JP2007335859A - リソグラフィ用ミラーアレイ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】複数の個別に調節可能な反射素子120を支持するように構成されたキャリア110を備えるミラーアレイ装置。少なくとも1つのアクチュエータが各反射素子120と対応付けられており、該アクチュエータは、関連付けられた反射素子120の向きまたは位置を調節するように構成されている。該装置は反射素子120の少なくとも一部と接触する液体200をさらに備える。
【選択図】図5A
Description
1. ステップモードにおいては、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTを基本的に静止状態に保ちつつ、放射ビームに付けられたパターン全体を一度に(すなわち、単一静止露光)ターゲット部分C上に投影する。基板テーブルWTは、つぎにXおよび/またはY方向に移動され、それによって別のターゲット部分Cが露光されることが可能になる。ステップモードにおいては、露光フィールドの最大サイズよって、単一静止露光時に投影されるターゲット部分Cのサイズが限定される。
2. スキャンモードにおいては、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTを同期的にスキャンする一方で、放射ビームに付けられたパターンをターゲット部分C上に投影する(すなわち、単一動的露光)。マスクテーブルMTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPLの(縮小)拡大率および像反転特性によって決めることができる。スキャンモードにおいては、露光領域の最大サイズよって、単一動的露光時のターゲット部分の幅(非スキャン方向)が限定される一方、スキャン動作の長さによって、ターゲット部分の高さ(スキャン方向)が決まる。
3. 別のモードにおいては、プログラマブルパターニングデバイスを保持しつつ、マスクテーブルMTを基本的に静止状態に保ち、また基板テーブルWTを動かすまたはスキャンする一方で、放射ビームに付けられているパターンをターゲット部分C上に投影する。このモードにおいては、通常、パルス放射源が採用されており、さらにプログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルWTの移動後ごとに、またはスキャン中、連続する放射パルスの間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、前述のタイプのプログラマブルミラーアレイといったプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
Claims (20)
- 複数の個別に調節可能な反射素子を支持するように構成されたキャリアと、
各反射素子と関連付けられたアクチュエータであって、前記キャリアに対する前記関連付けられた反射素子の向きおよび/または位置を調節するように構成されたアクチュエータと、
前記反射素子の一部と接触している液体と、
を備えるミラーアレイ装置。 - 各反射素子が前記キャリアの面に実質的に平行な軸を中心に回転可能である、請求項1に記載の装置。
- 各反射素子が前記キャリアの面に実質的に平行な2つの軸を中心に回転可能である、請求項1に記載の装置。
- 各反射素子が弾性部材によって前記キャリア上に支持されている、請求項1に記載の装置。
- 各反射素子が、反射面を備える前面、および背面を備え、かつ、前記アクチュエータと連動するように構成されており、前記液体が前記反射素子の前記背面の少なくとも一部と接触するように配置されている、請求項1に記載の装置。
- 前記液体が前記反射素子と前記キャリアとの間に配置されている、請求項1に記載の装置。
- 前記液体が前記反射素子を取り囲む、請求項1に記載の装置。
- 前記キャリアと実質的に平行かつ間隔を離して配置されているカバーをさらに備える、請求項1に記載の装置。
- 前記液体が水である、請求項1に記載の装置。
- 前記液体が前記反射素子から離れて流れる、請求項1に記載の装置。
- 前記液体が前記反射素子から熱制御ユニットまで流れる、請求項10に記載の装置。
- 静電容量センサをさらに備える、請求項1に記載の装置。
- 前記アクチュエータが静電アクチュエータを備える、請求項1に記載の装置。
- 前記アクチュエータが交流電流により駆動される、請求項13に記載の装置。
- 前記交流電流が高周波数方形波交流電流を備える、請求項14に記載の装置。
- 放射ビームを与えるよう構成された照明システムと、
パターニングデバイスを支持するように構成されたサポートであって、前記パターニングデバイスが前記放射ビームの断面にパターンを付与するように構成されたサポートと、
基板を保持するように構成された基板保持体と、
前記基板のターゲット部分上に前記パターンが付与されたビームを投影するように構成された投影システムと、
ミラーアレイ装置であって、
複数の個別に調節可能な素子を支持するように構成されたキャリアと、
各反射素子と関連付けられたアクチュエータであって、前記キャリアに対する前記関連付けられた反射素子の向きおよび/または位置を調節するように構成されたアクチュエータと、
前記反射素子の一部と接触する液体とを備える、ミラーシステムと、
を備えるリソグラフィ装置。 - リソグラフィ装置において放射ビームを与えるよう構成された照明システムであって、
複数の個別に調節可能な反射素子を支持するように構成されたキャリアと、
各反射素子と関連付けられたアクチュエータであって、前記キャリアに対する前記関連付けられた反射素子の向きおよび/または位置を調節するように構成されたアクチュエータと、
前記反射素子の一部に接触する液体と、を備えるミラーアレイ装置を備えるシステム。 - 複数の個別に調節可能な反射素子を備えるミラーアレイ装置の冷却方法であって、前記反射素子の少なくとも一部と直接に熱接触する液体を設けることを備える方法。
- 前記反射素子から離れて前記液体を流すことをさらに備える請求項18に記載の方法。
- 前記液体から熱を除去すること、および、前記液体を前記反射素子に戻すことをさらに備える請求項19に記載の方法。
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