JP2008141016A - シャッタ羽根装置、シャッタユニット、撮像装置、露光装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
シャッタ羽根装置、シャッタユニット、撮像装置、露光装置およびデバイス製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【課題】自重変形と回転動作中におけるシャッタ羽根の変形を極小に抑えるシャッタ羽根装置、これを用いるシャッタユニット、これを用いる撮像装置および露光装置、この露光装置を用いるデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】シャッタユニット、撮像装置、露光装置、デバイス製造方法に用いるシャッタ羽根装置は、各シャッタ羽根１１〜１３の第１の面を２ヶ所以上で押圧する第１の支持部（突起）１５ａ，１５ｂを有する第１の押圧部材（ボス）１５と、前記各シャッタ羽根の裏側の第２の面を１ヶ所以上で押圧する第２の支持部（突起）１６ａを有する第２の押圧部材（押さえ板）１６とを有する。該第２の支持部の１ヶ所は、該第１の支持部間に配置される。該第１、第２の支持部の該各シャッタ羽根への押圧力をボルト１０１で調整する。
【選択図】図１ａ−ｃ
【解決手段】シャッタユニット、撮像装置、露光装置、デバイス製造方法に用いるシャッタ羽根装置は、各シャッタ羽根１１〜１３の第１の面を２ヶ所以上で押圧する第１の支持部（突起）１５ａ，１５ｂを有する第１の押圧部材（ボス）１５と、前記各シャッタ羽根の裏側の第２の面を１ヶ所以上で押圧する第２の支持部（突起）１６ａを有する第２の押圧部材（押さえ板）１６とを有する。該第２の支持部の１ヶ所は、該第１の支持部間に配置される。該第１、第２の支持部の該各シャッタ羽根への押圧力をボルト１０１で調整する。
【選択図】図１ａ−ｃ
Description
本発明は、開口部の開閉を行うシャッタ羽根を備えたシャッタ羽根装置、シャッタユニット、撮像装置、および露光装置、ならびに該露光装置を用いたデバイス製造方法に関する。
半導体デバイス等の製造においては、一般的に、レチクル等原版のパターンを縮小投影レンズによって縮小してウェハ等基板に投影する縮小投影露光装置等が用いられる。
これは、ウェハを載せたＸＹステージをステップ移動させる工程と露光工程を交互に繰り返すことで、レチクル等の原版のパターン数十個分を一枚のウェハに転写、焼き付けするものである。
近年では、露光装置の生産性を向上させるために、露光光の光路に配設されるシャッタの開閉速度等を速くして、露光サイクルタイムを短縮する努力がなされている。
また、露光工程を高速化するために、ウェハ等に塗布するレジストの高感度化も急速に進められている。
これは、ウェハを載せたＸＹステージをステップ移動させる工程と露光工程を交互に繰り返すことで、レチクル等の原版のパターン数十個分を一枚のウェハに転写、焼き付けするものである。
近年では、露光装置の生産性を向上させるために、露光光の光路に配設されるシャッタの開閉速度等を速くして、露光サイクルタイムを短縮する努力がなされている。
また、露光工程を高速化するために、ウェハ等に塗布するレジストの高感度化も急速に進められている。
上記従来例によると、露光光を発生する光源光学系のシャッタに構成されるシャッタ羽根１枚を露光光の光路に挿入することで遮光するように構成するため、シャッタ羽根の寸法を露光光のビーム断面より大きくする必要がある。
また、シャッタを閉じたときにシャッタ羽根が露光光の熱を吸収すると、シャッタ羽根の変形や溶解を招くおそれがあるため、一般的に、シャッタ羽根の表面を鏡面加工して露光光を反射するように工夫されている。
また、シャッタ羽根によって反射された露光光が光源に向かって逆進すると、光源に熱変動を生じるため、シャッタ羽根の反射光が光源に逆進しないように、シャッタ羽根を露光光の光路に対して斜めに挿入するのが一般的である。
この配置のため、シャッタ羽根によって遮光する光束のビーム断面は楕円形となる。
また、シャッタを閉じたときにシャッタ羽根が露光光の熱を吸収すると、シャッタ羽根の変形や溶解を招くおそれがあるため、一般的に、シャッタ羽根の表面を鏡面加工して露光光を反射するように工夫されている。
また、シャッタ羽根によって反射された露光光が光源に向かって逆進すると、光源に熱変動を生じるため、シャッタ羽根の反射光が光源に逆進しないように、シャッタ羽根を露光光の光路に対して斜めに挿入するのが一般的である。
この配置のため、シャッタ羽根によって遮光する光束のビーム断面は楕円形となる。
したがって、シャッタ羽根１枚によって遮光するためには、光路に垂直なビーム断面よりシャッタ羽根の寸法は、より大きくなる。
また、一方で、露光装置のスループットを向上するためにはシャッタの開閉速度を速くする必要があるため、シャッタ羽根の必要な断面積を維持しながら、軽量化を図る必要がある。
その手段として、シャッタ羽根の薄型化を行い、シャッタ羽根の材質に軽量で耐熱性にすぐれた金属材料を選択することにより、シャッタ羽根を軽量化する方法等が採用されている。
露光光を遮蔽するために必要な断面積を維持しながら、シャッタ羽根の軽量化を図ることを目的とする先行技術がある。
例えば、特開平１１−２３３４２３号公報（特許文献１）により高速化を促進する露光用シャッタが公開されている。
また、一方で、露光装置のスループットを向上するためにはシャッタの開閉速度を速くする必要があるため、シャッタ羽根の必要な断面積を維持しながら、軽量化を図る必要がある。
その手段として、シャッタ羽根の薄型化を行い、シャッタ羽根の材質に軽量で耐熱性にすぐれた金属材料を選択することにより、シャッタ羽根を軽量化する方法等が採用されている。
露光光を遮蔽するために必要な断面積を維持しながら、シャッタ羽根の軽量化を図ることを目的とする先行技術がある。
例えば、特開平１１−２３３４２３号公報（特許文献１）により高速化を促進する露光用シャッタが公開されている。
この従来例について、図７（ａ），（ｂ）を用いて説明する。
ウェハ等を露光する露光光１００の光路には、一対の回転シャッタユニット４０ａ，４０ｂからなるシャッタ４０が配設されている。
各回転シャッタユニット４０ａ，４０ｂをモータ４５ａ，４５ｂによって同期的に回転させる。
露光光１００のビーム断面は、例えば、図７（ｂ）に示すように、回転シャッタユニット４０ａ，４０ｂのシャッタ羽根４１ａ〜４３ａ，４１ｂ〜４３ｂの回転によって遮光および非遮光が制御される。
即ち、一方の回転シャッタユニット４０ａは、露光光１００の光路に対して斜めに挿入される３枚のシャッタ羽根４１ａ〜４３ａによって、順次、露光光１００のビーム断面の上半分以上を局部的に遮光する。
同様に他方の回転シャッタユニット４０ｂも、露光光１００の光路に対して斜めに挿入される３枚のシャッタ羽根４１ｂ〜４３ｂによって、順次、露光光１００のビーム断面の下半分以上を局部的に遮光する。
ウェハ等を露光する露光光１００の光路には、一対の回転シャッタユニット４０ａ，４０ｂからなるシャッタ４０が配設されている。
各回転シャッタユニット４０ａ，４０ｂをモータ４５ａ，４５ｂによって同期的に回転させる。
露光光１００のビーム断面は、例えば、図７（ｂ）に示すように、回転シャッタユニット４０ａ，４０ｂのシャッタ羽根４１ａ〜４３ａ，４１ｂ〜４３ｂの回転によって遮光および非遮光が制御される。
即ち、一方の回転シャッタユニット４０ａは、露光光１００の光路に対して斜めに挿入される３枚のシャッタ羽根４１ａ〜４３ａによって、順次、露光光１００のビーム断面の上半分以上を局部的に遮光する。
同様に他方の回転シャッタユニット４０ｂも、露光光１００の光路に対して斜めに挿入される３枚のシャッタ羽根４１ｂ〜４３ｂによって、順次、露光光１００のビーム断面の下半分以上を局部的に遮光する。
各回転シャッタユニット４０ａ，４０ｂの３枚のシャッタ羽根４１ａ〜４３ａ，４１ｂ〜４３ｂは、回転軸４４ａ，４４ｂのまわりに周方向に６０°の間隔で中心角６０°の遮光部を形成する。
各回転シャッタユニット４０ａ，４０ｂの各シャッタ羽根４１ａ〜４３ａ，４１ｂ〜４３ｂは、モータ４５ａ，４５ｂによる回転軸４４ａ，４４ｂの回転と共に回転する。
このとき、ロータリーエンコーダ４６ａ，４６ｂによりその回転位置が検出される。
上記従来例は、１枚のシャッタ羽根によって露光光１００のビーム断面全体を遮光する場合に比べて、シャッタ羽根の小型化が可能となるため、各シャッタ羽根の慣性モーメントが小さく、シャッタの開閉動作の高速化を促進できる。
特開平１１−２３３４２３号公報
各回転シャッタユニット４０ａ，４０ｂの各シャッタ羽根４１ａ〜４３ａ，４１ｂ〜４３ｂは、モータ４５ａ，４５ｂによる回転軸４４ａ，４４ｂの回転と共に回転する。
