JP3708075B2 - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、
放射の投影ビームを供給するための放射システムと、
所望のパターンに従って投影ビームをパターン形成するように使用されるパターン形成手段を支持するための支持構造と、
基板を保持するための基板テーブルと、
パターン形成されたビームを基板の目標部分に投影するための投影システムとを備えるリソグラフィ投影装置であって、
放射システムおよび/または投影システムが、少なくとも1つの光学部材を備える装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
本明細書で使用される用語「パターニング手段」は、基板のターゲット部分に形成するパターンに対応してパターンを付けた断面を入射放射線ビームに与えるために使用することができる手段を表すものと広く解釈すべきである。用語「光バルブ」をこの文脈で使用することもできる。一般に、前記パターンは、集積回路やその他のデバイス(以下参照)などターゲット部分に作成されるデバイス内の特定の機能層に対応する。このようなパターニング手段の例としては、次のようなものが挙げられる。
−マスク。マスクの概念はリソグラフィでよく知られており、二相、交流移相、減衰移相などのマスク・タイプ、ならびに様々なハイブリッド・マスク・タイプを含む。放射線ビーム中にそのようなマスクを配置することにより、マスク上のパターンに従って、マスクに衝突する放射線の選択透過(透過性マスクの場合)または反射(反射性マスクの場合)が生じる。マスクの場合、支持構造は通常マスク・テーブルであり、マスク・テーブルは、入射放射線ビームにおける所望の位置にマスクを保持することができることを保証し、かつ望みであればマスクをビームに対して移動することができることも保証する。
−プログラム可能ミラー・アレイ。そのようなデバイスの一例は、粘弾性制御層および反射表面を有するマトリックス・アドレス可能な表面である。そのような装置の背後にある基本原理は、(例えば)反射表面のアドレスされた領域が入射光を回折光として反射し、アドレスされていない領域が入射光を非回折光として反射することである。適切なフィルタを使用して、前記の非回折光を、反射ビームからフィルタ除去して、後に回折光だけを残すことができる。このようにして、マトリックス・アドレス指定可能表面のアドレス指定パターンに従って、ビームはパターン形成される。必要なマトリックス・アドレス指定は、適当な電子的な手段を使用して行うことができる。そのようなミラー・アレイについて、例えば、米国特許第5,296,891号および米国特許第5,523,193号からより多くの情報を収集することができる。これらの特許は、参照により本明細書に組み込む。プログラム可能ミラー・アレイの場合、前記の支持構造は、例えば、フレームまたはテーブルとして具体化することができ、それは、必要に応じて、固定するか、可動にすることができる。
−プログラム可能LCDアレイ。そのような構造の一例は、米国特許第5,229,872号に与えられている。この特許は、参照により本明細書に組み込む。上と同様に、この場合の支持構造も、例えばフレームまたはテーブルとして実施することができ、必要に応じて固定することも、可動にすることもできる。
話を簡単にするために、この本文ではここから先、いくつかの箇所でマスクおよびマスク・テーブルに関わる例に特に注目することがある。しかし、そのような例で論じられる一般的な原理は、本明細書で上述したパターニング手段のより広い文脈で見るべきである。
【0003】
リソグラフィ投影装置は、例えば集積回路(IC)の製造で使用することができる。そのような場合、パターニング手段は、ICの個々の層に対応する回路パターンを生成することができ、このパターンを、感光性材料(レジスト)の層で被覆されている基板(シリコン・ウェハ)上のターゲット部分(例えば1つまたは複数のダイを備える)に結像することができる。一般に、単一のウェハが、1度に1つずつ投影システムによって連続的に照射される隣接ターゲット部分の回路網全体を含む。マスク・テーブル上のマスクによるパターニングを採用する現行装置では、2つの異なるタイプの機械に区分することができる。1つのタイプのリソグラフィ投影装置では、各ターゲット部分が、マスク・パターン全体を一括してターゲット部分に露光することによって照射される。そのような装置は、一般にウェハ・ステッパと呼ばれる。代替装置(一般にステップアンドスキャン装置と呼ばれる)では、各ターゲット部分が、所与の基準方向(「スキャン」方向)に投影ビーム下でマスク・パターンを漸次スキャンし、それと同時にこの方向に平行に、または反平行に基板テーブルを同期してスキャンすることによって照射される。一般に、投影システムが倍率M(通常<1)を有するので、基板テーブルがスキャンされる速度Vは、マスク・テーブルがスキャンされる速度のM倍となる。ここに記述したリソグラフィ・デバイスに関するより多くの情報は、例えば参照により本明細書に組み込む米国特許第6046792号から得ることができる。
