JP5868094B2 - 露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
θ:遮光板19の回転駆動量(即ち、基板9の中心と外周ショット領域91の中心とを結ぶ直線と基板9の水平線とのなす角度)
L:遮光板19の直線駆動量
L1:遮光板19の中心から遮光板19の円弧縁部191aまでの距離
L2:基板9の中心から外周ショット領域91の中心までの距離
L3:基板9の中心から基板9の外周までの距離(即ち、基板9の半径)
L4:基板9の中心から遮光板19の中心までの距離
x2=x1−Δx
y2=y1−Δy
θ‘:遮光板19の回転駆動量(即ち、基板9の中心と外周ショット領域91‘の中心とを結ぶ直線と基板9の水平線とのなす角度)
L:仮想の外周ショット領域91‘における遮光板19の直線駆動量
遮光板19は、図8のように、開口を有し、開口の縁に互いに反対側の位置に配置された第1円弧と第2円弧とを含み、第1円弧及び第2円弧は、開口の内側から外側に向かう方向に凸状をなしている。図8の例では、駆動部22の例として直線駆動部95が回転駆動部96上に搭載されることで、遮光板19を光軸として動径方向と回転方向に駆動することが可能である。なお、遮光板19を光軸として動径方向と回転方向に駆動できるようになっていれば他の形態であっても構わない。図8にAで示した点線で囲まれた領域は、遮光板19上でのショット領域を遮光した様子示しており、遮光板19で遮光された形状がウエハ上に転写される。
条件1.レチクル2と遮光板19の位置合わせが行われている(位置関係が判明している)こと。
条件2.レチクル2と基板9の位置合わせが行われている(位置関係が判明している)こと。
実施例2では、図12のフローチャート1001の調整は基板9上に露光したショットから得られる情報をもとに行ったが、基板ステージ6上の光検出センサ50を使用して調整することもできる。光検出部である光検出センサ50は照射系から照射される光を受光して、ウエハ面上の露光光量を検出できるセンサである。光検出センサ50により遮光板19の縁をステージ座標基準で検出することができる。より具体的には、ステージを駆動しながら照度がゼロになる座標を検出すればよい。照度がゼロになる2つの座標と円弧の半径から同じく円の中心座標を求めることができる。同様に図9(a)を例にすれば、開口部のスリットの直線部の傾きも求めることができる。遮光板19が図9(c)の形状の場合は、照度検出センサを使用して、開口部63a、63bの重心位置をそれぞれ検出すればよい。開口部に直線部がなくとも2点の重心位置を結ぶ直線傾きを使うことで前述の角度補正が可能であることが容易に理解できよう。上記の光検出センサ50上への投光処理、ステージの駆動、遮光板の駆動といった一連の処理は制御部21により行われる。光検出センサ50の検出結果は制御部21内の検出演算部で処理され、回転中心のずれ量はデータベースへ登録される。以降遮光板を駆動する駆動部はデータベースに登録された回転中心のずれ量をもとに制御部21により補正駆動される。なお、照度検出センサを使用した場合はレチクルと駆動部の回転中心の関係を直接的に合わせているわけではないことに注意する必要がある。この場合は基板ステージ6上のウエハと照度検出センサの位置関係が分かっている必要があり、間接的にレチクル中心と駆動部の回転中心を合わせていることになる。また、図10のフローチャート1002、1003の調整も同様に光検出センサ50を使用して調整可能であることは理解できるであろう。
2 レチクル
3 レチクルステージ
5 投影光学系
6 基板ステージ6
11 光源
17 マスキングブレード
19 遮光板
Claims (11)
- 原版を照明する照明光学系と、前記原版に形成されたパターンの像を基板に投影する投影光学系を有する光学系を備える露光装置であって、
前記光学系の前記投影光学系の物体面と共役な面或いはそれらの面の近傍に配置され、前記パターンの像が前記基板に投影される領域の外縁の少なくとも一部を円弧状に規定するための円弧状部分を有する遮光板と、
前記光学系の光路に沿った回転軸を回転中心として前記遮光板を回転駆動する回転駆動部と、
前記回転軸と交わる方向に前記遮光板をシフト駆動するシフト駆動部と、
前記回転駆動部により前記遮光板を回転駆動させ、前記光学系により前記パターンの像を前記基板に投影する際の基準となる基準軸と前記遮光板の回転中心である回転軸との相対位置に関する情報を取得する取得部と、
前記取得部により取得した前記相対位置に関する情報に基づいて、前記遮光板が所定の位置になるように前記回転駆動部と前記シフト駆動部を制御する制御部を有することを特徴とする露光装置。 - 前記基準軸は、前記光学系の光軸、または、前記基板上のショット領域の中心と前記ショット領域に投影される前記原版のパターン領域の中心を通る軸であることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記シフト駆動部は、前記回転軸に直交し前記回転軸と前記円弧状部分の頂点を結ぶ直線に平行な方向に前記遮光板をシフト駆動させることを特徴とする請求項1または2に記載の露光装置。
- 前記遮光板の前記円弧状部分の曲率半径は、前記基板の外縁の前記円弧状部分の曲率半径よりも小さいことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記相対位置に関する情報は、前記基準軸に対する前記回転軸の位置ずれの方向と位置ずれの量を表す情報であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前記基準軸に対する前記回転軸の位置ずれの方向と位置ずれの量を表わす情報に基づき、仮想のショット領域の位置を求め、
該仮想のショット領域の位置に基づいて、前記回転駆動部と前記シフト駆動部を制御することを特徴とする請求項5に記載の露光装置。 - 前記基準軸と前記回転軸の相対位置に関する情報は、前記制御部により前記回転駆動部を制御して、前記遮光板を回転駆動し、前記遮光板をそれぞれ異なる2つの回転駆動した位置に配置することで取得することを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記基板を保持して移動する基板ステージを有し、前記基板ステージには光検出部が設けられており、
前記取得部は、前記遮光板をそれぞれ異なる2つの回転駆動した位置に配置した状態で光源からの光を前記光検出部により受光することで得た情報に基づいて前記相対位置に関する情報を取得することを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記領域を規定する前記遮光板とは異なる遮光部材を有し、
前記遮光板は、中心部に開口部を有し、前記開口部の対向する位置に前記円弧状部分が形成された枠体であり、
前記基板の中心付近に対して前記パターンの像を投影する場合には、前記パターンの像の前記基板上に投影される領域に到達する光源からの光は前記枠体の前記開口部を通過しており、前記領域を前記遮光部材で規定していることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記シフト駆動部は、前記遮光板を前記光学系の光軸に垂直な方向にシフト駆動させることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか一項に記載の露光装置。
- 請求項1乃至10のうちいずれか1項に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
露光された前記基板を現像するステップと、
を有することを特徴とするデバイスの製造方法。
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