このとき、ロータリーエンコーダ４６ａ，４６ｂによりその回転位置が検出される。
上記従来例は、１枚のシャッタ羽根によって露光光１００のビーム断面全体を遮光する場合に比べて、シャッタ羽根の小型化が可能となるため、各シャッタ羽根の慣性モーメントが小さく、シャッタの開閉動作の高速化を促進できる。
しかし、特開平１１−２３３４２３号公報の従来例では、回転シャッタユニット４０ａ，４０ｂを各モータ４５ａ，４５ｂによって同期的に回転する必要があるため、メカ構造要因等によって、サブミリ秒程度の速度差が発生する。
しかも、ウェハの露光領域の積算露光量を均一にするためには、図７（ｂ）における各シャッタ羽根４１ａ〜４３ａ、４１ｂ〜４３ｂの両エッジが露光光１００を横切る形状を同一形状にすることが必要である。
しかしながら、上記先行技術は、シャッタ羽根４１ａ〜４３ａ、４１ｂ〜４３ｂ間の速度差が、上記積算露光量精度へ多大な影響を及ぼし、露光性能へ悪影響を与えるといった欠点があった。
しかも、ウェハの露光領域の積算露光量を均一にするためには、図７（ｂ）における各シャッタ羽根４１ａ〜４３ａ、４１ｂ〜４３ｂの両エッジが露光光１００を横切る形状を同一形状にすることが必要である。
しかしながら、上記先行技術は、シャッタ羽根４１ａ〜４３ａ、４１ｂ〜４３ｂ間の速度差が、上記積算露光量精度へ多大な影響を及ぼし、露光性能へ悪影響を与えるといった欠点があった。
また、一方で、露光光のビーム断面をシャッタ羽根一枚で遮閉し、このシャッタ羽根を薄型化することにより軽量化を図る場合がある。
しかしながら、シャッタ羽根近傍の構造性能としてシャッタ羽根の遮閉能力が、完全解放時の約１００万分の１以下であることが要求される。
このため、遮閉能力を高めるべくシャッタ羽根に近接させて遮閉板を開口部周辺に配置する必要がある。
これを受けてシャッタ羽根の薄型化によりシャッタ羽根の剛性が低下し、自重や回転動作時の遠心力等によりシャッタ羽根の変形が発生した場合は、シャッタ羽根が遮閉板と干渉を起こし、正常動作を妨げるといった課題がある。
しかしながら、シャッタ羽根近傍の構造性能としてシャッタ羽根の遮閉能力が、完全解放時の約１００万分の１以下であることが要求される。
このため、遮閉能力を高めるべくシャッタ羽根に近接させて遮閉板を開口部周辺に配置する必要がある。
これを受けてシャッタ羽根の薄型化によりシャッタ羽根の剛性が低下し、自重や回転動作時の遠心力等によりシャッタ羽根の変形が発生した場合は、シャッタ羽根が遮閉板と干渉を起こし、正常動作を妨げるといった課題がある。
そこで、本発明は、シャッタ羽根の変形を低減させることを例示的目的とする。
上記目的を達成するための本発明のシャッタ羽根装置は、シャッタ羽根と、
前記シャッタ羽根の第１の面を押圧する２つの第１の押圧部を含む第１の押圧部材と、
前記シャッタ羽根の該第１の面とは反対側の第２の面を押圧する第２の押圧部を含む第２の押圧部材と、を有し、
該第２の押圧部は、該２つの第１の押圧部の間に配置されることを特徴とする。
前記シャッタ羽根の第１の面を押圧する２つの第１の押圧部を含む第１の押圧部材と、
前記シャッタ羽根の該第１の面とは反対側の第２の面を押圧する第２の押圧部を含む第２の押圧部材と、を有し、
該第２の押圧部は、該２つの第１の押圧部の間に配置されることを特徴とする。
本発明によれば、例えば、シャッタ羽根の変形を低減させることができる。。
以下、図面を参照して、本発明の実施例を説明する。
図１（ａ）は、本発明の実施例１に係るシャッタユニット１０に用いるシャッタ羽根装置の側面図であり、図１（ｂ）は光源側(Ｚ方向)から見たシャッタユニット１０に用いるシャッタ羽根装置の正面図である。
図１（ｃ）は、図１（ｂ）におけるＡ−Ａ断面の概略図であり、図１（ｄ）は、図１（ｂ）の点線部における背面図であり、図１（ｅ）は、図１（ｄ）におけるＢ−Ｂ断面の概略図である。
シャッタユニット１０は、図１（ａ）に示すように、本発明の実施例１に係るシャッタ羽根装置を有する。なお、図１（ａ）で−Ｚ方向は重力方向である。
実施例１のシャッタ羽根装置は、シャッタ羽根１１，１２，１３と、ロータリーエンコーダ１８を有するモータ１７と、モータ１７の回転軸１４に対しシャッタ羽根１１〜１３を装着するボス１５および押さえ板１６とを有する。
図１（ｃ）は、図１（ｂ）におけるＡ−Ａ断面の概略図であり、図１（ｄ）は、図１（ｂ）の点線部における背面図であり、図１（ｅ）は、図１（ｄ）におけるＢ−Ｂ断面の概略図である。
シャッタユニット１０は、図１（ａ）に示すように、本発明の実施例１に係るシャッタ羽根装置を有する。なお、図１（ａ）で−Ｚ方向は重力方向である。
実施例１のシャッタ羽根装置は、シャッタ羽根１１，１２，１３と、ロータリーエンコーダ１８を有するモータ１７と、モータ１７の回転軸１４に対しシャッタ羽根１１〜１３を装着するボス１５および押さえ板１６とを有する。
シャッタ羽根１１，１２，１３は、図１（ｂ）に示すように、等間隔の周囲３方の方向を向く３枚の扇状の羽根１１，１２，１３をある程度の領域を有する円板状の中央部分で一体にした構成である。
シャッタ羽根１１，１２，１３は、回転位置を検出するロータリーエンコーダ１８を有するモータ１７の回転軸１４に対し、ボス１５および押さえ板１６に挟持されて装着されている。
シャッタ羽根１１，１２，１３のモータ１７の回転軸１４に対する装着は、図１（ａ），（ｂ）に示すように、ボス１５および押さえ板１６で挟持した上で双方１５，１６に螺入するボルト１０１締めにより固定されている。
シャッタ羽根１１，１２，１３は、回転位置を検出するロータリーエンコーダ１８を有するモータ１７の回転軸１４に対し、ボス１５および押さえ板１６に挟持されて装着されている。
シャッタ羽根１１，１２，１３のモータ１７の回転軸１４に対する装着は、図１（ａ），（ｂ）に示すように、ボス１５および押さえ板１６で挟持した上で双方１５，１６に螺入するボルト１０１締めにより固定されている。
ボス１５は外周３方向に、シャッタ羽根１１〜１３の第１の面（即ちボス側の面）を少なくとも２ヶ所以上で押圧する第１の支持部としての突起１５ａ，１５ｂを有する第１の押圧部材を有する（図１（ｂ）参照）。
押さえ板１６は外周３方向に、シャッタ羽根１１〜１３の第２の面（第１の面の裏側：押さえ板側の面）を少なくとも１ヶ所以上で押圧する第２の支持部としての突起１６ａを有する第２の押圧部材を有する（図１（ｂ）参照）。
第２の支持部としての突起１６ａの少なくとも１ヶ所は、第１の支持部としての突起１５ａ，１５ｂ間に相当する位置にあり（図１（ｄ）参照）、各突起１５ａ，１５ｂ，１６ａで各シャッタ羽根１１〜１３を押圧挟持している。
なお、第１の押圧部材は概念上はボス１５を指し、第２の押圧部材は概念上は押さえ板１６を指す。
押さえ板１６は外周３方向に、シャッタ羽根１１〜１３の第２の面（第１の面の裏側：押さえ板側の面）を少なくとも１ヶ所以上で押圧する第２の支持部としての突起１６ａを有する第２の押圧部材を有する（図１（ｂ）参照）。
第２の支持部としての突起１６ａの少なくとも１ヶ所は、第１の支持部としての突起１５ａ，１５ｂ間に相当する位置にあり（図１（ｄ）参照）、各突起１５ａ，１５ｂ，１６ａで各シャッタ羽根１１〜１３を押圧挟持している。
なお、第１の押圧部材は概念上はボス１５を指し、第２の押圧部材は概念上は押さえ板１６を指す。
一方、３枚のシャッタ羽根１１〜１３は、図１（ａ）に示すように、露光光１００の光路２に対して挿入されるによって、順次、露光光１００のビーム断面を遮光するように構成されている。
即ち、シャッタユニット１０の３枚のシャッタ羽根１１、１２、１３は、回転軸１４に対して周方向に６０°の間隔で中心角６０°の露光光１００のビームの遮光部を形成する。
各シャッタ羽根１１〜１３の実体部分である遮光部以外の空間領域は、順次、露光光１００のビーム断面を遮光することはなく、露光光１００のビームを通過させる。
即ち、シャッタユニット１０の３枚のシャッタ羽根１１、１２、１３は、回転軸１４に対して周方向に６０°の間隔で中心角６０°の露光光１００のビームの遮光部を形成する。
各シャッタ羽根１１〜１３の実体部分である遮光部以外の空間領域は、順次、露光光１００のビーム断面を遮光することはなく、露光光１００のビームを通過させる。
一方、第２の押圧部材である押さえ板１６の第２の支持部としての各突起１６ａの先端側は、図１（ｃ）に示すように、シャッタ羽根１３への取り付け面（ボス１５）側に向けて予め屈曲されている。
第２の支持部としての各突起１６ａの先端側の屈曲された部分は、ボルト１０１締めが進む程、各シャッタ羽根１１、１２、１３を押圧する押力が増す。