【0004】
リソグラフィ投影装置を使用する製造プロセスでは、(例えばマスクでの)パターンが、感光性材料(レジスト)の層によって少なくとも部分的に覆われた基板に結像される。このイメージング・ステップの前に、基板にプライミング、レジスト・コーティング、ソフト・ベークなど様々な処置を施すことができる。露光後に、露光後ベーク(PEB)、現像、ハード・ベーク、および結像されたフィーチャの測定/検査など他の処置を基板に施すこともできる。この一連の処置は、デバイス、例えばICの個々の層にパターンを付けるための基礎として使用される。次いで、そのようなパターン付き層に、エッチング、イオン注入(ドーピング)、メタライゼーション、酸化、化学的機械的研磨など様々なプロセスを施すことができる。これらは全て、個々の層を完成させるためのものである。複数の層が必要な場合、手順全体、またはその変形が、各新たな層ごとに繰り返されなければならない。最終的に、デバイスのアレイが基板(ウェハ)上に存在することになる。次いで、これらのデバイスを、ダイシングやソーイングなどの技法によって互いに分離し、個々のデバイスを、例えばキャリアに取り付ける、またはピンなどに接続することができる。そのようなプロセスに関するさらなる情報は、例えば参照により本明細書に組み込むPeter van Zantの著書「Microchip Fabrication:A Practical Guide to Semiconductor Processing」,Third Edition, McGraw Hill PublishingCo.,1997,ISBN0−07−067250−4から得ることができる。
【0005】
話を簡単にするために、投影システムを本明細書では以後「レンズ」と呼ぶ場合がある。しかし、この用語は、例えば屈折光学系、反射光学系、反射屈折光学系を含めた様々なタイプの投影システムを包含するものとして広く解釈すべきである。また、放射システムは、放射線の投影ビームを指向する、成形する、または制御するためのこれら設計タイプのいずれかに従って動作する構成要素を含むことができ、そのような構成要素も以下で総称して、または個別に「レンズ」と呼ぶ場合がある。さらに、リソグラフィ装置は、2つ以上の基板テーブル(および/または2つ以上のマスク・テーブル)を有するタイプのものであってよい。そのような「多段」デバイスでは、追加のテーブルを並列に使用することができ、あるいは1つまたは複数のテーブルに関して予備ステップを行い、その一方で1つまたは複数の他のテーブルを露光することができる。二段リソグラフィ装置は、例えば、参照により本明細書に組み込む米国特許第5969441号およびWO98/40791号に記載されている。
【0006】
像を形成することができるフィーチャのサイズを低減するために、放射の投影ビームの波長を短縮することが望ましい。約200nm未満、例えば193nm、157nm、または126nmの波長を使用することが提案されている。EUV(極端紫外線放射、例えば、波長が5〜20nmの範囲にある)範囲への波長のさらなる短縮が考えられる。そのような波長は特に、ミラーなど反射光学系によってより簡便に合焦し制御される。しかし、リソグラフィ装置におけるミラーは、屈折要素に比べて非常に高い精度で位置決めしなければならない。これは、任意の回転向き誤差が、総計の下流光路長によって拡大されるためである。非常に短い波長の放射を使用する任意の装置で、光路長は2m程度またはそれよりも大きい場合がある。
【0007】
例えば、良好なオーバーレイ性能を有するために、特にEUVが使用されるとき、約1nm未満の誤差(e)で、基板レベルの所与の位置でマスクの照射部分の像の位置を安定に保つ必要がある場合がある。ミラーと基板の距離が2mである場合、仕様範囲内でシステムを維持するために、反射ビームの最大許容可能回転誤差は、e=1nmの場合は28×10-9度(1×10-9m/2m=tan(28×10-9度))である。ミラーでは、反射角が入射角に等しいので、ミラーの位置の回転誤差は、反射ビームの方向の誤差の2倍の大きさになる。したがって、ミラーは、14×10-9度またはそれよりも良い精度で位置決めしなければならない。ミラーが0.1m程度の幅を有し、片側に回転点を有する場合、その回転点を0.024nm(tan14×10-9×0.1=2.4×10-11)以内に位置決めしなければならない。明らかに、そのようなミラーを方向付ける際に必要な精度は非常に高く、像精度に対する仕様が高まるにつれて単に高まる。X、Y、およびZでの位置に関する精度要件は、そのような誤差が基板レベルではあまり拡大しないのでそれほど厳しくないが、しかし依然として高い。
