JP2014078736A - マイクロリソグラフィー投影露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ミラー214の過熱を回避するために、ミラーユニットは、その第1端がミラー(好適には周囲の近く)に熱伝導的に連結され、その第2端が基板212に熱伝導的に連結された、金属フィラメント234を有する。ミラーおよび基板への熱的結合を向上させるために、金属フィラメントを金属片235に固定し、これは、ミラー上の平面と基板にそれぞれ取り付けられる。
【選択図】図3
Description
本発明の第1の態様によれば、本目的は、基体と複数のミラーユニットを有するミラーアレイを持つマイクロリソグラフィー投影露光装置によって達成される。各ミラーユニットは、ミラーおよび固体関節を備え、この固体関節は、ミラーを基体に連結させ、曲がり面で曲がることのできる、少なくとも1つの関節部を有している。制御装置により、個々のミラーの基体に対する配列を変えることができる。本発明の第1の態様によれば、関節部は、関節部の曲げ剛性を低減するために、曲がり面で相互に間隔をあけて配置される複数の関節素子に、さらに分割される。
ロッドをさらに分割すると、その曲げ強さが低減される。さらに分割した後に曲げ強さを一定に保つことを意図するのであれば、さらに付加的なサブロッドを追加し、全断面積および、従って、熱伝達可能な熱流束を増やす。
i)関節部が持っていなくてはならない曲げ剛性を確立するステップ;
ii)関節部が持っていなくてはならない熱伝導性を確立するステップ;
iii) ステップii)で確立される熱伝導性を達成するために、関節部が持っていなくてはならない全断面積を確立するステップ;および
iv)全てのセットの関節素子がステップi)で確立される曲げ剛性およびステップiii)で確立される全断面積を持つように、関節部を形成する多数の相互に離れた関節素子を確立するステップ
を含む。
本発明の別の態様によれば、冒頭部分に述べた目的は、基体および複数のミラーユニットを有するミラーアレイを持つ、マイクロリソグラフィー投影露光装置によって達成される。各ミラーユニットは、ミラーおよび制御装置を備え, 制御装置によって、基体に対する個々のミラーの配列を変えることができる。本発明によれば、これらのミラーユニットは熱伝導素子を有し、これらはミラーの軸受に貢献せず、ミラーに連結され、基体の方向に延在して、熱が熱伝導素子から基体に伝達されるようにする。
本発明の別の態様によれば、冒頭部分に述べた目的は、ミラーアレイを備えるマイクロリソグラフィー投影露光装置によって達成される。ミラーアレイは基体と複数のミラーユニットを有し、ミラーユニットの各々は、ミラーと制御装置を有し、制御装置によって、基体に対する個々のミラーの配列を変えることができる。本発明によれば、ミラーユニットはそれぞれ、ミラーと基体の間の体積部分を密閉的に定める、フレキシブルシール手段を有する。
本発明の別の態様によれば、冒頭部分に述べた目標は、ミラーアレイを備えるマイクロリソグラフィー投影露光装置によって達成される。ミラーアレイは、基体と複数のミラーユニットを有し、ミラーユニットの各々は、ミラーおよび制御装置を持ち、この制御装置によって、基体に対する個々のミラーの配列を変更することができる。本発明によれば、ミラー、基体または基体に連結されるミラー支持体の相互に対向する表面は、滑り軸受の対応する滑り表面として使用される。
に同等の構成部品に関しては、それぞれ100を足した数字とした。これはまた、さらな
る実施形態にも適用される。
Claims (10)
- 基体(212;312)および複数のミラーユニット(210;310;610)を有するミラーアレイを備えるマイクロリソグラフィー投影露光装置であって、各ミラーユニットは、
ミラー(214;314;614);および
前記基体に対する前記個々のミラーの配列を変えることのできる制御装置(232;632)
を備え、
前記ミラーユニットは、前記ミラーの軸受に貢献せず、前記ミラー(214;314)に連結され、前記基体(212;312;612)の方向に延在する熱伝導素子(234;340;342;642)であって、熱が前記熱伝導素子(234;340;342;642)から前記基体に伝達されるようにする、該熱伝導素子(234;340;342;642)を有し、
前記熱伝導素子は前記基体(212)に連結され、フレキシブル繊維(234)またはフレキシブルバンドとして設計され、
前記熱伝導素子は、本質的に剛体棒(342;642)として設計され、且つ、少なくとも本質的に剛性のカウンター素子(340;640)は、前記基体から突出し、前記ミラー(314;614)の前記配列の変更中であっても、間隙によってのみ前記熱伝導素子(342;642)から分離されることを特徴とする、
マイクロリソグラフィー投影露光装置。 - 前記間隙は、前記ミラー(314;614)の反射面の最大寸法の10分の1以下の間隙幅を持つことを特徴とする、請求項1に記載の投影露光装置。
- 前記棒(342;642)および前記カウンター素子(340;640)は、前記ミラー(314;614)および前記基体(312;612)上に、それぞれ相互に櫛状に係合するように配置されることを特徴とする、請求項1または2に記載の投影露光装置。
- 前記間隙は、流体、具体的には液体で充填されることを特徴とする、請求項1〜3の何れかに記載の投影露光装置。
- 前記棒(342;642)および前記カウンター素子(340;640)は、シリンダ−壁セグメントの形状に構成され、同心円状に配置されることを特徴とする、請求項4に記載の投影露光装置。
- 前記熱伝導素子(234;342;642)は、シリコン、シリコン化合物、特に炭化ケイ素、炭素または金属、特に銅、銀または金から成ることを特徴とする、請求項1〜5の何れかに記載の投影露光装置。
- 前記制御装置は、前記棒が静電駆動を提供するために、静電的に帯電することのできる電源を有することを特徴とする、請求項1〜6の何れかに記載の投影露光装置。
- 前記ミラー(14;214;314;414;514;614;714;814;914;1014)は、前記ミラーの反射面内、または少なくともほぼ反射面に位置するスイベル軸の周りを回転することができることを特徴とする、請求項1〜7の何れかに記載の投影露光装置。
- 前記ミラーの配列を決めるためのセンサー装置が前記制御装置に割り当てられることを特徴とする、請求項1〜8の何れかに記載の投影露光装置。
- 25nmよりも短い、具体的には約13.5nmの波長を持つ光を生成する放射光源を特徴とする、請求項1〜9の何れかに記載の投影露光装置。
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