第１の支持部としての各組の突起１５ａ，１５ｂは、その厚さ強度の反力で第２の支持部としての突起１６ａ先端の屈曲された部分からの押力を強く支えるため、双方の各突起１５ａ，１５ｂ，１６ａ間の挟持力を増加する。
なお、第１の支持部と前記第２の支持部の少なくとも一方として、例えば第２の支持部は、突起１６ａの代りに先端側が屈曲した板ばねを用いても良い。
第２の支持部としての各突起１６ａの先端側の屈曲された部分は、ボルト１０１締めが進む程、各シャッタ羽根１１、１２、１３を押圧する押力が増す。
第１の支持部としての各組の突起１５ａ，１５ｂは、その厚さ強度の反力で第２の支持部としての突起１６ａ先端の屈曲された部分からの押力を強く支えるため、双方の各突起１５ａ，１５ｂ，１６ａ間の挟持力を増加する。
なお、第１の支持部と前記第２の支持部の少なくとも一方として、例えば第２の支持部は、突起１６ａの代りに先端側が屈曲した板ばねを用いても良い。
次に、シャッタユニット１０に用いる本発明の実施例１のシャッタ羽根装置の作用を説明する。
第１の押圧部材であるボス１５および第２の押圧部材である押さえ板１６の間にシャッタ羽根１１、１２、１３を挟んだボルト１０１締めによりシャッタ羽根１１、１２、１３をモータ１７の回転軸１４に取り付ける。
なお、本例においては、第１の押圧部材であるボス１５の第１の支持部としての突起１５ａ、１５ｂと、第２の押圧部材である押さえ板１６の第２の支持部としての突起１６ａの配置は、図１（ｄ）に示すように配置されている。
押さえ板１６の第２の支持部としての各突起１６ａは、ボス１５の第１の支持部としての各突起１５ａ、１５ｂのほぼ中間位置にて、シャッタ羽根１１〜１３を支持する。
また、押さえ板１６の第２の支持部としての突起１６ａは、図１（ｃ）に示すように、予め設定した寸法となるよう曲げてあるため、シャッタ羽根１１〜１３を押圧し、シャッタ羽根１１〜１３は強制変形される。
第１の押圧部材であるボス１５および第２の押圧部材である押さえ板１６の間にシャッタ羽根１１、１２、１３を挟んだボルト１０１締めによりシャッタ羽根１１、１２、１３をモータ１７の回転軸１４に取り付ける。
なお、本例においては、第１の押圧部材であるボス１５の第１の支持部としての突起１５ａ、１５ｂと、第２の押圧部材である押さえ板１６の第２の支持部としての突起１６ａの配置は、図１（ｄ）に示すように配置されている。
押さえ板１６の第２の支持部としての各突起１６ａは、ボス１５の第１の支持部としての各突起１５ａ、１５ｂのほぼ中間位置にて、シャッタ羽根１１〜１３を支持する。
また、押さえ板１６の第２の支持部としての突起１６ａは、図１（ｃ）に示すように、予め設定した寸法となるよう曲げてあるため、シャッタ羽根１１〜１３を押圧し、シャッタ羽根１１〜１３は強制変形される。
図１（ｅ）は、シャッタ羽根１３が強制変形された状態を示した図（ｄ）のＢ−Ｂ線の断面図である。なお、ここでは、シャッタ羽１３を例に説明する。
シャッタ羽根１３は押さえ板１６の第２の支持部としての突起１６ａを支点としてボス１５の第１の支持部としての突起１５ａ、１５ｂと反対方向（Ｇ方向）へ向かって、反るように強制変形される。
その強制変形の様子の一例が図１（ｅ）に示すＥ部、Ｆ部であり、Ｅ部、Ｆ部により、シャッタ羽根１３の先端（外周端）にいく程、その先端が水平線から離れて突起１６ａの押力の反対方向へ反る強制変形である。
この強制変形により、シャッタ羽根１３の自重変形量をほぼ無くすことが可能となり、また、剛性が高くなる効果を得、回転動作中におけるシャッタ羽根１３の変形を極小に抑えることができる。
シャッタ羽根１３は押さえ板１６の第２の支持部としての突起１６ａを支点としてボス１５の第１の支持部としての突起１５ａ、１５ｂと反対方向（Ｇ方向）へ向かって、反るように強制変形される。
その強制変形の様子の一例が図１（ｅ）に示すＥ部、Ｆ部であり、Ｅ部、Ｆ部により、シャッタ羽根１３の先端（外周端）にいく程、その先端が水平線から離れて突起１６ａの押力の反対方向へ反る強制変形である。
この強制変形により、シャッタ羽根１３の自重変形量をほぼ無くすことが可能となり、また、剛性が高くなる効果を得、回転動作中におけるシャッタ羽根１３の変形を極小に抑えることができる。
実施例１の構成をシャッタ羽根１１、１２へも適用することによって、シャッタ羽根１１，１２、１３の剛性を高めることができ、シャッタ羽根１１，１２、１３の薄型化を図ることが可能となる。
実施例１においては、第２の押圧部材である押さえ板１６の第２の支持部としての突起１６ａのみ、設定した寸法となるよう、予め曲げてある場合を示した。
しかし、ボス１５の第１の支持部としての突起１５ａ、１５ｂにおいても、シャッタ羽根１３の取り付け面側へ各々、設定した寸法となるよう、曲げ加工を施しても良い。
なお、ボルト１０１は、第１、第２の押圧部材であるボス１５および押さえ板１６によるシャッタ羽根１１〜１３の第１の面および第２の面を押圧する力を調整する手段としての機能がある。
実施例１においては、第２の押圧部材である押さえ板１６の第２の支持部としての突起１６ａのみ、設定した寸法となるよう、予め曲げてある場合を示した。
しかし、ボス１５の第１の支持部としての突起１５ａ、１５ｂにおいても、シャッタ羽根１３の取り付け面側へ各々、設定した寸法となるよう、曲げ加工を施しても良い。
なお、ボルト１０１は、第１、第２の押圧部材であるボス１５および押さえ板１６によるシャッタ羽根１１〜１３の第１の面および第２の面を押圧する力を調整する手段としての機能がある。
即ち、以上本発明の実施例１では、ボルト１０１の締結力の調整によりシャッタ羽根１１〜１３のＥ部、Ｆ部付近（図１（ｅ）参照）の強制変形量を適宜調整して管理できる。
しかも、高速化を図るため薄く剛性が低いシャッタ羽根１１〜１３を用いた場合でも、シャッタ羽根１１〜１３の自重変形とシャッタユニット１０動作時に発生する遠心力等による変形を最小限（極小）に留められる。
この観点からシャッタ羽根１１〜１３のより薄型化およびより軽量化を促進することが可能であり、シャッタ羽根１１〜１３の慣性モーメントをより小さくでき、シャッタのより高速化およびより高機能化を実現できる。
一方、本発明の実施例１のシャッタユニット１０は、シャッタ羽根１１〜１３の薄型化（軽量化）を図り、シャッタ羽根１１等が変形し易くとも、ボルト１０１調整により所望の強制変形量、形状、および強度に管理できる。
このため、シャッタユニット１０のシャッタ羽根１１等は変形し難くなり、自重変形とシャッタユニット動作時に発生する遠心力等による変形を最小限に留め、露出開口部の開閉を高速に、かつ安定して行うことができる。
しかも、高速化を図るため薄く剛性が低いシャッタ羽根１１〜１３を用いた場合でも、シャッタ羽根１１〜１３の自重変形とシャッタユニット１０動作時に発生する遠心力等による変形を最小限（極小）に留められる。
この観点からシャッタ羽根１１〜１３のより薄型化およびより軽量化を促進することが可能であり、シャッタ羽根１１〜１３の慣性モーメントをより小さくでき、シャッタのより高速化およびより高機能化を実現できる。
一方、本発明の実施例１のシャッタユニット１０は、シャッタ羽根１１〜１３の薄型化（軽量化）を図り、シャッタ羽根１１等が変形し易くとも、ボルト１０１調整により所望の強制変形量、形状、および強度に管理できる。
このため、シャッタユニット１０のシャッタ羽根１１等は変形し難くなり、自重変形とシャッタユニット動作時に発生する遠心力等による変形を最小限に留め、露出開口部の開閉を高速に、かつ安定して行うことができる。
次に、本発明の実施例２を説明する。
図２（ａ）は、本発明の実施例２に係るシャッタユニットに用いるシャッタ羽根装置の要部を裏面から見た背面図であり、図２（ｂ）は、図２（ａ）におけるＣ−Ｃ断面の概略図である。
なお、図２（ａ），（ｂ）に示す部分で図１（ａ）〜（ｅ）に示す部分と同一部分には同一符号を付して説明を省略若しくは簡略化する。
ここでは、図２（ａ），（ｂ）を参照して、シャッタ羽根１１，１２、１３の各シャッタ羽根（遮光部）に対し、第１、第２の支持部としての後述する突起を各々計５箇所に構成した場合の一例を説明する。
ただし、シャッタ羽根１１，１２，１３に対する本例の構成は一様に同一であるため、本例ではシャッタ羽根１３に対する構成を代表例として説明する。
なお、実施例２では、第１の押圧部材は概念上はボス２１を指し、第２の押圧部材は概念上は押さえ板２２を指す。
図２（ａ）は、本発明の実施例２に係るシャッタユニットに用いるシャッタ羽根装置の要部を裏面から見た背面図であり、図２（ｂ）は、図２（ａ）におけるＣ−Ｃ断面の概略図である。
なお、図２（ａ），（ｂ）に示す部分で図１（ａ）〜（ｅ）に示す部分と同一部分には同一符号を付して説明を省略若しくは簡略化する。