【0008】
「スキャン・モード」(「スキャン・モード」の意味は前に説明した。本明細書では以後、添付図面に関連して説明する)で使用され、EUVを使用するリソグラフィ投影装置の投影システムは、例えば、反射するため、およびそれにより、パターン形成されたビームを基板のターゲット部分上へ投影するために6つのミラーを含むことができる。この場合、ミラーは、約0.1nmの精度で互いに関して位置決めされる。反射光学要素の位置および/または向きを調節するために複数のアクチュエータを使用することが前に提案されている。例えば、それに対応する構成がEP1107068A2に記載されている。この文献は、振動が生じる可能性があっても、反射要素を静止状態に保つために位置センサを使用することを記載している。
【0009】
光学部材は通常、6つの独立の自由度(DOF)、すなわち3つの並進DOFと3つの回転DOFを有する。2つ以上のDOFに関して光学部材を調節することができる1つの可能性は、複数のアクチュエータを使用することである。アクチュエータは、圧電性、電気抵抗性、または磁気抵抗性のものであってよく、例えば、光学部材に入射する放射のビームに対して横方向に延在する光学部材の表面に垂直に作用する。特に、所望の最大位置誤差が1nm以下の範囲にあるとき、アクチュエータどうしの組合せ、または少なくとも1つのアクチュエータと重力補償器など他の可動デバイスとの組合せが、例えば、余剰の、かつ/または望ましくない差動力によって光学部材を変形する可能性がある。
【発明が解決しようとする課題】
【0010】
本発明の一目的は、少なくとも1つの光学部材を有するリソグラフィ投影装置であって、光学部材の変形を低減または減少させるための手段を備える装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0011】
この目的およびその他の目的は、本発明によれば、
光学部材が、光学部材を少なくとも部分的に閉じ込めて放射システムおよび/または投影システムの少なくとも1つの他の構成要素に接続される取付フレームによって支持され、かつ取付フレームに接続されていることを特徴とする、冒頭のパラグラフで指定したリソグラフィ装置で達成される。
【0012】
光学部材は、例えばミラーまたはレンズである。どのような場合にも、取付フレームは、フレームが接続されたリソグラフィ投影装置の少なくとも1つの他の構成要素によって発生される、かつ/または移送される可能性がある望ましくない影響から光学部材を保護する。特に、フレームは、フレームの剛性によって光学部材の変形を大幅に低減することができる。
【0013】
1つの好ましい実施形態によれば、フレームと光学部材との接続が、フレームの切欠き領域内に位置し、外周でフレームによって保持される膜状部分を備える。光学部材は、膜状部分の中心領域に接続される。例えば、膜状部分は、その外周と、光学部材に間接的または直接的に接続される中心領域とを含む平面内で延在する。好ましくは、外周は、円形線に沿って延在する。特に、膜状部分が材料の薄いシートである場合、膜状部分が円形になる場合がある。しかし、膜状部分が、中心領域から外周に延在する複数のスポークを備えることが最も好ましい。スポークは、膜状部分の個別部品であってよく、あるいは膜状部分の少なくとも1つのさらなる部品によって、例えば外周にある、かつ/または中心領域にあるリング状部品によって接続することができる。
【0014】
一般に、膜状部分は、フレームの剛性にも関わらず生じる可能性があるフレームの変形に対して、フレームから光学部材を切り離す。特に、膜状部分は、膜状部分が延在する第2の方向に垂直な第1の方向で変形することができる。それにより、膜状部分は、第1の方向と反対の方向へのフレームの変形を補償することができる。その結果、光学部材は、変形または移動を伴わずに定位に留まる。膜状部分はまた、膜状部分の平面に垂直な方向に沿ったフレームの並進を緩和することができる。膜状部分がシート状である場合、少なくとも2つ(しかし2つに限定しない)の回転自由度(DOF)で、すなわちシート状部分が延在する平面内で延在する2つの垂直な回転軸に関するDOFでのフレームの変形に関して、フレームから光学部材を切り離すことができる。
【0015】
膜状部分がスポークを備える場合、スポークがその内部で、かつ/またはそこに沿って延在する平面に垂直に、スポークの中心を通って延在する回転軸に関する回転DOFに関してさえも、光学部材を切り離すことができる。
【0016】
