されて要素PLに対して基板を正確に位置決めする第2対象物テーブル(基板テーブル)WTと、
基板Wの(たとえば1つまたは複数のダイを含む)目標部分C上に、マスクMAの照射された部分を結像する投影システム(「レンズ」)PL(たとえばミラー群)とを備える。
1.ステップ・モードでは、マスク・テーブルMTはほぼ固定したまま、目標部分C上にマスク像全体を1回で(すなわち1回の「フラッシュ」で)投影する。次いで、基板テーブルWTを、x方向および/またはy方向に移動し、それによってビームPBで異なる目標部分Cを照射することができる。
2.スキャン・モードでは、所与の目標部分Cが1回の「フラッシュ」で露光されない点を除き、ほぼ同じ状況が当てはまる。その代わりに、マスク・テーブルMTが、所与の方向(いわゆる「走査方向」、たとえばy方向)に速度vで移動可能であり、それによって、投影ビームPBがマスク像の上を走査する。それに並行して、基板テーブルWTが同時に同方向または反対方向に速度V=Mvで移動する。ただし、MはレンズPLの倍率(通常、M=1/4または1/5)である。このようにして、比較的大きな目標部分Cを、解像力を損なわずに露光することができる。
6 基準フレーム・マウント
7 投影フレーム・マウント
10 固体支持部、マウント
11、12 部材
11a スペース
12a、12b 端部
13、14 取付け部
15、18 装着位置
16、17、19、20 ノード軸
AM 調節手段
BP ベース
C 目標部分
CO コンデンサ
Ex 放射システム、ビーム・エキスパンダ
IF 干渉計測手段
IL 放射システム、照明システム、照明器
IN 統合器
LA 放射源
M1、M2、M3、M4、M5、M6 光学要素
MA マスク
MT マスク・テーブル、第1対象物テーブル
PB 放射投影ビーム
PF 投影フレーム
PL 投影システム、レンズ
W 基板
WT 基板テーブル、第2対象物テーブル
Claims (10)
- 放射投影ビームを供給する放射システムと、
所望のパターンに従って投影ビームをパターン化する助けとなるパターン化手段を支持する支持構造と、
基板を保持する基板テーブルと、
基板の目標部分上にパターン化したビームを投影する投影システムと、
前記支持構造および前記基板テーブルを装着するベースと、
前記ベースにコンプライアントに装着された基準フレームとを備えるリソグラフィ投影機器であって、
投影システムが、コンプライアントなマウントによって前記基準フレームにコンプライアントに装着された投影フレームと、当該投影フレーム上に取り付けられた少なくとも1つの光学要素と、を備え、
前記マウントは、第1の部材及び第2の部材を交差してなるT形部材からなり、
前記投影フレーム及び前記基準フレームのうちの一方が、前記第1の部材の両端に取り付けられ、他方が前記第2の部材の端部に取り付けられる、ことを特徴とする機器。 - 基準フレームにコンプライアントに装着された投影フレームの固有振動数が約10〜30Hzである、請求項1に記載のリソグラフィ投影機器。
- ベースにコンプライアントに装着された基準フレームの固有振動数が約0.5Hzである、請求項1または請求項2に記載のリソグラフィ投影機器。
- 投影システムが、少なくとも3つのコンプライアントなマウントを使用して基準フレームにコンプライアントに装着される、請求項1から請求項3までのいずれか一項に記載のリソグラフィ投影機器。
- 投影システムが、基準フレームの主な曲げ振動モードのノード軸上で基準フレームに装着される、請求項1から請求項4までのいずれか一項に記載のリソグラフィ投影機器。
- 投影システムが、基準フレームの主なねじり振動モードのノード軸上で基準フレームに装着される、請求項1から請求項5までのいずれか一項に記載のリソグラフィ投影機器。
- T形部材が1000Hzよりも高い内部1次固有振動数を有する、請求項1ないし6のいずれか一項に記載のリソグラフィ投影機器。
- 基準フレームに対する相対的な投影システムの動きを減衰させる、請求項1から請求項7までのいずれか一項に記載のリソグラフィ投影機器。
- 前記減衰が、圧電アクチュエータまたはローレンツ力によるアクチュエータによって制御される能動的な減衰である、請求項8に記載のリソグラフィ投影機器。
- 放射感受性材料の層で少なくとも部分的に覆われた基板を提供するステップと、
放射システムを使用して放射投影ビームを提供するステップと、
パターン化手段を使用して投影ビームの横断面にパターンを付与するステップと、
投影システムを使用して、放射感受性材料の層の目標部分上にパターン化した放射ビームを投影するステップと、
基準フレーム、パターン化手段を支持する支持構造、および基板を保持する基板テーブルをベース上に支持するステップとを含み、前記基準フレームがベースにコンプライアントに装着され、前記投影システムが前記基準フレームに装着されるデバイスの製造方法であって、
パターン化した放射ビームを目標部分上に投影する間、投影システムが前記基準フレームにコンプライアントに装着されるものであり、
前記投影システムが、コンプライアントなマウントによって前記基準フレームにコンプライアントに装着される投影フレームと、当該投影フレーム上に取り付けられた少なくとも1つの光学要素と、を備え、
前記マウントが、第1の部材及び第2の部材を交差してなるT形部材からなり、
前記投影システム及び前記基準フレームのうちの一方が、前記第1の部材の両端に取り付けられ、他方が前記第2の部材の端部に取り付けられる、ことを特徴とする方法。
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