ここでは、図２（ａ），（ｂ）を参照して、シャッタ羽根１１，１２、１３の各シャッタ羽根（遮光部）に対し、第１、第２の支持部としての後述する突起を各々計５箇所に構成した場合の一例を説明する。
ただし、シャッタ羽根１１，１２，１３に対する本例の構成は一様に同一であるため、本例ではシャッタ羽根１３に対する構成を代表例として説明する。
なお、実施例２では、第１の押圧部材は概念上はボス２１を指し、第２の押圧部材は概念上は押さえ板２２を指す。
シャッタ羽根１３は、一方では回転軸１４に取り付けられた第１の押圧部材であるボス２１の第１の支持部としての間隔をあけた２つの突起２１ａ、２１ｂによって支持されている。
また、シャッタ羽根１３は、もう一方では第２の押圧部材である押さえ板２２の第２の支持部としての等間隔をあけた３つの突起２２ａ、２２ｂ、２２ｃによって支持されている。
即ち、第１の支持部である突起２１ａは、第２の支持部である突起２２ａ、２２ｂ間の中間位置に当たる位置にあり（図２（ａ）参照）、１つには各突起２１ａ，２２ａ、２２ｂによりシャッタ羽根１３が押圧挟持されている。
また、第１の支持部である突起２１ｂは、第２の支持部である突起２２ｂ、２２ｃ間の中間位置に当たる位置にあり（図２（ａ）参照）、１つには各突起２１ｂ，２２ｂ、２２ｃによりシャッタ羽根１３が押圧挟持されている。
また、シャッタ羽根１３は、もう一方では第２の押圧部材である押さえ板２２の第２の支持部としての等間隔をあけた３つの突起２２ａ、２２ｂ、２２ｃによって支持されている。
即ち、第１の支持部である突起２１ａは、第２の支持部である突起２２ａ、２２ｂ間の中間位置に当たる位置にあり（図２（ａ）参照）、１つには各突起２１ａ，２２ａ、２２ｂによりシャッタ羽根１３が押圧挟持されている。
また、第１の支持部である突起２１ｂは、第２の支持部である突起２２ｂ、２２ｃ間の中間位置に当たる位置にあり（図２（ａ）参照）、１つには各突起２１ｂ，２２ｂ、２２ｃによりシャッタ羽根１３が押圧挟持されている。
このようにシャッタ羽根１３は、互いに等間隔の計５箇所の突起２１ａ、２１ｂ、２２ａ〜２２ｃにより、より安定した押力に伴いより安定した強制変形量を以って押圧挟持されている。
また、一方、押さえ板２２の第２の支持部である突起２２ｂは、突起２２ａ、２２ｃよりもシャッタ羽根１３の取り付け面側に向けて予め設定した寸法となるように曲げ加工されており、より押力を強く与えられる。
なお、第１、第２の支持部である５箇所の各突起２１ａ、２１ｂ、２２ａ〜２２ｃの全て、若しくは押さえ板２２の第２の支持部である曲げ加工された１つの突起２２ｂは、実施例１の場合と同様に板ばねで構成しても良い。
また、一方、押さえ板２２の第２の支持部である突起２２ｂは、突起２２ａ、２２ｃよりもシャッタ羽根１３の取り付け面側に向けて予め設定した寸法となるように曲げ加工されており、より押力を強く与えられる。
なお、第１、第２の支持部である５箇所の各突起２１ａ、２１ｂ、２２ａ〜２２ｃの全て、若しくは押さえ板２２の第２の支持部である曲げ加工された１つの突起２２ｂは、実施例１の場合と同様に板ばねで構成しても良い。
次に、シャッタユニットに用いる本発明の実施例２のシャッタ羽根装置の作用を説明する。
まず、第１の押圧部材であるボス２１に、シャッタ羽根１１、１２、１３を挟んで押さえ板２２をボルト１０１により締付けて固定する。
第２の押圧部材である押さえ板２２の第２の支持部２２ｂは、設定した寸法となるよう、予め曲げてあるため、シャッタ羽根１３を押圧し、図２（ｂ）に示すようにシャッタ羽根１３を強制変形させる。
ただし、押さえ板２２の第２の支持部である突起２２ｂ、２２ｃによりシャッタ羽根１１、１２、１３の外周側の端部の強制変形量を小さく抑える構成となっている（図２（ｂ）参照）。
実施例１の場合、シャッタ羽根１１、１２、１３をより薄くした場合、図１（ｅ）に示すＥ部、Ｆ部の箇所の変形量が大きくなる構成であった。
しかし、シャッタ羽根１１、１２、１３は、その変形によって回転時に空気抵抗が生じると、シャッタユニットの高速化を妨げる原因ともなり得る。
まず、第１の押圧部材であるボス２１に、シャッタ羽根１１、１２、１３を挟んで押さえ板２２をボルト１０１により締付けて固定する。
第２の押圧部材である押さえ板２２の第２の支持部２２ｂは、設定した寸法となるよう、予め曲げてあるため、シャッタ羽根１３を押圧し、図２（ｂ）に示すようにシャッタ羽根１３を強制変形させる。
ただし、押さえ板２２の第２の支持部である突起２２ｂ、２２ｃによりシャッタ羽根１１、１２、１３の外周側の端部の強制変形量を小さく抑える構成となっている（図２（ｂ）参照）。
実施例１の場合、シャッタ羽根１１、１２、１３をより薄くした場合、図１（ｅ）に示すＥ部、Ｆ部の箇所の変形量が大きくなる構成であった。
しかし、シャッタ羽根１１、１２、１３は、その変形によって回転時に空気抵抗が生じると、シャッタユニットの高速化を妨げる原因ともなり得る。
このため、実施例２では、図１（ｅ）に示すＥ部、Ｆ部の箇所付近に、押さえ板２２の第２の支持部である突起２２ａ、２２ｃを配置し、Ｅ部、Ｆ部の箇所においてシャッタ羽根１１、１２、１３の変形量を抑える構成としている。
実施例２においては、押さえ板２２の第２の支持部である突起２２ｂのみ、設定した寸法となるよう、予め曲げてある場合を示した。
しかし、ボス２１の第１の支持部である突起２１ａ、２１ｂ、押さえ板２２の第２の支持部である突起２２ａ、２２ｃにおいても、シャッタ羽根１３の取り付け面側へ各々、設定した寸法となるよう、曲げ加工を施しても良い。
なお、ボルト１０１は、第１、第２の押圧部材であるボス１５および押さえ板１６によるシャッタ羽根１１〜１３の第１の面および第２の面を押圧する力を調整する手段として使用する。
実施例２においては、押さえ板２２の第２の支持部である突起２２ｂのみ、設定した寸法となるよう、予め曲げてある場合を示した。
しかし、ボス２１の第１の支持部である突起２１ａ、２１ｂ、押さえ板２２の第２の支持部である突起２２ａ、２２ｃにおいても、シャッタ羽根１３の取り付け面側へ各々、設定した寸法となるよう、曲げ加工を施しても良い。
なお、ボルト１０１は、第１、第２の押圧部材であるボス１５および押さえ板１６によるシャッタ羽根１１〜１３の第１の面および第２の面を押圧する力を調整する手段として使用する。
即ち、以上本発明の実施例２においても、ボルト１０１の締結力の調整によりシャッタ羽根１１〜１３のＥ部、Ｆ部付近（図１（ｅ）参照）の強制変形量を適宜調整して管理できる。
しかも、高速化を図るため薄く剛性が低いシャッタ羽根１１〜１３を用いた場合でも、シャッタ羽根１１〜１３の自重変形とシャッタユニット１０動作時に発生する遠心力等による変形を最小限（極小）に留められる。
この観点からシャッタ羽根１１〜１３のより薄型化およびより軽量化を促進することが可能となり、シャッタ羽根１１〜１３の慣性モーメントをより小さくでき、シャッタのより高速化およびより高機能化を実現できる。
特に実施例２では、シャッタ羽根１３は、互いに等間隔の計５箇所の突起２１ａ、２１ｂ、２２ａ〜２２ｃにより、より安定した押力でより安定した強制変形量、形状、形状強度を以って押圧挟持されており、より信頼性が高い。
しかも、高速化を図るため薄く剛性が低いシャッタ羽根１１〜１３を用いた場合でも、シャッタ羽根１１〜１３の自重変形とシャッタユニット１０動作時に発生する遠心力等による変形を最小限（極小）に留められる。
この観点からシャッタ羽根１１〜１３のより薄型化およびより軽量化を促進することが可能となり、シャッタ羽根１１〜１３の慣性モーメントをより小さくでき、シャッタのより高速化およびより高機能化を実現できる。
特に実施例２では、シャッタ羽根１３は、互いに等間隔の計５箇所の突起２１ａ、２１ｂ、２２ａ〜２２ｃにより、より安定した押力でより安定した強制変形量、形状、形状強度を以って押圧挟持されており、より信頼性が高い。
（撮像装置の実施例）
次に、本発明の実施例３を説明する。
図３（ａ）は、撮像光学系を備えたテレビカメラ等の撮像装置の実施例において、本発明の実施例３のシャッタユニット（シャッタ羽根装置）を適用した場合の構成を示す側面図である。
図３（ｂ）は、図３（ａ）のＸ視方向から見たシャッタユニットの構成を示す概略構成図である。図３（ｃ）は、図３（ａ）のＹ視方向から見たシャッタユニットの構成を示す概略構成図である。
次に、本発明の実施例３を説明する。
図３（ａ）は、撮像光学系を備えたテレビカメラ等の撮像装置の実施例において、本発明の実施例３のシャッタユニット（シャッタ羽根装置）を適用した場合の構成を示す側面図である。