光学部材が運動または移動される1つまたは2つの直線DOFでの十分な剛性を提供し、しかし他のDOFでの望ましくない移動を回避する目的で、光学部材をフレームに接続するために膜状部分が使用される場合に、回転DOFに関する切離しは特に有用である。例えば、望ましいDOFでの移動をもたらす1つのアクチュエータ、または複数のアクチュエータの構成体も、他のDOFでのフレームの望ましくない移動または変形をもたらす可能性がある。
【0017】
1つの特定の実施形態では、フレームは、光学部材がフレームによって閉じ込められるフレーム平面内部に延在することができる複数のストラットを備える。ストラットは、少なくとも3つのコーナを有するフレーム構造を形成するようにフレームのコーナに接続される。好ましくは、フレーム構造は、ストラットが接続される正確に3つのコーナを有する。この実施形態によれば、フレームは特に堅く軽量である。
【0018】
ストラットが平面内に延在する場合、平面の一方向でフレームの外側から作用する望ましくない力に対する剛性が特に大きい。他方、プレーナ構造により、ストラットが延在する平面に対して横向きの方向の広いセクタ内で、放射線が光学部材に入射することができるようにする。
【0019】
フレーム構造は、フレーム構造のコーナの1つにある2つのストラットに接続するコーナ要素を備えることができる。特に、コーナ要素は、装置の少なくとも1つの他の構成要素へのフレームの接続を確立するために使用することができる。例えば、コーナ要素は、光学要素の位置を調節および/または修正するためのアクチュエータ、またはアクチュエータの一部分であってよい。
【0020】
フレームの剛性はさらに、フレーム構造を補強するための補強部材によってさらに改善することができ、補強部材は、コーナの1つに接続された2つのストラット間に延在して、2つのストラットを接続し、かつ2つのストラットと、補強部材と、コーナとの間に中空スペースを残す。また、同じ中空スペースの表面に位置する補強部材の対またはグループを提供することができる。さらに、剛性は、2つのストラットが接続されるコーナの領域で2つのストラット間の角度を埋める部材を提供することによって改善することができる。
【0021】
ストラットの外部構成はプレート状にすることができ、これは、外径がプレートの寸法に等しいことを意味する。ストラットは、中実または中空にして、重量を低減することができる。プレート状ストラットはそれぞれ、2つのコーナ間に延在することができ、前記平面に垂直な方向でのストラットの幅は、当該の2つのコーナをつなぐ線に垂直な方向で前記平面内で測定されるストラットの厚さよりも大きい。この構成は、フレーム構造の平面内での方向に関してだけでなく、この平面を横切る方向に関しても軽量であり堅い。
【0022】
好ましくは、互いに接続されている2つのストラットが、等しい長さを有して、互いに対称的に構成されている。最も好ましくは、コーナ間のフレーム構造の全ての側面の長さが等しい。規則的な対称構造は、様々な方向に関して等しい剛性を備え、特に堅い。
【0023】
特に、フレーム構造が等しい側面長さを有する場合、光学部材は、好ましくは、コーナの各2つの間の中間にある当該の位置でフレーム構造に接続される。特に、規則的かつ/または対称的に形状を取られた光学部材では、この実施形態は、フレーム構造と光学部材の接続の長さを短く保つことができる。短い接続は、大きな振幅での変形をもたらす可能性が低い。さらに、等しい側面のフレームは、特に、他の構成要素がコーナの1つでフレームに接続されるときに、変形に対して装置の少なくとも1つの他の構成要素から光学要素を効果的に切り離すことができる。
【0024】
好ましくは、フレームは、フレームが延在する平面に対称的である。さらに、光学部材が平面に対称的に配置されることが好ましい。一般に、対称的な構成は、例えば温度変化による望ましくない変形に対してより耐性がある。
【0025】
本発明の一実施形態では、フレーム、したがって光学部材の位置および/または向きを調節するための少なくとも1つのアクチュエータがフレームに接続される。好ましくは、アクチュエータによって行われる作動の方向または回転軸が、フレームの対称軸に位置合わせされ、かつ/または作動方向または回転軸が、フレームが延在する平面の一部である。特に、フレームへのアクチュエータの接続は、前記平面内の点または領域を含む位置で確立される。
【0026】
本発明のさらなる態様によれば、
感放射線材料の層で少なくとも部分的に覆われている基板を提供するステップと、
放射システムを使用して放射の投影ビームを提供するステップと、
パターン形成手段を使用して投影ビームの断面にパターンを与えるステップと、
前記パターン形成された放射のビームを感放射線材料の層の目標部分に投影するステップと、
放射の投影ビームまたはパターン・ビームを反射および/または屈折するための少なくとも1つの反射および/または屈折光学部材を使用するステップと
を含み、装置の他の構成要素に光学部材を取り付けるための取付フレームによって光学部材を支持し、フレームが、光学部材およびフレームへの、または光学部材およびフレームからの放射経路を横切る平面に延在し、それにより前記平面内に光学部材を閉じ込め、光学部材がフレームに接続され、フレームが、少なくとも1つの他の構成要素に接続されていることを特徴とする方法が提供される。
【0027】
1つの好ましい実施形態では、この方法が、取付フレームの位置および/または向きを調節し、それにより光学部材の位置および/または向きを調節することによって、放射の投影ビーム、またはパターン形成されたビームの伝搬方向を調節するステップを含む。上述した取付フレームの剛性および/または切離し効果により、取付フレームの位置および/または向きを非常に安定に保つことができる。例えば、それにより、特に短波放射、例えばEUVが使用されるときに、基板上にリソグラフィによって生成される構造の寸法を低減することができる。
【0028】
この本文では、本発明による装置のIC製造での使用に特に言及する場合があるが、そのような装置が多くの他の可能な適用例も有することをはっきりと理解されたい。例えば、集積光学系、磁区メモリ用の誘導および検出パターン、液晶表示パネル、薄膜磁気ヘッドなどの製造に使用することができる。そのような代替適用例の文脈では、この本文における用語「焦点板」、「ウェハ」、または「ダイ」の使用を、より一般的な用語「マスク」、「基板」、および「ターゲット部分」でそれぞれ置き代えられるものとみなすべきであることを当業者は理解されよう。
【0029】
本文献において、用語「放射」および「ビーム」は、紫外線放射(例えば、波長が、365、248、193、157または126nmである)およびEUV(極端紫外線放射、例えば、波長が5〜20nmの範囲にある)、並びにイオン・ビームまたは電子ビームのような粒子ビームを含んだ、全ての種類の電磁放射を包含するように使用される。
【0030】
次に、本発明の実施形態を、添付図面に関連して例示としてのみ説明する。
【0031】
図中、対応する参照符号が、対応する部分を示す。
【0032】
【発明の実施の形態】
実施形態1
図1は、本発明のある特定の実施形態によるリソグラフィ投影装置を概略的に示す。この装置は、以下のものを備える。
・放射線(例えばEUV)の投影ビームPBを供給するための放射システムEx、IL。この特定の場合には、放射線源LAも備える。
・マスクMA(例えば焦点板)を保持するためのマスク・ホルダを備え、アイテムPLに対してマスクを正確に位置決めするための第1の位置決め手段に接続された第1の対象物テーブル(マスク・テーブル)MT。
・基板W(例えばレジスト被覆シリコン・ウェハ)を保持するための基板ホルダを備え、アイテムPLに対して基板を正確に位置決めするための第2の位置決め手段に接続された第2の対象物テーブル(基板テーブル)WT。
・基板Wのターゲット部分C(例えば、1つまたは複数のダイを備える)にマスクMAの照射部分を結像するための投影システム(「レンズ」)PL(例えば、屈折または反射屈折システムまたは反射システム)。本明細書で示すように、この装置は、反射性タイプの(すなわち反射性マスクを有する)ものである。しかし一般には、例えば透過性タイプの(透過性マスクを有する)ものであってもよい。別法として、この装置は、上で言及したタイプのプログラム可能ミラー・アレイなど別の種類のパターニング手段を使用することができる。
【0033】
放射源LA(例えば、貯蔵リングまたはシンクロトロン内の電子ビームの経路の周りに提供されるアンジュレータまたはウィグラ、あるいは水銀ランプ)は、放射のビームを生成する。このビームは、直接か、または、例えばビーム拡大器Exなどのコンディショニング手段を通り抜けた後かいずれかで、照明システム(照明装置)ILに送られる。照明器ILは、ビームの強度分布の外側および/または内側放射範囲(一般にそれぞれσ外側およびσ内側と呼ばれる)を設定するための調節手段AMを備えることができる。さらに、一般には、積分器INや集光レンズCOなど様々な他の構成要素も備える。このようにして、マスクMAによって反射されたビームPBが、その断面で所望の均一性および強度分布を有するようにする。
【0034】
図1に関して、放射線源LAは、(例えば放射線源LAが水銀ランプであるときにしばしばそうであるように)リソグラフィ投影装置のハウジング内部にある場合があり、しかしリソグラフィ投影装置から離れていて、生成する放射線ビームが(例えば適切な方向付けミラーによって)装置内に導かれる場合もあることに留意されたい。この後者のシナリオは、放射線源LAがエキシマ・レーザであるときにしばしばそうである。本発明および特許請求の範囲はこれら両方のシナリオを包含する。
【0035】