図３（ｂ）は、図３（ａ）のＸ視方向から見たシャッタユニットの構成を示す概略構成図である。図３（ｃ）は、図３（ａ）のＹ視方向から見たシャッタユニットの構成を示す概略構成図である。
（実施例における撮像装置の構成）
実施例の撮像装置は、図３（ａ）に示すように、光軸１１０に沿って撮影レンズ５１、ロータリーシャッタ内蔵のテレビカメラ５２、バヨネットマウント５３、ローパスフィルター、近赤外カット等のフィルター５４とを備える。
さらに、撮像装置は、ロータリーシャッタの回転体を構成するロータリーシャッタ開口板５５と、ロータリーシャッタ開口板５５を押える押え板５６と、ロータリーシャッタ開口板５５を支持する支持部材５７とを備える。
さらに、撮像装置は、透過型フォトセンサー５８と、ロータリーシャッタユニット５９とを備える。
さらに、撮像装置は、３ＣＣＤ方式等に対応する色分解プリズム６０と、撮像素子６１ａ，６１ｂ，６１ｃとを備える。
実施例の撮像装置は、図３（ａ）に示すように、光軸１１０に沿って撮影レンズ５１、ロータリーシャッタ内蔵のテレビカメラ５２、バヨネットマウント５３、ローパスフィルター、近赤外カット等のフィルター５４とを備える。
さらに、撮像装置は、ロータリーシャッタの回転体を構成するロータリーシャッタ開口板５５と、ロータリーシャッタ開口板５５を押える押え板５６と、ロータリーシャッタ開口板５５を支持する支持部材５７とを備える。
さらに、撮像装置は、透過型フォトセンサー５８と、ロータリーシャッタユニット５９とを備える。
さらに、撮像装置は、３ＣＣＤ方式等に対応する色分解プリズム６０と、撮像素子６１ａ，６１ｂ，６１ｃとを備える。
一方、ロータリーシャッタユニット５９は、ロータリーシャッタ開口板５５、押え板５６、支持部材５７、および、透過型フォトセンサー５８により構成されている。
ロータリーシャッタユニット５９は、所定の回転時のロータリーシャッタ開口板５５が、撮影レンズ５１と色分解プリズム６０等との間に位置し得る位置に配設されている。
撮影レンズ５１からの入射光は、ロータリーシャッタ開口板５５の開口部５５ａを通して色分解プリズム６０等を介して撮像素子６１ａ，６１ｂ，６１ｃの少なくともいずれかに受光される。
テレビカメラ５２の撮像系で動きの早い対象物を撮影する際、ロータリーシャッタユニット５９等を用いることで撮像素子６１ｂ等に瞬間的な露光を断続的に与え、動きぼけおよび歪みの少ない良好な映像が得られる。
ロータリーシャッタユニット５９は、所定の回転時のロータリーシャッタ開口板５５が、撮影レンズ５１と色分解プリズム６０等との間に位置し得る位置に配設されている。
撮影レンズ５１からの入射光は、ロータリーシャッタ開口板５５の開口部５５ａを通して色分解プリズム６０等を介して撮像素子６１ａ，６１ｂ，６１ｃの少なくともいずれかに受光される。
テレビカメラ５２の撮像系で動きの早い対象物を撮影する際、ロータリーシャッタユニット５９等を用いることで撮像素子６１ｂ等に瞬間的な露光を断続的に与え、動きぼけおよび歪みの少ない良好な映像が得られる。
しかし、ロータリーシャッタ開口板５５は、開口部５５ａによって質量分布が不均一となり、特に高速回転時の遠心力によって回転ブレが発生し、撮像性能へ悪影響を与えるといった懸念は不要である。
この懸念点を解決すべく実施例２では、図３（ｂ）、（ｃ）に示すように、ロータリーシャッタ開口板５５の第１の面に対し、第１の押圧部材である支持部材５７の第１の支持部としての突起５７ａ〜５７ｅを押圧させて用いる。
また、ロータリーシャッタ開口板５５の第２の面に対し、第２の押圧部材である押さえ板５６の第２の支持部としての突起５６ａ〜５６ｆを押圧させて用いる。
第１の押圧部材である支持部材５７、および第２の押圧部材である押さえ板５６は、ロータリーシャッタ開口板５５を挟んでボルト１０１により締結されることによりロータリーシャッタ開口板５５を保持する。
この懸念点を解決すべく実施例２では、図３（ｂ）、（ｃ）に示すように、ロータリーシャッタ開口板５５の第１の面に対し、第１の押圧部材である支持部材５７の第１の支持部としての突起５７ａ〜５７ｅを押圧させて用いる。
また、ロータリーシャッタ開口板５５の第２の面に対し、第２の押圧部材である押さえ板５６の第２の支持部としての突起５６ａ〜５６ｆを押圧させて用いる。
第１の押圧部材である支持部材５７、および第２の押圧部材である押さえ板５６は、ロータリーシャッタ開口板５５を挟んでボルト１０１により締結されることによりロータリーシャッタ開口板５５を保持する。
即ち、第１の支持部としての突起５７ａ〜５７ｅおよび第２の支持部としての突起５６ａ〜５６ｆをロータリーシャッタ開口板５５の表裏面に対して交互の位置に配設し、ボルト１０１締めによりその開口板５５を保持する。
支持部材５７の第１の支持部としての突起５７ａ〜５７ｅの少なくとも先端側は、ロータリーシャッタ開口板５５の取付け面側へ向けて予め曲げ加工を施してあるため、ロータリーシャッタ開口板５５を強制変形させる。
この変形によって、ロータリーシャッタ開口板５５は剛性が高くなり、ロータリーシャッタ開口板５５の回転時の遠心力等による変形を極小に抑え、回転ブレを低減することが可能となる。
なお、第１の押圧部材である支持部材５７、および第２の押圧部材である押さえ板５６は、例えば円板状の部材であり、その各々の周囲に上記の第１の支持部（突起）、上記の第２の支持部（突起）が構成されている。
一方、第１の支持部としての突起５７ａ〜５７ｅおよび第２の支持部としての突起５６ａ〜５６ｆは、各々適宜板ばねで構成しても良い。
支持部材５７の第１の支持部としての突起５７ａ〜５７ｅの少なくとも先端側は、ロータリーシャッタ開口板５５の取付け面側へ向けて予め曲げ加工を施してあるため、ロータリーシャッタ開口板５５を強制変形させる。
この変形によって、ロータリーシャッタ開口板５５は剛性が高くなり、ロータリーシャッタ開口板５５の回転時の遠心力等による変形を極小に抑え、回転ブレを低減することが可能となる。
なお、第１の押圧部材である支持部材５７、および第２の押圧部材である押さえ板５６は、例えば円板状の部材であり、その各々の周囲に上記の第１の支持部（突起）、上記の第２の支持部（突起）が構成されている。
一方、第１の支持部としての突起５７ａ〜５７ｅおよび第２の支持部としての突起５６ａ〜５６ｆは、各々適宜板ばねで構成しても良い。
ロータリーシャッタユニット５９では、ロータリーシャッタ開口板５５と合体した回転体にベルト６３を掛けてモータ６２と連結し、通電することによりロータリーシャッタ開口板５５が回転する。
ロータリーシャッタ開口板５５の回転は、撮像素子６１ａ等の読取信号と同期転させる必要があるため、透過型フォトセンサー５８によりロータリーシャッタ開口板５５の回転数を検知し撮像素子６１ａ等の読取信号と同期させる。
透過型フォトセンサー５８は、ロータリーシャッタ開口板５５の例えば不図示のスリットの透過光を読み取るエンコーダ型等のフォトセンサーである。
なお、ボルト１０１は、第１、第２の押圧部材である支持部材５７および押さえ板５６によるロータリーシャッタ開口板５５の第１の面および第２の面を押圧する力を調整する手段としての機能がある。
ロータリーシャッタ開口板５５の回転は、撮像素子６１ａ等の読取信号と同期転させる必要があるため、透過型フォトセンサー５８によりロータリーシャッタ開口板５５の回転数を検知し撮像素子６１ａ等の読取信号と同期させる。
透過型フォトセンサー５８は、ロータリーシャッタ開口板５５の例えば不図示のスリットの透過光を読み取るエンコーダ型等のフォトセンサーである。
なお、ボルト１０１は、第１、第２の押圧部材である支持部材５７および押さえ板５６によるロータリーシャッタ開口板５５の第１の面および第２の面を押圧する力を調整する手段としての機能がある。
本発明の実施例３に係る撮像装置は、ロータリーシャッタ開口板５５に対し第１の支持部（突起５７ａ〜５７ｅ）および第２の支持部（突起５６ａ〜５６ｆ）を押圧させて用いるため、実施例１と同様の効果を得ることができる。
即ち、実施例３に係る撮像装置は、ロータリーシャッタ開口板５５の薄型化（軽量化）を図り仮に変形し易いとしても所望の強制変形量および形状を与えて変形し難くでき、自重変形と遠心力等による変形を最小限に留める。
このため、ロータリーシャッタ開口板５５の露出開口部（開口部５５ａ）の開閉については安定した高速化が実現される。
したがって、実施例３に係る撮像装置は、ロータリーシャッタ開口板５５の高速回転時の回転ブレを解消した回転バランスの向上により、動きぼけや歪みのより少ないより良好な映像を得ることができる。
即ち、実施例３に係る撮像装置は、ロータリーシャッタ開口板５５の薄型化（軽量化）を図り仮に変形し易いとしても所望の強制変形量および形状を与えて変形し難くでき、自重変形と遠心力等による変形を最小限に留める。