ビームPBはその後、マスク・テーブルMT上に保持されているマスクMAに交差する。ビームPBは、マスクMAによって選択的に反射された後、レンズPLを通過し、レンズPLが、基板Wのターゲット部分CにビームPBを合焦する。第2の位置決め手段(および干渉計測定手段IF)によって、基板テーブルWTを、例えばビームPBの経路内に様々なターゲット部分Cを位置決めするように正確に移動することができる。同様に、第1の位置決め手段を使用して、例えばマスク・ライブラリからマスクMAを機械的に検索した後、またはスキャン中に、ビームPBの経路に対してマスクMAを正確に位置決めすることができる。一般に、対象物テーブルMT、WTの移動は、図1には明示していない長ストローク・モジュール(粗い位置決め)と短ストローク・モジュール(精密位置決め)とを用いて実現される。しかし、(ステップアンドスキャン装置と異なり)ウェハ・ステッパの場合には、マスク・テーブルMTを短ストローク・アクチュエータにのみ接続することができる、または固定することができる。
【0036】
図示した装置は、2つの異なるモードで使用することができる。
1.ステップ・モードでは、マスク・テーブルMTが本質的に静止して保たれ、マスク・イメージ全体が、ターゲット部分Cに1度に(すなわちただ1回の「フラッシュ」で)投影される。次いで、基板テーブルWTがxおよび/またはy方向にシフトされ、それにより別のターゲット部分CをビームPBによって照射することができる。
2.スキャン・モードでは、所与のターゲット部分Cがただ1回の「フラッシュ」で露光されない点を除き、本質的に同じシナリオが適用される。1回のフラッシュで露光するのではなく、マスク・テーブルMTが速度vで所与の方向(いわゆる「スキャン方向」、例えばy方向)に移動可能であり、それにより投影ビームPBがマスク・イメージ全体にわたってスキャンするようになっている。それと並行して、基板テーブルWTが、速度V=Mvで同方向または逆方向に同時に移動される。ここでMはレンズPLの倍率である(典型的にはM=1/4または1/5)。このようにすると、分解能を損なわずに、比較的大きなターゲット部分Cを露光することができる。
【0037】
図2は、三角形フレーム構造を有する取付フレーム11を示す。図に示される光学要素13の円形面に入射する放射線を屈折および/または反射するための光学部材13、特にミラーが取付フレーム11に接続されている。光学部材13は、凹形または凸形光学面を有することができ、その円形断面の中心を通って延在する回転対称軸に対称的である。
【0038】
取付フレームは、三角形構造の3つのコーナに位置決めされる3つのコーナ・ブロック15を備える。各コーナ・ブロック15が、2つのプレート状ストラット12に接続し、ストラット12が三角形構造の側面を画定し、2つの対向する端部で2つの当該のコーナ・ブロック15に接続する。好ましくは、コーナ・ブロック15間の3つのストラット12の長さは等しく、ストラット12およびコーナ・ブロック15が同一の形状を有する。
【0039】
この構成は、コーナ・ブロック15の形状および機構に関する概略例と理解すべきである。実際には、各コーナ・ブロック15は、光学部材13の位置を調節するための1つのアクチュエータまたは複数のアクチュエータの構成体に接続することができ、またはその一部分にすることができる。
【0040】
三角形構造の3つのコーナでの鋭角の領域内に、第1および第2の補強部材21、23が提供される。光学部材13の円周の隣に、かつ円周と当該のコーナ・ブロック15との間に、コーナ当たり各1つの第1の補強部材21が存在する。第1の補強部材21はプレート状であり、当該のコーナ・ブロック15に接続された2つの当該のストラット12間に延在して、2つのストラット12を接続する。第1の補強部材21がストラット12に接続される全ての位置が、当該のコーナ・ブロック15に対して同じ距離を有する。さらに、プレート状の第1の補強部材21が、フレームの対称面に垂直な鉛直方向に延在する。この対称面は、フレームを上半分と下半分に分け、全ての3つのコーナ・ブロック15を通って延在する。当該のコーナから光学要素13の中心への方向で測定される第1の補強部材21の厚さは、当該のストラット12の2つの当該のコーナ・ブロック15をつなぎ、対称面内部にある、または対称面と平行である線に垂直な方向で測定されるストラット12の厚さよりも小さい。好ましくは、第1および/または第2の補強部材21、23、および/またはストラット12の厚さが一定である。
【0041】
第2の補強部材23の各1つが、対称面内部で、第1の補強部材21の当該の1つと当該のコーナ・ブロック15との間に延在して、第1の補強部材21とコーナ・ブロック15の間、および当該のコーナ・ブロック15に接続された2つの当該のストラット12間の三角形状ギャップを埋める。例えば、第2の補強部材23は、第1の補強部材21と同じ厚さを有する。第2の補強部材23の厚さは、対称面に垂直な方向で測定される。その結果、第1の補強部材21が対称面の両側に延在するので、コーナ・ブロック15と、コーナ・ブロック15に接続された2つの当該のストラット12と、当該の第1および第2の補強部材21、23との各グループが、対称面の各側に1つずつ2つの中空スペースを画定する。対称面の上側にある3つの上側中空スペースを、図2で見ることができる。「上側」および「下側」または「垂直」および「水平」は、図2に示される図のみに関するものであり、取付フレームおよび光学部材の位置決めの可能性を制限しない。例えば、対称面は、写真投影装置の投影システム内で垂直方向に延在することもできる。
【0042】
等しい側面長さを有する図2に示される取付フレーム11の基本三角形構造は、フレームの良好な剛性をもたらす。第1および第2の補強部材21、23により、フレームの重量を大幅に増大させることなく剛性がさらに改善される。
【0043】
コーナ・ブロック15は、例えば、フレーム、したがって光学部材の位置および/または向きを調節するための各少なくとも1つのアクチュエータがストラット12に接続される区域を画定する。好ましくは、そのようなアクチュエータは、上半分と下半分にフレームを分ける対称面に対称に接続される。対称面に垂直な方向で測定されるストラット12の高さは、当該のストラット12によって接続される2つの当該のコーナ・ブロック15間のストラット延在部に沿って変わる場合がある。好ましくは、ストラット12の高さは、コーナ・ブロック15の1つで最小であり、コーナ・ブロック間の中間の領域へ向かって徐々に増大し、中間領域は一定の高さを有する。ストラット12は、ストラットに垂直であり、ストラットの高さに平行な中心面の周りで対称的である。2つのコーナ・ブロック15間の中間領域で、ストラット12は、図示されるように、好ましくは円形状の切欠き領域を備える。切欠き領域の区域内部で、ストラット12の高さは、ストラットの剛性および安定性を保証するために切欠き領域の全ての側面で十分な材料が存在するように、大きくなっている。しかし、例えば、コーナ・ブロックの高さがより大きく、かつ/または切欠き領域のサイズがより小さい場合、ストラットの高さの差をより小さくすることができ、あるいは高さを一定にすることさえできる。
【0044】
各切欠き領域において膜17が挿入され、外周で切欠き領域のリムに堅く接続される。膜はシート状にすることができ、しかし図2および3に示される膜17の構成が好ましい。膜17は、切欠き領域のリムと、光学部材13の一部分である、または光学部材13に接続されたジョイント19との間に延在する複数のスポーク18(図3)を備える。スポーク18の数および寸法を変えることができ、特に、膜17の切離し性質を調節するように調節することができる。一般に、切離しとは、取付フレーム11に作用する、またはフレームの変形によって生じる望ましくない力などを取付フレームに加える可能性がある悪い機械条件から光学部材を切り離すことを意味する。さらに、スポークを有する膜の形状を異なるものにすることができ、例えば、スポークを、膜の外周および/または内周で膜のリング状部分に接続することができる。
【0045】
取付フレーム11と膜17は、例えば、同じ材料のブロックからなる単一部品であってよい。しかし、少なくとも膜17は、フレーム11またはフレーム11の一部分から離して製造され、フレーム11またはフレーム11の一部分に後の製造ステップで接続されることが好ましい。また、ストラット12、コーナ・ブロック15、第1および第2の補強部材21、23などフレーム11の一部分を、個別に製造し、一体に接続することができる。これは特に、コーナ・ブロック15がアクチュエータまたはアクチュエータの一部分である場合に当てはまる。膜17および/またはフレーム11の一部分を個別に製造する1つの利点は、最も良く適した適切な材料および/または製造プロセスを、当該の部品または部材に関して選択することができることである。特に、特定の切離し性質を達成するために膜17に関する特定の材料を選択することが望ましい場合がある。
【0046】
フレーム11または少なくともストラット12に関する好ましい材料は、単一材料としてのSiC、または他の材料と組み合わせたSiCである。フレーム11またはその一部分のための材料の他の例は、一般にInvar、ステンレス鋼、またはセラミック材料である。
【0047】
図3は、図2に示される構成と同様の取付フレームおよび光学部材13の一部分の側面図である。図3は、膜17が位置している切欠き部分の区域内での、1つのストラット12の一部分を示す。膜17およびジョイント19の後方に、光学部材13の一部を見ることができる。図3に示される膜17は、図2に示される膜17とは異なる数のスポーク18を有する。