このため、ロータリーシャッタ開口板５５の露出開口部（開口部５５ａ）の開閉については安定した高速化が実現される。
したがって、実施例３に係る撮像装置は、ロータリーシャッタ開口板５５の高速回転時の回転ブレを解消した回転バランスの向上により、動きぼけや歪みのより少ないより良好な映像を得ることができる。
（露光装置の実施例）
次に、本発明の実施例４を説明する。
図４は、本発明の実施例４において、露光装置の実施例に対しシャッタユニット（シャッタ羽根装置）を適用した場合の構成を示す概略構成図である。
なお、図４に示す部分で図１（ａ）〜（ｅ）に示す部分と同一部分には同一符号を付して説明を省略若しくは簡略化する。
実施例における露光装置は、図４に示すように、まず、光源である水銀ランプ７１と、水銀ランプ７１から発生された露光光１００を集光する楕円鏡７２と、露光光１００の光束を絞る第１のレンズ７３とを有する。
さらに、露光装置は、露光用シャッタであるシャッタユニット１０と、第１のレンズ７３で絞った光束を平行光に戻す第２のレンズ７４と、露光光１００の一部を取り出すハーフミラー７５等を含む光源光学系７６とを有する。
さらに、露光装置は、被露光体（基板）であるウェハＷの各ショットに転写するパターンを有する原版であるレチクルＲを載せるレチクルステージ７７を有する。
次に、本発明の実施例４を説明する。
図４は、本発明の実施例４において、露光装置の実施例に対しシャッタユニット（シャッタ羽根装置）を適用した場合の構成を示す概略構成図である。
なお、図４に示す部分で図１（ａ）〜（ｅ）に示す部分と同一部分には同一符号を付して説明を省略若しくは簡略化する。
実施例における露光装置は、図４に示すように、まず、光源である水銀ランプ７１と、水銀ランプ７１から発生された露光光１００を集光する楕円鏡７２と、露光光１００の光束を絞る第１のレンズ７３とを有する。
さらに、露光装置は、露光用シャッタであるシャッタユニット１０と、第１のレンズ７３で絞った光束を平行光に戻す第２のレンズ７４と、露光光１００の一部を取り出すハーフミラー７５等を含む光源光学系７６とを有する。
さらに、露光装置は、被露光体（基板）であるウェハＷの各ショットに転写するパターンを有する原版であるレチクルＲを載せるレチクルステージ７７を有する。
また、実施例における露光装置は、図４に示すように、レチクルＲ上のパターンをウェハＷに縮小投影する縮小投影レンズ７８等を有する投影光学系７９を有する。
さらに、露光装置は、ウェハＷを搭載し、光軸方向の移動を行うθＺチルトステージ８０と、ウェハＷをＸＹ方向に移動させるＸＹステージ８１等からなる保持手段であるウェハステージ８２とを有する。
ＸＹステージ８１の位置は、レーザ干渉計８３によって計測される。一方、シャッタユニット１０のモータ１７は、モータドライバ８４を介する制御手段としてのコントローラ８５によりその回転が制御される。
コントローラ８５は、ハーフミラー７５によって取り出された露光光１００の一部を検知するフォトディテクタ８６の出力に基づいて、ウェハＷの積算露光量が所定の値になるようにシャッタユニット１０の開口時間を制御する。
さらに、露光装置は、ウェハＷを搭載し、光軸方向の移動を行うθＺチルトステージ８０と、ウェハＷをＸＹ方向に移動させるＸＹステージ８１等からなる保持手段であるウェハステージ８２とを有する。
ＸＹステージ８１の位置は、レーザ干渉計８３によって計測される。一方、シャッタユニット１０のモータ１７は、モータドライバ８４を介する制御手段としてのコントローラ８５によりその回転が制御される。
コントローラ８５は、ハーフミラー７５によって取り出された露光光１００の一部を検知するフォトディテクタ８６の出力に基づいて、ウェハＷの積算露光量が所定の値になるようにシャッタユニット１０の開口時間を制御する。
一方、レチクルＲに描かれたパターン領域は、所定の露光量で露光され、投影光学系７９により所定の倍率（例えば１／４、または１／５）でパターンが縮小し、ウェハステージ８２に保持されたウェハＷに転写される。
また、投影光学系７９に対して、レチクルＲとウェハＷを走査することにより、レチクルＲのバターン領域をウェハＷの感光材に転写し、この走査露光がウェハＷ上の複数の転写領域に対して繰り返し行われる。
複数の転写領域に対して、繰り返し、操作露光が行われるため、シャッタ羽根１１〜１３の保持構造として、実施例１〜３に示した構造を少なくとも１つは適用することによりシャッタユニット１０の開閉速度を高速化できる。
この実施例１〜３のいずれかのシャッタユニット１０を含む構成により、露光装置は、露光精度の安定化を保ち、かつ露光サイクルタイムの短縮化を図り、露光装置のスループットを向上させることが可能となる。
また、投影光学系７９に対して、レチクルＲとウェハＷを走査することにより、レチクルＲのバターン領域をウェハＷの感光材に転写し、この走査露光がウェハＷ上の複数の転写領域に対して繰り返し行われる。
複数の転写領域に対して、繰り返し、操作露光が行われるため、シャッタ羽根１１〜１３の保持構造として、実施例１〜３に示した構造を少なくとも１つは適用することによりシャッタユニット１０の開閉速度を高速化できる。
この実施例１〜３のいずれかのシャッタユニット１０を含む構成により、露光装置は、露光精度の安定化を保ち、かつ露光サイクルタイムの短縮化を図り、露光装置のスループットを向上させることが可能となる。
ところで、実施例の露光装置は、例えば、ステップアンドスキャン方式若しくはステッパ方式の露光装置に適用することが可能である。
なお、ステッパ方式の露光装置は、ウェハＷのショットの一括露光ごとにウェハＷをウェハステージ８２によってステップ移動し、次のショットを露光領域に移動する露光方法である。
実施例の露光装置では、光源に、波長４３６[ｎｍ]のｇ線、波長３６５[ｎｍ]のｉ線等を用いるが、これに限らず、ＫｒＦエキシマレーザ、ＡｒＦエキシマレーザ、Ｆ２エキシマレーザ等を適用しても良い。
また、投影光学系７９は、屈折型光学系に限らず、一部に反射素子を用いた反射屈折型光学系を適用しても良い。
なお、ステッパ方式の露光装置は、ウェハＷのショットの一括露光ごとにウェハＷをウェハステージ８２によってステップ移動し、次のショットを露光領域に移動する露光方法である。
実施例の露光装置では、光源に、波長４３６[ｎｍ]のｇ線、波長３６５[ｎｍ]のｉ線等を用いるが、これに限らず、ＫｒＦエキシマレーザ、ＡｒＦエキシマレーザ、Ｆ２エキシマレーザ等を適用しても良い。
また、投影光学系７９は、屈折型光学系に限らず、一部に反射素子を用いた反射屈折型光学系を適用しても良い。
（デバイス製造方法の実施例）
次に、図５および図６を参照して、上述の露光装置を利用したデバイス製造方法の実施例を説明する。
図５は、デバイス（ＩＣやＬＳＩなどの半導体チップ、ＬＣＤ、ＣＣＤ等）の製造を説明するためのフローチャートである。ここでは、半導体チップの製造方法を例に説明する。
ステップＳ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行う。
ステップＳ２（マスク製作）では設計した回路パターンに基づいてマスクを製作する。ただしステップＳ２ではレクチルを製作しても良い。
ステップＳ３（ウェハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウェハを製造する。
次に、図５および図６を参照して、上述の露光装置を利用したデバイス製造方法の実施例を説明する。
図５は、デバイス（ＩＣやＬＳＩなどの半導体チップ、ＬＣＤ、ＣＣＤ等）の製造を説明するためのフローチャートである。ここでは、半導体チップの製造方法を例に説明する。
ステップＳ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行う。
ステップＳ２（マスク製作）では設計した回路パターンに基づいてマスクを製作する。ただしステップＳ２ではレクチルを製作しても良い。
ステップＳ３（ウェハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウェハを製造する。
ステップＳ４（ウェハプロセス）は前工程と呼ばれ、マスク又はレクチルとウェハを用いて、上記の露光装置によりリソグラフィ技術を利用してウェハ上に実際の回路を形成する。
ステップＳ５（組み立て）は、後工程と呼ばれ、ステップＳ４によって作製されたウェハを用いて半導体チップ化する工程である。
ステップＳ５のウェハを用いて半導体チップ化する工程では、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組み立て工程を含む。
ステップＳ６（検査）では、ステップＳ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。
こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、それが出荷（ステップＳ７）される。
ステップＳ５（組み立て）は、後工程と呼ばれ、ステップＳ４によって作製されたウェハを用いて半導体チップ化する工程である。
ステップＳ５のウェハを用いて半導体チップ化する工程では、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組み立て工程を含む。
ステップＳ６（検査）では、ステップＳ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。
こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、それが出荷（ステップＳ７）される。
図６は、ステップ４のウェハプロセスの詳細なフローチャートである。
ステップＳ１１（酸化）ではウェハの表面を酸化させる。
ステップＳ１２（ＣＶＤ）ではウェハの表面に絶縁膜を形成する。
ステップＳ１３（電極形成）では、ウェハに電極を形成する。
ステップＳ１４（イオン打ち込み）ではウェハにイオンを打ち込む。
ステップＳ１５（レジスト処理）ではウェハに感光剤を塗布する。
ステップＳ１６（露光）では上記の露光装置によってマスク又はレクチルの回路パターンをウェハに露光する。
ステップＳ１７（現像）では露光したウェハを現像する。
ステップＳ１１（酸化）ではウェハの表面を酸化させる。
ステップＳ１２（ＣＶＤ）ではウェハの表面に絶縁膜を形成する。
ステップＳ１３（電極形成）では、ウェハに電極を形成する。
ステップＳ１４（イオン打ち込み）ではウェハにイオンを打ち込む。
ステップＳ１５（レジスト処理）ではウェハに感光剤を塗布する。
ステップＳ１６（露光）では上記の露光装置によってマスク又はレクチルの回路パターンをウェハに露光する。
ステップＳ１７（現像）では露光したウェハを現像する。
ステップＳ１８（エッチング）では現像したレジスト像以外の部分を削り取る。
ステップＳ１９（レジスト剥離）ではエッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。
これらのステップを繰り返し行うことによってウェハ上に多重に回路パターンが形成される。
実施例におけるデバイス製造方法では、上記露光装置を用いるため、露光処理の安定した高速化を利用でき、デバイスをより安定してより高速に、かつより信頼性を高めて製造することができる。
ステップＳ１９（レジスト剥離）ではエッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。
これらのステップを繰り返し行うことによってウェハ上に多重に回路パターンが形成される。
実施例におけるデバイス製造方法では、上記露光装置を用いるため、露光処理の安定した高速化を利用でき、デバイスをより安定してより高速に、かつより信頼性を高めて製造することができる。
２ 光路
１０ シャッタユニット
１１、１２、１３ シャッタ羽根
１４ 回転軸
１５，２１ ボス（第１の押圧部材）
１５ａ、１５ｂ、２１ａ、２１ｂ 突起（第１の支持部）
１６，２２ 押さえ板（第２の押圧部材）
１６ａ、２２ａ、２２ｂ、２２ｃ 突起（第２の支持部）
１７ モ−タ
１８ ロータリーエンコ−ダ
４０ シャッタ
４０ａ、４０ｂ 回転シャッタユニット
４１ａ、４２ａ、４３ａ、４１ｂ、４２ｂ、４３ｂ シャッタ羽根
４４ａ、４４ｂ 回転軸
４５ａ、４５ｂ モ−タ
４６ａ、４６ｂ ロータリーエンコ−ダ
５１ 投影レンズ
５２ テレビカメラ
５３ バヨネットマウント
５４ フィルター
５５ ロータリーシャッタ開口板
５５ａ 開口部
５６ 押え板
５６ａ、５６ｂ、５６ｃ、５６ｄ、５６ｅ、５６ｆ 突起
５７ 支持部材
５７ａ、５７ｂ、５７ｃ、５７ｄ、５７ｅ 突起
５８ 透過型フォトスセンサ
５９ ロータリーシャッタユニット
６０ 色分解プリズム
６１ａ、６１ｂ、６１ｃ 撮像素子
６２ モ−タ
６３ ベルト
７１ 水銀ランプ
７２ 楕円鏡
７３ 第１のレンズ
７４ 第２のレンズ
７５ ハ−フミラ−
７６ 光源光学系
７７ レチクルステ−ジ
７８ 縮小投影レンズ
７９ 投影光学系
８０ θＺチルトステ−ジ
８１ ＸＹステ−ジ
８２ ウェハステ−ジ
８３ レ−ザ干渉計
８４ モ−タドライバ
８５ コントロ−ラ
８６ フォトディテクタ
１０１ ボルト
Ｗ ウェハ
Ｒ レクチル
１０ シャッタユニット
１１、１２、１３ シャッタ羽根
１４ 回転軸
１５，２１ ボス（第１の押圧部材）
１５ａ、１５ｂ、２１ａ、２１ｂ 突起（第１の支持部）
１６，２２ 押さえ板（第２の押圧部材）
１６ａ、２２ａ、２２ｂ、２２ｃ 突起（第２の支持部）
１７ モ−タ
１８ ロータリーエンコ−ダ
４０ シャッタ
４０ａ、４０ｂ 回転シャッタユニット
４１ａ、４２ａ、４３ａ、４１ｂ、４２ｂ、４３ｂ シャッタ羽根
４４ａ、４４ｂ 回転軸
４５ａ、４５ｂ モ−タ
４６ａ、４６ｂ ロータリーエンコ−ダ
５１ 投影レンズ
５２ テレビカメラ
５３ バヨネットマウント
５４ フィルター
５５ ロータリーシャッタ開口板
５５ａ 開口部
５６ 押え板
５６ａ、５６ｂ、５６ｃ、５６ｄ、５６ｅ、５６ｆ 突起
５７ 支持部材
５７ａ、５７ｂ、５７ｃ、５７ｄ、５７ｅ 突起
５８ 透過型フォトスセンサ
５９ ロータリーシャッタユニット
６０ 色分解プリズム
６１ａ、６１ｂ、６１ｃ 撮像素子
６２ モ−タ
６３ ベルト
７１ 水銀ランプ
７２ 楕円鏡
７３ 第１のレンズ
７４ 第２のレンズ
７５ ハ−フミラ−
７６ 光源光学系
７７ レチクルステ−ジ
７８ 縮小投影レンズ
７９ 投影光学系
８０ θＺチルトステ−ジ
８１ ＸＹステ−ジ
８２ ウェハステ−ジ
８３ レ−ザ干渉計
８４ モ−タドライバ
８５ コントロ−ラ
８６ フォトディテクタ
１０１ ボルト
Ｗ ウェハ
Ｒ レクチル
Claims (7)
- シャッタ羽根と、
前記シャッタ羽根の第１の面を押圧する２つの第１の押圧部を含む第１の押圧部材と、
前記シャッタ羽根の該第１の面とは反対側の第２の面を押圧する第２の押圧部を含む第２の押圧部材と、を有し、
該第２の押圧部は、該２つの第１の押圧部の間に配置されることを特徴とするシャッタ羽根装置。 - 前記第１の押圧部材による該第１の面を押圧する力および前記第２の押圧部材による該第２の面を押圧する力を調整する手段を有することを特徴とする請求項１に記載のシャッタ羽根装置。
- 該第1の押圧部と該第２の押圧部の少なくとも一方は、板ばねを含むことを特徴とする請求項１または２に記載のシャッタ羽根装置。
- 請求項１乃至３のいずれかに記載のシャッタ羽根装置を有することを特徴とするシャッタユニット。
- 請求項１乃至３のいずれかに記載のシャッタ羽根装置を有することを特徴とする撮像装置。
- 原版のパターンを介して基板を露光する露光装置において、
請求項１乃至３のいずれかに記載のシャッタ羽根装置を有することを特徴とする露光装置。 - 請求項６記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
該露光された基板を現像する工程とを備えることを特徴とするデバイス製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006326373A JP2008141016A (ja) | 2006-12-01 | 2006-12-01 | シャッタ羽根装置、シャッタユニット、撮像装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
| KR1020070120669A KR20080050314A (ko) | 2006-12-01 | 2007-11-26 | 셔터 블레이드 장치, 셔터유닛, 촬상장치, 노광장치 및디바이스 제조방법 |
| TW096145399A TW200842485A (en) | 2006-12-01 | 2007-11-29 | Shutter blade apparatus, shutter unit, image pickup apparatus, exposure apparatus, and method of manufacturing device |