【0048】
図4は、図2に示される構成と同様のフレーム11に接続された光学部材13の構成の上面図を示す。しかし、図4に示されるフレーム11は、図2に示されるフレーム11のように、第1および第2の補強部材を有さない。さらに、光学部材13は、図2に示される光学部材13の円形状ではなく、正多角形状を有する。一般に、光学部材は、円形または多角形と異なる形状、例えば楕円形、またはバナナ状の断面を有することができる。
【0049】
本発明の特定の実施形態を上述してきたが、本発明を上述した以外の形で実施することもできることを理解されたい。この記述は本発明を限定するものではない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態によるリソグラフィ投影装置を示す図である。
【図2】取付フレームに接続されたミラーの斜視図である。
【図3】図2の構成と同様の取付フレームおよび接続光学部材の詳細を示す図である。
【図4】図2の構成と同様の取付フレームに接続される光学部材の構成の上面図である。
【符号の説明】
LA 放射源
Ex ビーム拡大器
IL 照明装置
Ex,IL 放射システム
AM 調整手段
IN 積分器
CO 集光器
PL 投影システム
MA マスク(レチクル)
MT 第1の物体テーブル(マスク・テーブル)
C 目標部分
PB 投影ビーム
W 基板(ウェーハ)
WT 第2の物体テーブル(基板テーブル)
11 フレーム
12 ストラット
13 光学部材
15 コーナ・ブロック
17 膜
19 ジョイント
21、23 補強部材
Claims (9)
- 放射の投影ビームを提供するための放射システムと、
所望のパターンに従って投影ビームをパターン形成するように使用されるパターン形成手段を支持するための支持構造と、
基板を保持するための基板テーブルと、
パターン形成されたビームを基板の目標部分に投影するための投影システムと
を備えるリソグラフィ投影装置であって、
放射システムおよび/または投影システムが、少なくとも1つの光学部材を備え、
光学部材が、光学部材を少なくとも部分的に閉じ込めて放射システムおよび/または投影システムの少なくとも1つの他の構成要素に接続される取付フレームによって支持され、かつ前記取付フレームに接続されており、該フレームと光学部材の接続が、フレームの切欠き領域に位置しており、外周でフレームによって保持されている膜状部分を備え、光学部材が、膜状部分の中心領域に接続されていることを特徴とする装置。 - 膜状部分が、膜状部分の中心領域から外周に延在する複数のスポークを備える請求項1に記載の装置。
- フレームが、少なくとも3つのコーナを有するフレーム構造を形成するようにフレームのコーナに接続された複数のストラットを備える請求項1または請求項2に記載の装置。
- コーナ間のフレーム構造の全ての側面の長さが等しい請求項1から請求項3までのいずれか一項に記載の装置。
- 光学部材が、各2つのコーナ間の中間の当該位置でフレーム構造に接続されている請求項1から請求項4までのいずれか一項に記載の装置。
- フレーム、したがって光学部材の位置および/または向きを調節するための少なくとも1つのアクチュエータがフレームに接続されている請求項1から請求項5までのいずれか一項に記載の装置。
- フレームへのアクチュエータの接続が、フレームの対称面内の点または領域を含む位置で確立される請求項6に記載の装置。
- 感放射線材料の層で少なくとも部分的に覆われている基板を提供するステップと、
放射システムを使用して放射の投影ビームを提供するステップと、
パターン形成手段を使用して投影ビームの断面にパターンを与えるステップと、
投影システムを使用して、前記パターン形成された放射のビームを感放射線材料の層の目標部分に投影するステップと、
少なくとも1つの光学部材を使用するステップと
を含み、取付フレームによって光学部材を支持し、取付フレームに光学部材を接続し、前記取付フレームが、光学部材を少なくとも部分的に閉じ込めて、放射システムおよび/または投影システムの少なくとも1つの他の構成要素に接続されており、フレームと光学部材の接続が、フレームの切欠き領域に位置しており、外周でフレームによって保持されている膜状部分を備え、光学部材が、膜状部分の中心領域に接続されていることを特徴とする
デバイス製造方法。 - 放射の投影ビーム、またはパターン形成されたビームの伝搬方向が、取付フレームの位置および/または向きを調節し、それにより光学部材の位置および/または向きを調節することによって調節される請求項8に記載の方法。
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