| US11/947,561 US8064043B2 (en) | 2006-12-01 | 2007-11-29 | Shutter blade apparatus, shutter unit, image pickup apparatus, exposure apparatus, and method of manufacturing device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2006326373A JP2008141016A (ja) | 2006-12-01 | 2006-12-01 | シャッタ羽根装置、シャッタユニット、撮像装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008141016A true JP2008141016A (ja) | 2008-06-19 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006326373A Withdrawn JP2008141016A (ja) | 2006-12-01 | 2006-12-01 | シャッタ羽根装置、シャッタユニット、撮像装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8064043B2 (ja) |
| JP (1) | JP2008141016A (ja) |
| KR (1) | KR20080050314A (ja) |
| TW (1) | TW200842485A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012504323A (ja) * | 2008-09-30 | 2012-02-16 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | マイクロリソグラフィー投影露光装置 |
| JP2019516125A (ja) * | 2016-03-31 | 2019-06-13 | シャンハイ マイクロ エレクトロニクス イクイプメント（グループ）カンパニー リミティド | リソグラフィ・マシンの露光に用いるシャッタ・デバイスおよびその使用方法 |
| JP2020187185A (ja) * | 2019-05-10 | 2020-11-19 | キヤノン株式会社 | シャッター装置、露光装置、膜形成装置および物品製造方法 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5868094B2 (ja) * | 2011-09-26 | 2016-02-24 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
| DE102012102830B3 (de) * | 2012-04-02 | 2013-10-02 | SmartRay GmbH | Schutzvorrichtungen für einen berührungslos arbeitenden, insbesondere optischen Prüfkopf sowie Verfahren für den Betrieb |
| JP6313795B2 (ja) * | 2016-03-03 | 2018-04-18 | キヤノン株式会社 | シャッタユニット、リソグラフィ装置、インプリント装置、及び物品の製造方法 |
| CN110196532B (zh) * | 2018-02-27 | 2021-03-16 | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 | 光刻机安全快门装置 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61292619A (ja) * | 1985-06-21 | 1986-12-23 | Fuji Photo Optical Co Ltd | ロ−タリ−シヤツタ停止装置 |
| US4975722A (en) * | 1989-02-10 | 1990-12-04 | Copal Company Limited | Focal plane shutter |
| US5970268A (en) * | 1995-07-03 | 1999-10-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Shutter device of camera having a light blocking member with a variable starting position |
| JPH11233423A (ja) | 1998-02-06 | 1999-08-27 | Canon Inc | 露光用シャッタおよび露光装置ならびにディバイス製造方法 |
| US6407873B1 (en) * | 1999-06-26 | 2002-06-18 | Electro-Optical Products Corp. | Safety shutter |
| JP4434504B2 (ja) * | 2001-01-31 | 2010-03-17 | キヤノン株式会社 | シャッタ装置およびカメラ |
| TWI240852B (en) * | 2004-01-08 | 2005-10-01 | Powerchip Semiconductor Corp | Photolithograph system with variable shutter and method of using the same |
| US7178999B2 (en) * | 2004-10-28 | 2007-02-20 | Eastman Kodak Company | Shutter-opening/closing and shutter-flash synchronization driver for dual-blade shutter in camera |
-
2006
- 2006-12-01 JP JP2006326373A patent/JP2008141016A/ja not_active Withdrawn
-
2007
- 2007-11-26 KR KR1020070120669A patent/KR20080050314A/ko active IP Right Grant
- 2007-11-29 US US11/947,561 patent/US8064043B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-11-29 TW TW096145399A patent/TW200842485A/zh unknown
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| JP2012504323A (ja) * | 2008-09-30 | 2012-02-16 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | マイクロリソグラフィー投影露光装置 |
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| US10712668B2 (en) | 2016-03-31 | 2020-07-14 | Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd. | Shutter device used for exposure in lithography machine, and method for use thereof |
| JP2020187185A (ja) * | 2019-05-10 | 2020-11-19 | キヤノン株式会社 | シャッター装置、露光装置、膜形成装置および物品製造方法 |
| JP7299748B2 (ja) | 2019-05-10 | 2023-06-28 | キヤノン株式会社 | シャッター装置、露光装置、膜形成装置および物品製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US8064043B2 (en) | 2011-11-22 |
| KR20080050314A (ko) | 2008-06-05 |
| TW200842485A (en) | 2008-11-01 |
| US20080129976A1 (en) | 2008-06-05 |
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